JPH08283286A - ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 - Google Patents
ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
Landscapes
- Saccharide Compounds (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 下記一般式化1で表わされるベンゾフェノン
誘導体及びそれを用いた紫外線吸収剤、皮膚外用剤。 【化1】 但し、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜4の
アルコキシ基で表わされる。Aは保護基を有していない
糖残基であり、mは1〜4の整数、nは2〜6の整数を
示す。 【効果】 優れた紫外線吸収能を有し、低温でも高い極
性溶媒相溶性を有する。
誘導体及びそれを用いた紫外線吸収剤、皮膚外用剤。 【化1】 但し、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜4の
アルコキシ基で表わされる。Aは保護基を有していない
糖残基であり、mは1〜4の整数、nは2〜6の整数を
示す。 【効果】 優れた紫外線吸収能を有し、低温でも高い極
性溶媒相溶性を有する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はベンゾフェノン誘導体、
紫外線吸収剤及び皮膚外用剤、特に親水性溶剤への溶解
性の高いベンゾフェノン誘導体とそれを用いた紫外線吸
収剤、皮膚外用剤に関する。
紫外線吸収剤及び皮膚外用剤、特に親水性溶剤への溶解
性の高いベンゾフェノン誘導体とそれを用いた紫外線吸
収剤、皮膚外用剤に関する。
【0002】
【従来の技術】通常人体が受ける紫外線は、その殆どが
太陽光線に由来している。太陽光線に含まれる紫外線
は、皮膚科学的には400nm〜320nmの長波長紫外線
(UV−A)、320nm〜290nmの中波長紫外線(U
V−B)、290nm以下の短波長紫外線(UV−C)に
分類される。このうち、290nm以下の波長の紫外線は
オゾン層によって吸収され、地表に到達しない。地表に
届く紫外線は、人間の皮膚に様々な影響を及ぼす。地上
にまで達する紫外線の内で、UV−Aは皮膚の褐色化を
惹起し、皮膚の弾力性の低下及びシワの発生を促進し急
激な老化をもたらす。また、紅斑反応の開始を促進し、
或いはある種の患者に対してはこの反応を増強し、さら
に光毒性或いは光アレルギー反応の原因とさえなり得
る。一方、UV−Bもまた皮膚の紅斑や水泡を形成し、
メラニン形成が亢進され、色素沈着を生じる等の変化を
もたらす。このため、皮膚の老化を防ぎ、シミ、ソバカ
スの発生や増悪を防ぐ上で、紫外線から皮膚を保護する
ことは極めて重要であり、各種紫外線吸収剤が開発され
てきた。
太陽光線に由来している。太陽光線に含まれる紫外線
は、皮膚科学的には400nm〜320nmの長波長紫外線
(UV−A)、320nm〜290nmの中波長紫外線(U
V−B)、290nm以下の短波長紫外線(UV−C)に
分類される。このうち、290nm以下の波長の紫外線は
オゾン層によって吸収され、地表に到達しない。地表に
届く紫外線は、人間の皮膚に様々な影響を及ぼす。地上
にまで達する紫外線の内で、UV−Aは皮膚の褐色化を
惹起し、皮膚の弾力性の低下及びシワの発生を促進し急
激な老化をもたらす。また、紅斑反応の開始を促進し、
或いはある種の患者に対してはこの反応を増強し、さら
に光毒性或いは光アレルギー反応の原因とさえなり得
る。一方、UV−Bもまた皮膚の紅斑や水泡を形成し、
メラニン形成が亢進され、色素沈着を生じる等の変化を
もたらす。このため、皮膚の老化を防ぎ、シミ、ソバカ
スの発生や増悪を防ぐ上で、紫外線から皮膚を保護する
ことは極めて重要であり、各種紫外線吸収剤が開発され
てきた。
【0003】既存の紫外線吸収剤としては、PABA誘
導体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体、ウロカニン誘導体、カンファー誘導体および
複素環誘導体などが利用されてきた。そして、これらの
紫外線吸収剤は、その殆どが固体であり、油溶性であっ
た。一方、最近では日常の生活で受ける紫外線の影響に
ついても問題になっており、通常のスキンケアでも日焼
け止めが望まれている。このため、化粧水等の水系のス
キンケア製品にも多量に配合できること、より高い紫外
線吸収効果を有する外用剤を処方する上でも系全体に多
量の紫外線吸収剤を配合できる方がよいので、油相だけ
でなく水相にも紫外線吸収剤を配合することが望まれる
こと等から、水溶性で且つ紫外線を吸収する物質が注目
されてきており、このような水溶性紫外線吸収剤として
は、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキソ
ニウムベンゾフェノンナトウリム塩が知られている。し
かしながら、これは塩であるので処方系のpHに影響を
もたらすという問題点があった。近年、このような問題
点を解決するため、ポリグリセリンや糖などの非イオン
性の親水基を有する水溶性紫外線吸収剤が開発されてい
る(特開平6−87879、特開平6−13598
5)。
導体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体、ウロカニン誘導体、カンファー誘導体および
複素環誘導体などが利用されてきた。そして、これらの
紫外線吸収剤は、その殆どが固体であり、油溶性であっ
た。一方、最近では日常の生活で受ける紫外線の影響に
ついても問題になっており、通常のスキンケアでも日焼
け止めが望まれている。このため、化粧水等の水系のス
キンケア製品にも多量に配合できること、より高い紫外
線吸収効果を有する外用剤を処方する上でも系全体に多
量の紫外線吸収剤を配合できる方がよいので、油相だけ
でなく水相にも紫外線吸収剤を配合することが望まれる
こと等から、水溶性で且つ紫外線を吸収する物質が注目
されてきており、このような水溶性紫外線吸収剤として
は、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキソ
ニウムベンゾフェノンナトウリム塩が知られている。し
かしながら、これは塩であるので処方系のpHに影響を
もたらすという問題点があった。近年、このような問題
点を解決するため、ポリグリセリンや糖などの非イオン
性の親水基を有する水溶性紫外線吸収剤が開発されてい
る(特開平6−87879、特開平6−13598
5)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の水溶性紫外線吸収剤は水、あるいは水とアルコールの
ような親水性溶媒の混合液中に高濃度に配合し、低温に
放置した場合、結晶となって析出することがあった。製
品中における結晶の析出は製品安定性上重大な問題であ
り、均一に塗布できないために所期の紫外線吸収効果を
発揮できないばかりでなく、製品価値をも低下させる。
このため、実際の処方ではその配合量が制限されてしま
い、紫外線吸収効果を高めるために高濃度に配合するこ
