JPH08291119A - オキサゾリジン中間体を用いるタキサン類の新規な製造方法 - Google Patents
オキサゾリジン中間体を用いるタキサン類の新規な製造方法Info
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Abstract
13アシルオキシ側鎖結合タキサン類の製造用中間体と
して有用な新規なオキサゾリジンおよびそれを用いる該
タキサン類の新規な製造方法を提供すること。 【解決手段】 C−13アシルオキシ側鎖結合タキサン
類の製造用中間体として有用な新規なオキサゾリジン。
タキサンに該オキサゾリジンをカップリングさせて側鎖
結合タキサン類を形成する新規な方法および該オキサゾ
リジンの新規製造方法。
Description
キシ側鎖結合タキサン類の製造用中間体として有用性が
認められる新規なオキサゾリジンに関する。本発明はま
た、該オキサゾリジンの新規な製造方法ならびに前記タ
キサン類を製造するための該オキサゾリジンの新規なカ
ップリング方法に関する。
められているジテルペン化合物である。たとえば、パク
リタキセル(paclitaxel;登録商標Taxol)、すなわち
式:
ベンゾイルである]で示されるタキサンは、効果的な抗
癌剤であることが知られている。式:
されている。パクリタキセルなどの天然に産生するタキ
サン類は、植物物質の中に発見されるものであり、該植
物物質から単離されている。しかしながら、このような
タキサン類は比較的少量でしか植物物質中に存在しない
ため、パクリタキセルの場合にたとえば、該化合物源と
なる生育の遅いイチイの木が多数必要となる。従って、
パクリタキセルなどの天然産生タキサン類を製造するた
めの半合成法などの合成法、並びにそれらの医薬的に有
用な類縁体の製造法の追及が続けられている。特に、C
−13アシルオキシ側鎖の存在によって、薬理学的活性
が付与されたり、または薬理学的活性を有するタキサン
への変換がより容易に行えるので、タキサンコアへC−
13アシルオキシ側鎖を付加するための有効な方法が探
求されている。
13アシルオキシ側鎖結合タキサン類の製造用中間体と
して有用な新規な化合物を提供することである。
ルオキシ側鎖結合タキサン類の製造用中間体として有用
な新規なオキサゾリジン化合物を提供する。本発明はま
た、本発明オキサゾリジン中間体をC−13において直
接結合したヒドロキシ基を含有するタキサンにカップリ
ングさせて、前記C−13アシルオキシ側鎖結合タキサ
ン類を提供する、新規なカップリング方法、ならびに本
発明の新規なオキサゾリジンの製造方法を提供する。
ルボニルまたはアルキルカルボニル;R1*は水素、ア
リールカルボニル、アルコキシカルボニルまたはアルキ
ルカルボニル、ただしR2がアリールである場合、R1*
はtert−ブトキシカルボニルではない;R2はアリー
ル、ヘテロシクロまたはアルキル;R4は水素、アルキ
ル、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキ
ル、シクロアルケニルまたはヘテロシクロ;およびR5
およびR6は(a)それぞれ独立してアルキル;または(b)そ
れらが結合する炭素原子と一緒になってシクロアルキ
ル、シクロアルケニルまたはヘテロシクロを形成する;
R8はアルキルまたはアリールである]で示される新規
なオキサゾリジンおよびその塩を提供する。
タキセルなどのC−13アシルオキシ側鎖結合タキサン
およびその類縁体の製造用中間体として有用である。し
たがって、本発明はさらに、該中間体(I)および(II)
をC−13において直接結合するヒドロキシ基を含有す
るタキサンにカップリングさせて、式(VI):
ルボニルまたはアルキルカルボニル;R2はアリール、
ヘテロシクロまたはアルキル;およびTはそのC−13
位において直接結合するタキサン部分である]で示され
るC−13アシルオキシ側鎖結合タキサンを提供する、
新規なカップリング方法を提供する。カップリングは次
のようにして行うことができる。
(VI)またはその塩を、 (a)一般式(III):
在下に、式(IV): HO−T (IV) で示される化合物またはその塩と接触させ、一般式
(V):
義]で示される化合物またはその塩を形成し;および (b)該化合物(V)またはその塩を開環剤と接触させて、
化合物(VI)またはその塩を形成する工程を特徴とする
製造方法によって製造する。この方法の工程(a)(ここ
でR1はR1*である)および(b)は新規方法である。さ
らに、化合物(III)および(V)およびその塩もまた新
規化合物である(ここでR1はR1*である)。
物(I)である。R4が水素以外である化合物(I)は、該
R4が水素以外である化合物(I)を加水分解して化合物
(III)に変換する工程を特徴とする新規な方法によっ
て、化合物(III)(ここでR1はR1*である)に変換す
ることができる。加水分解をなし得る化合物であれば、
どのような化合物でも加水分解剤として使用することが
できる。加水分解剤としては、たとえば水性水酸化物
(水酸化ナリウムなどの金属水酸化物、あるいは好まし
くは水酸化リチウム,ナトリウムまたはカリウムなどの
アルカリ金属水酸化物など)などの水性塩基が挙げられ
る。塩基と接触させることにより、化合物(III)のカ
ルボン酸が得られる。さらに酸、好ましくはHClなど
の鉱酸と接触させることにより、R4が水素、すなわち
遊離のカルボン酸基を有する化合物(III)が得られ
る。R1がR1*である化合物(III)の製造方法にした
がって、R1がR1*以外である化合物(III)を製造す
ることができる。
I)またはその塩を、 (a)一般式(VII):
在下に、式(IV): HO−T (IV) で示される化合物またはその塩と接触させ、一般式(V
III):
で示される化合物またはその塩を形成し;および (b)該化合物(VIII)またはその塩を開環剤と接触さ
せて、該化合物(VI)またはその塩を形成する工程を特
徴とする製造方法によって製造する。この方法の工程
(a)および(b)は新規方法である。さらに、化合物(V
II)および(VIII)およびその塩もまた新規化合物
である。
物(II)である。R4が水素以外である化合物(II)
は、R4が水素以外である該化合物(II)を加水分解し
て化合物(VII)に変換する工程を特徴とする新規な方
法によって、化合物(VII)に変換することができる。
化合物(II)を加水分解して化合物(VII)を形成する
には、前述のR4が水素以外である化合物(I)を加水分
解して化合物(III)を形成した方法にしたがって行
う。
記:
し、オキサゾリジン化合物(I)および(II)にはそれぞ
れ4種の立体異性体、すなわち(Ia)または(IIa)、
(Ib)または(IIb)、(Ic)または(IIc)および
(Id)または(IId)が存在する。
活性に影響を与えるので、要求される立体化学を最終タ
キサン生成物に対して提供するオキサゾリジン中間体を
使用することが望ましい。化合物(I)および(II)の立
体異性体混合物の使用も本発明に含まれるとはいえ、所
望の立体化学を最終生成物に提供する単一の立体異性体
の方が、より有効な出発物質であり、分離精製操作の複
雑化を軽減する。
明細書中で、それ単独またはその他の基の一部として用
いる「アルキル」または「alk」とは、好ましくは、ノル
マル鎖に1〜12個の炭素を含有し、必要に応じて置換
された直鎖および分枝鎖炭化水素基を意味する。非置換
基としては、たとえば、メチル、エチル、プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、イソブチル、ペ
ンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、4,4−
ジメチルペンチル、オクチル、2,2,4−トリメチルペ
ンチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシルなどが
挙げられる。置換基の具体例としては、ハロ、アルコキ
シ、アルキルチオ、アルケニル、アルキニル、アリー
ル、シクロアルキル、シクロアルケニル、ヒドロキシま
たは保護されたヒドロキシ、カルボキシル(−COO
H)、アルキルオキシカルボニル、アルキルカルボニル
オキシ、カルバモイル(NH2−CO−)、アミノ(−NH
2)、モノまたはジアルキルアミノまたはチオール(−S
H)から選ばれる1個以上の基が包含される。
は、ノルマル鎖に1〜6個の炭素原子を有する、必要に
応じて置換された上述のアルキルを意味する。「アルコ
キシ」または「アルキルチオ」とは、それぞれ酸素結合
(−O−)または硫黄結合(−S−)を有する上述のアルキ
ル基を意味する。「アルキルオキシカルボニル」とは、
カルボニル基を介して結合するアルコキシ基を意味す
る。「アルキルカルボニルオキシ」とは、交互に酸素結
合を介して結合するカルボニル基を介して結合するアル
キル基を意味する。「モノアルキルアミノ」または「ジ
アルキルアミノ」とは、それぞれ1または2個の上述の
アルキル基で置換されたアミノ基を意味する。
いる「アルケニル」とは、少なくとも1つの炭素−炭素二
重結合を含有する、必要に応じて上記アルキルの場合に
記載した置換基で置換された基を意味する。置換基の具
体例としては、上述の1または2個以上のアルキル基お
よび/または上述の1または2個以上のアルキルの置換
