JPH08252546A - 有機溶剤を使用する洗浄装置 - Google Patents
有機溶剤を使用する洗浄装置Info
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- JPH08252546A JPH08252546A JP7057143A JP5714395A JPH08252546A JP H08252546 A JPH08252546 A JP H08252546A JP 7057143 A JP7057143 A JP 7057143A JP 5714395 A JP5714395 A JP 5714395A JP H08252546 A JPH08252546 A JP H08252546A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23G—CLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
- C23G5/00—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents
- C23G5/02—Cleaning or de-greasing metallic material by other methods; Apparatus for cleaning or de-greasing metallic material with organic solvents using organic solvents
- C23G5/04—Apparatus
Abstract
(57)【要約】
【目的】 短いサイクルでの繰り返し洗浄を可能にし、
特に複雑な形状を有する部品等の難洗浄部品の洗浄処理
の安定化、処理時間の短縮化を図る。 【構成】 気密構造の洗浄室１と該洗浄室１に配管にて
連通した有機溶剤蒸気発生タンク４ａ，４ｂと前記洗浄
室１内を排気する真空ポンプ６とで構成した洗浄装置に
おいて、前記洗浄室１内の上方に冷却媒体が流入する熱
媒体供給部材３を配設するとともに、前記蒸気発生タン
ク４ａ，４ｂを少なくとも２つ設け、適宜前記蒸気発生
タンク４ａ，４ｂを切り換えるようにした。この洗浄装
置では、まず、１の蒸気発生タンク４ａによる第１段階
の洗浄を行ない、続いて他の蒸気発生タンク４ｂによる
第２段階の洗浄を行なう。
特に複雑な形状を有する部品等の難洗浄部品の洗浄処理
の安定化、処理時間の短縮化を図る。 【構成】 気密構造の洗浄室１と該洗浄室１に配管にて
連通した有機溶剤蒸気発生タンク４ａ，４ｂと前記洗浄
室１内を排気する真空ポンプ６とで構成した洗浄装置に
おいて、前記洗浄室１内の上方に冷却媒体が流入する熱
媒体供給部材３を配設するとともに、前記蒸気発生タン
ク４ａ，４ｂを少なくとも２つ設け、適宜前記蒸気発生
タンク４ａ，４ｂを切り換えるようにした。この洗浄装
置では、まず、１の蒸気発生タンク４ａによる第１段階
の洗浄を行ない、続いて他の蒸気発生タンク４ｂによる
第２段階の洗浄を行なう。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は洗浄装置、詳しくは、油
分等が付着した機械部品等（以下、ワークと言う）を有
機溶剤で蒸気洗浄するための洗浄装置に関するものであ
る。
分等が付着した機械部品等（以下、ワークと言う）を有
機溶剤で蒸気洗浄するための洗浄装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来、この種の洗浄装置としては、特開
昭５４−１１３９６５号公報、実開昭６３−１９３５８
８号公報等に開示されているように、気密構造の洗浄室
と、この洗浄室へ配管により連通する有機溶剤蒸気発生
タンク（以下、蒸気発生タンクと言う）と、前記洗浄室
内を排気する真空ポンプとで構成されているものが知ら
れている。この洗浄装置では、洗浄室内に蒸気発生タン
クから有機溶剤蒸気（以下、蒸気と言う）を供給する。
供給された蒸気は洗浄室に収納されているワークの表面
に付着して結露し、やがてワーク表面から滴下すること
により洗浄を行なうものである。
昭５４−１１３９６５号公報、実開昭６３−１９３５８
８号公報等に開示されているように、気密構造の洗浄室
と、この洗浄室へ配管により連通する有機溶剤蒸気発生
タンク（以下、蒸気発生タンクと言う）と、前記洗浄室
内を排気する真空ポンプとで構成されているものが知ら
れている。この洗浄装置では、洗浄室内に蒸気発生タン
クから有機溶剤蒸気（以下、蒸気と言う）を供給する。
供給された蒸気は洗浄室に収納されているワークの表面
に付着して結露し、やがてワーク表面から滴下すること
により洗浄を行なうものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の洗浄装置では、ワーク表面の温度が徐々に上昇し、
