JPH08283286A - ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 - Google Patents

ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤

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JPH08283286A
JPH08283286A JP7112504A JP11250495A JPH08283286A JP H08283286 A JPH08283286 A JP H08283286A JP 7112504 A JP7112504 A JP 7112504A JP 11250495 A JP11250495 A JP 11250495A JP H08283286 A JPH08283286 A JP H08283286A
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benzophenone
water
ultraviolet light
benzophenone derivative
solvent
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JP7112504A
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Yasushi Matsushita
裕史 松下
Mikiko Kaminuma
三紀子 上沼
Tomomi Okazaki
具視 岡崎
Hideo Nakajima
英夫 中島
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Shiseido Co Ltd
Original Assignee
Shiseido Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 下記一般式化1で表わされるベンゾフェノン
誘導体及びそれを用いた紫外線吸収剤、皮膚外用剤。 【化1】 但し、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜4の
アルコキシ基で表わされる。Aは保護基を有していない
糖残基であり、mは1〜4の整数、nは2〜6の整数を
示す。 【効果】 優れた紫外線吸収能を有し、低温でも高い極
性溶媒相溶性を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はベンゾフェノン誘導体、
紫外線吸収剤及び皮膚外用剤、特に親水性溶剤への溶解
性の高いベンゾフェノン誘導体とそれを用いた紫外線吸
収剤、皮膚外用剤に関する。
【0002】
【従来の技術】通常人体が受ける紫外線は、その殆どが
太陽光線に由来している。太陽光線に含まれる紫外線
は、皮膚科学的には400nm〜320nmの長波長紫外線
(UV−A)、320nm〜290nmの中波長紫外線(U
V−B)、290nm以下の短波長紫外線(UV−C)に
分類される。このうち、290nm以下の波長の紫外線は
オゾン層によって吸収され、地表に到達しない。地表に
届く紫外線は、人間の皮膚に様々な影響を及ぼす。地上
にまで達する紫外線の内で、UV−Aは皮膚の褐色化を
惹起し、皮膚の弾力性の低下及びシワの発生を促進し急
激な老化をもたらす。また、紅斑反応の開始を促進し、
或いはある種の患者に対してはこの反応を増強し、さら
に光毒性或いは光アレルギー反応の原因とさえなり得
る。一方、UV−Bもまた皮膚の紅斑や水泡を形成し、
メラニン形成が亢進され、色素沈着を生じる等の変化を
もたらす。このため、皮膚の老化を防ぎ、シミ、ソバカ
スの発生や増悪を防ぐ上で、紫外線から皮膚を保護する
ことは極めて重要であり、各種紫外線吸収剤が開発され
てきた。
【0003】既存の紫外線吸収剤としては、PABA誘
導体、桂皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノ
ン誘導体、ウロカニン誘導体、カンファー誘導体および
複素環誘導体などが利用されてきた。そして、これらの
紫外線吸収剤は、その殆どが固体であり、油溶性であっ
た。一方、最近では日常の生活で受ける紫外線の影響に
ついても問題になっており、通常のスキンケアでも日焼
け止めが望まれている。このため、化粧水等の水系のス
キンケア製品にも多量に配合できること、より高い紫外
線吸収効果を有する外用剤を処方する上でも系全体に多
量の紫外線吸収剤を配合できる方がよいので、油相だけ
でなく水相にも紫外線吸収剤を配合することが望まれる
こと等から、水溶性で且つ紫外線を吸収する物質が注目
されてきており、このような水溶性紫外線吸収剤として
は、2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキソ
ニウムベンゾフェノンナトウリム塩が知られている。し
かしながら、これは塩であるので処方系のpHに影響を
もたらすという問題点があった。近年、このような問題
点を解決するため、ポリグリセリンや糖などの非イオン
性の親水基を有する水溶性紫外線吸収剤が開発されてい
る(特開平6−87879、特開平6−13598
5)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の水溶性紫外線吸収剤は水、あるいは水とアルコールの
ような親水性溶媒の混合液中に高濃度に配合し、低温に
放置した場合、結晶となって析出することがあった。製
品中における結晶の析出は製品安定性上重大な問題であ
り、均一に塗布できないために所期の紫外線吸収効果を
発揮できないばかりでなく、製品価値をも低下させる。
このため、実際の処方ではその配合量が制限されてしま
い、紫外線吸収効果を高めるために高濃度に配合するこ
とができなかった。本発明は前記従来技術の課題に鑑み
なされたものであり、その目的は優れた紫外線吸収性を
有し、しかも水溶性で、低温でも安定に溶解する物質お
よびそれを配合した皮膚外用剤を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明者らが鋭意検討した結果、ある種のベンゾフェ
ノン誘導体が優れた紫外線吸収性をもち、且つ水あるい
は水−親水性有機溶媒の混合溶液に対し低温領域でも溶
解性に優れることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。すなわち本出願の請求項1記載のベンゾフェノン誘
導体は、下記一般式化2で表わされる。
【0006】
【化2】 但し、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜4の
アルコキシ基で表わされる。Aは保護基を有していない
糖残基であり、mは1〜4の整数、nは2〜6の整数を
示す。請求項2記載の紫外線吸収剤は、前記化2のベン
ゾフェノン誘導体よりなることを特徴とする。請求項3
記載の皮膚外用剤は、前記化2のベンゾフェノン誘導体
を一種または二種以上を含むことを特徴とする。
【0007】以下、本発明の構成について詳述する。前
記一般式化2で表される本発明のベンゾフェノン誘導体
において、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜
4のアルコキシ基で表わされる。アルコキシ基は直鎖あ
るいは分岐のいずれでもよい。具体的にはメトキシ基、
エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキ
シ基、イソブトキシ基、sec−ブトキシ基、t−ブト
キシ基等が挙げられるが、水溶性や工業性の観点からメ
トキシ基、エトキシ基が好ましい。
【0008】前記一般式化2において、Aは糖の残基
で、糖の具体例としては、グルコ−ス、ガラクト−ス、
キシロ−ス、フルクト−ス、アルトロ−ス、タロ−ス、
マンノ−ス、アラビノ−ス、イド−ス、リキソ−ス、リ
ボ−ス、アロ−ス等の単糖類及びその混合物、またはマ
ルト−ス、イソマルト−ス、ラクト−ス、キシロビオ−
ス、ケンチオビオ−ス、コ−ジオビオ−ス、セロビオ−
ス、ソホロ−ス、ニゲロ−ス、スクロ−ス、メリビオ−
ス、ラミナリビオ−ス、ルチノ−ス等の二糖類及びその
混合物、またはマルトトリオ−ス等の三糖類及びその混
合物、さらにそれ以上の多糖及びその混合物などが挙げ
られ、またこれらの単糖、二糖、それ以上の多糖の混合
物を用いることも可能である。
【0009】上記のベンゾフェノン誘導体は、固体で、
安全性、安定性に極めて優れているため、塗料やイン
ク、プラスチック、コ−ティング剤、化学繊維等の化学
製品などに配合出来る他、医薬品、医薬部外品、化粧料
及び洗浄料の成分として配合され得る。本発明に係るベ
ンゾフェノン誘導体は、特開昭63−84637に記載
の糖類変性用酸触媒を用いて合成できる他、一般にグリ
コシル化に用いられている反応(ケーニッヒ−クノール
反応、ヘルフェライヒ法或いはそれ以外のエーテル交換
法等)を用いて合成してもよい。
【0010】例えば次のように合成できる。糖のアセチ
ル化物をジブチルセルソルブ、トルエンなどの無極性溶
媒に溶解するか、又は無溶媒で一般式化3
【化3】 (但し、式中R1、R2、m、nは前記化2と同一。)で
示される化合物を添加して、酸触媒の存在下、90〜1
30℃で攪拌、反応は減圧下で行う。一般式化3で示さ
れる化合物は単独でも、2種以上併用してもよい。
【0011】この際用いられる触媒としては、p−トル
エンスルホン酸、ヘテロポリリン酸、酢酸亜鉛、塩化亜
鉛或いはイオン交換樹脂などが挙げられる。反応後、反
応溶媒を減圧留去し、生成物をトルエン抽出し、水洗す
る。得られた抽出液を減圧濃縮後、そのまま脱アセチル
化するか、シリカゲルカラムクロマト法で精製した後、
脱アセチル化してもよい。
