JPH0822963B2 - 湿気硬化性−液型ポリシロキサン組成物 - Google Patents
湿気硬化性−液型ポリシロキサン組成物Info
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- JPH0822963B2 JPH0822963B2 JP63267312A JP26731288A JPH0822963B2 JP H0822963 B2 JPH0822963 B2 JP H0822963B2 JP 63267312 A JP63267312 A JP 63267312A JP 26731288 A JP26731288 A JP 26731288A JP H0822963 B2 JPH0822963 B2 JP H0822963B2
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Description
【発明の詳細な説明】 本発明は湿気の影響下でアルコールを脱離することに
より硬化し、未硬化の状態では良好な貯蔵安定性を有
し、多数の基材に対し良好な接着性を示し、Ｎ−メチル
ベンズアミドの安定なシリル誘導体を使用して製造され
る、一液型シリコーン系［one−component silicone sy
stems］（以後１−Ｃ−RTV組成物と称する）に関する。
より硬化し、未硬化の状態では良好な貯蔵安定性を有
し、多数の基材に対し良好な接着性を示し、Ｎ−メチル
ベンズアミドの安定なシリル誘導体を使用して製造され
る、一液型シリコーン系［one−component silicone sy
stems］（以後１−Ｃ−RTV組成物と称する）に関する。
本発明の技術的背景 アルコールを脱離することにより硬化する１−Ｃ−RT
V系は既に幾つか知られている。米国特許第3,161,614号
は分子鎖のどちらかの末端に２又は３個のアルコキシ基
を含むポリジメチルシロキサンを基剤とした処方を記載
している。架橋用触媒としてジアリル錫ジカルボキシレ
ート及びアミンが挙げられている。米国特許第3,686,35
7号によれば、ジアリル錫ジカルボキシレートが或種の
アミノアルキルシラン誘導体と併用されている。更に、
OH基と反応できるシラン、いわゆるスカベンジャー（sc
avenger）は未硬化の製品に対し安定効果を有している
と述べられている。上記のアルコキシ−末端ポリシロキ
サンを含む製剤中におけるアミノアルキルシランと錫触
媒との組み合わせは、又日本国特許明細書第53 102956
号及びヨーロッパ特許明細書EP−PS第21,859号の一部で
もある。金属触媒、とりわけジアルキル錫（IV）誘導
体、アミン（いわゆる促進剤）及びOH−反応性シラン
（いわゆるスカベンジャー）は“本発明の構成要素”で
あると記載されている。特許明細書はスカベンジャーと
してＩ−Ｃ−RTV組成物の製造に既知なシラン誘導体の
大部分を列挙しており、アミドシランが好適であると記
載している。アミドシラン基及びアルコキシシラン基を
含む１−Ｃ−RTV組成物は更に又米国特許第3,364,160号
及び米国特許第4,434,283号の対象である。最終的に、
米国特許第4,458,055号においてアミドシランはアミノ
アルキルシラと自然に反応することが示されている。反
応生成物は１−Ｃ−RTV系における架橋結合剤であると
記載されている。引用した特許明細書に従って製造され
た配合物は欠点を有している。米国特許第3,161,614
号、米国特許第3,686,357号、日本国特許明細書第53 1
02,586号及び米国特許第4,748,166号による配合物は未
硬化状態における貯蔵安定性が比較的乏しいことが示さ
れている。特に高温における貯蔵後に、架橋結合性が比
較的迅速に失われる。米国特許第4,395,526号において
好適であるとして記載されているように、スカベンジャ
ーとしてアミドシランを添加して使用すれば、高い貯蔵