やがてワークの表面温度が蒸気温度と等しくなって蒸気
の液化が停止し、それ以上蒸気洗浄を行なうことができ
ず、洗浄時間が不足して洗浄不良になることがあった。
さらに、ワークが複雑な形状を有する部品、高粘度の油
が付着した部品、あるいは油付着量が多い部品等の難洗
浄部品である場合には、蒸気の供給を中断してワーク表
面温度が低下するのを待って、洗浄を再開しなければな
らず、処理時間が長くなっていた。また、洗浄室下部に
溜まった低温の使用済洗浄液を蒸気発生タンクに戻した
際に前記タンク内の有機溶剤温度が下がって蒸気発生量
が少なくなり、蒸気供給量が減ることで、特に前記難洗
浄部品の充分な洗浄が実施できなかった。したがって、
本発明は、簡単な機構を付加することによりワーク表面
の温度上昇を制御して十分に蒸気洗浄を行なうことがで
きるとともに、ワークが前記難洗浄部品であっても短時
間で充分に蒸気洗浄を行なうことができる洗浄装置を提
供することを目的とする。
来の洗浄装置では、ワーク表面の温度が徐々に上昇し、
やがてワークの表面温度が蒸気温度と等しくなって蒸気
の液化が停止し、それ以上蒸気洗浄を行なうことができ
ず、洗浄時間が不足して洗浄不良になることがあった。
さらに、ワークが複雑な形状を有する部品、高粘度の油
が付着した部品、あるいは油付着量が多い部品等の難洗
浄部品である場合には、蒸気の供給を中断してワーク表
面温度が低下するのを待って、洗浄を再開しなければな
らず、処理時間が長くなっていた。また、洗浄室下部に
溜まった低温の使用済洗浄液を蒸気発生タンクに戻した
際に前記タンク内の有機溶剤温度が下がって蒸気発生量
が少なくなり、蒸気供給量が減ることで、特に前記難洗
浄部品の充分な洗浄が実施できなかった。したがって、
本発明は、簡単な機構を付加することによりワーク表面
の温度上昇を制御して十分に蒸気洗浄を行なうことがで
きるとともに、ワークが前記難洗浄部品であっても短時
間で充分に蒸気洗浄を行なうことができる洗浄装置を提
供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するため、気密構造の洗浄室と該洗浄室に配管にて連
通した有機溶剤蒸気発生タンクと前記洗浄室内を排気す
る真空ポンプとで構成した洗浄装置において、前記洗浄
室内の上方に冷却媒体が流入する熱媒体供給部材を配設
するとともに、前記蒸気発生タンクを少なくとも２つ設
け、適宜前記蒸気発生タンクを切り換えるようにしたも
のである（請求項１）。さらに、前記熱媒体供給部材
に、冷却媒体と加熱媒体とを選択的に供給できるように
してもよい（請求項２）。
成するため、気密構造の洗浄室と該洗浄室に配管にて連
通した有機溶剤蒸気発生タンクと前記洗浄室内を排気す
る真空ポンプとで構成した洗浄装置において、前記洗浄
室内の上方に冷却媒体が流入する熱媒体供給部材を配設
するとともに、前記蒸気発生タンクを少なくとも２つ設
け、適宜前記蒸気発生タンクを切り換えるようにしたも
のである（請求項１）。さらに、前記熱媒体供給部材
に、冷却媒体と加熱媒体とを選択的に供給できるように
してもよい（請求項２）。
【０００５】
【作用】前記洗浄装置（請求項１）では、洗浄室にワー
クを装入して当該洗浄室を真空ポンプによって排気して
減圧した後、熱媒体供給部材に冷却媒体を流入していず
れか１つの蒸気発生タンクより有機溶剤蒸気を洗浄室に
導入すると、有機溶剤蒸気はワークの表面で結露して液
滴となる。一方、熱媒体供給部材に接触した蒸気は液化
してワーク上に滴下する。洗浄室下部に溜まった低温の
使用済洗浄液を蒸気発生タンクに戻した際に該タンク内
の有機溶剤温度が下がるので、他の蒸気発生タンクに切
り換えて前記同様に洗浄を行なう。所定の洗浄が完了す
ると、熱媒体供給部材への冷却媒体の供給を停止して、
蒸気によりワークを加熱し、乾燥させる。
クを装入して当該洗浄室を真空ポンプによって排気して
減圧した後、熱媒体供給部材に冷却媒体を流入していず
れか１つの蒸気発生タンクより有機溶剤蒸気を洗浄室に
導入すると、有機溶剤蒸気はワークの表面で結露して液
滴となる。一方、熱媒体供給部材に接触した蒸気は液化
してワーク上に滴下する。洗浄室下部に溜まった低温の
使用済洗浄液を蒸気発生タンクに戻した際に該タンク内
の有機溶剤温度が下がるので、他の蒸気発生タンクに切
り換えて前記同様に洗浄を行なう。所定の洗浄が完了す
ると、熱媒体供給部材への冷却媒体の供給を停止して、
蒸気によりワークを加熱し、乾燥させる。
【０００６】前記熱媒体供給部材に冷却媒体と加熱媒体
とを選択的に供給できるようにした洗浄装置（請求項
２）では、冷却媒体を供給した場合には、蒸気と液滴に
よる洗浄となり、加熱媒体を供給した場合には、蒸気の
みによる洗浄となる。
とを選択的に供給できるようにした洗浄装置（請求項
