JPH08265081A - チップ型フィルタ - Google Patents

チップ型フィルタ

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JPH08265081A
JPH08265081A JP6592095A JP6592095A JPH08265081A JP H08265081 A JPH08265081 A JP H08265081A JP 6592095 A JP6592095 A JP 6592095A JP 6592095 A JP6592095 A JP 6592095A JP H08265081 A JPH08265081 A JP H08265081A
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JP
Japan
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resistance layer
bare chip
chip
electrode
internal electrode
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JP6592095A
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English (en)
Inventor
Paakaa Baakusu Daanaru
ダーナル・パーカー・バークス
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 1チップの極めて小型の形態で、RCの機能
を有し、高密度にプリント回路基板に実装できる。 【構成】 セラミック誘電体からなるベアチップ11の
内部には内部電極12が設けられ、この内部電極はチッ
プ中央側部に露出する。ベアチップの表面の一端部から
中央部にかけて内部電極とセラミック誘電体を介して対
向する第1抵抗層21が設けられ、ベアチップの表面の
他端部から中央部にかけて第1抵抗層と間隔をあけて第
2抵抗層22が設けられる。ベアチップの一端部に第1
抵抗層に導通する第1端子電極31が焼付けられ、ベア
チップの中央部周囲に第1抵抗層に導通する第2端子電
極32が焼付けられる。またベアチップの中央部周囲に
内部電極及び第2抵抗層にそれぞれ導通する共通電極1
3が焼付けられ、ベアチップの他端部に第2抵抗層に導
通する接地電極14が焼付けられる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、プリント回路基板の表
面に実装可能なチップ型フィルタに関する。更に詳しく
は低域フィルタ、高域フィルタ、その他のフィルタに適
するチップ型フィルタに適するチップ型フィルタに関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】1950年代の初期から厚膜回路基板は
商業的に製造されてきている。この回路製品はセラミッ
ク基板上にスクリーン印刷によって形成された抵抗体の
ネットワークに基づいていた。この回路の抵抗体は炭素
系の組成であり、導電体はAgであり、基板はアルミナ
又はステアタイトであった。基板をBaTiO3又はこ
れに近い高い比誘電率を有する誘電体で作ると、誘電体
である基板がコンデンサになってRC(抵抗の抵抗値
R、コンデンサの容量C)回路を作り得ることがその後
まもなく見い出された。そして抵抗体パターンをコンデ
ンサ上に位置させれば、連続的に静電容量が変化するた
め、分布した(distributed)RC機能が得られること
が判明した。このRCの分布したネットワークは高周波
フィルタとして有用で別々のRとCの部品より構成され
たフィルタでは得られない特性を有することが明らかに
なった。特筆すべきことは、これらの製品は誘電体のセ
ラミック基板をコンデンサとして用い、表面に形成した
抵抗パターンと基板内部で接続する構造を持つ導電体回
路から構成されていたことである。後に薄膜技術が同様