基が挙げられる。それ単独またはその他の基の一部とし
て用いる「アルキニル」とは、少なくとも1つの炭素−炭
素三重結合を含有する、必要に応じて上記アルキルの場
合に記載した置換基で置換された基を意味する。置換基
の具体例としては、1または2個以上の上述のアルキル
基および/または1または2個以上の前述のアルキルの
置換基として挙げた基が挙げられる。
いる「シクロアルキル」とは、好ましくは、1〜3個の環
を含有し、環炭素数3〜7の必要に応じて置換された飽
和環式炭化水素基を意味する。非置換基としては、たと
えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチ
ル、シクロデシル、シクロドデシルおよびアダマンチル
などが挙げられる。置換基の具体例としては、1または
2個以上の上述のアルキル基および/または1または2
個以上の前述のアルキルの置換基として挙げた基が挙げ
られる。それ単独またはその他の基の一部として用いる
「シクロアルケニル」とは、部分的に不飽和な環を形成す
る、少なくとも1つの炭素−炭素二重結合を含有する、
必要に応じて上記シクロアルキルの場合に記載した置換
基で置換された基を意味する。置換基の具体例として
は、1または2個以上の上述のアルキル基および/また
は1または2個以上の前述のアルキルの置換基として挙
げた基が挙げられる。
いる「ar」または「アリール」とは、好ましくは、1〜
2個の環を含有し、環炭素数6〜12の必要に応じて置
換された炭素環式芳香族基を意味する。非置換基として
は、たとえば、フェニル、ビフェニルおよびナフチルな
どが挙げられる。置換基の具体例としては、1個以上、
好ましくは3個以下のニトロ基、上述のアルキル基およ
び/または前述のアルキルの置換基として挙げた基が挙
げられる。それ単独またはその他の基の一部として用い
る「アリールカルボニル」とは、カルボニル基を介して
結合する上述のアリール基を意味する。
いる「ヘテロシクロ」またはとは、少なくとも1つの環に
少なくとも1個のヘテロ原子を含有し、必要に応じて置
換された完全飽和または不飽和の芳香族または非芳香族
環式基を意味し、各環に5または6個の原子を有するモ
ノ環式またはジ環式基が好ましい。たとえば、ヘテロシ
クロ基は、環中に1または2個の酸素原子、1または2
個の硫黄原子、および/または1〜4個の窒素原子を有
していてもよい。各ヘテロシクロ基は、環系の炭素原子
またはヘテロ原子のいずれかを介して結合する。ヘテロ
シクロ基の具体例としては、チエニル、フリル、ピロリ
ル、ピリジル、イミダゾリル、ピロリジニル、ピペリジ
ニル、アゼピニル、インドリル、イソインドリル、キノ
リニル、イソキノリニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾキ
サゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンゾキサジアゾリ
ル、ベンゾフラザニルおよび特にテトラヒドロピラニル
(たとえば4−テトラヒドロピラニル)が挙げられる。置
換基の具体例としては、1または2個以上の上述のアル
キル基および/または1または2個以上の前述のアルキ
ルの置換基として挙げた基が挙げられる。
いる「ハロゲン」または「ハロ」とは、塩素、臭素、フッ素
およびヨウ素を意味する。「タキサン部分」とは、式:
は置換されていてもよく、その環系にエチレン系不飽和
結合を有していてもよい。4位および5位で縮合したオ
キセタン環およびC−11とC−12間のエチレン系二
重結合を有する、パクリタキセル中に認められるよう
な、このような部分が好ましい。「タキサン」とは、上
述のタキサン部分を有する化合物を意味する。「C−1
2アシルオキシ側鎖結合タキサン」とは、上述のタキサ
ン部分を有し、さらにアシルオキシ置換基のオキシ基の
酸素原子を介してC−13において該部分に直接結合す
るアシルオキシ側鎖を有する化合物を意味する。
護することができ、かつ保護のための反応を行った後、
分子の残基を破壊せずに脱離しうる基を意味する。水酸
基の種々の保護基およびその合成は、T.W.グリーンの
“有機合成の保護基"、ジョン・ウィリー・アンド・サ
ンズ,1981年、またはフィーザー・アンド・フィー
ザーに記載されている。水酸基の保護基の具体例として
は、メトキシメチル、1−エトキシエチル、1−メトキ
シ−1−メチルエチル、ベンジルオキシメチル、(β−
トリメチルシリルエトキシ)メチル、テトラヒドロピラ
ニル、2,2,2−トリクロロエトキシカルボニル、t−
ブチル(ジフェニル)シリル、トリアルキルシリル、トリ
クロロメトキシカルボニルおよび2,2,2−トリクロロ
エトキシメチルが挙げられる。
および/または塩基との塩を意味する。それ単独または
その他の基の一部として用いる「アシル」とは、有機カ
ルボン酸基(−COOH)から水酸基を除去することによ
って形成される部分を意味する。それ単独またはその他
の基の一部として用いる「アシルオキシ」とは、酸素結
合(−O−)を介して結合した上記アシル基を意味する。
製造 オキサゾリジン化合物(I)および(II)の製造方法は下
記のとおりである。まず、一般式(i):
ルボニルまたはアルキルカルボニル;R2はアリール、
ヘテロシクロまたはアルキル;R4は水素、アルキル、
アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキル、
シクロアルケニルまたはヘテロシクロ;およびR3は水
素または
ルキルまたはアリール)で示されるR3P基である]で示さ
れる化合物から出発する。化合物(i)は、米国特許出願
第07/975,453号(1992年11月12日出
願)または米国特許出願第08/263,869号(19
94年6月21日出願)の記載に従って、あるいは記載
の方法に変更を加えた方法または次に述べる方法によっ
て製造する。
こで、R1はR1*である)およびその塩を、酸触媒と接
触させ、次いで化合物(i)またはその塩におけるR3が水
素である場合、さらに下記一般式(ii)または(iii)で示
される化合物と接触させることにより製造する。上述の
一般式(ii)または(iii)で示される化合物の構造を下記
に示す:
は(i)R5a−CH2−がR5であるような基または(ii)R
5aとR6が結合する炭素原子およびR6と一緒になって、
少なくとも1個の炭素原子間二重結合を含むシクロアル
ケニルまたはヘテロシクロを形成する]。化合物(ii)ま
たは(iii)は市販のものを用いるかまたは公知の方法に
より容易に製造することができる。化合物(ii)の例を下
記に示す:
化合物(iii)の例を下記に示す:ジメトキシプロパン、
化合物(ii)または(iii)と接触させる場合、式(iv):
る新規化合物またはその塩が、前述の方法における中間
体として形成される。酸触媒の存在下、化合物(iv)また
はその塩を化合物(I)またはその塩に変換する。化合物
(II)またはその塩は、R3が水素である化合物(i)また
はその塩を、酸触媒の存在下に式(vi): HO(OR8)3 (vi) [式中、R8は前記と同意義]で示される化合物と接触さ
せる工程を特徴とする新規方法によって、化合物(i)ま
たはその塩から製造する。化合物(vi)は、市販のものを
用いるかまたは公知の方法により容易に製造することが
できる。化合物(vi)としては、たとえばトリメトキシメ
タンおよびトリエトキシメタンが挙げられる。
れる新規化合物またはその塩が、前述の方法における中
間体として形成される。酸触媒の存在下、化合物(v)ま
たはその塩を化合物(II)またはその塩に変換する。上
述したように化合物(i)を化合物(I)または(II)に変
換するために、本発明製造方法においては、“酸触媒"
を使用する。本発明方法において触媒作用があるもので
あればどのような酸でも、酸触媒として用いることがで
きるが、有機スルホン酸(すなわち、SO2O-基を含む
有機酸)またはスルホン酸塩、あるいは鉱酸が好まし
い。酸触媒として特に好ましいものとして、p−トルエ
ンスルホン酸ピリジニウム(PPTS)、トルエンスルホ
ン酸、樟脳スルホン酸などが挙げられる。
および(II)の4位および5位の炭素原子に対応する位
置の炭素原子において4種の立体異性体が存在する。こ
れらの立体異性体は下記の式(ia)、(ib)、(ic)および(i
d):
望の立体異性体は、出発化合物である化合物(i)または
その塩の適当な立体異性体を用いることによって製造す
ることができる。したがって、化合物(ia)を使用すると
化合物(Ia)または(IIa)が得られ、化合物(ib)を使
用すると化合物(Ib)または(IIb)が得られ、化合物
(ic)を使用すると化合物(Ic)または(IIc)が得ら
れ、化合物(id)を使用すると化合物(Id)または(II
d)が得られる。上述の方法においては、出発化合物(i)
またはその塩として、立体異性体の混合物を用いてもよ
いが、単一の立体異性体を用いるのが好ましい。化合物
(ia)を用いて化合物(Ia)または(IIa)を製造するの
が最も好ましい。
るためのカップリング オキサゾリジン側鎖結合タキサン(V)または(VIII)
またはその塩は、オキサゾリジン化合物(III)または
(VII)またはその塩をそれぞれ、カップリング剤の存
在下に、C−13に直接結合するヒドロキシ基を有する