【0012】このようにして得られた反応生成物には、
一般式化2で示されるベンゾフェノン誘導体の他、中和
時の塩、糖などが共存している。そのため、例えば糖と
塩を除去する場合、メチルアルコール、エチルアルコー
ル、ブチルアルコール、イソプロピルアルコール等の糖
を溶解しない溶媒で抽出したり、塩を多量に含む水とメ
チルエチルケトン、n−ブタノールで分配し、有機溶媒
層を分取することにより精製することができる。また、
糖と塩を除去し、ベンゾフェノン誘導体を分離する場
合、反応生成物を水又は水とアルコールの混液に懸濁さ
せ、ハイパーポーラスポリマー(例えば三菱化成工業株
式会社製のハイポーラス樹脂)、オクタデシルシリカな
どの逆相分配カラムで初め水で通液し、次にメタノー
ル、エタノールなどのアルコールやアセトニトリルなど
の極性有機溶媒と水との混液で通液し、この液を分取す
ることにより精製できる。
【0013】なお、前記一般式化3で表される化合物は
例えば一般にエーテル化に用いられる反応により合成す
ることができる。すなわち、2,4−ジヒドロキシ置換
ベンゾフェノンとハロゲン化アルコキシアルコールをア
ルカリ溶液中、0℃〜溶媒の沸点の間で置換反応を行な
うとにより得られる。この反応で用いられる溶媒は水、
メチルアルコール、エチルアルコール、ジオキサン、ジ
メチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等のアルカ
リに対して安定な溶媒であれば何れも用いることがで
き、また、これらの混合溶媒を用いても良い。
【0014】この置換反応に用いられる塩基としては、
例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリ
ウム、水素化ナトリウム、ナトリウムメチラート、ナト
リウムエチラート等を用いることができる。そして、反
応後は弱酸性にした後、シリカゲルカラムクロマト法で
分離精製するか、あるいはさらに再結晶することにより
精製される。また、一般式化3で表される化合物は2,
4−ジヒドロキシ置換ベンゾフェノンとアルキレンオキ
シドとの付加反応からも得ることができる。
【0015】このようにして得られる本発明のベンゾフ
ェノン誘導体は、化学安定性、酸化安定性に優れ、水溶
性で、紫外線領域に吸収を有する上、保湿性に優れると
いう機能を持つ。本発明のベンゾフェノン誘導体は安全
性に優れるので、化粧料、医薬料等に配合できる。ま
た、本発明のベンゾフェノン誘導体に加えて通常用いら
れる他の化粧料や医薬料成分を適宣配合することができ
る。例えば、流動パラフイン、スクワラン、ワセリン、
セチルアルコ−ル、イソステアリルアルコ−ル、2−エ
チルヘキシル酸セチル、2−オクチルドデシルアルコ−
ル、トリイソステアリン酸グリセリン、マカデミアナッ
ツ油、ラノリン等の各種炭化水素、油脂類、ロウ類等の
油性成分、シリコン類、界面活性剤、増粘剤、中和剤、
防腐剤、殺菌剤、酸化防止剤、粉体成分、色素、香料、
他の紫外線吸収剤、薬効剤、金属封鎖剤、pH調製剤等
が挙げられる。
【0016】
【実施例】以下、本発明の実施例を示すが、これは本発
明の技術的範囲を限定するものではない。配合量は重量
%である。製造例1 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フ
ェノン (1)2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ヒト゛ロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノンの
製造 2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン53.5gを2−
(2−クロロエトキシ)エタノール124g、水酸化ナ
トリウム12g、イオン交換水125gの溶液中に加
え、溶解させた。70〜80℃で3時間攪拌した後、さ
らに水酸化ナトリウム1gを加えた。2時間加熱攪拌
後、放冷し、室温になったところで塩酸をpH試験紙で
3となるまで加えた。この溶液をクロロホルムで抽出、
水洗後、乾燥し、濃縮した。残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(酢酸エチル:ベンゼン)で分離精製
後、混在する2−(2−クロロエトキシ)エタノールを
減圧留去し、再度シリカゲルカラムクロマトグラフィー
(酢酸エチル:ヘキサン)で分離精製した。溶媒を減圧
留去して得た固体をヘキサン−トルエン混合液から再結
晶させ、2−ヒドロキシ−4−[2−(2−ヒドロキシ
エトキシ)エトキシ]ベンゾフェノンを24.9g得
た。 融点;66〜67℃
【0017】(2)2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシエトキシ)エトキ
シ]ヘ゛ンソ゛フェノンの製造 (1)の2−ヒドロキシ−4−[2−(2−ヒドロキシ