安定性を得ることができる。しかし引用された特許にお
いて述べられた所望の硬化を得るのに充分な量の脂肪族
カルボン酸のＮ−メチルカルボンアミドシランは、多く
の基材に対する接着性を失う結果を招く。終わりに、諸
性質の所望の組み合わせは米国特許第4,458,055号に従
って得ることができる。しかしこれはアミノアルキルシ
ランと共にシリル化アミノアルキルシラン又はアミドシ
ランが比較的高い比率であることを必要とする。これに
より硬化物の戻り（reversion）安定性に欠点が生じ
る。
V系は既に幾つか知られている。米国特許第3,161,614号
は分子鎖のどちらかの末端に２又は３個のアルコキシ基
を含むポリジメチルシロキサンを基剤とした処方を記載
している。架橋用触媒としてジアリル錫ジカルボキシレ
ート及びアミンが挙げられている。米国特許第3,686,35
7号によれば、ジアリル錫ジカルボキシレートが或種の
アミノアルキルシラン誘導体と併用されている。更に、
OH基と反応できるシラン、いわゆるスカベンジャー（sc
avenger）は未硬化の製品に対し安定効果を有している
と述べられている。上記のアルコキシ−末端ポリシロキ
サンを含む製剤中におけるアミノアルキルシランと錫触
媒との組み合わせは、又日本国特許明細書第53 102956
号及びヨーロッパ特許明細書EP−PS第21,859号の一部で
もある。金属触媒、とりわけジアルキル錫（IV）誘導
体、アミン（いわゆる促進剤）及びOH−反応性シラン
（いわゆるスカベンジャー）は“本発明の構成要素”で
あると記載されている。特許明細書はスカベンジャーと
してＩ−Ｃ−RTV組成物の製造に既知なシラン誘導体の
大部分を列挙しており、アミドシランが好適であると記
載している。アミドシラン基及びアルコキシシラン基を
含む１−Ｃ−RTV組成物は更に又米国特許第3,364,160号
及び米国特許第4,434,283号の対象である。最終的に、
米国特許第4,458,055号においてアミドシランはアミノ
アルキルシラと自然に反応することが示されている。反
応生成物は１−Ｃ−RTV系における架橋結合剤であると
記載されている。引用した特許明細書に従って製造され
た配合物は欠点を有している。米国特許第3,161,614
号、米国特許第3,686,357号、日本国特許明細書第53 1
02,586号及び米国特許第4,748,166号による配合物は未
硬化状態における貯蔵安定性が比較的乏しいことが示さ
れている。特に高温における貯蔵後に、架橋結合性が比
較的迅速に失われる。米国特許第4,395,526号において
好適であるとして記載されているように、スカベンジャ
ーとしてアミドシランを添加して使用すれば、高い貯蔵
安定性を得ることができる。しかし引用された特許にお
いて述べられた所望の硬化を得るのに充分な量の脂肪族
カルボン酸のＮ−メチルカルボンアミドシランは、多く
の基材に対する接着性を失う結果を招く。終わりに、諸
性質の所望の組み合わせは米国特許第4,458,055号に従
って得ることができる。しかしこれはアミノアルキルシ
ランと共にシリル化アミノアルキルシラン又はアミドシ
ランが比較的高い比率であることを必要とする。これに
より硬化物の戻り（reversion）安定性に欠点が生じ
る。
従って本発明の目的は良好な接着性及び高い貯蔵安定
性を呈するアルコキシ系を提供することである。
性を呈するアルコキシ系を提供することである。
本発明の総括的説明 本発明は、 （１）ジオルガニルオキシオルガノシリル又はトリオル
ガニルオキシシリル末端基を含み、0.1ないし1000Pasの
粘度を有するポリジメチルシロキサン100重量部、 （２）0.04ないし10Pasの粘度を有するα，ω−ビス−
（トリメチルシロキサン）−ポリジメチルシロキサン０
ないし100重量部、 （３）下記式 R1 aSi（OR2）4-a 但し、R1はC1−C6アルキル、C2−C6アルケニル又はC5−