タキサン(IV)と接触させる工程を特徴とする方法によ
って製造する。タキサン出発物質(IV)は、欧州特許公
告第400971号、ポス(Poss)らの米国特許出願第0
8/995,443号(1992年12月23日出願)、
その一部継続出願である米国特許出願第08/171,
792号(1993年12月22日出願)[これらは本発
明の参考文献である]に開示の化合物が好ましい。この
ようなタキサンとしては、たとえば一般式(IX):
C(O)−O−またはR16−O−C(O)−O−;R12は
水素、ヒドロキシ、フルオロ、R15−O−、R16−C
(O)−O−またはR16−O−C(O)−O−;R13およ
びR14は独立して水素、アルキル、アルケニル、アルキ
ニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリールま
たはヘテロシクロ;R15は水酸基の保護基;およびR16
は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロア
ルキル、シクロアルケニル、アリールまたはヘテロシク
ロである]で示される化合物またはその塩が挙げられ
る。
置の化合物(IX)が、本発明カップリング方法に使用し
うる。立体異性体を混合物で用いてもよいが、単一の立
体異性体を用いるのが好ましい。化合物(IV)として用
いるには、7−トリアルキルシリルバッカチンIIIが
好ましく、7−トリメチルシリルバッカチンIIIまた
は7−トリエチルシリルバッカチンIIIが最も好まし
い。カップリング反応をなし得る化合物であればどのよ
うな化合物でも本発明のカップリング剤として使用でき
る。カップリング剤としては、オキサゾリジン(III)
または(VII)と接触させる場合、1または2個以上
の、活性化オキサゾリジンエステルを形成する化合物
(たとえば、1−ヒドロキシベンゾトリアゾールまたは
N−ヒドロキシコハク酸イミド、これら両方とジシクロ
ヘキシルカルボジイミド(DCC))、無水物を形成する
化合物(たとえば、塩化ピバロイルまたはビス(2−オキ
ソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸塩化物)などが
挙げられ、特にカルボジイミド(ジシクロヘキシルカル
ボジイミド、1,3−ジイソプロピルカルボジイミド(D
IC)または1−(3−ジメチルアミノプロピル)−3−
エチル−カルボジイミド塩酸塩)、ビス(2−オキソ−3
−オキサゾリジニル)ホスフィン酸塩化物、カルボニル
ジイミダゾール(CDI)、塩化ピバロイルまたは2,4,
6−トリクロロベンゾイル塩化物などの化合物が適当で
ある;ここで上記化合物は、1−ヒドロキシベンゾトリ
アゾール(HOBt)またはN−ヒドロキシコハク酸イミ
ド(HO−Su)またはトリエチルアミン、ピリジンまた
は4位を−N(R17)(R18)で置換したピリジン[R17お
よびR18は独立してアルキル、アルケニル、アルキニ
ル、シクロアルキル、シクロアルケニルまたはヘテロシ
クロから選ばれる](この場合、4−ジメチルアミノピリ
ジン(DMAP)などの化合物を形成する)あるいは[R17
およびR18はそれらが結合する窒素原子と一緒になって
ヘテロシクロ基を形成する](この場合、4−モルホリノ
ピリジンまたは4−ピロリジノピリジンなどの化合物を
形成する)などのアミンなどの化合物とともに用いるの
が好ましい。
ン側鎖形成タキサン(V)または(VIII)またはその塩
を、タキサン化合物のタキサン部分のC−13を介して
結合したオキサゾリジン基の環を開きうる開環剤と接触
させて、タキサン化合物(VI)またはその塩を形成する
工程を特徴とする方法によって、製造する。化合物(V)
またはその塩を化合物(VI)またはその塩に変換するた
めの開環剤としては、ルイス酸が好ましく、その中でも
化合物(V)または(VI)またはその塩の分解を最小にす
る酸が好ましく、分解を起こさない酸が最も好ましい
(弱ルイス酸)。上記開環反応を起こしうるルイス酸であ
ればどのようなルイス酸でも本発明に使用しうる。この
ような開環剤としては、たとえばPd(CH3CN)2Cl
2などを含有するパラジウムが挙げられる。化合物(VI
II)またはその塩を化合物(VI)またはその塩に変換
するための好ましい開環剤はプロトン酸である。上記開
環反応を起こしうるプロトン酸であればどのようなプロ
トン酸でも本発明に使用しうる。このような開環剤とし
ては、たとえば酢酸またはトリフルオロ酢酸などの有機
酸および/または塩酸、フッ化水素酸または硫酸水溶液
などの鉱酸が挙げられる。
(I)および(II)の4位および5位の炭素原子に対応す
る位置の炭素原子において4種の立体異性体が存在す
る。これらの立体異性体は下記の式(VIa)、(VIb)、
(VIc)および(VId):
望の立体異性体は、出発化合物である化合物(VIII)
または(VII)またはその塩の適当な立体異性体を用い
ることによって製造することができる。化合物(III)
および(VII)の立体異性体を意味する記号“a”から
“d”は、前述の化合物(I)および(II)に対して用い
たものと同様である。したがって、化合物(IIIa)ま
たは(VIIa)を使用すると化合物(VIa)が得られ、
化合物(IIId)または(VIId)を使用すると化合物
(VIb)が得られ、化合物(IIIc)または(VIIc)
を使用すると少量の化合物(VIc)とともに化合物(V
Ia)が優先的に得られ、化合物(IIIb)または(VI
Ib)を使用すると少量の化合物(VId)とともに化合
物(VIb)が優先的に得られる。上述の方法において
は、出発化合物(III)または(VII)またはその塩と
して、立体異性体の混合物を用いてもよいが、単一の立
体異性体を用いるのが好ましい。化合物(IIIa)また
(VIIa)を用いて化合物(VIa)を製造するのが最も
好ましい。
部分に存在する1または2個以上の基、特に遊離の水酸
基を脱保護してタキサン(VI)またはその塩を製造する
工程を含む。脱保護は、たとえば、上述の開環工程を行
う前、後もしくは同時に、脱保護剤を用いて行う。脱保
護を行いうる化合物であればどのようなものでも脱保護
剤として用いることができる。たとえば、フッ化水素酸
また水性プロトン酸などの酸、またはテトラ−n−ブチ
ルアンモニウムフッ化物などのテトラアルキルアンモニ
ウムフッ化物などを用いて、シリル保護基を除去するこ
とができる;ベンジル保護基は、水素添加によって除去
することができる;トリクロロエトキシカルボニル保護
基は、亜鉛と接触させることによって除去することがで
きる;およびアセタールまたはケタール保護基は、プロ
トン酸またはルイス酸を用いて除去することができる。
護の両方を同時に行いうる酸(たとえば塩酸などの鉱酸)
を用いて、開環およびタキサン構造上の1または2個以
上の水酸基(特にC−7)の脱保護を同時に行うものであ
る。したがって、たとえばこれまでに述べた開環反応条
件下、酸を用いて、開環およびC−7における脱離しう
る水酸基の保護基(トリメチルシリルまたはトリエチル
シリルなどのトリアルキルシリルなど)の除去を同時に
行う。
に、温度、圧力および時間などの条件を設定し、出発物
質および触媒を好適な分量で用いて行う。同様に、要す
れば溶媒を用いてもよく、該溶媒は、変換を行いうるも
のであればどのような物質から選ばれてもよい。たとえ
ば、無機溶媒(水性など)または有機溶媒(アセトン、ジ
メチルホルムアミド、テトラヒドロフラン、塩化メチレ
ン、アセトニトリル、ベンゼンまたはトルエンなど)が
挙げられる。反応に対して不活性な溶媒が好ましい。本
発明製造方法の生成物は、抽出、蒸留、結晶化、カラム
クロマトグラフィーなどの適当な方法で単離および精製
することができる。本明細書中に記載した種々の方法を
行うのに特に好ましい反応条件1〜6は次のとおりであ
る。反応物または生成物の塩または水和物などの溶媒和
物もまた、本発明製造方法で用いたり、あるいは製造し
たりすることができる。他に指示がない限り、本発明化
合物には塩および/または溶媒和物が包含されると理解
すべきである。
件 出発化合物−− (i);および(ii)または(iii)[(i)中の
R3=Hである場合] (ii)または(iii):(i)のモル比−− モル過剰の(ii)ま
たは(iii):(i) 触媒−− 酸触媒 触媒:(i)のモル比−− 0.03:1〜0.1:1 温度(℃)−− 80〜110 圧力(気圧)−− 大気圧 雰囲気−− 反応に不活性なガス 溶媒−− 有機溶媒 溶媒の量[(i)の重量:溶媒の体積]−− 1g:50ml〜
1g:100ml 酸触媒の存在により、インシトゥにて、中間体として化
合物(iv)を製造し、化合物(I)に変換することができ
る。または別工程にて酸触媒と接触させることもでき
る。
条件 出発化合物−− (i)(R3=H)および(vi) (vi):(i)のモル比−− モル過剰の(vi):(i) 触媒−− 酸触媒 触媒:(i)のモル比−− 0.03:1〜0.1:1 温度(℃)−− 80〜110 圧力(気圧)−− 大気圧 雰囲気−− 反応に不活性なガス 溶媒−− 有機溶媒 溶媒の量[(i)の重量:溶媒の体積]−− 1g:50ml〜
1g:100ml 中間体として化合物(v)を製造し、化合物(II)に変換
することができる。
ける好ましい反応条件 出発化合物−− (I)または(II)(R4≠H);および