エトキシ)エトキシ]ベンゾフェノン23.6g、オク
タアセトキシマルトース82gをジエチレングリコール
ジブチルエーテル140gに加えた。これにモリブドリ
ン酸0.7gを加えた後、95〜105℃で2時間加熱
攪拌した。この溶液を室温まで放冷した後、トルエンで
抽出、洗浄後、乾燥し、濃縮した。得られた固形物をメ
タノール500ml、ナトリウムメトキシド13g中に
加え、50〜60℃で2時間攪拌後、放冷し、濃塩酸を
pH試験紙が3を示すまで加えた。反応溶媒を減圧留去
後、シリカゲルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチ
ル:クロロホルム)で分離精製し、2−ヒドロキシ−4
−[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベ
ンゾフェノン27.5gを得た。得られた2−ヒドロキ
シ−4−[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキ
シ]ベンゾフェノンの分析値は次の通りであった。
【0018】(1)赤外吸収スペクトル図(図1) 日本分光株式会社製、FT/IR−5300型赤外吸収
スペクトル測定装置を用い、KBr錠剤法で測定した。
3380cm-1(br,−OH)、1624cm-1(C=
O)にピークが観察された。
【0019】(2)13C−NMRスペクトル図(図2) 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
99ppm、165ppm、163ppm、138ppm、135pp
m、132ppm、129ppm、128ppm、113ppm、1
07ppm、103ppm、102ppm、101ppm、80pp
m、76ppm、75ppm、73ppm、73ppm、73ppm、7
2ppm、70ppm、70ppm、69ppm、68ppm、68pp
m、61ppm、61ppmにシグナルが観測された。
【0020】(3)1H−NMRスペクトル図(図3) 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
2.0(s,1H)、7.61〜7.66(m,3
H)、7.53〜7.57(m,2H)、7.43
(d,J=8.4Hz,1H)、6.55〜6.58
(m,2H)、5.48(d,J=3.2Hz,1
H)、5.40(d,J=6.4Hz,1H)、5.0
9(d,J=5.6Hz,1H)、5.10(d,J=
3.6Hz,1H)、4.84〜4.87(m,2
H)、4.47〜4.49(m,2H)、4.19〜
4.23(m,3H)、3.0〜3.9(m,24H,
DMSO中の水を含む)にシグナルが観測された。
【0021】(4)紫外線吸収スペクトル図(図4) 日本分光株式会社、UVIDEC 610C紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定した。
最大吸収波長(λmax)は288nm,326nmであり、モ
ル吸光係数ε(I/mol・cm)は14700、94
00であった。 (5)融点 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、90℃付近で溶解したが明
確な融点を示さなかった。
【0022】製造例2 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ク゛ルコシロキシエトキ
シ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 製造例1の(1)で合成した2−ヒドロキシ−4−[2
−(2−ヒドロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェノ
ン10g、ヘキサアセトキシグルコース18.6gをジ
エチレングリコールジブチルエーテル25gに加えた。
これにモリブドリン酸0.3gを加えた後、95〜10
5℃で2時間加熱攪拌した。この溶液を室温まで放冷し
た後、トルエンで抽出、洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥し、濃縮した。得られた固形物をメタノール50
0ml、ナトリウムメトキシド13g中に加え、50〜
60℃で2時間攪拌後、放冷し、濃塩酸をpH試験紙が
3を示すまで加えた。反応溶媒を減圧留去後、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(酢酸エチル:クロロホル
ム)で分離精製し、2−ヒドロキシ−4−[2−(2−
グルコシロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェノン1
0.5gを得た。得られた2−ヒドロキシ−4−[2−
(2−グルコシロキシエトキシ)エトキシ]ベンゾフェ
ノンの分析値は次の通りであった。