とができなかった。本発明は前記従来技術の課題に鑑み
なされたものであり、その目的は優れた紫外線吸収性を
有し、しかも水溶性で、低温でも安定に溶解する物質お
よびそれを配合した皮膚外用剤を提供することにある。
の水溶性紫外線吸収剤は水、あるいは水とアルコールの
ような親水性溶媒の混合液中に高濃度に配合し、低温に
放置した場合、結晶となって析出することがあった。製
品中における結晶の析出は製品安定性上重大な問題であ
り、均一に塗布できないために所期の紫外線吸収効果を
発揮できないばかりでなく、製品価値をも低下させる。
このため、実際の処方ではその配合量が制限されてしま
い、紫外線吸収効果を高めるために高濃度に配合するこ
とができなかった。本発明は前記従来技術の課題に鑑み
なされたものであり、その目的は優れた紫外線吸収性を
有し、しかも水溶性で、低温でも安定に溶解する物質お
よびそれを配合した皮膚外用剤を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明者らが鋭意検討した結果、ある種のベンゾフェ
ノン誘導体が優れた紫外線吸収性をもち、且つ水あるい
は水−親水性有機溶媒の混合溶液に対し低温領域でも溶
解性に優れることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち本出願の請求項1記載のベンゾフェノン誘
導体は、下記一般式化2で表わされる。
に本発明者らが鋭意検討した結果、ある種のベンゾフェ
ノン誘導体が優れた紫外線吸収性をもち、且つ水あるい
は水−親水性有機溶媒の混合溶液に対し低温領域でも溶
解性に優れることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち本出願の請求項1記載のベンゾフェノン誘
導体は、下記一般式化2で表わされる。
【0006】
【化2】 但し、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜4の
アルコキシ基で表わされる。Aは保護基を有していない
糖残基であり、mは1〜4の整数、nは2〜6の整数を
示す。請求項2記載の紫外線吸収剤は、前記化2のベン
ゾフェノン誘導体よりなることを特徴とする。請求項3
記載の皮膚外用剤は、前記化2のベンゾフェノン誘導体
を一種または二種以上を含むことを特徴とする。
アルコキシ基で表わされる。Aは保護基を有していない
糖残基であり、mは1〜4の整数、nは2〜6の整数を
示す。請求項2記載の紫外線吸収剤は、前記化2のベン
ゾフェノン誘導体よりなることを特徴とする。請求項3
記載の皮膚外用剤は、前記化2のベンゾフェノン誘導体
を一種または二種以上を含むことを特徴とする。
【0007】以下、本発明の構成について詳述する。前
記一般式化2で表される本発明のベンゾフェノン誘導体
において、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜
4のアルコキシ基で表わされる。アルコキシ基は直鎖あ
るいは分岐のいずれでもよい。具体的にはメトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブト
キシ基等が挙げられるが、水溶性や工業性の観点からメ
トキシ基、エトキシ基が好ましい。
記一般式化2で表される本発明のベンゾフェノン誘導体
において、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜
4のアルコキシ基で表わされる。アルコキシ基は直鎖あ
るいは分岐のいずれでもよい。具体的にはメトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブト
キシ基等が挙げられるが、水溶性や工業性の観点からメ
トキシ基、エトキシ基が好ましい。
【0008】前記一般式化2において、Aは糖の残基
で、糖の具体例としては、グルコ−ス、ガラクト−ス、
キシロ−ス、フルクト−ス、アルトロ−ス、タロ−ス、
マンノ−ス、アラビノ−ス、イド−ス、リキソ−ス、リ
ボ−ス、アロ−ス等の単糖類及びその混合物、またはマ
ルト−ス、イソマルト−ス、ラクト−ス、キシロビオ−
ス、ケンチオビオ−ス、コ−ジオビオ−ス、セロビオ−
ス、ソホロ−ス、ニゲロ−ス、スクロ−ス、メリビオ−
ス、ラミナリビオ−ス、ルチノ−ス等の二糖類及びその
混合物、またはマルトトリオ−ス等の三糖類及びその混
合物、さらにそれ以上の多糖及びその混合物などが挙げ
られ、またこれらの単糖、二糖、それ以上の多糖の混合
物を用いることも可能である。
で、糖の具体例としては、グルコ−ス、ガラクト−ス、
キシロ−ス、フルクト−ス、アルトロ−ス、タロ−ス、
マンノ−ス、アラビノ−ス、イド−ス、リキソ−ス、リ
ボ−ス、アロ−ス等の単糖類及びその混合物、またはマ
ルト−ス、イソマルト−ス、ラクト−ス、キシロビオ−
ス、ケンチオビオ−ス、コ−ジオビオ−ス、セロビオ−
ス、ソホロ−ス、ニゲロ−ス、スクロ−ス、メリビオ−
ス、ラミナリビオ−ス、ルチノ−ス等の二糖類及びその
混合物、またはマルトトリオ−ス等の三糖類及びその混
合物、さらにそれ以上の多糖及びその混合物などが挙げ
られ、またこれらの単糖、二糖、それ以上の多糖の混合
物を用いることも可能である。
【0009】上記のベンゾフェノン誘導体は、固体で、
安全性、安定性に極めて優れているため、塗料やイン
ク、プラスチック、コ−ティング剤、化学繊維等の化学
製品などに配合出来る他、医薬品、医薬部外品、化粧料
及び洗浄料の成分として配合され得る。本発明に係るベ
ンゾフェノン誘導体は、特開昭63−84637に記載
の糖類変性用酸触媒を用いて合成できる他、一般にグリ
コシル化に用いられている反応(ケーニッヒ−クノール
反応、ヘルフェライヒ法或いはそれ以外のエーテル交換
法等)を用いて合成してもよい。
安全性、安定性に極めて優れているため、塗料やイン
ク、プラスチック、コ−ティング剤、化学繊維等の化学
製品などに配合出来る他、医薬品、医薬部外品、化粧料
及び洗浄料の成分として配合され得る。本発明に係るベ
ンゾフェノン誘導体は、特開昭63−84637に記載
の糖類変性用酸触媒を用いて合成できる他、一般にグリ
コシル化に用いられている反応(ケーニッヒ−クノール
反応、ヘルフェライヒ法或いはそれ以外のエーテル交換
法等)を用いて合成してもよい。
【0010】例えば次のように合成できる。糖のアセチ
ル化物をジブチルセルソルブ、トルエンなどの無極性溶
媒に溶解するか、又は無溶媒で一般式化3
ル化物をジブチルセルソルブ、トルエンなどの無極性溶
媒に溶解するか、又は無溶媒で一般式化3
【化3】 (但し、式中R1、R2、m、nは前記化2と同一。)で
示される化合物を添加して、酸触媒の存在下、90〜1
30℃で攪拌、反応は減圧下で行う。一般式化3で示さ
れる化合物は単独でも、2種以上併用してもよい。
示される化合物を添加して、酸触媒の存在下、90〜1
30℃で攪拌、反応は減圧下で行う。一般式化3で示さ
れる化合物は単独でも、2種以上併用してもよい。
【0011】この際用いられる触媒としては、p−トル
エンスルホン酸、ヘテロポリリン酸、酢酸亜鉛、塩化亜
鉛或いはイオン交換樹脂などが挙げられる。反応後、反