２）では、冷却媒体を供給した場合には、蒸気と液滴に
よる洗浄となり、加熱媒体を供給した場合には、蒸気の
みによる洗浄となる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の実施例を添付図面に従って説
明する。図１は、本発明にかかる洗浄装置の第１実施例
を示し、大略、洗浄室１と、熱媒体供給部材３と、第
１，第２蒸気発生タンク４ａ，４ｂと、真空ポンプ６と
からなる。前記洗浄室１は気密構造からなり、装入扉２
を有するとともに室内上方に熱媒体供給部材３を備えて
いる。
明する。図１は、本発明にかかる洗浄装置の第１実施例
を示し、大略、洗浄室１と、熱媒体供給部材３と、第
１，第２蒸気発生タンク４ａ，４ｂと、真空ポンプ６と
からなる。前記洗浄室１は気密構造からなり、装入扉２
を有するとともに室内上方に熱媒体供給部材３を備えて
いる。
【０００８】前記熱媒体供給部材３はフイン構造の管か
らなり、前記熱媒体供給部材３の入口側には開閉弁Ｖ1
を有する冷却媒体供給配管Ｐ1が、また出口側には流量
調整弁Ｖｃを有する配管Ｐ4が接続されて熱媒体供給部
材３内に冷却媒体を流入できるようになっている。
らなり、前記熱媒体供給部材３の入口側には開閉弁Ｖ1
を有する冷却媒体供給配管Ｐ1が、また出口側には流量
調整弁Ｖｃを有する配管Ｐ4が接続されて熱媒体供給部
材３内に冷却媒体を流入できるようになっている。
【０００９】前記第１，第２蒸気発生タンク４ａ，４ｂ
は、互いに独立した同一の形状，構造を有し、前記洗浄
室１の下方に配設されている。各蒸気発生タンク４ａ，
４ｂは、内部に有機溶剤Ｓを加熱するヒータ５を備え、
上部は洗浄室１の底部と蒸気蒸気導入弁Ｖ3ａ，Ｖ3ｂお
よび液戻弁Ｖ4ａ，Ｖ4ｂを介して連通している。
は、互いに独立した同一の形状，構造を有し、前記洗浄
室１の下方に配設されている。各蒸気発生タンク４ａ，
４ｂは、内部に有機溶剤Ｓを加熱するヒータ５を備え、
上部は洗浄室１の底部と蒸気蒸気導入弁Ｖ3ａ，Ｖ3ｂお
よび液戻弁Ｖ4ａ，Ｖ4ｂを介して連通している。
【００１０】前記真空ポンプ６は配管Ｐ3を介して洗浄
室１内を排気するもので、大気開放弁Ｖａ，主排気弁Ｖ
ｂ，コンデンサ７を介して洗浄室１内に連通している。
室１内を排気するもので、大気開放弁Ｖａ，主排気弁Ｖ
ｂ，コンデンサ７を介して洗浄室１内に連通している。
【００１１】次に、前記構成からなる洗浄装置の操業に
ついて説明する。この洗浄装置の操業は、図２に示すよ
うに、第１蒸気発生タンク４ａによる第１段階の蒸気洗
浄と、第２蒸気発生タンク４ｂによる第２段階の蒸気洗
浄が可能である。ワークＷが油付着量の少ない部品や比
較的単純な形状の部品である場合には、第１段階の蒸気
洗浄のみを行なう。しかし、油付着量が多い部品や、高
粘度の油が付着した部品、あるいは複雑な形状の部品等
の難洗浄部品である場合には、第１段階および第２段階
の洗浄を連続して行なう。以下、第１段階から第２段階
まで行なう場合について具体的に説明する。
ついて説明する。この洗浄装置の操業は、図２に示すよ
うに、第１蒸気発生タンク４ａによる第１段階の蒸気洗
浄と、第２蒸気発生タンク４ｂによる第２段階の蒸気洗
浄が可能である。ワークＷが油付着量の少ない部品や比
較的単純な形状の部品である場合には、第１段階の蒸気
洗浄のみを行なう。しかし、油付着量が多い部品や、高
粘度の油が付着した部品、あるいは複雑な形状の部品等
の難洗浄部品である場合には、第１段階および第２段階
の洗浄を連続して行なう。以下、第１段階から第２段階
まで行なう場合について具体的に説明する。
【００１２】まず、第１段階の蒸気洗浄では、装入扉２
を開き、載置台８上のワークＷを洗浄室１内に装入して
装入扉２を閉じる。ついで、真空ポンプ６を駆動すると
ともに主排気弁Ｖｂを開として、洗浄室１内を１０Ｔｏ
ｒｒ以下に排気したのち、主排気弁Ｖｂを閉じ、これと
同時に開閉弁Ｖ1および流量調整弁Ｖｃを開として熱媒
体供給部材３の内部に冷却媒体を流入する。そして、前
記蒸気導入弁Ｖ3ａおよび液戻弁Ｖ4ａを開くことで、第
１蒸気発生タンク４ａ内で発生している蒸気を蒸気導入
弁Ｖ3ａから洗浄室１内に圧力差を利用して導入する。
導入した蒸気はワークＷの表面温度が低いためワークＷ
の表面で結露し、この結露がワーク全表面で成長して滴
下することによりワークＷの蒸気洗浄を行なう。
を開き、載置台８上のワークＷを洗浄室１内に装入して
装入扉２を閉じる。ついで、真空ポンプ６を駆動すると
ともに主排気弁Ｖｂを開として、洗浄室１内を１０Ｔｏ
ｒｒ以下に排気したのち、主排気弁Ｖｂを閉じ、これと
同時に開閉弁Ｖ1および流量調整弁Ｖｃを開として熱媒
体供給部材３の内部に冷却媒体を流入する。そして、前
記蒸気導入弁Ｖ3ａおよび液戻弁Ｖ4ａを開くことで、第