な目的のために用いられた。例えばRCネットワークを
作るためにTa/Ta25の技術が開発され、Ta25
を誘電体として用い、これらのいくつかは分布したRC
型の機能があった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来のR
Cフィルタは誘電体が基板であって、比較的大型である
ため、プリント回路基板に実装するには不適であり、基
板表面実装用のチップ形状をなしていなかった。本発明
の目的は、1チップの極めて小型の形態で、RCの機能
を有し、高密度にプリント回路基板に実装し得るチップ
型フィルタを提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】図1〜図4に示すよう
に、本発明の第1のチップ型フィルタ10は、チップ内
部に内部電極12が設けられ、チップ中央側部に内部電
極12が現れるように形成されたセラミック誘電体から
なるベアチップ11と、ベアチップ11の表面の一端部
から中央部にかけて内部電極12とセラミック誘電体を
介して対向するように設けられた第1抵抗層21と、ベ
アチップ11の表面の他端部から中央部にかけて第1抵
抗層21と間隔をあけて設けられた第2抵抗層22と、
ベアチップの一端部に第1抵抗層21に導通するように
焼付けられた第1端子電極31と、ベアチップ11の中
央部周囲に第1抵抗層21に導通するように焼付けられ
た第2端子電極32と、ベアチップ11の中央部周囲に
内部電極12及び第2抵抗層22にそれぞれ導通するよ
うに焼付けられた共通電極13と、ベアチップ11の他
端部に第2抵抗層22に導通するように焼付けられた接
地電極14とを備えたものである。
【0005】図6〜図9に示すように、本発明の第2の
チップ型フィルタ50は、チップ内部に内部電極52が
設けられ、第1隅部51aに内部電極52が現れるよう
に形成された矩形のセラミック誘電体からなるベアチッ
プ51と、ベアチップ51の表面の第1隅部51aにそ
れぞれ隣接する第2隅部51b及び第3隅部51cにか
けてかつ内部電極52とセラミック誘電体を介して対向
するように設けられた第1抵抗層61と、ベアチップ5
1の裏面の第1隅部51aと第4隅部51dにかけてか
つ内部電極52とセラミック誘電体を介して対向するよ
うに設けられた第2抵抗層62と、ベアチップ51の第
1隅部51aに内部電極52及び第2抵抗層62にそれ
ぞれ導通するように焼付けられた共通電極53と、ベア
チップ51の第2隅部51b及び第3隅部51cに第1
抵抗層61にそれぞれ導通するように焼付けられた一対
の端子電極71,72と、ベアチップ51の第4隅部5
1dに第2抵抗層62に導通するように焼付けられた接
地電極54とを備えたものである。
【0006】本発明の第1のチップ型フィルタ10は、
湿式積層法又は乾式積層法により作られる。先ず最初に
BaTiO3系又はPb系の誘電体セラミック粉末、有
機バインダ、可塑剤及び有機溶剤を混合して誘電体ペー
スト又は誘電体スラリーを調製する。湿式積層法では、
この誘電体ペーストをカーテンコート法により台板上に
セラミック誘電体層を積層し乾燥した後、この誘電体層
の上に間隔をあけて導電性ペーストをスクリーン印刷し
乾燥することにより同一平面上に多数の内部電極12を
形成する。この内部電極12の上に誘電体ペーストを同
様に積層する。この積層体を脱バインダ処理した後、焼
成し、この焼結体の表面に所定の間隔をあけて第1及び
第2抵抗層21,22となるペーストをスクリーン印刷
し乾燥して焼成する。
【0007】内部電極12及び第1抵抗層21は図1及
び図4に示すように上方から見たときにほぼ重なり合っ
て形成される。この焼結体を第1及び第2抵抗層21,
22を1組にして中央両側部に内部電極12が現れるよ
うにチップ状に切断する。得られたベアチップ11の一
端部に導電性ペーストを塗布し焼付けて第1抵抗層21
の一端部に導通するように第1端子電極31を形成し、
ベアチップ11の中央周囲に導電性ペーストを塗布し焼
付けて第1抵抗層21の他端部に導通するように第2端