応溶媒を減圧留去し、生成物をトルエン抽出し、水洗す
る。得られた抽出液を減圧濃縮後、そのまま脱アセチル
化するか、シリカゲルカラムクロマト法で精製した後、
脱アセチル化してもよい。
エンスルホン酸、ヘテロポリリン酸、酢酸亜鉛、塩化亜
鉛或いはイオン交換樹脂などが挙げられる。反応後、反
応溶媒を減圧留去し、生成物をトルエン抽出し、水洗す
る。得られた抽出液を減圧濃縮後、そのまま脱アセチル
化するか、シリカゲルカラムクロマト法で精製した後、
脱アセチル化してもよい。
【0012】このようにして得られた反応生成物には、
一般式化2で示されるベンゾフェノン誘導体の他、中和
時の塩、糖などが共存している。そのため、例えば糖と
塩を除去する場合、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の糖
を溶解しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水とメ
チルエチルケトン、n−ブタノールで分配し、有機溶媒
層を分取することにより精製することができる。また、
糖と塩を除去し、ベンゾフェノン誘導体を分離する場
合、反応生成物を水又は水とアルコールの混液に懸濁さ
せ、ハイパーポーラスポリマー(例えば三菱化成工業株
式会社製のハイポーラス樹脂)、オクタデシルシリカな
どの逆相分配カラムで初め水で通液し、次にメタノー
ル、エタノールなどのアルコールやアセトニトリルなど
の極性有機溶媒と水との混液で通液し、この液を分取す
ることにより精製できる。
一般式化2で示されるベンゾフェノン誘導体の他、中和
時の塩、糖などが共存している。そのため、例えば糖と
塩を除去する場合、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の糖
を溶解しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水とメ
チルエチルケトン、n−ブタノールで分配し、有機溶媒
層を分取することにより精製することができる。また、
糖と塩を除去し、ベンゾフェノン誘導体を分離する場
合、反応生成物を水又は水とアルコールの混液に懸濁さ
せ、ハイパーポーラスポリマー(例えば三菱化成工業株
式会社製のハイポーラス樹脂)、オクタデシルシリカな
どの逆相分配カラムで初め水で通液し、次にメタノー
ル、エタノールなどのアルコールやアセトニトリルなど
の極性有機溶媒と水との混液で通液し、この液を分取す
ることにより精製できる。
【0013】なお、前記一般式化3で表される化合物は
例えば一般にエーテル化に用いられる反応により合成す
ることができる。すなわち、2,4−ジヒドロキシ置換
ベンゾフェノンとハロゲン化アルコキシアルコールをア
ルカリ溶液中、0℃〜溶媒の沸点の間で置換反応を行な
うとにより得られる。この反応で用いられる溶媒は水、
メチルアルコール、エチルアルコール、ジオキサン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等のアルカ
リに対して安定な溶媒であれば何れも用いることがで
き、また、これらの混合溶媒を用いても良い。
例えば一般にエーテル化に用いられる反応により合成す
ることができる。すなわち、2,4−ジヒドロキシ置換
ベンゾフェノンとハロゲン化アルコキシアルコールをア
ルカリ溶液中、0℃〜溶媒の沸点の間で置換反応を行な
うとにより得られる。この反応で用いられる溶媒は水、
メチルアルコール、エチルアルコール、ジオキサン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等のアルカ
リに対して安定な溶媒であれば何れも用いることがで
き、また、これらの混合溶媒を用いても良い。
【0014】この置換反応に用いられる塩基としては、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等を用いることができる。そして、反
応後は弱酸性にした後、シリカゲルカラムクロマト法で
分離精製するか、あるいはさらに再結晶することにより
精製される。また、一般式化3で表される化合物は2,
4−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレンオキ
シドとの付加反応からも得ることができる。
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等を用いることができる。そして、反
応後は弱酸性にした後、シリカゲルカラムクロマト法で
分離精製するか、あるいはさらに再結晶することにより
精製される。また、一般式化3で表される化合物は2,
4−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレンオキ
シドとの付加反応からも得ることができる。
【0015】このようにして得られる本発明のベンゾフ
ェノン誘導体は、化学安定性、酸化安定性に優れ、水溶
性で、紫外線領域に吸収を有する上、保湿性に優れると
いう機能を持つ。本発明のベンゾフェノン誘導体は安全
性に優れるので、化粧料、医薬料等に配合できる。ま
た、本発明のベンゾフェノン誘導体に加えて通常用いら
れる他の化粧料や医薬料成分を適宣配合することができ
る。例えば、流動パラフイン、スクワラン、ワセリン、
セチルアルコ−ル、イソステアリルアルコ−ル、2−エ
チルヘキシル酸セチル、2−オクチルドデシルアルコ−
ル、トリイソステアリン酸グリセリン、マカデミアナッ
ツ油、ラノリン等の各種炭化水素、油脂類、ロウ類等の
油性成分、シリコン類、界面活性剤、増粘剤、中和剤、
防腐剤、殺菌剤、酸化防止剤、粉体成分、色素、香料、
他の紫外線吸収剤、薬効剤、金属封鎖剤、pH調製剤等
が挙げられる。
ェノン誘導体は、化学安定性、酸化安定性に優れ、水溶
性で、紫外線領域に吸収を有する上、保湿性に優れると
いう機能を持つ。本発明のベンゾフェノン誘導体は安全
性に優れるので、化粧料、医薬料等に配合できる。ま
た、本発明のベンゾフェノン誘導体に加えて通常用いら
れる他の化粧料や医薬料成分を適宣配合することができ
る。例えば、流動パラフイン、スクワラン、ワセリン、
セチルアルコ−ル、イソステアリルアルコ−ル、2−エ
チルヘキシル酸セチル、2−オクチルドデシルアルコ−
ル、トリイソステアリン酸グリセリン、マカデミアナッ
ツ油、ラノリン等の各種炭化水素、油脂類、ロウ類等の
油性成分、シリコン類、界面活性剤、増粘剤、中和剤、
防腐剤、殺菌剤、酸化防止剤、粉体成分、色素、香料、
他の紫外線吸収剤、薬効剤、金属封鎖剤、pH調製剤等
が挙げられる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、これは本発
明の技術的範囲を限定するものではない。配合量は重量
%である。製造例1 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フ
ェノン (1)2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ヒト゛ロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノンの
製造 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン53.5gを2−
(2−クロロエトキシ)エタノール124g、水酸化ナ
トリウム12g、イオン交換水125gの溶液中に加
え、溶解させた。70〜80℃で3時間攪拌した後、さ
らに水酸化ナトリウム1gを加えた。2時間加熱攪拌
後、放冷し、室温になったところで塩酸をpH試験紙で
3となるまで加えた。この溶液をクロロホルムで抽出、
水洗後、乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:ベンゼン)で分離精製
後、混在する2−(2−クロロエトキシ)エタノールを
減圧留去し、再度シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル:ヘキサン)で分離精製した。溶媒を減圧
留去して得た固体をヘキサン−トルエン混合液から再結
晶させ、2−ヒドロキシ−4−[2−(2−ヒドロキシ
エトキシ)エトキシ]ベンゾフェノンを24.9g得
た。 融点;66〜67℃
明の技術的範囲を限定するものではない。配合量は重量
%である。製造例1 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フ
ェノン (1)2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ヒト゛ロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノンの
製造 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン53.5gを2−
(2−クロロエトキシ)エタノール124g、水酸化ナ
トリウム12g、イオン交換水125gの溶液中に加
え、溶解させた。70〜80℃で3時間攪拌した後、さ
らに水酸化ナトリウム1gを加えた。2時間加熱攪拌
後、放冷し、室温になったところで塩酸をpH試験紙で
3となるまで加えた。この溶液をクロロホルムで抽出、
水洗後、乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:ベンゼン)で分離精製
後、混在する2−(2−クロロエトキシ)エタノールを
減圧留去し、再度シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル:ヘキサン)で分離精製した。溶媒を減圧
留去して得た固体をヘキサン−トルエン混合液から再結
晶させ、2−ヒドロキシ−4−[2−(2−ヒドロキシ
エトキシ)エトキシ]ベンゾフェノンを24.9g得
た。 融点;66〜67℃
【0017】(2)2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシエトキシ)エトキ
シ]ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 (1)の2−ヒドロキシ−4−[2−(2−ヒドロキシ
エトキシ)エトキシ]ベンゾフェノン23.6g、オク
タアセトキシマルトース82gをジエチレングリコール
ジブチルエーテル140gに加えた。これにモリブドリ
ン酸0.7gを加えた後、95〜105℃で2時間加熱
攪拌した。この溶液を室温まで放冷した後、トルエンで
抽出、洗浄後、乾燥し、濃縮した。得られた固形物をメ
タノール500ml、ナトリウムメトキシド13g中に
加え、50〜60℃で2時間攪拌後、放冷し、濃塩酸を
pH試験紙が3を示すまで加えた。反応溶媒を減圧留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル:クロロホルム)で分離精製し、2−ヒドロキシ−4
−[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベ
ンゾフェノン27.5gを得た。得られた2−ヒドロキ
シ−4−[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキ
シ]ベンゾフェノンの分析値は次の通りであった。
シ]ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 (1)の2−ヒドロキシ−4−[2−(2−ヒドロキシ
エトキシ)エトキシ]ベンゾフェノン23.6g、オク
タアセトキシマルトース82gをジエチレングリコール
ジブチルエーテル140gに加えた。これにモリブドリ
ン酸0.7gを加えた後、95〜105℃で2時間加熱
攪拌した。この溶液を室温まで放冷した後、トルエンで
抽出、洗浄後、乾燥し、濃縮した。得られた固形物をメ
タノール500ml、ナトリウムメトキシド13g中に
加え、50〜60℃で2時間攪拌後、放冷し、濃塩酸を
pH試験紙が3を示すまで加えた。反応溶媒を減圧留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル:クロロホルム)で分離精製し、2−ヒドロキシ−4
−[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベ
ンゾフェノン27.5gを得た。得られた2−ヒドロキ
シ−4−[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキ
シ]ベンゾフェノンの分析値は次の通りであった。
【0018】(1)赤外吸収スペクトル図(図1) 日本分光株式会社製、FT/IR−5300型赤外吸収
スペクトル測定装置を用い、KBr錠剤法で測定した。
3380cm-1(br,−OH)、1624cm-1(C=
O)にピークが観察された。
スペクトル測定装置を用い、KBr錠剤法で測定した。
3380cm-1(br,−OH)、1624cm-1(C=
O)にピークが観察された。
【0019】(2)13C−NMRスペクトル図(図2) 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
99ppm、165ppm、163ppm、138ppm、135pp
m、132ppm、129ppm、128ppm、113ppm、1
07ppm、103ppm、102ppm、101ppm、80pp
m、76ppm、75ppm、73ppm、73ppm、73ppm、7
2ppm、70ppm、70ppm、69ppm、68ppm、68pp
m、61ppm、61ppmにシグナルが観測された。
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
99ppm、165ppm、163ppm、138ppm、135pp
m、132ppm、129ppm、128ppm、113ppm、1
07ppm、103ppm、102ppm、101ppm、80pp
m、76ppm、75ppm、73ppm、73ppm、73ppm、7
2ppm、70ppm、70ppm、69ppm、68ppm、68pp
m、61ppm、61ppmにシグナルが観測された。
【0020】(3)1H−NMRスペクトル図(図3) 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
2.0(s,1H)、7.61〜7.66(m,3