塩基 塩基:(I)または(II)のモル比−− 1:1〜1.0
5:1 次の出発物質−− 酸 酸:(I)または(II)のモル比−− 1:1〜1.0
5:1 温度(℃)−− 室温(〜25℃) 圧力−− 大気圧 雰囲気−− 反応に不活性なガス 溶媒−− 水性/有機混合溶媒 溶媒の量[(I)または(II)の重量:溶媒の体積]−−
1g:50ml〜1g:100ml 上記反応条件にしたがって、塩基のみを用いて化合物
(III)または(VII)を製造することができる;さ
らに酸を用いて遊離のカルボン酸を得る。
る好ましい反応条件 出発化合物−− (III)または(VII);および(I
V) (III)または(VII):(IV)のモル比−− モル過
剰の(III)または(VII):(IV)、特に1.1:1
〜1.5:1 カップリング剤−− カルボジイミドまたはホスフィン
酸塩化物およびアミン カルボジイミドまたはホスフィン酸塩化物:(III)ま
たは(VII)のモル比−− 1.5:1〜1:1 アミン:(III)または(VII)−− 0.5:1〜
1:1 温度(℃)−− 60〜100 圧力−− 大気圧 雰囲気−− 反応に不活性なガス 溶媒−− 有機溶媒 溶媒の量[(III)または(VII)の重量:溶媒の体積]
−− 1g:5ml〜1g:10ml
おける好ましい反応条件 出発化合物−− (VIII);およびプロトン酸(特
に、水性プロトン酸) 酸:(VIII)のモル比−− モル過剰の酸:(VII
I) 温度(℃)−− 0〜25 圧力−− 大気圧 雰囲気−− 反応に不活性なガス 溶媒−− 水性/有機溶媒 溶媒の量[(VIII):溶媒の体積]−− 1g:10ml
〜1g:20ml
おける好ましい反応条件 出発化合物−− (V);およびルイス酸(特に、弱ルイ
ス酸) ルイス酸:(V)のモル比−− 0.02:1〜0.1:1 温度(℃)−− 室温(〜25℃) 圧力−− 大気圧 雰囲気−− 反応に不活性なガス 溶媒−− 有機溶媒 溶媒の量[(V):溶媒の体積]−− 1g:5ml〜1g:1
5ml
成する好ましい基を下記に示す。R1およびR1*はそれ
ぞれ独立してアリールカルボニル(特にベンゾイル)また
はアルコキシカルボニル(特に、tert−ブトキシカルボ
ニルなどの非置換低級アルコキシカルボニル);R2はフ
ェニル、チエニルまたはフリル;R3は水素またはR
3P(ここで、R5、R6およびR7はそれぞれ独立して非置
換低級アルキル(特に、メチルまたはエチル));R4は水
素または非置換低級アルキル(特に、メチルまたはエチ
ル);R5、R6およびR7はそれぞれ独立して非置換低級
アルキル(特に、メチルまたはエチル);R8は非置換低
級アルキル(特に、メチルまたはエチル);およびTは一
般式:
基の保護基(特に、アセチル);およびR10は水素または
水酸基の保護基(特に、トリエチルシリルまたはトリメ
チルシリルなどのトリアルキルシリル基)]
付加により、タキサン産物に増加された薬理活性あるい
はより所望の薬理活性が付与されるか、または増加され
た薬理活性あるいはより所望の薬理活性を有するタキサ
ンにより容易に変換されるタキサン産物を形成すること
ができる。本発明の側鎖結合タキサン製造方法によって
製造しうるタキサンとしては、欧州特許公告第4009
71号、米国特許出願第08/995,443号(199
2年12月23日出願)、米国特許出願第08/171,
792号(1993年12月22日出願)[これらは本発
明の参考文献である]に開示のタキサン類が挙げられ
る。本発明方法にしたがって最終的にタキソテレを製造
するのが好ましく、パクリタキセルが最も好ましい。
キサンは、乳癌、卵巣癌、または肺癌、黒色肉腫および
白血病などの癌に冒された患者を治療するための抗腫瘍
剤として用いることができる。本明細書に記載されたオ
キサゾリジン、タキサンおよびその他の化合物は1また
は2種以上の立体異性形状で存在することができる。本
発明化合物のすべての立体異性体は、それ単独(すなわ
ち、実質的に他の異性体を含まない)で存在するか、混
合立体異性体(たとえばラセミ体)またはその他の混合
物として存在することを企図されている。実質的に他の
立体異性体を含まないこれらの化合物が好ましい。
明するが、これらによって本発明の請求の範囲が制限さ
れるものではない。
本発明オキサゾリジンエステル化合物(I)または(II)
を形成する環化を説明する。 実施例1 (4S−トランス)−3−ベンゾイル−2,2−ジメチル
−4−フェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸エチル
エステルの製造
ノ)−α−ヒドロキシベンゼンプロピオン酸エチルエス
テル(225mg、0.7183ミリモル)を塩化メチレン
(CH2Cl2、3.0ml)に懸濁し、透明な溶液が得られ
るまでジメチルホルムアミド(DMF)(2.0ml)を加え
る。混合物を0℃に冷却し、2−メトキシプロペン(1.
7957ミリモル)を加え、次いでp−トルエンスルホ
ン酸ピリジニウム(PPTS)(約5mg、0.016ミリモ
ル)を加える。混合物を4時間撹拌し、次いでさらに2.
6当量(1.7957ミリモル)の2−メトキシプロペン
を加える。2時間の間をおいて2回添加を繰り返し、次
いで混合物を室温にて一夜静置する。飽和NaHCO3
を加えて反応を停止し、混合物を飽和NaHCO3で洗
浄し、乾燥し、次いで溶媒を除去して定量的収量にて生
成物を得る。残渣を過剰のトルエンおよび2,2−ジメ
トキシプロパン中で還流し、一夜共沸する。HPLCに
て標記生成物(73mg、収率29%)を単離する。 TLC(ヘキサン/酢酸エチル=2:1)Rf=0.4
8; m.p.87〜88℃;1 H NMR(上記構造と一致)。
−4−フェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸エチル
エステルの製造の別法(A)および(B) (A)ディーン−スタークトラップを具備したフラスコ中
で、[R−(R*,S*)]−β−(ベンゾイルアミノ)−
α−ヒドロキシベンゼンプロピオン酸エチルエステル
(2.200mg)をトルエン(250ml)に懸濁する。加熱
還流後、化合物は溶解する。トルエン40mlを留去し、
PPTS(120mg)および2−メトキシプロペン(3.5
ml)を加え、蒸留を続ける。さらに2−メトキシプロペ
ン(2ml、次いで1ml)およびトルエン(50ml、次いで
50ml)を添加し、留出物を定期的に捨てる。HPLC
(ヘキサン/酢酸エチル,3:1)で精製し、標記生成物
(2.3g、収率93%)を他の反応生成物との混合物とし
て得る。(生成物の特性は実施例1の構造と一致)。
ノ)−α−(1−メトキシ−1−メチルエトキシ)ベンゼ
ンプロピオン酸エチルエステル(2.200mg)をトルエ
ン(200ml)と混合し、PPTS(75mg)を加える。混
合物を加熱し、ディーン−スタークトラップにてトルエ
ンを除去する。70mlのトルエンを除去した後、TLC
により、生成物と実施例1のヒトロキシエステル出発物
質との混合物であることが示される。2−メトキシプロ
ペン(0.5ml)を加え、蒸留を続ける。2−メトキシプ
ロペン(0.5ml)をさらに加え、蒸留を続ける。体積が
約70ml程度まで減少した時点で、TLCにより、標記
生成物のみであることが示される。HPLC(ヘキサン
/酢酸エチル,5:1〜1:1)で精製し、標記生成物
(1.56mg、出発化合物からの総収率75%)を他の反
応生成物との混合物として得る。(生成物の特性は実施
例1の構造と一致)。
ェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸エチルエステル
の製造
ヒドロキシベンゼンプロピオン酸エチルエステル(1.1
6ミリモル)をベンゼン(10ml)に懸濁し、次いでトリ
エトキシメタン(3.44ミリモル)およびPPTS(72
mg)を加える。加熱還流して標記化合物を得る。
ェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸エチルエステル
の製造
α−ヒドロキシベンゼンプロピオン酸エチルエステル
(1.16ミリモル)をベンゼン(10ml)に懸濁し、次い
でトリメトキシメタン(3.44ミリモル)およびPPT
S(72mg)を加える。加熱還流(103℃)を行うが、出
発化合物は溶解しない。次いで、DMF(2ml)を加える
と大部分の出発物化合物が溶解するが、溶液は依然とし
て幾分かは濁ったままである。フラスコにソックスレー
抽出器を取り付ける。抽出器の円筒部(thimble)に4オ
ングストロームのモレキュラーシーブスを充填する。1
時間後、ソックスレー抽出器における約3〜4サイクル
が終了し、その時点で、TLCにより、出発物質が消費
されていることおよび標記生成物の新規な主要スポット
が示される。EtOAcで希釈し、NaHCO3および
H2Oで洗浄し、乾燥し、溶媒を除去する。NMRによ
り、標記生成物と少量の不純物の存在が示される。生成
物をHPLC(ヘキサン/酢酸エチル,3:1)で精製
し、標記生成物(358mg、収率87%)を得る。
きいスケールで行う。[R−(R*,S*)]−β−(ベン
ゾイルアミノ)−α−ヒドロキシベンゼンプロピオン酸
エチルエステル(3.138g)をベンゼン(100ml)に懸
濁し、次いでトリメトキシメタン(3.190g)およびP