子電極32を形成する。またベアチップ11の他端部と
第2端子電極32との間の中央周囲に導電性ペーストを
塗布し焼付けて第2抵抗層22の一端部及び内部電極1
2に導通するように共通電極13を形成し、ベアチップ
11の他端部に導電性ペーストを塗布し焼付けて第2抵
抗層22の他端部に導通するように接地電極14を形成
する。
【0008】上記チップ型フィルタ10を乾式積層法で
製造するには、上記誘電体スラリーをドクタブレード法
等により成膜乾燥してセラミックグリーンシートを作
り、このグリーンシートからなる誘電体層の上に湿式積
層法と同様に内部電極12を形成する。この内部電極1
2の上に上記グリーンシートを積層する。以下、湿式積
層法と同様に積層体の焼成、第1及び第2抵抗層21,
22の形成、焼結体のチップ化を行い、最後に第1及び
第2端子電極31,32と共通電極13と接地電極14
とを形成する。
【0009】本発明の第2のチップ型フィルタ50の積
層体もパターンの形状は異なるが第1のフィルタ10と
同様に作製される。この積層体を脱バインダ処理した
後、焼成し、この焼結体の表面及び裏面に上方から見た
ときに互いに直交する第1及び第2抵抗層61,62と
なるペーストをスクリーン印刷し乾燥して焼成する。内
部電極52及び第1抵抗層61は図7及び図9に示すよ
うに上方から見たときにほぼ重なり合って形成される。
この焼結体を、第1抵抗層61の両端が第2及び第3隅
部51a,51cにそれぞれ位置し、第2抵抗層62の
両端が第1及び第4隅部51b,51dにそれぞれ位置
し、かつ第1隅部51aに内部電極52が現れるように
矩形のチップ状に切断する。得られたベアチップ51の
第1隅部51aに第2抵抗層62の一端部及び内部電極
52に導通するように導電性ペーストを塗布し焼付けて
共通電極53を形成し、第1隅部51aに隣接する第2
及び第3隅部51b,51cに第1抵抗層61の両端部
にそれぞれ導通するように導電性ペーストを塗布し焼付
けて一対の端子電極71,72をそれぞれ形成し、第1
隅部51aに対向する第4隅部51dに第2抵抗層62
の他端部に導通するように導電性ペーストを塗布し焼付
けて接地電極54を形成する。
【0010】第1又は第2のチップ型フィルタ10又は
50とも、第1抵抗層21又は61と第2抵抗層22又
は62の表面に絶縁膜16,17又は56,57を形成
することが好ましい。この絶縁膜16,17又は56,
57としてはSiO2を主成分とする膜が好ましい。こ
の絶縁膜16,17又は56,57の形成方法として
は、ガラスペーストを塗布し焼成する厚膜形成法、或い
は真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティン
グ法のような物理蒸着法(PVD法)又は化学蒸着法
(CVD法)の薄膜形成法により行われる。また上記絶
縁膜16,17,56,57はチップ状に切断したベア
チップ11,51に端子電極31,32,71,72や
共通電極13,53や接地電極14,54を形成した後
又は前に形成してもよく、或いはチップ状に切断する前
にセラミック焼結体の抵抗層21,22,61,62の
表面に形成してもよい。
【0011】
【作用】第1のチップ型RCフィルタ10は第1端子電
極31と第1抵抗層21と第2端子電極32からなる抵
抗回路と、共通電極13と第2抵抗層22と接地電極1
4からなる抵抗回路と、第1抵抗層21と内部電極12
とこれらの間に介在するベアチップ11の誘電体からな
る分布キャパシタンス回路とを構成し、図5の等価回路
で示される。第2のチップ型RCフィルタ50は一対の
端子電極71,72と第1抵抗層61からなる抵抗回路
と、共通電極53と第2抵抗層62と接地電極54から
なる抵抗回路と、第1抵抗層61と内部電極52とこれ
らの間に介在するベアチップ51の誘電体からなる分布
キャパシタンス回路とを構成し、第1フィルタ10と同
様の等価回路で示される。
【0012】図4又は図8に示すように、チップ状に切
断する前に又は後でレーザビーム光などにより第2抵抗