H)、7.53〜7.57(m,2H)、7.43
(d,J=8.4Hz,1H)、6.55〜6.58
(m,2H)、5.48(d,J=3.2Hz,1
H)、5.40(d,J=6.4Hz,1H)、5.0
9(d,J=5.6Hz,1H)、5.10(d,J=
3.6Hz,1H)、4.84〜4.87(m,2
H)、4.47〜4.49(m,2H)、4.19〜
4.23(m,3H)、3.0〜3.9(m,24H,
DMSO中の水を含む)にシグナルが観測された。
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
2.0(s,1H)、7.61〜7.66(m,3
H)、7.53〜7.57(m,2H)、7.43
(d,J=8.4Hz,1H)、6.55〜6.58
(m,2H)、5.48(d,J=3.2Hz,1
H)、5.40(d,J=6.4Hz,1H)、5.0
9(d,J=5.6Hz,1H)、5.10(d,J=
3.6Hz,1H)、4.84〜4.87(m,2
H)、4.47〜4.49(m,2H)、4.19〜
4.23(m,3H)、3.0〜3.9(m,24H,
DMSO中の水を含む)にシグナルが観測された。
【0021】(4)紫外線吸収スペクトル図(図4) 日本分光株式会社、UVIDEC 610C紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定した。
最大吸収波長(λmax)は288nm,326nmであり、モ
ル吸光係数ε(I/mol・cm)は14700、94
00であった。 (5)融点 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、90℃付近で溶解したが明
確な融点を示さなかった。
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定した。
最大吸収波長(λmax)は288nm,326nmであり、モ
ル吸光係数ε(I/mol・cm)は14700、94
00であった。 (5)融点 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、90℃付近で溶解したが明
確な融点を示さなかった。
【0022】製造例2 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ク゛ルコシロキシエトキ
シ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 製造例1の(1)で合成した2−ヒドロキシ−4−[2
−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェノ
ン10g、ヘキサアセトキシグルコース18.6gをジ
エチレングリコールジブチルエーテル25gに加えた。
これにモリブドリン酸0.3gを加えた後、95〜10
5℃で2時間加熱攪拌した。この溶液を室温まで放冷し
た後、トルエンで抽出、洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、濃縮した。得られた固形物をメタノール50
0ml、ナトリウムメトキシド13g中に加え、50〜
60℃で2時間攪拌後、放冷し、濃塩酸をpH試験紙が
3を示すまで加えた。反応溶媒を減圧留去後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:クロロホル
ム)で分離精製し、2−ヒドロキシ−4−[2−(2−
グルコシロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェノン1
0.5gを得た。得られた2−ヒドロキシ−4−[2−
(2−グルコシロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェ
ノンの分析値は次の通りであった。
シ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 製造例1の(1)で合成した2−ヒドロキシ−4−[2
−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェノ
ン10g、ヘキサアセトキシグルコース18.6gをジ
エチレングリコールジブチルエーテル25gに加えた。
これにモリブドリン酸0.3gを加えた後、95〜10
5℃で2時間加熱攪拌した。この溶液を室温まで放冷し
た後、トルエンで抽出、洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、濃縮した。得られた固形物をメタノール50
0ml、ナトリウムメトキシド13g中に加え、50〜
60℃で2時間攪拌後、放冷し、濃塩酸をpH試験紙が
3を示すまで加えた。反応溶媒を減圧留去後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:クロロホル
ム)で分離精製し、2−ヒドロキシ−4−[2−(2−
グルコシロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェノン1
0.5gを得た。得られた2−ヒドロキシ−4−[2−
(2−グルコシロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェ
ノンの分析値は次の通りであった。
【0023】(1)赤外吸収スペクトル 日本分光株式会社製、FT/IR−5300型赤外吸収
スペクトル測定装置を用い、KBr錠剤法で測定した。
3400cm-1(br,−OH)、1624cm-1(C=
O)にピークが観察された。 (2)13C−NMRスペクトル 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
99ppm、164ppm、163ppm、138ppm、134pp
m、132ppm、129ppm、128ppm、113ppm、1
07ppm、103ppm、102ppm、76ppm、73ppm、
72ppm、70ppm、70ppm、68ppm、68ppm、60p
pmにシグナルが観測された。
スペクトル測定装置を用い、KBr錠剤法で測定した。
3400cm-1(br,−OH)、1624cm-1(C=
O)にピークが観察された。 (2)13C−NMRスペクトル 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
99ppm、164ppm、163ppm、138ppm、134pp
m、132ppm、129ppm、128ppm、113ppm、1
07ppm、103ppm、102ppm、76ppm、73ppm、
72ppm、70ppm、70ppm、68ppm、68ppm、60p
pmにシグナルが観測された。
【0024】(3)1H−NMRスペクトル 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
2.0(s,1H),7.53〜7.66(m,5
H)、7.43(d,J=8.0Hz,1H)、6.5
5〜6.60(m,2H)、3.0〜5.4(m,20
H,DMSO中の水を含む)にシグナルが観測された。