１蒸気発生タンク４ａ内で発生している蒸気を蒸気導入
弁Ｖ3ａから洗浄室１内に圧力差を利用して導入する。
導入した蒸気はワークＷの表面温度が低いためワークＷ
の表面で結露し、この結露がワーク全表面で成長して滴
下することによりワークＷの蒸気洗浄を行なう。
【００１３】ところで、蒸気がワークＷの表面に付着す
ることによりワークＷの表面温度が徐々に上昇して蒸気
温度と等しくなり、かつ、飽和蒸気圧と洗浄室１内の圧
力とが等しくなれば、前記蒸気洗浄は不能となる（従来
技術）が、前記熱媒体供給部材３には冷却媒体が流入し
ており、熱媒体供給部材３の温度は常に蒸気温度より低
く保持されているため、前記洗浄室１に導入された蒸気
は熱媒体供給部材３に触れて液化し、この液滴はワーク
Ｗ上に滴下する。この液滴はワークＷの表面温度を蒸気
温度未満に冷却するため、前記蒸気洗浄は継続される。
また、ワークＷは前記熱媒体供給部材３からの液滴によ
りいわゆるシャワー洗浄が付加されるため、洗浄効果が
より一層向上する。なお、洗浄室１の底部に滴下し溜ま
った有機溶剤Ｓは液戻弁Ｖ4ａから蒸気発生タンク４ａ
内に戻される。
ることによりワークＷの表面温度が徐々に上昇して蒸気
温度と等しくなり、かつ、飽和蒸気圧と洗浄室１内の圧
力とが等しくなれば、前記蒸気洗浄は不能となる（従来
技術）が、前記熱媒体供給部材３には冷却媒体が流入し
ており、熱媒体供給部材３の温度は常に蒸気温度より低
く保持されているため、前記洗浄室１に導入された蒸気
は熱媒体供給部材３に触れて液化し、この液滴はワーク
Ｗ上に滴下する。この液滴はワークＷの表面温度を蒸気
温度未満に冷却するため、前記蒸気洗浄は継続される。
また、ワークＷは前記熱媒体供給部材３からの液滴によ
りいわゆるシャワー洗浄が付加されるため、洗浄効果が
より一層向上する。なお、洗浄室１の底部に滴下し溜ま
った有機溶剤Ｓは液戻弁Ｖ4ａから蒸気発生タンク４ａ
内に戻される。
【００１４】この洗浄に寄与して第１蒸気発生タンク４
ａに戻される有機溶剤Ｓは、温度が低下しているので当
該第１蒸気発生タンク４ａ内の有機溶剤Ｓの温度を低下
させる。この結果、前述の第１蒸気発生タンク４ａによ
る第１段階の蒸気洗浄を続行すると、安定した蒸気の供
給ができなくなる。また、第１蒸気発生タンク４ａの有
機溶剤Ｓの温度が所定の設定温度に回復するまで待機し
ていると、処理時間が長くなる。そこで、第１蒸気発生
タンク４ａ内の有機溶剤Ｓの温度が所定の設定温度以下
に低下した時点で、大気開放弁Ｖａを開し、洗浄室１内
を１００〜１５０Ｔｏｒｒに復圧し、洗浄室１内に溜ま
った洗浄液を第１蒸気発生タンク４ａに戻した後、蒸気
導入弁Ｖ3ａおよび液戻弁Ｖ4ａを閉じてから、直ちに次
の第２蒸気発生タンク４ｂによる第２段階の蒸気洗浄に
切り換える。
ａに戻される有機溶剤Ｓは、温度が低下しているので当
該第１蒸気発生タンク４ａ内の有機溶剤Ｓの温度を低下
させる。この結果、前述の第１蒸気発生タンク４ａによ
る第１段階の蒸気洗浄を続行すると、安定した蒸気の供
給ができなくなる。また、第１蒸気発生タンク４ａの有
機溶剤Ｓの温度が所定の設定温度に回復するまで待機し
ていると、処理時間が長くなる。そこで、第１蒸気発生
タンク４ａ内の有機溶剤Ｓの温度が所定の設定温度以下
に低下した時点で、大気開放弁Ｖａを開し、洗浄室１内
を１００〜１５０Ｔｏｒｒに復圧し、洗浄室１内に溜ま
った洗浄液を第１蒸気発生タンク４ａに戻した後、蒸気
導入弁Ｖ3ａおよび液戻弁Ｖ4ａを閉じてから、直ちに次
の第２蒸気発生タンク４ｂによる第２段階の蒸気洗浄に
切り換える。
【００１５】第２段階では、再度、真空ポンプ６を駆動
するとともに主排気弁Ｖｂを開として、洗浄室１内を１
０Ｔｏｒｒ以下に排気した後、熱媒体供給部材３に冷却
媒体を供給し、蒸気導入弁Ｖ3ｂおよび液戻弁Ｖ4ｂを開
いて第２蒸気発生タンク４ｂより洗浄室１内に有機溶剤
蒸気を導入する。以下、第１段階と同様にしてワークＷ
の蒸気洗浄を継続する。
するとともに主排気弁Ｖｂを開として、洗浄室１内を１
０Ｔｏｒｒ以下に排気した後、熱媒体供給部材３に冷却
媒体を供給し、蒸気導入弁Ｖ3ｂおよび液戻弁Ｖ4ｂを開
いて第２蒸気発生タンク４ｂより洗浄室１内に有機溶剤
蒸気を導入する。以下、第１段階と同様にしてワークＷ
の蒸気洗浄を継続する。
【００１６】前述のようにして、第１段階と第２段階で
ワークＷの表面が十分に洗浄されると、開閉弁Ｖ1を閉
として熱媒体供給部材３への冷却媒体の供給を停止する
一方、蒸気の洗浄室１内への供給は継続させてワークＷ
を蒸気加熱する。そして、所定時間、蒸気加熱を行なっ
た後、蒸気導入弁Ｖ3ｂおよび液戻弁Ｖ4ｂを各々閉とし
たのち、主排気弁Ｖｂを開き、真空ポンプ６を作動する
ことにより洗浄室１内を減圧し、ワークＷの乾燥工程を
行なう。この洗浄室１から吸引した蒸気はコンデンサ７
で液化され再生された後、再使用される。