C6アリールであり； R2はC1−C6アルキルであり、及びａは０又は１である、 を有するアルコキシシラン０ないし５重量部、 （４）少なくとも３個のＣ原子を通じてシリコン原子に
結合している一個又は多数個の窒素原子を含むアミノア
ルキルアルコキシシラン0.1ないし５重量部、 （５）補強用又は非補強用充填剤又は充填剤混合物５な
いし250重量部、 （６）有機金属触媒0.01ないし２重量部及び （７）アミドヂラン0.5ないし５重量部を混合すること
により得られ、アミドシラン（７）が下記式 但し R3は任意の他のR3と同一又は異なっており、C1−
C6アルキル、C2−C6アルケニル、C5−C6アリール、又は
分枝のない或いは随時分枝したC1−C6アルコキシであ
り、 ＸはC1−C4アルキルであり、及びｂは１又は２の値をと
ることができる、 を有することを特徴とする、湿気の無い状態で保存で
き、湿気の存在において硬化するポリシロキサン組成物
に関する。
ガニルオキシシリル末端基を含み、0.1ないし1000Pasの
粘度を有するポリジメチルシロキサン100重量部、 （２）0.04ないし10Pasの粘度を有するα，ω−ビス−
（トリメチルシロキサン）−ポリジメチルシロキサン０
ないし100重量部、 （３）下記式 R1 aSi（OR2）4-a 但し、R1はC1−C6アルキル、C2−C6アルケニル又はC5−
C6アリールであり； R2はC1−C6アルキルであり、及びａは０又は１である、 を有するアルコキシシラン０ないし５重量部、 （４）少なくとも３個のＣ原子を通じてシリコン原子に
結合している一個又は多数個の窒素原子を含むアミノア
ルキルアルコキシシラン0.1ないし５重量部、 （５）補強用又は非補強用充填剤又は充填剤混合物５な
いし250重量部、 （６）有機金属触媒0.01ないし２重量部及び （７）アミドヂラン0.5ないし５重量部を混合すること
により得られ、アミドシラン（７）が下記式 但し R3は任意の他のR3と同一又は異なっており、C1−
C6アルキル、C2−C6アルケニル、C5−C6アリール、又は
分枝のない或いは随時分枝したC1−C6アルコキシであ
り、 ＸはC1−C4アルキルであり、及びｂは１又は２の値をと
ることができる、 を有することを特徴とする、湿気の無い状態で保存で
き、湿気の存在において硬化するポリシロキサン組成物
に関する。
本発明の詳述 驚くべきことに、優れた貯蔵安定性を有する生成物が
上記のアミドシランを用いることにより、接着性に関し
て何等不都合を生じることなく得られることが見出ださ
れた。このようにして得られた１−Ｃ−RTV系は迅速な
硬化、最少限の表面粘着性及び硬化物の高い戻り安定性
の点で際立っている。
上記のアミドシランを用いることにより、接着性に関し
て何等不都合を生じることなく得られることが見出ださ
れた。このようにして得られた１−Ｃ−RTV系は迅速な
硬化、最少限の表面粘着性及び硬化物の高い戻り安定性
の点で際立っている。
成分（１）として挙げたジオルガニルオキシオルガノ
シリル−又はトリオルガニルオキシシリル−末端ポリジ
メチルシロキサンは、アミン又はヒドロキシラミン誘導
体のような適当な触媒を用いて、成分（３）として定義
された種類のα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキ
サン及びアルコキシシランから製造することができる。
ドイツ国特許明細書第3,523,206号に記載されたよう
に、特に適当な触媒は低沸点アミンのカルバメート誘導
体である。好適なオルガニルオキシ基はメトキシ基であ
る。特に好適な具体化においては、α，ω−ジヒドロキ
シポリジメチルシロキサン及びメチルトリメトキシシラ
ンから得られるジメトキシメチルシリル基が末端基にあ
る。従って本発明はメチル基以外に他の置換基、例えば
フェニル基を含むポリシロキサンにも適用可能である。
シリル−又はトリオルガニルオキシシリル−末端ポリジ
メチルシロキサンは、アミン又はヒドロキシラミン誘導