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
2.0(s,1H),7.53〜7.66(m,5
H)、7.43(d,J=8.0Hz,1H)、6.5
5〜6.60(m,2H)、3.0〜5.4(m,20
H,DMSO中の水を含む)にシグナルが観測された。
【0025】(4)紫外線吸収スペクトル 日本分光株式会社、UVIDEC 610C紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定した。
最大吸収波長(λmax)は287nm、325nmであり、モ
ル吸光係数ε(I/mol・cm)は13500、89
00であった。 (5)融点 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、吸湿性のため明確な融点を
示さなかった。
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定した。
最大吸収波長(λmax)は287nm、325nmであり、モ
ル吸光係数ε(I/mol・cm)は13500、89
00であった。 (5)融点 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、吸湿性のため明確な融点を
示さなかった。
【0026】試験例1 溶解性 下記に示す本発明の化合物1及び2と、比較化合物1及
び2について、水−エタノール混合溶液中での溶解性を
各温度条件下で調べた。試験方法は、種々の混合比の水
−エタノール混合溶液に各化合物を10重量%の濃度で
溶解し、これを25℃及び5℃で7日間放置して溶解性
を観察した。結果を表1に示す。 化合物1: 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛
フェノン 化合物2: 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ク゛ルコシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ
゛フェノン 比較化合物1: 2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノ
ンナトリウム塩 比較化合物2: 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン
び2について、水−エタノール混合溶液中での溶解性を
各温度条件下で調べた。試験方法は、種々の混合比の水
−エタノール混合溶液に各化合物を10重量%の濃度で
溶解し、これを25℃及び5℃で7日間放置して溶解性
を観察した。結果を表1に示す。 化合物1: 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛
フェノン 化合物2: 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ク゛ルコシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ
゛フェノン 比較化合物1: 2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノ
ンナトリウム塩 比較化合物2: 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン
【0027】
【表1】 ──────────────────────────────────── 溶 媒 化合物1 化合物2 比較化合物1 比較化合物2 ──────────────────────────────────── [25℃] 水 ○ ○ × ○ 水:エタノール=8:2 ○ ○ × ○ 水:エタノール=6:4 ○ ○ × ○ 水:エタノール=4:6 ○ ○ × ○ 水:エタノール=2:8 ○ ○ × ○ ──────────────────────────────────── [5℃] 水 ○ ○ × × 水:エタノール=8:2 ○ ○ × × 水:エタノール=6:4 ○ ○ × × 水:エタノール=4:6 ○ ○ × × 水:エタノール=2:8 ○ ○ × × ──────────────────────────────────── ○:均一に溶解した ×:固体が析出した
【0028】表1から明らかなように本発明の化合物1
及び2は何れの温度条件下においても水及び水−エタノ
ール混合溶媒に対して10重量%以上の優れた溶解性を
示した。これに対し、比較化合物1及び2は水及び水−
エタノール混合溶媒に対し、溶解度が10重量%以下と
低く、固体の析出が認められた。
及び2は何れの温度条件下においても水及び水−エタノ
ール混合溶媒に対して10重量%以上の優れた溶解性を
示した。これに対し、比較化合物1及び2は水及び水−
エタノール混合溶媒に対し、溶解度が10重量%以下と
低く、固体の析出が認められた。
【0029】以上のことから、本発明のベンゾフェノ誘
導体は水及び水−エタノール混合溶媒に対し高い溶解度
を有し、低温で長期にわたって保存した場合でも固体が
析出することなく、よってこれを配合した皮膚外用剤は
従来の水溶性紫外線吸収剤を配合した場合に比して製品
安定性に優れることが示唆された。
導体は水及び水−エタノール混合溶媒に対し高い溶解度
を有し、低温で長期にわたって保存した場合でも固体が
析出することなく、よってこれを配合した皮膚外用剤は
従来の水溶性紫外線吸収剤を配合した場合に比して製品
安定性に優れることが示唆された。
【0030】試験例2 日焼け止めテスト 次に、本発明のベンゾフェノン誘導体を配合した美容液
を調製し、その日焼け止め効果を試験した。 [美容液の製造]まず、表2に示す処方にて、前記本発
明のベンゾフェノン誘導体を配合した美容液と、対照例
として2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキ
ソニウムベンゾフェノンを配合した美容液の製造を行な
った。製造方法は、アルコ−ル相Aを水相Bに添加し、
香料を可溶化して美容液を得た。配合例1は、無色透明
で粘性のある良好な美容液が得られたのに対し、対照例
1では、黄味が強く粘性のないものであった。
を調製し、その日焼け止め効果を試験した。 [美容液の製造]まず、表2に示す処方にて、前記本発
明のベンゾフェノン誘導体を配合した美容液と、対照例
として2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキ
ソニウムベンゾフェノンを配合した美容液の製造を行な
った。製造方法は、アルコ−ル相Aを水相Bに添加し、
香料を可溶化して美容液を得た。配合例1は、無色透明
で粘性のある良好な美容液が得られたのに対し、対照例
1では、黄味が強く粘性のないものであった。
【0031】