【0023】(1)赤外吸収スペクトル 日本分光株式会社製、FT/IR−5300型赤外吸収
スペクトル測定装置を用い、KBr錠剤法で測定した。
3400cm-1(br,−OH)、1624cm-1(C=
O)にピークが観察された。 (2)13C−NMRスペクトル 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
99ppm、164ppm、163ppm、138ppm、134pp
m、132ppm、129ppm、128ppm、113ppm、1
07ppm、103ppm、102ppm、76ppm、73ppm、
72ppm、70ppm、70ppm、68ppm、68ppm、60p
pmにシグナルが観測された。
【0024】(3)1H−NMRスペクトル 日本電子株式会社製のJOEL EX−400により、
DMSO−d6を溶媒として、室温にて測定した。δ1
2.0(s,1H),7.53〜7.66(m,5
H)、7.43(d,J=8.0Hz,1H)、6.5
5〜6.60(m,2H)、3.0〜5.4(m,20
H,DMSO中の水を含む)にシグナルが観測された。
【0025】(4)紫外線吸収スペクトル 日本分光株式会社、UVIDEC 610C紫外吸収ス
ペクトル測定装置を用い、溶媒メタノ−ルで測定した。
最大吸収波長(λmax)は287nm、325nmであり、モ
ル吸光係数ε(I/mol・cm)は13500、89
00であった。 (5)融点 ARTHUR H. THOMS COMPANY製キャピラリー式融点測定装
置を用いて測定したところ、吸湿性のため明確な融点を
示さなかった。
【0026】試験例1 溶解性 下記に示す本発明の化合物1及び2と、比較化合物1及
び2について、水−エタノール混合溶液中での溶解性を
各温度条件下で調べた。試験方法は、種々の混合比の水
−エタノール混合溶液に各化合物を10重量%の濃度で
溶解し、これを25℃及び5℃で7日間放置して溶解性
を観察した。結果を表1に示す。 化合物1: 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛
フェノン 化合物2: 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ク゛ルコシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ
゛フェノン 比較化合物1: 2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノ
ンナトリウム塩 比較化合物2: 2-ヒト゛ロキシ-4-(2-マルトシロキシエトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン
【0027】
【表1】 ──────────────────────────────────── 溶 媒 化合物1 化合物2 比較化合物1 比較化合物2 ──────────────────────────────────── [25℃] 水 ○ ○ × ○ 水:エタノール=8:2 ○ ○ × ○ 水:エタノール=6:4 ○ ○ × ○ 水:エタノール=4:6 ○ ○ × ○ 水:エタノール=2:8 ○ ○ × ○ ──────────────────────────────────── [5℃] 水 ○ ○ × × 水:エタノール=8:2 ○ ○ × × 水:エタノール=6:4 ○ ○ × × 水:エタノール=4:6 ○ ○ × × 水:エタノール=2:8 ○ ○ × × ──────────────────────────────────── ○:均一に溶解した ×:固体が析出した
【0028】表1から明らかなように本発明の化合物1
及び2は何れの温度条件下においても水及び水−エタノ
ール混合溶媒に対して10重量%以上の優れた溶解性を
示した。これに対し、比較化合物1及び2は水及び水−
エタノール混合溶媒に対し、溶解度が10重量%以下と
低く、固体の析出が認められた。
【0029】以上のことから、本発明のベンゾフェノ誘
導体は水及び水−エタノール混合溶媒に対し高い溶解度
を有し、低温で長期にわたって保存した場合でも固体が
析出することなく、よってこれを配合した皮膚外用剤は
従来の水溶性紫外線吸収剤を配合した場合に比して製品
安定性に優れることが示唆された。
【0030】試験例2 日焼け止めテスト 次に、本発明のベンゾフェノン誘導体を配合した美容液
を調製し、その日焼け止め効果を試験した。 [美容液の製造]まず、表2に示す処方にて、前記本発
明のベンゾフェノン誘導体を配合した美容液と、対照例
として2−ヒドロキシ−4−メトキシ−5−スルフォキ
ソニウムベンゾフェノンを配合した美容液の製造を行な
った。製造方法は、アルコ−ル相Aを水相Bに添加し、
香料を可溶化して美容液を得た。配合例1は、無色透明
で粘性のある良好な美容液が得られたのに対し、対照例