ワークＷの表面が十分に洗浄されると、開閉弁Ｖ1を閉
として熱媒体供給部材３への冷却媒体の供給を停止する
一方、蒸気の洗浄室１内への供給は継続させてワークＷ
を蒸気加熱する。そして、所定時間、蒸気加熱を行なっ
た後、蒸気導入弁Ｖ3ｂおよび液戻弁Ｖ4ｂを各々閉とし
たのち、主排気弁Ｖｂを開き、真空ポンプ６を作動する
ことにより洗浄室１内を減圧し、ワークＷの乾燥工程を
行なう。この洗浄室１から吸引した蒸気はコンデンサ７
で液化され再生された後、再使用される。
【００１７】乾燥工程が終了すると、真空ポンプ６の運
転を停止し、主排気弁Ｖｂを閉、大気開放弁Ｖａを開と
して洗浄室１内を復圧し、装入扉２を開いてワークＷを
取り出し、ワークＷの洗浄を完了する。以下、前記同様
の工程にて次のワークＷを洗浄する。なお、前記全工程
において、洗浄室１はヒータ９にて保温されている。
転を停止し、主排気弁Ｖｂを閉、大気開放弁Ｖａを開と
して洗浄室１内を復圧し、装入扉２を開いてワークＷを
取り出し、ワークＷの洗浄を完了する。以下、前記同様
の工程にて次のワークＷを洗浄する。なお、前記全工程
において、洗浄室１はヒータ９にて保温されている。
【００１８】図３は、本発明にかかる洗浄装置の第２実
施例を示す。この装置は、開閉弁Ｖ2を有する加熱媒体
供給管Ｐ2を冷却媒体供給管Ｐ1から分岐して併設し、熱
媒体供給部材３に加熱媒体であるスチームまたは熱風を
供給するようにしたものである。そして、開閉弁Ｖ1又
はＶ2のいずれかを開くことにより、冷却媒体か加熱媒
体かを選択して熱媒体供給部材３に供給できるようにな
っている。この第２実施例の装置の他の構成について
は、前記第１実施例と同一であり、対応する部分につい
ては同一符号を付して説明を省略する。
施例を示す。この装置は、開閉弁Ｖ2を有する加熱媒体
供給管Ｐ2を冷却媒体供給管Ｐ1から分岐して併設し、熱
媒体供給部材３に加熱媒体であるスチームまたは熱風を
供給するようにしたものである。そして、開閉弁Ｖ1又
はＶ2のいずれかを開くことにより、冷却媒体か加熱媒
体かを選択して熱媒体供給部材３に供給できるようにな
っている。この第２実施例の装置の他の構成について
は、前記第１実施例と同一であり、対応する部分につい
ては同一符号を付して説明を省略する。
【００１９】この装置の操業においては、前記第１実施
例と同様に第１段階と第２段階によるワークＷの洗浄を
行なうことができるが、熱媒体供給部材３に供給する熱
媒体を洗浄開始時に選択したり洗浄中に切り換えたりす
ることにより、ワークの汚れ具合や洗浄状況に応じた効
果的な洗浄を行なうことができる。
例と同様に第１段階と第２段階によるワークＷの洗浄を
行なうことができるが、熱媒体供給部材３に供給する熱
媒体を洗浄開始時に選択したり洗浄中に切り換えたりす
ることにより、ワークの汚れ具合や洗浄状況に応じた効
果的な洗浄を行なうことができる。
【００２０】すなわち、第１蒸気発生タンク４ａによる
第１段階の洗浄として、図４中にＡ工程で示すものとＢ
工程で示すものとから選択できる。図４中Ａ工程で示す
ものは、洗浄室１内を減圧するとともに熱媒体供給部材
３に冷却媒体を流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸気を導入
するので、ワークＷ表面で蒸気が結露する蒸気洗浄と熱
媒体供給部材３で蒸気が液化してワークＷに滴下するシ
ャワー洗浄とを併用した洗浄が行なえる。また、図４中
Ｂ工程に示すものは、洗浄室１内を減圧するとともに熱
媒体供給部材３に加熱媒体を流入し、そこへ有機溶剤Ｓ
の蒸気を導入するので、熱媒体供給部材３で蒸気が液化
せず、蒸気洗浄のみが行なえる。
第１段階の洗浄として、図４中にＡ工程で示すものとＢ
工程で示すものとから選択できる。図４中Ａ工程で示す
ものは、洗浄室１内を減圧するとともに熱媒体供給部材
３に冷却媒体を流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸気を導入
するので、ワークＷ表面で蒸気が結露する蒸気洗浄と熱
媒体供給部材３で蒸気が液化してワークＷに滴下するシ
ャワー洗浄とを併用した洗浄が行なえる。また、図４中
Ｂ工程に示すものは、洗浄室１内を減圧するとともに熱
媒体供給部材３に加熱媒体を流入し、そこへ有機溶剤Ｓ
の蒸気を導入するので、熱媒体供給部材３で蒸気が液化
せず、蒸気洗浄のみが行なえる。
【００２１】一方、第２蒸気発生タンク４ｂによる第２
段階の洗浄として、図４中にＣ工程、Ｄ工程、Ｅ工程、
およびＦ工程で示すものから選択できる。図５中Ｃ工程
で示すものは、洗浄室１内を減圧するとともに、熱媒体
供給部材３に冷却媒体を流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸
気を導入するので、蒸気洗浄とシャワー洗浄とを併用し