体のような適当な触媒を用いて、成分（３）として定義
された種類のα，ω−ジヒドロキシポリジメチルシロキ
サン及びアルコキシシランから製造することができる。
ドイツ国特許明細書第3,523,206号に記載されたよう
に、特に適当な触媒は低沸点アミンのカルバメート誘導
体である。好適なオルガニルオキシ基はメトキシ基であ
る。特に好適な具体化においては、α，ω−ジヒドロキ
シポリジメチルシロキサン及びメチルトリメトキシシラ
ンから得られるジメトキシメチルシリル基が末端基にあ
る。従って本発明はメチル基以外に他の置換基、例えば
フェニル基を含むポリシロキサンにも適用可能である。
成分（２）として挙げたα，ω−ビス−（トリメチル
シロキシ）−ポリジメチルシロキサンは既知であり、市
販品を入手し得る。これらの可塑剤的ポリシロキサンは
完全に又は部分的に他のポリシロキサン又は非シリコー
ン材料で置き換えることができる。他の既知のシリコー
ン可塑剤の例として、CH3SiO1.5、（CH3）2SiO及び（CH
3）3SiO0.5単位から成る重合体を挙げることができる。
シロキシ）−ポリジメチルシロキサンは既知であり、市
販品を入手し得る。これらの可塑剤的ポリシロキサンは
完全に又は部分的に他のポリシロキサン又は非シリコー
ン材料で置き換えることができる。他の既知のシリコー
ン可塑剤の例として、CH3SiO1.5、（CH3）2SiO及び（CH
3）3SiO0.5単位から成る重合体を挙げることができる。
アルコキシシラン（３）はポリシロキサン（１）の製
造に使用されるものと同一又は異なっていてもよい。CH
3Si（OCH3）３、Si（OC2H5）４、CH2＝CH−Si（OC2H5）
３、C6H5Si［OCH（CH3）C2H5］３、CH3Si（On−C3H7）
３が例として挙げられる。
造に使用されるものと同一又は異なっていてもよい。CH
3Si（OCH3）３、Si（OC2H5）４、CH2＝CH−Si（OC2H5）
３、C6H5Si［OCH（CH3）C2H5］３、CH3Si（On−C3H7）
３が例として挙げられる。
適当なアミノアルキルアルコキシシラン（４）はH2NC
H2CH2CH2Si（OC2H5）３、H2NCH2CH2NHCH2CH2CH2Si（OCH
3）３、H2NCH2CH2CH2SiCH3（OC2H5）２及びHN［CH2CH2C
H2Si（OC2H5）３］２のような化合物である。更にこの
種の化合物は接着促進剤又はシリコーン系の架橋剤とし
て記載されている（例えば米国特許第3,888,815号参
照）。
H2CH2CH2Si（OC2H5）３、H2NCH2CH2NHCH2CH2CH2Si（OCH
3）３、H2NCH2CH2CH2SiCH3（OC2H5）２及びHN［CH2CH2C
H2Si（OC2H5）３］２のような化合物である。更にこの
種の化合物は接着促進剤又はシリコーン系の架橋剤とし
て記載されている（例えば米国特許第3,888,815号参
照）。
適当な充填剤（５）は熱分解法シリカ又は沈降シリカ
及び沈降白亜のような補強用充填剤、及び炭酸塩（チョ
ーク、ドロマイト）、シリケート（クレー、スレート粉
末、雲母、タルク、珪灰石）、SiO2（石英、珪藻土）及
びカーボン・ブラックのような非補強剤鉱物質材料であ
る。充填剤の表面は長鎖カルボン酸及び反応性シランの
ような既知の疎水性化剤により改質することができる。
及び沈降白亜のような補強用充填剤、及び炭酸塩（チョ
ーク、ドロマイト）、シリケート（クレー、スレート粉
末、雲母、タルク、珪灰石）、SiO2（石英、珪藻土）及
びカーボン・ブラックのような非補強剤鉱物質材料であ
る。充填剤の表面は長鎖カルボン酸及び反応性シランの
ような既知の疎水性化剤により改質することができる。
特に適当な金属触媒（６）はチタン、アルミニウム及
び鉄の誘導体である。好適な金属触媒は錫触媒、特にジ
アルキル錫ジカルボキシレート、例えば（C4H9）2Sn（O
COCH3）２、（C8H17）2Sn（OCOC11H23）２及び（C4H9）