【表2】 ────────────────────────────────── 成分 配合例1 対照例1 ────────────────────────────────── A(アルコール相) エタノール 5.0 5.0 POEオレイルアルコールエーテル 2.0 2.0 香料 適 量 適 量 ────────────────────────────────── B(水相) 1,3−ブチレングリコール 5.0 5.0 ベンゾフェノン誘導体(製造例1) 8.0 _ 2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノンNa _ 8.0 トリエタノールアミン 0.1 0.1 カルボキシビニルポリマー 0.15 0.15 精製水 残 余 残 余 ──────────────────────────────────
【0032】[日焼け止めテスト]上記のように製造し
た2つの美容液を用いて、海浜での実使用テストを行な
った。試験方法は、サンプルをパネル10名の背中に左
右半分ずつ塗布し、日焼けの程度を以下の基準に従って
評価した。 ○・・・殆ど日焼けの症状が認められなかった △・・・軽度の日焼け症状が認められた ×・・・強度の日焼け症状が認められた 結果を、表3に示す。
た2つの美容液を用いて、海浜での実使用テストを行な
った。試験方法は、サンプルをパネル10名の背中に左
右半分ずつ塗布し、日焼けの程度を以下の基準に従って
評価した。 ○・・・殆ど日焼けの症状が認められなかった △・・・軽度の日焼け症状が認められた ×・・・強度の日焼け症状が認められた 結果を、表3に示す。
【0033】
【表3】 ────────────────────────────────── 配合例1の塗布部 対照例1の塗布部 ────────────────────────────────── ○ 7 2 △ 3 5 × 0 3 ──────────────────────────────────
【0034】表3に示したように、配合例1の美容液を
塗布した場合には70%のパネラーで日焼けが殆ど認め
られず、残りの30%のパネラーについては軽度の日焼
け症状が認められたに過ぎず、強度の日焼け症状が認め
られたパネラーはいなかった。 これに対し、対照例1
の美容液を塗布した場合、80%のパネラーが軽度又は
強度の日焼け症状を訴え、その内、30%のパネラーに
強度の日焼け症状が認められた。また、配合例1の塗布
部では皮膚トラブルは全く認められなかったが、対照例
1の塗布部では皮膚のかゆみ、発疹といったトラブルを
生じたパネラーが認められた。
塗布した場合には70%のパネラーで日焼けが殆ど認め
られず、残りの30%のパネラーについては軽度の日焼
け症状が認められたに過ぎず、強度の日焼け症状が認め
られたパネラーはいなかった。 これに対し、対照例1
の美容液を塗布した場合、80%のパネラーが軽度又は
強度の日焼け症状を訴え、その内、30%のパネラーに
強度の日焼け症状が認められた。また、配合例1の塗布
部では皮膚トラブルは全く認められなかったが、対照例
1の塗布部では皮膚のかゆみ、発疹といったトラブルを
生じたパネラーが認められた。
【0035】以上の結果より、本発明のベンゾフェノ誘
導体を配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収
剤を配合した皮膚外用剤よりも紫外線防御効果が高く、
紫外線による日焼けや皮膚トラブルを防止することが明
らかとなった。本発明の以下のベンゾフェノ誘導体を配
合した以下の皮膚外用剤は、何れも優れた紫外線防御効
果を発揮し、長期間使用した場合にも皮膚トラブルを生
じることがなかった。また、ベンゾフェノ誘導体は溶液
中に均一に溶解し、低温で長期にわたって保存した場合
にも固体が析出することがなく製品安定性も良好であっ
た。
導体を配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収
剤を配合した皮膚外用剤よりも紫外線防御効果が高く、
紫外線による日焼けや皮膚トラブルを防止することが明
らかとなった。本発明の以下のベンゾフェノ誘導体を配
合した以下の皮膚外用剤は、何れも優れた紫外線防御効
果を発揮し、長期間使用した場合にも皮膚トラブルを生
じることがなかった。また、ベンゾフェノ誘導体は溶液
中に均一に溶解し、低温で長期にわたって保存した場合
にも固体が析出することがなく製品安定性も良好であっ
た。
【0036】配合例2 クリ−ム A.油相 ステアリン酸 10.0% ステアリルアルコ−ル 4.0 ステアリン酸モノグリセリンエステル 8.0 ビタミンEアセテ−ト 0.5 香料 0.4 エチルパラべン 0.1 ブチルパラベン 0.1 プロピルパラベン 0.1 B.水相 プロピレングリコ−ル 8.0 グリセリン 2.0 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ク゛ルコシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 5.0 水酸化ナトリウム 0.4 エデト酸三ナトリウム 0.05 精製水 残余
【0037】〈製法〉Aの油相部とBの水相部をそれぞ
れ70℃に加熱し完全に溶解する。A相をB相に加え
て、乳化機で乳化する。乳化物を熱交換器を用いて冷却
してクリ−ムを得た。
れ70℃に加熱し完全に溶解する。A相をB相に加え
て、乳化機で乳化する。乳化物を熱交換器を用いて冷却
してクリ−ムを得た。
【0038】配合例3 クリ−ム A.油相 セタノ−ル 4.0% ワセリン 7.0 イソプロピルミリステ−ト 8.0 スクワラン 12.0 ジメチルポリシロキサン 3.0 ステアリン酸モノグリセリンエステル 2.2 POE(20)ソ゛ルヒ゛タンモノステアレ-ト 2.8 グリチルレチン酸ステアレ−トBHT 0.02 エチルパラベン 0.1 ブチルパラベン 0.1 B.水相 1,3ブチレングリコ−ル 7.0 エデト酸ニナトリウム 0.07 フェノキシエタノ−ル 0.2 L−アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム塩 3.0 ポリアクリル酸アルキルエステル 1.0 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-セロヒ゛オシロキシエトキシ)エトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 7.0 精製水 残余 〈製法〉配合例2に準じてクリ−ムを得た。
【0039】配合例4 乳液 A.油相 スクワラン 5.0% オレイルオレ−ト 3.0 ワセリン 2.0 ソルビタンセスキオレイン酸エステル 0.8 ポリオキシエチレンオレイルエ−テル(20E.0.) 1.2 p-メトキシ桂皮酸2ーエチルヘキシル 3.0 メチルパラベン 0.15 香料 0.12 B.水相 ジプロピレングリコ−ル 5.0 エタノール 3.0 カルボキシビニルポリマ− 0.17 ヒアルロン酸ナトリウム 0.1 2-ヒト゛ロキシ4-[2ー(2-ラクトシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 4.0 水酸化カリウム 0.08 ヘキサメタリン酸ナトリウム 0.05 精製水 残余 〈製法〉配合例2に準じて乳液を得た。