た洗浄が行なえる。
段階の洗浄として、図４中にＣ工程、Ｄ工程、Ｅ工程、
およびＦ工程で示すものから選択できる。図５中Ｃ工程
で示すものは、洗浄室１内を減圧するとともに、熱媒体
供給部材３に冷却媒体を流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸
気を導入するので、蒸気洗浄とシャワー洗浄とを併用し
た洗浄が行なえる。
【００２２】また、図５中Ｄ工程で示すものは、洗浄室
１内を減圧するとともに熱媒体供給部材３に冷却媒体を
流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸気を導入するので、Ｃ工
程と同様に蒸気洗浄とシャワー洗浄とを併用した洗浄が
行なえる。この洗浄の後で開閉弁Ｖ1を閉，開閉弁Ｖ2を
開として熱媒体供給部材３への流入媒体を冷却媒体から
加熱媒体に切り換えると、蒸気によるワークＷの仕上洗
浄および加熱が行なえる。前記Ｃ工程では、蒸気とシャ
ワーの併用による洗浄が終了すると、冷却媒体の熱媒体
供給部材３への流入を停止するので、熱媒体供給部材３
が蒸気温度と同一温度になるまで溶剤蒸気の液化が継続
し、次の蒸気加熱工程への移行に時間が掛かり、それだ
け時間が無駄となる。しかし、このＤ工程では蒸気とシ
ャワーの併用による蒸気洗浄が終了すると直ちに加熱媒
体に切り換えるので、熱媒体供給部材３が蒸気温度以上
に急速に昇温して、蒸気の液化を停止することができ、
時間の無駄が省かれる。
１内を減圧するとともに熱媒体供給部材３に冷却媒体を
流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸気を導入するので、Ｃ工
程と同様に蒸気洗浄とシャワー洗浄とを併用した洗浄が
行なえる。この洗浄の後で開閉弁Ｖ1を閉，開閉弁Ｖ2を
開として熱媒体供給部材３への流入媒体を冷却媒体から
加熱媒体に切り換えると、蒸気によるワークＷの仕上洗
浄および加熱が行なえる。前記Ｃ工程では、蒸気とシャ
ワーの併用による洗浄が終了すると、冷却媒体の熱媒体
供給部材３への流入を停止するので、熱媒体供給部材３
が蒸気温度と同一温度になるまで溶剤蒸気の液化が継続
し、次の蒸気加熱工程への移行に時間が掛かり、それだ
け時間が無駄となる。しかし、このＤ工程では蒸気とシ
ャワーの併用による蒸気洗浄が終了すると直ちに加熱媒
体に切り換えるので、熱媒体供給部材３が蒸気温度以上
に急速に昇温して、蒸気の液化を停止することができ、
時間の無駄が省かれる。
【００２３】次に、図５中Ｅ工程で示すものは、洗浄室
１内を減圧するとともに熱媒体供給部材３に加熱媒体を
流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸気を導入するので、蒸気
洗浄のみを行なう。この洗浄の後で開閉弁Ｖ2を閉，開
閉弁Ｖ1を開として熱媒体供給部材３への流入媒体を加
熱媒体から冷却媒体に切り換えると、蒸気とシャワーに
よるワークＷの仕上げ洗浄が行なえる。
１内を減圧するとともに熱媒体供給部材３に加熱媒体を
流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸気を導入するので、蒸気
洗浄のみを行なう。この洗浄の後で開閉弁Ｖ2を閉，開
閉弁Ｖ1を開として熱媒体供給部材３への流入媒体を加
熱媒体から冷却媒体に切り換えると、蒸気とシャワーに
よるワークＷの仕上げ洗浄が行なえる。
【００２４】また、図５中Ｆ工程で示すものは、洗浄室
１内を減圧するとともに熱媒体供給部材３に加熱媒体を
流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸気を導入するので、蒸気
洗浄のみを行なう。以上の第１段階におけるＡ又はＢの
工程と第２段階におけるＣ〜Ｆの工程とは、ワークＷの
洗浄の難易によってオペレータが任意に選択することが
できる。
１内を減圧するとともに熱媒体供給部材３に加熱媒体を
流入し、そこへ有機溶剤Ｓの蒸気を導入するので、蒸気
洗浄のみを行なう。以上の第１段階におけるＡ又はＢの
工程と第２段階におけるＣ〜Ｆの工程とは、ワークＷの
洗浄の難易によってオペレータが任意に選択することが
できる。
【００２５】なお、図６に示すように、冷却媒体供給管
Ｐ1にヒータ等の加熱手段Ｈを付設し、この加熱手段Ｈ
により冷却媒体供給管Ｐ1を加熱すれば、前記第２実施
例のように加熱媒体供給管Ｐ2を設けなくても、同様な
工程を採ることができる。
Ｐ1にヒータ等の加熱手段Ｈを付設し、この加熱手段Ｈ
により冷却媒体供給管Ｐ1を加熱すれば、前記第２実施
例のように加熱媒体供給管Ｐ2を設けなくても、同様な
工程を採ることができる。
【００２６】また、図７に示すように、冷却媒体の供給
を停止する場合、流量調整弁Ｖｃの一次側に配管にて分