2Sn［OCOCH（C2H5）C4H9］２である。
び鉄の誘導体である。好適な金属触媒は錫触媒、特にジ
アルキル錫ジカルボキシレート、例えば（C4H9）2Sn（O
COCH3）２、（C8H17）2Sn（OCOC11H23）２及び（C4H9）
2Sn［OCOCH（C2H5）C4H9］２である。
アミドシラン（７）の例として下記の化合物が挙げら
れる： （CH3）3SiN（CH3）COC6H5、 （CH3）2Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（CH2＝CH）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（C6H5）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（C2H5O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（C2H5O）2SiN（CH3）COC6H5、 CH3（CH3O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、及び CH3［C2H5（CH3）CHO］2SiN（CH3）COC6H5。
れる： （CH3）3SiN（CH3）COC6H5、 （CH3）2Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（CH2＝CH）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（C6H5）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（C2H5O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（C2H5O）2SiN（CH3）COC6H5、 CH3（CH3O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、及び CH3［C2H5（CH3）CHO］2SiN（CH3）COC6H5。
Ｎ−メチルベンズアミド基は芳香族成分を置換された
Ｎ−メチルカルボンアミド基で置き換えることが可能で
あるが、これにより何等益するところはない。同様なこ
とはＮ−メチル基をＮ−エチル基又はＮ−プロピル基に
より置き換えることにも言える。（CH3）3SiN（CH3）CO
C6H5又はCH3（C2H5O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２のよう
な室温で液状であるシランが好適である。Ｎ−メチルベ
ンズアミドシランの製法は既知である。その製造の際は
対応するクロロシランから出発し、酸結合剤の存在下で
Ｎ−メチルベンズアミドと反応させる。適当な酸結合剤
は、例えばトリエチルアミンのようなアミンである。
Ｎ−メチルカルボンアミド基で置き換えることが可能で
あるが、これにより何等益するところはない。同様なこ
とはＮ−メチル基をＮ−エチル基又はＮ−プロピル基に
より置き換えることにも言える。（CH3）3SiN（CH3）CO
C6H5又はCH3（C2H5O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２のよう
な室温で液状であるシランが好適である。Ｎ−メチルベ
ンズアミドシランの製法は既知である。その製造の際は
対応するクロロシランから出発し、酸結合剤の存在下で
Ｎ−メチルベンズアミドと反応させる。適当な酸結合剤
は、例えばトリエチルアミンのようなアミンである。
ドイツ国特許明細書第3,114,773号から、アミノアル
キルシラン（４）はアミドシラン（７）と混合すると反