PTS(628mg)を加える。反応溶液を加熱還流し、D
MF(20ml)を加えて大部分の出発物化合物を溶解する
し、次いでフラスコにソックスレー抽出器を取り付けて
加熱する。抽出器の円筒部(thimble)に4オングストロ
ームのモレキュラーシーブスを充填する。1時間後、ソ
ックスレー抽出器における約3〜4サイクルが終了し、
その時点で、TLCにより、出発物質が消費されている
ことおよび標記化合物の新規な主要スポットが示され
る。EtOAcで希釈し、NaHCO3およびH2Oで洗
浄し、乾燥し、溶媒を除去する。NMRにより、標記生
成物と少量の不純物の存在が示される。生成物をHPL
C(ヘキサン/酢酸エチル,3:1)で精製し、標記生成
物(3.138g、収率97%)を得る。生成物(油状物)は
ジアステレオマーの混合物である(分離しない)。 マススペクトル:M+H+=356; TLC(ヘキサン/酢酸エチル=2:1)Rf=0.4
1;1 H NMR(上記構造と一致)。
い本発明オキサゾリジンエステル化合物(I)または(I
I)のエステル基の加水分解による対応するカルボン酸
またはその塩、すなわち(III)または(VII)の形成
を説明する。 実施例5 (4S−トランス)−3−ベンゾイル−2,2−ジメチル
−4−フェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸リチウ
ム塩の製造
−4−フェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸エチル
エステル(73mg)をテトラヒドロフラン(THF)(0.5
ml)に室温にて溶解し、LiOH(0.217ml、1M水
溶液)を滴下する。最初に2相混合物が観察された後、
残りのLiOHを加えて5分間撹拌すると溶液は均質に
なる。さらに0.5時間撹拌後、溶媒を減圧除去する。
残渣をトルエン/メタノールとともに共沸し、55℃で
一夜減圧乾燥する。標記リチウム塩を得る(これ以上精
製しない)。
−4−フェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸の製造
−4−フェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸エチル
エステル(1.56g)を室温にてTHF(10ml)に溶解
し、LiOH(4.63ml、1M水溶液)を滴下する。最
初に2相混合物が観察された後、残りのLiOHを加え
て5分間撹拌すると溶液は均質になる。さらに0.5時
間撹拌後、反応混合物に水性1N HCl(4.63ml)を
加えて反応を停止し、EtOAcおよび飽和NaClで
希釈する。水層(pH=3)をEtOAcで2回抽出し、
有機相を合わせ、乾燥(MgSO4)する。溶媒を減圧除
去して、TLCおよび1H NMRにおいて均質である標
記酸(1.39g、収率97%)を得る。 TLC(酢酸エチル/アセトン/メタノール/水=7:
1:1:1)Rf=0.40; m.p.173〜176℃;1 H NMR(上記構造と一致)。
ェニル−5−オキサゾリジンカルボン酸の製造
(177mg)を用い、その他の試薬を下記の量で用いて、
実施例6と同様の操作を行う:1N LiOH(0.52
4ml);THF(2.0ml);および1N HCl(0.52
4)。粗標記生成物(161mg、収率99%)を得る。大
きいスケール[実施例4の標記生成物(3580mg);1
N LiOH(10.38ml);THF(40ml);および1
N HCl(10.38ml)]で同様の操作を行い、粗標記
化合物(3.23g、収率98%)(少量の不純物混在)を得
る。生成物はジアステレオマーの混合物である(分離し
ない)。 TLC(酢酸エチル/アセトン/メタノール/水=7:
1:1:1)Rf=0.35; m.p.(混合物)160〜162℃;1 H NMR(上記構造と一致)。
−13ヒドロキシ結合タキサン出発物質(IV)の製造を
説明する。 実施例8 7−トリエチルシリルバッカチンIIIの製造
12aα,12bα)]安息香酸,12b−アセチルオキシ
−2a,3,4,4a,5,6,9,10,11,12,12a,
12b−ドデカヒドロ−6,9,11−トリヒドロキシ−
4a,8,13,13−テトラメチル−5−オキソ−4−
[(トリエチルシリル)オキシ]−7,11−メタノ−1H
−シクロデカ[3,4]ベンズ[1,2−b]オキセト−12
−イル−エステル(7−O−TES−10−デスアセチ
ルバッカチンIII)
はトリエチルシリルを意味する。10−デスアセチルバ
ッカチンIII(27.4g、50.3ミリモル)[重量は測
定される不純物(カッコ内は2回目)、すなわちH2O:
1.0%(1.57%),CH3OH:1.49%(1.6%),
酢酸エチル:0.1%(0.09%),ヘキサン(0.03%)
に対する補正なし]および4−ジメチルアミノピリジン
(2.62g、21.4ミリモル)(重量%H2O(K.F.)=
0.09)を炎乾燥アルゴンパージした1リットル容3ツ
首フラスコ(機械的撹拌棒とデジタル温度計を具備した
もの)に入れ、無水ジメチルホルムアミド(122ml)(重
量%H2O(K.F.)=<0.01)に溶解する。CH2Cl
2(256ml)(重量%H2O(K.F.)=<0.01)を加
え、得られる均質な溶液を−50℃に冷却する(CH2C
l2添加中に、反応溶液の温度は23℃から25℃に上
昇する)。トリエチルアミン(NEt3、16ml、120
ミリモル)(重量%H2O(K.F.)=0.08)を3分間か
けて加え、得られる溶液を−50℃で5分間撹拌した
後、希釈しない塩化トリエチルシリル(Et3SiCl、
18.6ml、111ミリモル)を滴下する。Et3SiC
lの添加は10分間で行い、反応物の温度は−50℃以
上にあげない。Et3SiClの添加中に、反応物は濁
り始める。得られる混合物を〜−50℃で1時間撹拌
し、次いで、−48℃の冷凍庫で22時間静置する。−
48℃で8時間撹拌する場合、変換は〜60%である。
次いで混合物を冷凍庫から出し、〜−10℃まで暖める
(混合物のTLC分析(溶媒:酢酸エチル、着色剤:ホス
ホモリブデン酸/エタノール)により、出発物質の消滅
が示され、生成物(Rf=0.60)のシングルスポット
が現れる)。冷混合物をEtOAc(1リットル)と合わ
せ、H2O(890ml)で洗浄する。得られる水性層を分
離し、EtOAc(250ml)で抽出する。有機層を合わ
せ、5.7%水性NaH2PO4(2×250ml)で洗浄
(5.7%水性NaH2PO4のpH測定値=4.30±0.
05;合わせたNaH2PO4洗液のpH測定値=5.7
5±0.05)し、次いで、半飽和水性塩化ナトリウム
(250ml)、飽和水性塩化ナトリウム(250ml)で洗浄
し、Na2SO4で乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮す
る(回転蒸発器での濃縮はすべて浴温35℃で行う)。得
られる半固体をさらに真空下に置き(〜1mmHgで20
分間)、白色固体(41.5g)を得る。粗生成物をCH2C
l2(400ml)に溶解し(固体を溶解するために、35℃
の水浴での加熱が必要である)、得られる溶液の体積を
回転蒸発器で〜150mlに減少させる。すぐに結晶化が
始まり、混合物を室温で1時間静置する。ヘキサン(1
00ml)を加え、混合物を穏やかに渦をまくように撹拌
する。混合物を4℃の冷却室に16.5時間静置する。
固体を濾過し、吸引フィルターを用い、CH2Cl2:ヘ
キサン(1:9)(3×250ml)で洗浄し、高真空にて乾
燥(〜0.2mmHgで42時間)し、標記生成物(26.1
g、収率79%)を白色粉末で得る。母液を回転蒸発器で
濃縮し、残渣をCH2Cl2から結晶化させ、標記生成物
(4.5g、収率14%)を白色結晶で得る。第1生成物と
同様にして再結晶を行う:固体をCH2Cl2(100ml)
に加熱せずに溶解し、得られる溶液の体積を回転蒸発器
で〜7mlに減少させる。5分以内に結晶化が始まる。混
合物を室温で1時間、次いで、4℃の冷却室で42時間
静置する。結晶を濾過し、吸引フィルターを用い、CH
2Cl2:ヘキサン(1:9)(3×50ml)で洗浄し、高真
空にて乾燥(〜0.2mmHgで18時間)する。この生成物
の1HNMRは第1生成物の1HNMRと同じである。2
つの生成物の合計収率は93%である(補正なし)。 元素分析値(%)(C35H50O10Siとして) 計算値:C63.80;H7.65;KF(H2O)0.0
0; 実測値:C63.43;H7.66;KF(H2O)0.0
0。 m.p.239〜242℃(分解)。 [α]22 D:−53.6°(c1.0,CHCl3); TLC:Rf=0.60(シリカゲル,酢酸エチル)、ホス
ホモリブデン酸/エタノールで視覚化。
入口を具備した炎乾燥250ml3ツ首フラスコに、10
−デスアセチルバッカチンIII(5.44g、10ミリ
モル、水分含量1.56重量%、メタノール含量1.6重
量%)、4−ジメチルアミノピリジン(0.49g、4ミリ
モル)およびN,N−ジメチルホルムアミド(24ml、4
オングストロームのモレキュラーシーブスで乾燥)を入
れる。混合物を室温で均質になるまで撹拌する。ジクロ
ロメタン(50ml、HPLC級、精製ぜずに使用)を加
え、温度を−50℃以下にする。トリエチルアミン(2.