層22又は62に所望の長さだけ切込み22a又は62
aを入れれば、所望のRC時定数が得られる。第1抵抗
層21又は61表面と第2抵抗層22又は62表面に絶
縁膜16,17又は56,57をそれぞれ形成すると、
第一に端子電極31,32又は71,72や共通電極1
3又は53や接地電極14又は54のはんだ耐熱性向上
のためにNiめっきを、又ははんだ付け性向上のために
Snめっきをそれぞれ端子電極31,32又は71,7
2や共通電極13又は53や接地電極14又は54に施
す場合にめっきが第1抵抗層21又は61と第2抵抗層
22又は62に直接付着せず、抵抗値が変わらない。ま
た第二にチップ型フィルタ10又は50の使用環境が高
温多湿であってもフィルタ特性が変わらない。
【0013】
【実施例】次に本発明の実施例を図面に基づいて詳しく
説明する。 <実施例1>図1〜図4に示すように、第1のチップ型
RCフィルタ10はセラミック誘電体からなるベアチッ
プ11と、内部電極12と、第1及び第2抵抗層21,
22と、第1及び第2端子電極31,32と、共通電極
13と、接地電極14を備える。このチップ型フィルタ
10は次の方法により作られる。先ずPb系リラクサ材
料で作られたセラミック誘電体グリーンシートを積層し
てセラミック誘電体層を形成した後、所定のパターンで
Ag系の厚膜ペーストをスクリーン印刷し乾燥して同一
平面内に等間隔に多数の内部電極12を形成し、この上
にこれらの内部電極12を全て被覆するようにして上述
したセラミック誘電体層と同形同大のセラミック誘電体
層を積層した。
【0014】次いでこの積層体を焼成して誘電体の層厚
がそれぞれ5〜数100μmで内部電極12が内蔵され
た板状のセラミック焼結体を形成した後、この焼結体の
表面に所定のパターンでRuO2系厚膜ペーストを内部
電極12に相応する位置から長手方向に所定の距離だけ
ずらした位置とこの位置から所定の間隔をあけた位置に
スクリーン印刷し焼成した。これにより厚さ5〜数10
0μmの第1及び第2抵抗層21,22がそれぞれ形成
された。第1抵抗層21は内部電極12と幅が同一で長
さが長く形成され、第2抵抗層22は上記第1抵抗層2
1と同形同大に形成される。また内部電極12の他端部
は上方から見たときに第2抵抗層22の一端部に僅かに
重なり、その他端両側部には同一平面内に両側方に突出
する一対の突起12a,12aがそれぞれ形成される
(図2〜図4)。
【0015】次に第2抵抗層22の中央側部にレーザビ
ーム光により所望の長さだけ切込み22aを入れた後に
(図4)、この焼結体を第1及び第2抵抗層21,22
を1組にしてダイヤモンドソーでチップ状に切断した。
得られたベアチップ11をバレル研磨することによりそ
の中央両側面に内部電極12の一対の突起12a,12
aを露出させ、一方の端面に第1抵抗層21の一端部を
露出させ、他方の端面に第2抵抗層22の他端部を露出
させた。ベアチップ11の両端部にAg−Pdの導電性
ペーストを塗布し焼付けて第1抵抗層21の一端部及び
第2抵抗層22の他端部にそれぞれ導通するように第1
端子電極31及び接地電極14をそれぞれ形成し、ベア
チップ11の中央周囲に上記導電性ペーストを塗布し焼
付けて第1抵抗層21の他端部に導通するように第2端
子電極32を形成し、ベアチップ11の周囲のうち第2
端子電極32及び接地電極14間に位置するように上記
導電性ペーストを塗布し焼付けて第2抵抗層22の一端
部及び内部電極12の一対の突起12a,12aに導通
するように共通電極13を形成した。更にこのベアチッ
プ11の第1及び第2抵抗層21,22の表面にガラス
ペーストを塗布して焼成し、SiO2を主成分とする厚
さ5〜数10μmの絶縁膜16,17(図1)を形成す
ることによりチップ型RCフィルタ10を作製した。
【0016】<実施例2>図6〜図9に示すように、第
2のチップ型RCフィルタ50はセラミック誘電体から
なるベアチップ51と、内部電極52と、第1及び第2
抵抗層61,62と、一対の端子電極71,72と、共
通電極53と、接地電極54を備える。このチップ型フ
ィルタ50は次の方法により作られる。先ず実施例1と