岐させた開閉弁Ｖ6を設け、開閉弁Ｖ1を閉じて冷却媒体
の供給を停止するとともに、開閉弁Ｖ6を開して熱媒体
供給部材３内の冷却媒体を排出し、熱媒体供給部材３の
昇温時間を短縮するようにしてもよい。
を停止する場合、流量調整弁Ｖｃの一次側に配管にて分
岐させた開閉弁Ｖ6を設け、開閉弁Ｖ1を閉じて冷却媒体
の供給を停止するとともに、開閉弁Ｖ6を開して熱媒体
供給部材３内の冷却媒体を排出し、熱媒体供給部材３の
昇温時間を短縮するようにしてもよい。
【００２７】さらに、図８に示すように、熱媒体供給部
材３の下方に金網等の多孔板１０を設置して、液滴がワ
ークＷに対して均一に滴下するようにしても良いし、ま
た、洗浄室１内を排気する開閉弁Ｖｄを有するバイパス
排気管Ｐ5を主排気弁Ｖｂの２次側に設けておき、蒸気
洗浄時および蒸気加熱時に前記開閉弁Ｖｄを開にして、
真空ポンプ６を駆動して洗浄室１内の蒸気が一定方向の
流れを形成するようにしても良い。
材３の下方に金網等の多孔板１０を設置して、液滴がワ
ークＷに対して均一に滴下するようにしても良いし、ま
た、洗浄室１内を排気する開閉弁Ｖｄを有するバイパス
排気管Ｐ5を主排気弁Ｖｂの２次側に設けておき、蒸気
洗浄時および蒸気加熱時に前記開閉弁Ｖｄを開にして、
真空ポンプ６を駆動して洗浄室１内の蒸気が一定方向の
流れを形成するようにしても良い。
【００２８】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明
（請求項１）によれば、蒸気洗浄工程において、洗浄室
内に配設した熱媒体供給部材に冷却媒体を供給するた
め、有機溶剤蒸気は熱媒体供給部材で液化してワークに
滴下し、蒸気によるワークの表面温度上昇を抑制するた
め、従来の洗浄装置に比べて洗浄時間を任意に調節で
き、どのようなワークでも十分に洗浄することができ
る。しかも、従来の蒸気洗浄に加えて、熱媒体供給部材
から滴下する液化溶剤で洗浄する、いわゆるシャワー洗
浄も行なうため、洗浄効果は従来のものに比べて著しく
向上する。
（請求項１）によれば、蒸気洗浄工程において、洗浄室
内に配設した熱媒体供給部材に冷却媒体を供給するた
め、有機溶剤蒸気は熱媒体供給部材で液化してワークに
滴下し、蒸気によるワークの表面温度上昇を抑制するた
め、従来の洗浄装置に比べて洗浄時間を任意に調節で
き、どのようなワークでも十分に洗浄することができ
る。しかも、従来の蒸気洗浄に加えて、熱媒体供給部材
から滴下する液化溶剤で洗浄する、いわゆるシャワー洗
浄も行なうため、洗浄効果は従来のものに比べて著しく
向上する。
【００２９】さらに、独立した２つ以上の蒸気発生タン
クを有するため、洗浄室で液化した低温の有機溶剤を蒸
気発生タンクに戻すことによってタンク内の溶剤温度が
低下しても、他の蒸気発生タンクに切り換えて蒸気洗浄
を継続することができる。このため、溶剤温度の低下の
影響を受けず、複数回にわたって連続し、かつ、安定し
た蒸気洗浄が行なえるとともに、洗浄サイクルを短縮で
きる。また、ワークが例えば複雑な形状を有する部品等
の難洗浄部品であっても、短サイクルで繰り返し洗浄す
ることができる。
クを有するため、洗浄室で液化した低温の有機溶剤を蒸
気発生タンクに戻すことによってタンク内の溶剤温度が
低下しても、他の蒸気発生タンクに切り換えて蒸気洗浄
を継続することができる。このため、溶剤温度の低下の
影響を受けず、複数回にわたって連続し、かつ、安定し
た蒸気洗浄が行なえるとともに、洗浄サイクルを短縮で
きる。また、ワークが例えば複雑な形状を有する部品等
の難洗浄部品であっても、短サイクルで繰り返し洗浄す
ることができる。
【００３０】熱媒体供給部材に冷却媒体と加熱媒体とを
選択的に供給できるようにした発明（請求項２）によれ
ば、冷却媒体と加熱媒体を適宜選択し、シャワーによる
洗浄と蒸気による洗浄を組み合わせることにより、ワー
クの汚れ具合に応じた効果的な洗浄を行なうことができ
る。また、洗浄後に熱媒体供給部材に加熱媒体を供給す
ることにより、熱媒体供給部材の温度が速やかに低温か
ら高温に切り換えられるため、蒸気洗浄から次工程であ
る蒸気加熱工程に短時間で移行でき、洗浄処理時間を短
縮することができる。
選択的に供給できるようにした発明（請求項２）によれ
ば、冷却媒体と加熱媒体を適宜選択し、シャワーによる
洗浄と蒸気による洗浄を組み合わせることにより、ワー
クの汚れ具合に応じた効果的な洗浄を行なうことができ
る。また、洗浄後に熱媒体供給部材に加熱媒体を供給す
ることにより、熱媒体供給部材の温度が速やかに低温か
ら高温に切り換えられるため、蒸気洗浄から次工程であ
る蒸気加熱工程に短時間で移行でき、洗浄処理時間を短
縮することができる。
【図１】 本発明にかかる洗浄装置の第１実施例の概略
断面図。
断面図。
【図２】 図１の装置による洗浄工程を示す工程図。