9ml、21ミリモル)を5分間で、次いで、塩化トリエ
チルシリル(3.4ml、20ミリモル)を10分間で滴下
する。混合物を−48℃で21時間静置し、酢酸エチル
200mおよび水175mlで希釈する(溶離液としてEt
OAcを用いるTLCで反応物をモニターする:出発物
質のRf=0.56、生成物のRf=0.83;UVおよ
びPMAで視覚化)。水性層を分離して、酢酸エチル(1
×50ml)で抽出する。有機層を合わせ、5%水性1塩
基性リン酸カリウム(2×50ml)(5%KH2PO4/H2
OのpHは4.3である)、半飽和塩化ナトリウム(1×
50ml)、食塩水(1×50ml)で洗浄し、硫酸ナトリウ
ムで乾燥し、減圧濃縮して、粗標記生成物(7.45g)を
得る。粗物質を熱ジクロロメタン75mlに溶解し、加熱
して総体積を30mlまで減少させると結晶化が始まる。
室温で2時間、4℃で16時間静置する。結晶をブフナ
ーロートで濾過し、冷10%ジクロロメタン/ヘキサン
(25ml)で洗浄し、減圧乾燥して、標記生成物(5.38
g)を得る。母液および洗液を減圧濃縮し、固体残渣をジ
クロロメタン8mlに溶解して結晶化させる。上記結晶化
操作により、生成物0.72gを第2生成物として得る。
m.p.238〜240℃の白色固体として得られる標記生
成物7−TES−10−デスアセチルバッカチンIII
の合計収量は6.10g、収率93%である。 元素分析値(%)(C35H50O10Siとして) 計算値:C63.80;H7.65; 実測値:C63.76;H7.66。 m.p.239〜242℃。 [α]D:−53.7°(c1.0,CHCl3); TLC:Rf=0.53(シリカゲル,50%酢酸エチル
/ヘキサン)、UVおよびPMAで視覚化。HI=98.
9%。
β,9α,11β,12α,12aα,12bα)]−6,12
b−ビス(アセチルオキシ)−12−(ベンゾイルオキシ)
−2a,3,4,4a,5,6,9,10,11,12,12a,
12b−ドデカヒドロ−9,11−ジヒドロキシ−4a,
8,13,13−テトラメチル−4−[(トリエチルシリ
ル)オキシ]−7,11−メタノ−1H−シクロデカ[3,
4]ベンズ[1,2−b]オキセト−5−オン(7−O−T
ES−10−バッカチンIII)
(機械的撹拌棒およびデジタル温度計を具備したもの)
に、上記工程(i)で調製した7−TES−10−デスア
セチルバッカチンIII(21.4g、32.4ミリモル)
を入れ、THF(350ml、ナトリウム/ベンゾフェノ
ンから新たに蒸留したもの)に溶解する。得られる溶液
を−70℃に冷却する。n−ブチルリチウムの溶液(n
−BuLi、2.56Mヘキサン溶液を14.6ml、3
7.3ミリモル、THF中0℃にてジフェニル酢酸3回
で滴定)を23分間で滴下する。添加中、反応物の温度
は−68℃以上にはならない。n−BuLiの添加によ
って、固体が形成され、これは−70℃では溶解しな
い。得られる混合物を−70℃で20分間撹拌し、次い
で、−48℃に暖める(−48℃まで暖めると、透明で
均質な溶液が得られる)。−48℃で0.5時間撹拌後、
無水酢酸(4.6ml、49ミリモル、使用前にアルゴン雰
囲気下で蒸留(137〜138℃、1気圧))を7分間で
滴下する。添加中、反応物の温度は−45℃以上にはな
らない。得られる溶液を−48℃で20分間、次いで、
0℃で1時間撹拌する。溶液を酢酸エチル(350ml)で
希釈し、飽和水性NH4Cl(250ml)で洗浄し、層を
分離する。水性層を酢酸エチル(200ml)で抽出する。
有機層を合わせ、飽和NaClで洗浄し、Na2SO4で
乾燥し、濾過し、回転蒸発器で濃縮する(回転蒸発器で
の濃縮はすべて水浴温35℃で行う)。半固体を高真空
(〜1.5mmHg、0.5時間)下に置き、白色固体24.
7gを得る。粗生成物をCH2Cl2(300ml)に溶解
し、得られる溶液の体積を回転蒸発器で〜70mlに減少
させる。1分以内に結晶化が始まる。混合物を室温で4
5分間、次いで、4℃の冷却室にて18時間静置する。
結晶を濾過し、吸引フィルターを用い、CH2Cl2:ヘ
キサン(1:9)(3×100ml)で洗浄し、高真空にて乾
燥(〜0.2mmHgで19時間)し、標記生成物(20.9
g、収率92.0%)を微細な白色針状晶で得る。母液を
回転蒸発器で濃縮し、残渣をCH2Cl2から結晶化さ
せ、標記生成物(0.82g、収率3.6%)を小さな白色
結晶で得る。結晶化は次のようにして行う:残渣をCH
2Cl2(10ml)に溶解し、得られる溶液の体積を回転蒸
発器で〜5mlに減少させる。室温で0.5時間静置後、
結晶は形成されない。ヘキサン(5ml)を1mlずつ加え、
溶液を渦巻きにかきまぜる。この時点で、2,3個の結
晶が存在する。混合物を室温で0.5時間(さらに結晶が
形成する)、次いで、4℃の冷却室で18時間静置す
る。結晶を濾過し、吸引フィルターを用い、CH2C
l2:ヘキサン(1:9)で洗浄し、高真空にて乾燥(〜
0.15mmHgで21時間)する。2つのクロップの合計
収率は95.6%である。 m.p.218〜219℃(分解)。 [α]22 D:−78.4°(c1.0,CHCl3); TLC:Rf=0.37(シリカゲル,1:9=アセトン
/CH2Cl2)、ホスホモリブデン酸/エタノールで視
覚化。
しいオキサゾリジンカルボン酸(III)または(VII)
とC−13ヒドロキシ結合タキサン(IV)とのカップリ
ングを説明する。 実施例9 [2aR−[2aα,4β,4aβ,6β,9α(4S*,5R
*),11α,12α,12aα,12bα]]−3−ベンゾ
イル−2,2−ジメチル−4−フェニル−5−オキサゾ
リジンカルボン酸,6,12b−ビス(アセチルオキシ)−
12−(ベンゾイルオキシ)−2a,3,4,4a,5,6,
9,10,11,12,12a,12b−ドデカヒドロ−1
1−ヒドロキシ−4a,8,13,13−テトラメチル−
5−オキソ−4−[(トリエチルシリル)オキシ]−7,1
1−メタノ−1H−シクロデカ[3,4]ベンズ[1,2−
b]オキセト−9−イル・エステルの製造
施例6の標記生成物(94mg)、トルエン(0.6ml)、ジ
シクロヘキシルカルボジイミド(DCC)(27mg)および
ジメチルアミノピリジン(DMAP)(27mg)を混合し、
得られる混合物を80℃で3時間加熱する。この時点に
おけるTLCにより、出発物質7−トリエチルシリルバ
ッカチンIIIの完全消費および新しいスポットの出現
が示される。反応混合物をCH2Cl2(20ml)で希釈
し、飽和水性NaHCO3(10ml)を加え、水層をCH2
Cl2(2×10ml)で抽出し、有機層を合わせ、乾燥(無
水MgSO4)する。減圧濃縮して得られた沈殿を濾去す
る。化合物をプレパラティブHPLC(ヘキサン:酢酸
エチル,2:1)で精製して標記生成物(214mg、収率
96%)を得る。 マススペクトル:M+H+=1008; TLC(ヘキサン/酢酸エチル=1:1)Rf=0.5
6; m.p.164〜165℃;1 H NMR(上記構造と一致)。7−トリエチルシリルバ
ッカチンIII(475mg)、実施例6の標記生成物(2
87mg)、トルエン(1.8ml)、DCC(210mg)および
DMAP(50mg)を用い、大きいスケールで上記操作を
繰り返す。HPLCクロマトグラフィーにより、標記生
成物(666mg、収率98%)を得る。
*),11α,12α,12aα,12bα]]−3−ベンゾ
イル−2,2−ジメチル−4−フェニル−5−オキサゾ
リジンカルボン酸,6,12b−ビス(アセチルオキシ)−
12−(ベンゾイルオキシ)−2a,3,4,4a,5,6,
9,10,11,12,12a,12b−ドデカヒドロ−1
1−ヒドロキシ−4a,8,13,13−テトラメチル−
5−オキソ−4−[(トリエチルシリル)オキシ]−7,1
1−メタノ−1H−シクロデカ[3,4]ベンズ[1,2−
b]オキセト−9−イル・エステルの製造の別法 CH2Cl2(0.5ml)およびトリエチルアミン(TEA)
(0.068ml)中の実施例6の標記生成物(103mg)、
式:
スフィン酸塩化物(65mg)および7−トリエチルシリル
バッカチンIII(170mg)の懸濁液を室温にて3時間
撹拌する。0.5時間後、懸濁液は幾分か濁った溶液に
なる。TLCにおいて反応物は観察されない。次いで混
合物を1時間加熱還流する(反応物なし)。この時点で、
DMAPを加え、1時間加熱すると、生成物の形成がみ
られる。混合物を酢酸エチルで希釈し、飽和水性NaH
CO3、pH3のリン酸緩衝液、飽和水性NaClで洗
浄し、乾燥し、蒸発して粗生成物(232mg、収率95
%)を得る。1HNMRにより、所望の標記生成物および