同様にしてセラミック誘電体層を形成した後、所定のパ
ターンでAg系の厚膜ペーストをスクリーン印刷し乾燥
して同一平面内に等間隔に多数の内部電極52を形成
し、この上にこれらの内部電極52を全て被覆するよう
にして上述したセラミック誘電体層と同形同大のセラミ
ック誘電体層を積層した。
【0017】次いでこの積層体を焼成して誘電体の層厚
がそれぞれ5〜数100μmで内部電極52が内蔵され
た板状のセラミック焼結体を形成した後、この焼結体の
表面及び裏面に所定のパターンでRuO2系厚膜ペース
トをスクリーン印刷し焼成した。これにより厚さ5〜数
100μmの第1及び第2抵抗層61,62がセラミッ
ク焼結体の表面及び裏面にそれぞれ形成された。内部電
極52は略矩形に形成された内部電極本体52aと、こ
の内部電極本体52aと一体的に形成され内部電極本体
52aの第1コーナ部52cから同一平面内に突出する
突起52bとを有する(図8及び図9)。第1抵抗層6
1は上方から見たときに内部電極本体52aのうち第1
コーナ部52cに隣接する第2コーナ部52dから第3
コーナ部52eに向って延びて形成され、第2抵抗層6
2は上方から見たときに内部電極本体52aのうち第1
コーナ部52cからこの第1コーナ部52cに対向する
第4コーナ部52fに向って延びて形成される。
【0018】次に第2抵抗層62の中央側部にレーザビ
ーム光により所望の長さだけ切込み62aを入れた後に
(図8及び図9)、この焼結体を内部電極本体52aよ
り一回り大きい矩形のチップ状に切断した。得られたベ
アチップ51は第1〜第4隅部51a〜51dを有し、
これらの隅部51a〜51dはそれぞれ内部電極本体5
2aの第1〜第4コーナ部52c〜52fにそれぞれ対
向する。このベアチップ51をバレル研磨することによ
り第1隅部51aに第2抵抗層62の一端部及び内部電
極52の突起52bを露出させ、第2〜第4隅部51a
〜51dに第1抵抗層61の両端部及び第2抵抗層62
の他端部を露出させた。実施例1と同様にしてAg−P
dの導電性ペーストをベアチップ51の第1〜第4隅部
51a〜51dに塗布し焼付けて共通電極53、一対の
端子電極71,72及び接地電極54をそれぞれ形成し
た。更にこのベアチップ51の第1抵抗層61表面及び
第2抵抗層62表面に実施例1と同様にして絶縁膜61
a,62a(図6及び図7)を形成することによりチッ
プ型RCフィルタ50を作製した。
【0019】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のチップ型フ
ィルタは、チップ表面に形成した第1抵抗層をチップ内
部に形成した内部電極とともにコンデンサの構成要素と
したので、1チップの極めて小型の形態でRCの機能を
具備でき、高密度にプリント回路基板に実装することが
できる。また第2抵抗層に所望の長さだけ切込みを入れ
れば、所望のRC時定数が得られる。更に第1抵抗層表
面及び第2抵抗層表面に絶縁膜を形成すれば、端子電極
や共通電極や接地電極のめっき処理時にめっきが第1及
び第2抵抗層に直接付着せず、またチップ型フィルタの
使用環境が高温多湿であっても、それぞれフィルタ特性
が変わらない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明実施例1のチップ型フィルタを示す図3
のA−A線断面図。
【図2】図1のB−B線断面図。
【図3】図1のC−C線断面図。
【図4】端子電極、共通電極及び接地電極を想像線で示
し、かつ抵抗層表面に絶縁膜を形成する前の状態を示す
ベアチップの要部破断斜視図。
【図5】その等価回路図。
【図6】本発明の実施例2のチップ型フィルタの抵抗層
表面に絶縁膜が形成された状態を示す図8のD−D線断
面図。
【図7】そのチップ型フィルタの抵抗層表面に絶縁膜が
形成された状態を示す図8のE−E線断面図。
【図8】抵抗層の表面に絶縁膜を形成する前の状態を示
すチップ型フィルタの要部破断平面図。
【図9】端子電極及び共通電極を想像線で示し、かつ抵