1では、黄味が強く粘性のないものであった。
【0031】
【表2】 ────────────────────────────────── 成分 配合例1 対照例1 ────────────────────────────────── A(アルコール相) エタノール 5.0 5.0 POEオレイルアルコールエーテル 2.0 2.0 香料 適 量 適 量 ────────────────────────────────── B(水相) 1,3−ブチレングリコール 5.0 5.0 ベンゾフェノン誘導体(製造例1) 8.0 _ 2-ヒト゛ロキシ-4-メトキシ-5-スルフォキソニウムヘ゛ンソ゛フェノンNa _ 8.0 トリエタノールアミン 0.1 0.1 カルボキシビニルポリマー 0.15 0.15 精製水 残 余 残 余 ──────────────────────────────────
【0032】[日焼け止めテスト]上記のように製造し
た2つの美容液を用いて、海浜での実使用テストを行な
った。試験方法は、サンプルをパネル10名の背中に左
右半分ずつ塗布し、日焼けの程度を以下の基準に従って
評価した。 ○・・・殆ど日焼けの症状が認められなかった △・・・軽度の日焼け症状が認められた ×・・・強度の日焼け症状が認められた 結果を、表3に示す。
【0033】
【表3】 ────────────────────────────────── 配合例1の塗布部 対照例1の塗布部 ────────────────────────────────── ○ 7 2 △ 3 5 × 0 3 ──────────────────────────────────
【0034】表3に示したように、配合例1の美容液を
塗布した場合には70%のパネラーで日焼けが殆ど認め
られず、残りの30%のパネラーについては軽度の日焼
け症状が認められたに過ぎず、強度の日焼け症状が認め
られたパネラーはいなかった。 これに対し、対照例1
の美容液を塗布した場合、80%のパネラーが軽度又は
強度の日焼け症状を訴え、その内、30%のパネラーに
強度の日焼け症状が認められた。また、配合例1の塗布
部では皮膚トラブルは全く認められなかったが、対照例
1の塗布部では皮膚のかゆみ、発疹といったトラブルを
生じたパネラーが認められた。
【0035】以上の結果より、本発明のベンゾフェノ誘
導体を配合した皮膚外用剤は、従来の水溶性紫外線吸収
剤を配合した皮膚外用剤よりも紫外線防御効果が高く、
紫外線による日焼けや皮膚トラブルを防止することが明
らかとなった。本発明の以下のベンゾフェノ誘導体を配
合した以下の皮膚外用剤は、何れも優れた紫外線防御効
果を発揮し、長期間使用した場合にも皮膚トラブルを生
じることがなかった。また、ベンゾフェノ誘導体は溶液
中に均一に溶解し、低温で長期にわたって保存した場合
にも固体が析出することがなく製品安定性も良好であっ
た。
【0036】配合例2 クリ−ム A.油相 ステアリン酸 10.0% ステアリルアルコ−ル 4.0 ステアリン酸モノグリセリンエステル 8.0 ビタミンEアセテ−ト 0.5 香料 0.4 エチルパラべン 0.1 ブチルパラベン 0.1 プロピルパラベン 0.1 B.水相 プロピレングリコ−ル 8.0 グリセリン 2.0 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ク゛ルコシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 5.0 水酸化ナトリウム 0.4 エデト酸三ナトリウム 0.05 精製水 残余
【0037】〈製法〉Aの油相部とBの水相部をそれぞ
れ70℃に加熱し完全に溶解する。A相をB相に加え
て、乳化機で乳化する。乳化物を熱交換器を用いて冷却
してクリ−ムを得た。
【0038】配合例3 クリ−ム A.油相 セタノ−ル 4.0% ワセリン 7.0 イソプロピルミリステ−ト 8.0 スクワラン 12.0 ジメチルポリシロキサン 3.0 ステアリン酸モノグリセリンエステル 2.2 POE(20)ソ゛ルヒ゛タンモノステアレ-ト 2.8 グリチルレチン酸ステアレ−トBHT 0.02 エチルパラベン 0.1 ブチルパラベン 0.1 B.水相 1,3ブチレングリコ−ル 7.0 エデト酸ニナトリウム 0.07 フェノキシエタノ−ル 0.2 L−アスコルビン酸リン酸エステルマグネシウム塩 3.0 ポリアクリル酸アルキルエステル 1.0 2-ヒト゛ロキシ-4-[2-(2-セロヒ゛オシロキシエトキシ)エトキシ)ヘ゛ンソ゛フェノン 7.0 精製水 残余 〈製法〉配合例2に準じてクリ−ムを得た。