約2〜5%の出発物質の存在が示される(生成物の特性
は実施例9の構造と一致)。
*),11α,12α,12aα,12bα]]−3−ベンゾ
イル−2−メトキシ−4−フェニル−5−オキサゾリジ
ンカルボン酸,6,12b−ビス(アセチルオキシ)−12
−(ベンゾイルオキシ)−2a,3,4,4a,5,6,9,1
0,11,12,12a,12b−ドデカヒドロ−11−ヒ
ドロキシ−4a,8,13,13−テトラメチル−5−オ
キソ−4−[(トリエチルシリル)オキシ]−7,11−メ
タノ−1H−シクロデカ[3,4]ベンズ[1,2−b]オキ
セト−9−イル・エステルの製造
施例7の標記生成物(155mg)、トルエン(1.0ml)、
DCC(113mg)およびDMAP(27mg)を混合し、得
られる混合物を約80℃で1時間加熱還流する。この時
点で、反応は完了しておらず、追加のDCC(56.5m
g)およびDMAP(13.5mg)を加え、混合物をさらに
2時間還流する。少量の出発物質が依然として残存す
る。仕上げ処理(EtOAcで希釈、飽和水性NaHC
O3で洗浄、次いで乾燥(無水MgSO4))の後、生成物
をプレパラティブHPLCで精製する。主要画分から、
標記生成物(300mg、収率82%)(および少量の不純
物)を得る。大きいスケールでは、7−トリエチルシリ
ルバッカチンIII(1.022g)、実施例7の標記生成
物(620mg)、DCC(451mg)およびDMAP(10
7mg)を乾燥したフラスコ中で混合し、トルエン(3.5m
l)に懸濁する。混合物を80℃で1時間加熱し、次いで
さらに0.5当量の実施例7の標記生成物を加え、次い
で追加のDMAP(107mg)およびDCC(451mg)を
加える。1時間加熱後も、依然として出発物質が残存す
る。反応混合物を一夜加熱し、前記仕上げ処理を行う。
HPLC(ヘキサン:酢酸エチル,9:1から1:1)に
て精製し、第1画分として不純物75mg、次いで標記生
成物(928mg、収率65%)を得る。213mgの出発物
質(21%)が残存する。生成物はジアステレオマーの混
合物である(分離しない)。 TLC(ヘキサン/酢酸エチル=1:1)Rf=0.5
1; m.p.(混合物)152〜155℃;1 H NMR(上記構造と一致)。
−13アシルオキシ側鎖結合タキサン(VI)を得るため
に行う、好ましいカップリング生成物(V)または(VI
II)の開環を説明する。 実施例12 パクリタキセルの製造
に溶解し、0℃に冷却する。10%水性HCl(0.5m
l)および酢酸(0.5ml)を加える。反応混合物を0℃で
5時間撹拌する。次いで室温で2時間撹拌し、4℃で一
夜静置する。反応がまだ完了しないので、次いで混合物
を室温で5時間撹拌すると、TLCにより出発物質がな
くなったことが示される。仕上げ処理[EtOAcで希
釈、飽和NaHCO3および食塩水で洗浄、および乾燥
(無水MgSO4)]の後、プレパラティブHPLC(ヘキ
サン:酢酸エチル,5:1から1:2)で精製し、標記生
成物(70mg、収率78%)を得る(生成物の特性は天然
産物の真正サンプルの特性と一致)。
(1.0ml)に溶解し、Pd(CH3CN)2Cl2(0.5mg)
を加え(スパチュラの先端から)、次いで混合物を室温に
て撹拌する。2時間後、7−トリエチルシリル基が一部
少し脱保護されているのが観察される(TLCにより、
新たな極性スポットが観察される)。さらに撹拌を続
け、さらに7−トリエチルシリル基を脱保護するが、依
然として幾らかの出発物質が残存する。追加のPd(C
H3CN)2Cl2(0.5mg)を加え、一夜撹拌を続ける。
この時点で、パクリタキセル、出発アセトニドタキサン
および7位のトリエチルシリル基が脱保護されてヒドロ
キシ基となった出発アセトニドタキサンの類縁体がTL
Cにより観察される。3回目のPd(CH3CN)2Cl
2(0.5mg)を加え、8時間撹拌を続ける(7位のトリエ
チルシリル基を脱保護する;この時点で、パクリタキセ
ルよりもより極性が強い不純物を含む少量の出発物質が
残存する)。反応混合物に飽和NaHCO3を加えて反応
を停止し、酢酸エチルで希釈し、H2O、次いで飽和水
性NaClで洗浄し、乾燥(無水MgSO4)する。溶媒
を減圧除去し、残渣をHPLC(ヘキサン:酢酸エチル,
2:1から1:2)で精製し、標記生成物(パクリタキセ
ル)(30mg、収率42%)を得る(生成物の特性は天然産
物の真正サンプルの特性と一致)。
Claims (26)
- 【請求項1】 一般式(VI): 【化1】 [式中、R1は水素、アリールカルボニル、アルコキシカ
ルボニルまたはアルキルカルボニル;R2はアリール、
ヘテロシクロまたはアルキル;およびTはそのC−13
位において直接結合するタキサン部分である]で示され
る化合物またはその塩の製造方法であって、 (a)一般式(III): 【化2】 [式中、R1およびR2は前記と同意義;およびR5およ
びR6は(a)それぞれ独立してアルキル;または(b)それら
が結合する炭素原子と一緒になってシクロアルキル、シ
クロアルケニルまたはヘテロシクロを形成する]で示さ
れる化合物またはその塩を、カップリング剤の存在下
に、式(IV): HO−T (IV) [式中、Tは前記と同意義]で示される化合物またはそ
の塩と接触させ、一般式(V): 【化3】 [式中、R1、R2、R5、R6およびTは前記と同意義]
で示される化合物またはその塩を形成し;および(b)該
化合物(V)またはその塩を開環剤と接触させ、必要に応
じて、1または2個以上の保護ヒドロキシ基を脱保護
し、該化合物(VI)またはその塩を形成する工程を特徴
とする製造方法。 - 【請求項2】 R1がアリールカルボニルまたはアルコ
キシカルボニル;R2がフェニル、チエニルまたはフリ
ル;R5およびR6がそれぞれ独立して非置換低級アルキ
ル;およびTが一般式: 【化4】 [式中、R9は水素、アルキルカルボニルまたは水酸基
の保護基;およびR10は水素または水酸基の保護基であ
る]で示される部分である請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項3】 カップリング剤が、カルボジイミドを1
−ヒドロキシベンゾトリアゾールまたはN−ヒドロキシ
スクシンイミドと一緒に用いるカップリング剤;または
アミンをカルボジイミド、ビス(2−オキソ−3−オキ
サゾリジニル)ホスフィン酸塩化物、カルボニルジイミ
ダゾール、塩化ピバロイルまたは2,4,6−トリクロ
ロベンゾイル塩化物と一緒に用いるカップリング剤であ
る請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項4】 開環剤がルイス酸である請求項1に記載
の製造方法。 - 【請求項5】 ルイス酸がPd(CH3CN)2Cl2であ
る請求項4に記載の製造方法。 - 【請求項6】 化合物(VI)がパクリタキセルである請
求項1に記載の製造方法。 - 【請求項7】 化合物(III)またはその塩において、
R1がR1*であり、化合物(III)またはその塩が、一
般式(I): 【化5】 [式中、R2、R5およびR6は前記と同意義;R4はアル
キル、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアル
キル、シクロアルケニルまたはヘテロシクロ;およびR
1*は水素、アリールカルボニル、アルコキシカルボニ
ルまたはアルキルカルボニル、ただしR2がアリールで
ある場合、R1*はtert−ブトキシカルボニルではな
い]で示される化合物またはその塩を加水分解剤と接触
させる工程を特徴とする方法によって製造される請求項
1に記載の製造方法。 - 【請求項8】 化合物(I)またはその塩が、一般式
(i): 【化6】 [式中、R1*、R2およびR4は前記と同意義;および
R3は水素または 【化7】 (ここで、R5およびR6は前記と同意義;およびR7はア
ルキルまたはアリール)で示されるR3P基である]で示
される化合物またはその塩を酸触媒と接触させ、次い
で、R3が水素である場合、さらに一般式(ii)または(ii
i): 【化8】 [式中、R5、R6およびR7は前記と同意義;およびR
5aは(i)R5a−CH2−がR5であるような基または(ii)
R5aとR6が結合する炭素原子およびR6と一緒になっ
て、少なくとも1個の炭素原子間二重結合を含むシクロ
アルケニルまたはヘテロシクロを形成する]で示される
化合物と接触させる工程を特徴とする方法によって製造
される請求項7に記載の製造方法。 - 【請求項9】 一般式(I): 【化9】 [式中、R1*は水素、アリールカルボニル、アルコキ
シカルボニルまたはアルキルカルボニル、ただしR2が
アリールである場合、R1*はtert−ブトキシカルボニ