抗層表面に絶縁膜を形成する前の状態を示すベアチップ
の要部破断斜視図。
【符号の説明】
10,50 チップ型フィルタ 11,51 ベアチップ 12,52 内部電極 13,53 共通電極 14,54 接地電極 16,17,56,57 絶縁膜 21,61 第1抵抗層 22,62 第2抵抗層 22a,62a 切込み 31 第1端子電極 32 第2端子電極 51a〜51d 第1〜第4隅部 71,72 端子電極

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 チップ内部に内部電極(12)が設けられ、
    チップ中央側部に前記内部電極(12)が現れるように形成
    されたセラミック誘電体からなるベアチップ(11)と、 前記ベアチップ(11)の表面の一端部から中央部にかけて
    前記内部電極(12)と前記セラミック誘電体を介して対向
    するように設けられた第1抵抗層(21)と、 前記ベアチップ(11)の表面の他端部から中央部にかけて
    前記第1抵抗層(21)と間隔をあけて設けられた第2抵抗
    層(22)と、 前記ベアチップ(11)の一端部に前記第1抵抗層(21)に導
    通するように焼付けられた第1端子電極(31)と、 前記ベアチップ(11)の中央部周囲に前記第1抵抗層(21)
    に導通するように焼付けられた第2端子電極(32)と、 前記ベアチップ(11)の中央部周囲に前記内部電極(12)及
    び前記第2抵抗層(22)にそれぞれ導通するように焼付け
    られた共通電極(13)と、 前記ベアチップ(11)の他端部に前記第2抵抗層(22)に導
    通するように焼付けられた接地電極(14)とを備えたチッ
    プ型フィルタ。
  2. 【請求項2】 チップ内部に内部電極(52)が設けられ、
    第1隅部(51a)に前記内部電極(52)が現れるように形成
    された矩形のセラミック誘電体からなるベアチップ(51)
    と、 前記ベアチップ(51)の表面の前記第1隅部(51a)にそれ
    ぞれ隣接する第2隅部(51b)及び第3隅部(51c)にかけて
    かつ前記内部電極(52)と前記セラミック誘電体を介して
    対向するように設けられた第1抵抗層(61)と、 前記ベアチップ(51)の裏面の前記第1隅部(51a)と第4
    隅部(51d)にかけてかつ前記内部電極(52)と前記セラミ
    ック誘電体を介して対向するように設けられた第2抵抗
    層(62)と、 前記ベアチップ(51)の第1隅部(51a)に前記内部電極(5
    2)及び前記第2抵抗層(62)にそれぞれ導通するように焼
    付けられた共通電極(53)と、 前記ベアチップ(51)の第2隅部(51b)及び第3隅部(51c)
    に前記第1抵抗層(61)にそれぞれ導通するように焼付け
    られた一対の端子電極(71,72)と、 前記ベアチップ(51)の第4隅部(51d)に前記第2抵抗層
    (62)に導通するように焼付けられた接地電極(54)とを備
    えたチップ型フィルタ。
  3. 【請求項3】 第1抵抗層(21,61)及び第2抵抗層(22,6
    2)の表面がそれぞれ絶縁膜(16,17,56,57)で被覆された
    請求項1又は2記載のチップ型フィルタ。
  4. 【請求項4】 第2抵抗層(22,62)に所望の長さの切込
    み(22a,62a)が入れられRC時定数が所望の値に設定さ
    れた請求項1ないし3いずれか記載のチップ型フィル
    タ。
JP6592095A 1995-03-24 1995-03-24 チップ型フィルタ Withdrawn JPH08265081A (ja)

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JP6592095A JPH08265081A (ja) 1995-03-24 1995-03-24 チップ型フィルタ

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