応して、例えば下記式に従い （CH3）3SiN（CH3）COC6H5＋ H2NCH2CH2CH2Si（OC2H5）３→ （CH3）3SiNHCH2CH2CH2Si（OC2H5）３ ＋C6H5CONHCH3 又は CH3（C2H5O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２＋ 2H2NCH2CH2CH2SiCH3（OCH3）２→ CH3（C2H5O）Si［NHCH2CH2CH2− SiCH3（OCH3）２］２＋2C6H5CONHCH3 遊離のアミドを脱離して対応するシリル化アミノアルキ
ルシランを形成することが周知である。
キルシラン（４）はアミドシラン（７）と混合すると反
応して、例えば下記式に従い （CH3）3SiN（CH3）COC6H5＋ H2NCH2CH2CH2Si（OC2H5）３→ （CH3）3SiNHCH2CH2CH2Si（OC2H5）３ ＋C6H5CONHCH3 又は CH3（C2H5O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２＋ 2H2NCH2CH2CH2SiCH3（OCH3）２→ CH3（C2H5O）Si［NHCH2CH2CH2− SiCH3（OCH3）２］２＋2C6H5CONHCH3 遊離のアミドを脱離して対応するシリル化アミノアルキ
ルシランを形成することが周知である。
従ってこれらの反応中に形成される種類のシリル化ア
ミノアルキルシランを直接使用することもできる。しか
し、所望の安定化効果は充分な数の未反応のアミドシリ
ル基が最終生成物になおも存在している場合、アミドシ
ラン（７）のみによって得られることが見出だされてい
るので、上記の直接使用には何の利点もない。従ってア
ミドシリル基はアミノアルキルシラン（４）及び他のア
ミドシリル基を消費する成分に対し過剰に使用されなけ
ればならない。
ミノアルキルシランを直接使用することもできる。しか
し、所望の安定化効果は充分な数の未反応のアミドシリ
ル基が最終生成物になおも存在している場合、アミドシ
ラン（７）のみによって得られることが見出だされてい
るので、上記の直接使用には何の利点もない。従ってア
ミドシリル基はアミノアルキルシラン（４）及び他のア
ミドシリル基を消費する成分に対し過剰に使用されなけ
ればならない。
普通の湿気−硬化型シリコーン・ペーストと同様に、
本発明による組成物は遊星形ミキサー、バタフライ（bu
tterfly）・ミキサー、ディソルバー、連続混合スクリ
ュー装置又はペーストの製造に適当した他の機械中で製
造される。生成物は気密封止式容器、例えばカートリッ
ジ中に包装される。製造工程の際、大気中の湿気と接触
することはできるだけ避けなければならない。
本発明による組成物は遊星形ミキサー、バタフライ（bu
tterfly）・ミキサー、ディソルバー、連続混合スクリ
ュー装置又はペーストの製造に適当した他の機械中で製
造される。生成物は気密封止式容器、例えばカートリッ
ジ中に包装される。製造工程の際、大気中の湿気と接触
することはできるだけ避けなければならない。
本発明を下記の実施例について更に説明する。
実施例 １ 遊星形ミキサー中で、50Pasの粘度を有する−OSi（OC
H3）2CH3−末端基を有するポリジメチルシロキサン46重
量部を−OSi（CH3）３−末端ポリジメチルシロキサン
（粘度0.1Pas）19重量部及びステアリン酸で処理さえた
白亜充填剤26重量部と混合した。次いで式CH3Si［Ｎ（C
H3）COC6H5］2OC2H5に相当するシラン２重量部を混合さ
せた。疎水性熱分解法シリカ５重量部、式H2NCH2CH2CH2
Si（OC2H5）３に相当するシラン0.8重量部及び65％の
（C4H9）2Sn［OCOCH（C2H5）C4H9］２及び35％のトルエ
ンから成る触媒溶液0.1重量部を添加することにより混
合を完了した。
H3）2CH3−末端基を有するポリジメチルシロキサン46重
量部を−OSi（CH3）３−末端ポリジメチルシロキサン
（粘度0.1Pas）19重量部及びステアリン酸で処理さえた
白亜充填剤26重量部と混合した。次いで式CH3Si［Ｎ（C