ルではない;R2はアリール、ヘテロシクロまたはアル
キル;R4は水素、アルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニルまた
はヘテロシクロ;およびR5およびR6は(a)それぞれ独
立してアルキル;または(b)それらが結合する炭素原子と
一緒になってシクロアルキル、シクロアルケニルまたは
ヘテロシクロを形成する]で示される化合物またはその
塩。 - 【請求項10】 (4S−トランス)−3−ベンゾイル−
2,2−ジメチル−4−フェニル−5−オキサゾリジン
カルボン酸エチルエステル;(4S−トランス)−3−ベ
ンゾイル−2,2−ジメチル−4−フェニル−5−オキ
サゾリジンカルボン酸リチウム塩;および(4S−トラ
ンス)−3−ベンゾイル−2,2−ジメチル−4−フェニ
ル−5−オキサゾリジンカルボン酸から選ばれる請求項
9に記載の化合物。 - 【請求項11】 一般式(V): 【化10】 [式中、R1*は水素、アリールカルボニル、アルコキ
シカルボニルまたはアルキルカルボニル、ただしR2が
アリールである場合、R1*はtert−ブトキシカルボニ
ルではない;R2はアリール、ヘテロシクロまたはアル
キル;R5およびR6は(a)それぞれ独立してアルキル;ま
たは(b)それらが結合する炭素原子と一緒になってシク
ロアルキル、シクロアルケニルまたはヘテロシクロを形
成する;およびTはそのC−13位において直接結合す
るタキサン部分である]で示される化合物またはその
塩。 - 【請求項12】 [2aR−[2aα,4β,4aβ,6β,
9α(4S*,5R*),11α,12α,12aα,12b
α]]−3−ベンゾイル−2,2−ジメチル−4−フェニ
ル−5−オキサゾリジンカルボン酸,6,12b−ビス
(アセチルオキシ)−12−(ベンゾイルオキシ)−2a,
3,4,4a,5,6,9,10,11,12,12a,12b−
ドデカヒドロ−11−ヒドロキシ−4a,8,13,13
−テトラメチル−5−オキソ−4−[(トリエチルシリ
ル)オキシ]−7,11−メタノ−1H−シクロデカ[3,
4]ベンズ[1,2−b]オキセト−9−イル・エステルで
ある請求項11に記載の化合物。 - 【請求項13】 一般式(iv): 【化11】 [式中、R1*は水素、アリールカルボニル、アルコキ
シカルボニルまたはアルキルカルボニル、ただしR2が
アリールである場合、R1*はtert−ブトキシカルボニ
ルではない;R2はアリール、ヘテロシクロまたはアル
キル;R4は水素、アルキル、アルケニル、アルキニ
ル、アリール、シクロアルキル、シクロアルケニルまた
はヘテロシクロ;およびR3Pは 【化12】 (ここで、R5およびR6は(a)それぞれ独立してアルキ
ル;または(b)それらが結合する炭素原子と一緒になって
シクロアルキル、シクロアルケニルまたはヘテロシクロ
を形成;およびR7はアルキルまたはアリール)である]
で示される化合物またはその塩。 - 【請求項14】 一般式(VI): 【化13】 [式中、R1は水素、アリールカルボニル、アルコキシ
カルボニルまたはアルキルカルボニル;R2はアリー
ル、ヘテロシクロまたはアルキル;およびTはそのC−
13位において直接結合するタキサン部分である]で示
される化合物またはその塩の製造方法であって、 (a)一般式(VII): 【化14】 [式中、R1およびR2は前記と同意義;およびR8はアル
キルまたはアリールである]で示される化合物またはそ
の塩を、カップリング剤の存在下に、式(IV): HO−T (IV) [式中、Tは前記と同意義]で示される化合物またはそ
の塩と接触させ、一般式(VIII): 【化15】 [式中、R1、R2、R8およびTは前記と同意義]で示
される化合物またはその塩を形成し;および (b)該化合物(VIII)またはその塩を開環剤と接触さ
せ、必要に応じて、1または2個以上の保護ヒドロキシ
基を脱保護し、該化合物(VI)またはその塩を形成する
工程を特徴とする製造方法。 - 【請求項15】 R1がアリールカルボニルまたはアル
コキシカルボニル;R2がフェニル、チエニルまたはフ
リル;R8がアルキルまたはアリール;およびTが一般
式: 【化16】 [式中、R9は水素、アルキルカルボニルまたは水酸基
の保護基;およびR10は水素または水酸基の保護基であ
る]で示される部分である請求項14に記載の製造方
法。 - 【請求項16】 カップリング剤が、カルボジイミド、
ビス(2−オキソ−3−オキサゾリジニル)ホスフィン酸
塩化物、カルボニルジイミダゾール、塩化ピバロイルま
たは2,4,6−トリクロロベンゾイル塩化物を、1−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾールまたはN−ヒドロキシスク
シンイミドまたはアミンと一緒に用いるカップリング剤
である請求項1に記載の製造方法。 - 【請求項17】 開環剤がプロトン酸である請求項14
に記載の製造方法。 - 【請求項18】 プロトン酸が有機カルボン酸および/
または水性鉱酸である請求項17に記載の製造方法。 - 【請求項19】 化合物(VI)がパクリタキセルまたは
タキソテレである請求項14に記載の製造方法。 - 【請求項20】 化合物(VII)またはその塩が、一般
式(II): 【化17】 [式中、R1、R2およびR8は前記と同意義;およびR4
はアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、シク
ロアルキル、シクロアルケニルまたはヘテロシクロであ
る]で示される化合物またはその塩を加水分解剤と接触
させる工程を特徴とする方法によって製造される請求項
14に記載の製造方法。 - 【請求項21】 化合物(II)またはその塩が、一般式
(i): 【化18】 [式中、R1、R2およびR4は前記と同意義;およびR3
は水素である]で示される化合物またはその塩を酸触媒
および一般式(vi): HC(OR8)3 (vi) [式中、R8は前記と同意義]で示される化合物と接触
させる工程を特徴とする方法によって製造される請求項
20に記載の製造方法。 - 【請求項22】 一般式(II): 【化19】 [式中、R1は水素、アリールカルボニル、アルコキシ
カルボニルまたはアルキルカルボニル;R2はアリー
ル、ヘテロシクロまたはアルキル;R4は水素、アルキ
ル、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキ
ル、シクロアルケニルまたはヘテロシクロ;およびR8
はアルキルまたはアリール]で示される化合物またはそ
の塩。 - 【請求項23】 (4S,5R)−3−ベンゾイル−2−
エトキシ−4−フェニル−5−オキサゾリジンカルボン
酸エチルエステル;(4S,5R)−3−ベンゾイル−2
−メトキシ−4−フェニル−5−オキサゾリジンカルボ
ン酸エチルエステル;および(4S,5β)−3−ベンゾ
イル−2−メトキシ−4−フェニル−5−オキサゾリジ
ンカルボン酸から選ばれる請求項22に記載の化合物。 - 【請求項24】 一般式(VIII): 【化20】 [式中、R1は水素、アリールカルボニル、アルコキシ
カルボニルまたはアルキルカルボニル;R2はアリー
ル、ヘテロシクロまたはアルキル;R8はアルキルまた
はアリール;およびTはそのC−13位において直接結
合するタキサン部分である]で示される化合物またはそ
の塩。 - 【請求項25】 [2aR−[2aα,4β,4aβ,6β,
9α(4S*,5R*),11α,12α,12aα,12b
α]]−3−ベンゾイル−2−メトキシ−4−フェニル−
5−オキサゾリジンカルボン酸,6,12b−ビス(アセ
チルオキシ)−12−(ベンゾイルオキシ)−2a,3,4,
4a,5,6,9,10,11,12,12a,12b−ドデカ
ヒドロ−11−ヒドロキシ−4a,8,13,13−テト
ラメチル−5−オキソ−4−[(トリエチルシリル)オキ
シ]−7,11−メタノ−1H−シクロデカ[3,4]ベン
ズ[1,2−b]オキセト−9−イル・エステルである請
求項24に記載の化合物。 - 【請求項26】 一般式(v): 【化21】 [式中、R1は水素、アリールカルボニル、アルコキシ
カルボニルまたはアルキルカルボニル;R2はアリー
ル、ヘテロシクロまたはアルキル;R4は水素、アルキ
ル、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキ
ル、シクロアルケニルまたはヘテロシクロ;およびR8
はアルキルまたはアリール]で示される化合物またはそ
の塩。
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