【0039】配合例4 乳液 A.油相 スクワラン 5.0% オレイルオレ−ト 3.0 ワセリン 2.0 ソルビタンセスキオレイン酸エステル 0.8 ポリオキシエチレンオレイルエ−テル(20E.0.) 1.2 p-メトキシ桂皮酸2ーエチルヘキシル 3.0 メチルパラベン 0.15 香料 0.12 B.水相 ジプロピレングリコ−ル 5.0 エタノール 3.0 カルボキシビニルポリマ− 0.17 ヒアルロン酸ナトリウム 0.1 2-ヒト゛ロキシ4-[2ー(2-ラクトシロキシエトキシ)エトキシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 4.0 水酸化カリウム 0.08 ヘキサメタリン酸ナトリウム 0.05 精製水 残余 〈製法〉配合例2に準じて乳液を得た。
【0040】配合例5 クリ−ム A.油相 ベヘニルアルコール 0.5% 12−ヒドロキシステアリン酸コレスタノールエステル 2.0 スクワラン 7.0 ホホバオイル 5.0 自己乳化型モノステアリン酸グリセリン 2.5ホ゜リオキシエチレンソルヒ゛タンモノステアリン 酸エステル(20EO) 1.5 2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン 3.0 エチルパラベン 0.2 ブチルパラベン 0.1 香料 0.1 B.水相 プロピレングリコ−ル 5.0 グリセリン 5.0 ギ−ガム(モンモリロナイト) 3.0 水酸化カリウム 0.3 2ーヒト゛ロキシ-4-[2-(2-ラクトシロキシフ゜ロホ゜キシ)フ゜ロホ゜キシ]ヘ゛ンソ゛フェノン 6.0 エデト酸三ナトリウム 0.08 精製水 残余 〈製法〉配合例2に準じてクリ−ムを得た。
【0041】配合例6 粉末入り化粧水 A.アルコール相 エタノール 8.0% POE(60)グリセリルモノイソステアレート 2.0 L−メントール 0.1 カンファー 0.1 メチルパラベン 0.1 香料 0.03 B.水相 グリセリン 3.0 2-ヒト゛ロキシ-4ー{2ー[2ー(2-マルトシロキシエトキシ)エトキシ]エトキシ}ヘ゛ンソ゛フェノン 2.0 亜鉛 1.5 カオリン 0.5 ベントナイト 0.3 ヘキサメタリン酸ナトリウム 0.03 精製水 残余 〈製法〉配合例1に準じた製法で粉末入り化粧水を得
た。
【0042】
【発明の効果】以上のように、本発明に係るベンゾフェ
ノン誘導体は、優れた紫外線吸収能、及び温度に依存し
ない優れた極性溶媒相溶性を有し、極性基剤に対して配
合することが可能である。また、本発明のベンゾフェノ
ン誘導体を配合することにより、高い紫外線防御効果を
発揮し、優れた製品安定性を有する皮膚外用剤が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ4−
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの赤外吸収(IR)スペクトル図である。
【図2】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ4−
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの13C−NMRスペクトル図である。
【図3】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ4−
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの1H−NMRスペクトル図である。
【図4】本発明の一実施例に係る2−ヒドロキシ4−
[2−(2−マルトシロキシエトキシ)エトキシ]ベン
ゾフェノンの紫外吸収スペクトル図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 英夫 神奈川県横浜市港北区新羽町1050番地 株 式会社資生堂第一リサーチセンター内

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式化1で表わされるベンゾフェ
    ノン誘導体。 【化1】 (但し、R1、R2は水素原子、水酸基又は炭素数1〜4
    のアルコキシ基で表わされる。Aは保護基を有していな
    い糖残基であり、mは1〜4の整数、nは2〜6の整数
    を示す。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のベンゾフェノン誘導体よ
    りなる紫外線吸収剤。
  3. 【請求項3】 請求項1記載のベンゾフェノン誘導体を
    一種または二種以上を含むことを特徴とする皮膚外用
    剤。
JP7112504A 1995-04-13 1995-04-13 ベンゾフェノン誘導体、紫外線吸収剤及びそれを配合した皮膚外用剤 Withdrawn JPH08283286A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000044851A (ja) * 1998-07-27 2000-02-15 Ricoh Co Ltd インクジェット記録用インク組成物

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