H3）COC6H5］2OC2H5に相当するシラン２重量部を混合さ
せた。疎水性熱分解法シリカ５重量部、式H2NCH2CH2CH2
Si（OC2H5）３に相当するシラン0.8重量部及び65％の
（C4H9）2Sn［OCOCH（C2H5）C4H9］２及び35％のトルエ
ンから成る触媒溶液0.1重量部を添加することにより混
合を完了した。
機械的性質を評価するために、ペーストを抜き取って
厚さ2mmの試験用シートを形成させ、23℃で相対湿度50
％において14日間保存し、次いでDIN（ドイツ工業品標
準規格）53504に従って試験した結果： 引張り強度 1.1MPa 100％伸びモジュラス 0.57MPa 破断点伸び 320％ であった。
厚さ2mmの試験用シートを形成させ、23℃で相対湿度50
％において14日間保存し、次いでDIN（ドイツ工業品標
準規格）53504に従って試験した結果： 引張り強度 1.1MPa 100％伸びモジュラス 0.57MPa 破断点伸び 320％ であった。
架橋的挙動及び接着性を評価するために、厚さ4mmの
試験シートをガラス板上に40×60mmの面積にわたって塗
布した。24時間後、試料はガラス表面上で完全に硬化
し、凝集破壊することなく基材から取り去ることはでき
なかった。
試験シートをガラス板上に40×60mmの面積にわたって塗
布した。24時間後、試料はガラス表面上で完全に硬化
し、凝集破壊することなく基材から取り去ることはでき
なかった。
貯蔵中における未硬化のペーストの安定性を促進試験
法によって評価した。このため封止材を管中に充填し、
100℃で貯蔵した。４日間貯蔵した後でも、封止材はな
おも架橋し、有用なエラストマーを形成した。
法によって評価した。このため封止材を管中に充填し、
100℃で貯蔵した。４日間貯蔵した後でも、封止材はな
おも架橋し、有用なエラストマーを形成した。
実施例 ２（比較例） アミドシランの代わりに式CH3Si［Ｎ（CH3）COC2H5］
2OC2H5に相当するシラン２重量部を使用した以外は、実
施例１と同様な手順で行った。
2OC2H5に相当するシラン２重量部を使用した以外は、実
施例１と同様な手順で行った。
機械的性質（DIN 53504）： 引張り強度 1.1MPa 100％伸びモジュラス 0.45MPa 破断点伸び 380％ 実施例１のように、4mmの厚さの試験シートは24時間
でガラス表面上で完全に硬化したが、基材への接着は示
さなかった。塗布後48時間経過しても、封止材料はなお
ガラス表面から容易に剥がすことができた。
でガラス表面上で完全に硬化したが、基材への接着は示
さなかった。塗布後48時間経過しても、封止材料はなお
ガラス表面から容易に剥がすことができた。
実施例 ３（比較例） アミドシランを省いた以外、手順は実施例１のようで
あった。100℃で４日間貯蔵後、未硬化のペーストは大
気中の湿気の存在において架橋しなかった。
あった。100℃で４日間貯蔵後、未硬化のペーストは大
気中の湿気の存在において架橋しなかった。
実施例 ４ アミドシランの代わりに式（CH3）SiN（CH3）COC6H5
に相当するシランを２重量部使用した以外は、手順は実
施例１のようであった。
に相当するシランを２重量部使用した以外は、手順は実
施例１のようであった。
機械的性質（DIN 53504）： 引張り強度 0.9MPa 100％伸びモジュラス 0.33MPa 破断点伸び 480％ 厚さ4mmの層の形状において、材料は24時間以内に硬
化し、ガラス表面に良好な接着を呈した。促進貯蔵試験
において、ペーストは100℃で４日後もなお湿気の存在
において問題なく架橋することができた。
化し、ガラス表面に良好な接着を呈した。促進貯蔵試験
において、ペーストは100℃で４日後もなお湿気の存在
において問題なく架橋することができた。
本発明の主なる特徴及び態様は以下の通りである。
1.（Ａ）ジオルガニルオキシ−オルガノシリル又はトリ