【図３】 本発明にかかる洗浄装置の第２実施例の概略
断面図。
断面図。
【図４】 図２の装置による洗浄工程のうち第１段階を
示す工程図。
示す工程図。
【図５】 図２の装置による洗浄工程のうち第２段階を
示す工程図。
示す工程図。
【図６】 図１の第１変形例を示す図。
【図７】 図１の第２変形例を示す図。
【図８】 図１の第３変形例を示す図。
１…洗浄室、２…装入扉、３…熱媒体供給部材、４ａ，
４ｂ…蒸気発生タンク、５…ヒータ、６…真空ポンプ、
Ｖｂ…主排気弁、Ｖ3ａ，Ｖ3ｂ…蒸気導入弁、Ｖ4ａ，
Ｖ4ｂ…液戻弁、Ｓ…有機溶剤、Ｗ…ワーク。
４ｂ…蒸気発生タンク、５…ヒータ、６…真空ポンプ、
Ｖｂ…主排気弁、Ｖ3ａ，Ｖ3ｂ…蒸気導入弁、Ｖ4ａ，
Ｖ4ｂ…液戻弁、Ｓ…有機溶剤、Ｗ…ワーク。
Claims (2)
- 【請求項１】 気密構造の洗浄室と該洗浄室に配管にて
連通した有機溶剤蒸気発生タンクと前記洗浄室内を排気
する真空ポンプとで構成した洗浄装置において、前記洗
浄室内の上方に冷却媒体が流入する熱媒体供給部材を配
設するとともに、前記蒸気発生タンクを少なくとも２つ
設け、適宜前記蒸気発生タンクを切り換えるようにした
ことを特徴とする有機溶剤を使用する洗浄装置。 - 【請求項２】 前記熱媒体供給部材に、冷却媒体と加熱
媒体とを選択的に供給できるようにしたことを特徴とす
る前記請求項１に記載の洗浄装置。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7057143A JP2742238B2 (ja) | 1995-03-16 | 1995-03-16 | 有機溶剤を使用する洗浄装置 |
| TW84103944A TW257697B (en) | 1993-10-28 | 1995-04-21 | Cleaning apparatus |
| US08/429,563 US5607514A (en) | 1995-03-16 | 1995-04-27 | Cleaning apparatus |
| DE19515566A DE19515566C2 (de) | 1995-03-16 | 1995-04-27 | Reinigungsgerät |
| GB9508755A GB2300199B (en) | 1995-03-16 | 1995-04-28 | Cleaning apparatus and method for cleaning a work |
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7057143A JP2742238B2 (ja) | 1995-03-16 | 1995-03-16 | 有機溶剤を使用する洗浄装置 |
| US08/429,563 US5607514A (en) | 1995-03-16 | 1995-04-27 | Cleaning apparatus |
| DE19515566A DE19515566C2 (de) | 1995-03-16 | 1995-04-27 | Reinigungsgerät |
| GB9508755A GB2300199B (en) | 1995-03-16 | 1995-04-28 | Cleaning apparatus and method for cleaning a work |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08252546A true JPH08252546A (ja) | 1996-10-01 |
| JP2742238B2 JP2742238B2 (ja) | 1998-04-22 |
Family
ID=27438113
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7057143A Expired - Lifetime JP2742238B2 (ja) | 1993-10-28 | 1995-03-16 | 有機溶剤を使用する洗浄装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5607514A (ja) |
| JP (1) | JP2742238B2 (ja) |
| DE (1) | DE19515566C2 (ja) |
| GB (1) | GB2300199B (ja) |
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- 1995-03-16 JP JP7057143A patent/JP2742238B2/ja not_active Expired - Lifetime
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