【0040】配合例5 クリ−ム A.油相 ベヘニルアルコール 0.5% 12−ヒドロキシステアリン酸コレスタノールエステル 2.0 スクワラン 7.0 ホホバオイル 5.0 自己乳化型モノステアリン酸グリセリン 2.5ホ゜リオキシエチレンソルヒ゛タンモノステアリン 酸エステル(20EO) 1.5 2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン 3.0 エチルパラベン 0.2 ブチルパラベン 0.1 香料 0.1 B.水相 プロピレングリコ−ル 5.0 グリセリン 5.0 ギ−ガム(モンモリロナイト) 3.0 水酸化カリウム 0.3 2ーヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ラクトシロキシフ゜ロホ゜キシ)フ゜ロホ゜キシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 6.0 エデト酸三ナトリウム 0.08 精製水 残余 〈製法〉配合例2に準じてクリ−ムを得た。
【0041】配合例6 粉末入り化粧水 A.アルコール相 エタノール 8.0% POE(60)グリセリルモノイソステアレート 2.0 L−メントール 0.1 カンファー 0.1 メチルパラベン 0.1 香料 0.03 B.水相 グリセリン 3.0 2-ヒト゛ロキシ-4ー{2ー[2ー(2-マルトシロキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}ヘ゛ンソ゛フェノン 2.0 亜鉛 1.5 カオリン 0.5 ベントナイト 0.3 ヘキサメタリン酸ナトリウム 0.03 精製水 残余 〈製法〉配合例1に準じた製法で粉末入り化粧水を得
た。
た。
【0042】
【発明の効果】以上のように、本発明に係るベンゾフェ
ノン誘導体は、優れた紫外線吸収能、及び温度に依存し
ない優れた極性溶媒相溶性を有し、極性基剤に対して配
合することが可能である。また、本発明のベンゾフェノ
ン誘導体を配合することにより、高い紫外線防御効果を
発揮し、優れた製品安定性を有する皮膚外用剤が得られ
る。
ノン誘導体は、優れた紫外線吸収能、及び温度に依存し
ない優れた極性溶媒相溶性を有し、極性基剤に対して配
合することが可能である。また、本発明のベンゾフェノ
ン誘導体を配合することにより、高い紫外線防御効果を
発揮し、優れた製品安定性を有する皮膚外用剤が得られ
る。
【図1】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ4−
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの赤外吸収(IR)スペクトル図である。
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの赤外吸収(IR)スペクトル図である。
【図2】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ4−
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの13C−NMRスペクトル図である。
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの13C−NMRスペクトル図である。
【図3】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ4−
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの1H−NMRスペクトル図である。
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの1H−NMRスペクトル図である。
【図4】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ4−
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの紫外吸収スペクトル図である。
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの紫外吸収スペクトル図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 英夫 神奈川県横浜市港北区新羽町1050番地 株 式会社資生堂第一リサーチセンター内
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式化1で表わされるベンゾフェ
ノン誘導体。 【化1】 (但し、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜4
のアルコキシ基で表わされる。Aは保護基を有していな
い糖残基であり、mは1〜4の整数、nは2〜6の整数
を示す。 - 【請求項2】 請求項1記載のベンゾフェノン誘導体よ
りなる紫外線吸収剤。 - 【請求項3】 請求項1記載のベンゾフェノン誘導体を
一種または二種以上を含むことを特徴とする皮膚外用
剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7112504A JPH08283286A (ja) | 1995-04-13 | 1995-04-13 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7112504A JPH08283286A (ja) | 1995-04-13 | 1995-04-13 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08283286A true JPH08283286A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=14588314
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7112504A Withdrawn JPH08283286A (ja) | 1995-04-13 | 1995-04-13 | ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08283286A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000044851A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-15 | Ricoh Co Ltd | インクジェット記録用インク組成物 |
-
1995
- 1995-04-13 JP JP7112504A patent/JPH08283286A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000044851A (ja) * | 1998-07-27 | 2000-02-15 | Ricoh Co Ltd | インクジェット記録用インク組成物 |
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---|---|---|---|
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