オルガニルオキシシリル末端基を含み、0.1ないし100Pa
sの粘度を有するポリジメチルシロキサン100重量部、 （Ｂ）0.04ないし10Pasの粘度を有するα，ω−ビス−
（トリメチルシロキシ）−ポリジメチルシロキサン０な
いし100重量部、 （Ｃ）下記式 R1 aSi（OR2）4-a 但し R1はC1−C6アルキル、C2−C6アルケニル又はC5−
C6アリールであり； R2はC1−C6アルキルであり、及びａは０又は１である、 を有するアルコキシシラン０ないし５重量部、 （Ｄ）少なくとも３個の炭素原子を通じてシリコン原子
に結合している−個又は多数個の塩基性窒素原子を含む
アミノアルキルアルコキシシラン 0.1ないし５重量部、 （Ｅ）補強用又は非補強用充填剤又は充填剤混合物５な
いし250重量部、 （Ｆ）有機金属触媒0.01ないし２重量部及び （Ｇ）下記式 但し R3は任意の他のR3と同一又は異なっており、C1−
C6アルキル、C2−C6アルケニル、C5−C6アリール、又は
分枝のない或いは随時分枝したC1−C6アルコキシであ
り、 ＸはC1−C4アルキルであり、及びｂは１又は２である、 のアミドシラン0.5ないし５重量部 から成ることを特徴とする、湿気の無い状態で保存で
き、湿気の存在において硬化するポリシロキサン組成
物。
オルガニルオキシシリル末端基を含み、0.1ないし100Pa
sの粘度を有するポリジメチルシロキサン100重量部、 （Ｂ）0.04ないし10Pasの粘度を有するα，ω−ビス−
（トリメチルシロキシ）−ポリジメチルシロキサン０な
いし100重量部、 （Ｃ）下記式 R1 aSi（OR2）4-a 但し R1はC1−C6アルキル、C2−C6アルケニル又はC5−
C6アリールであり； R2はC1−C6アルキルであり、及びａは０又は１である、 を有するアルコキシシラン０ないし５重量部、 （Ｄ）少なくとも３個の炭素原子を通じてシリコン原子
に結合している−個又は多数個の塩基性窒素原子を含む
アミノアルキルアルコキシシラン 0.1ないし５重量部、 （Ｅ）補強用又は非補強用充填剤又は充填剤混合物５な
いし250重量部、 （Ｆ）有機金属触媒0.01ないし２重量部及び （Ｇ）下記式 但し R3は任意の他のR3と同一又は異なっており、C1−
C6アルキル、C2−C6アルケニル、C5−C6アリール、又は
分枝のない或いは随時分枝したC1−C6アルコキシであ
り、 ＸはC1−C4アルキルであり、及びｂは１又は２である、 のアミドシラン0.5ないし５重量部 から成ることを特徴とする、湿気の無い状態で保存で
き、湿気の存在において硬化するポリシロキサン組成
物。
2.成分（Ａ）が末端ジメトキシオルガノシリル又はトリ
メトキシオルガノシリル基を含むポリジメチルシロキサ
ンである上記１に記載のポリシロキサン組成物。
メトキシオルガノシリル基を含むポリジメチルシロキサ
ンである上記１に記載のポリシロキサン組成物。
3.成分（Ａ）が末端ジフェノキシオルガノシリル又はト
リフェノキシオルガノシリル基を含むポリジメチルシロ
キサンである上記１に記載のポリシロキサン組成物。
リフェノキシオルガノシリル基を含むポリジメチルシロ
キサンである上記１に記載のポリシロキサン組成物。
4.成分（Ｃ）がCH3Si（OCH3）３、 Si（OC2H5）４、CH2＝CH−Si（OC2H5）３、 C6H5Si［OCH（CH3）C2H5］３又はCH3Si（On−C3H7）３
である上記１に記載のポリシロキサン組成物。
である上記１に記載のポリシロキサン組成物。
5.成分（Ｄ）がH2NCH2CH2CH2Si（OC2H5）３、H2NCH2CH2
NHCH2CH2CH2Si（OCH3）３、H2NCH2CH2CH2SiCH3（OC
2H5）２又はHN［CH2CH2CH2Si（OC2H5）３］２である上
記１に記載のポリシロキサン組成物。
NHCH2CH2CH2Si（OCH3）３、H2NCH2CH2CH2SiCH3（OC
2H5）２又はHN［CH2CH2CH2Si（OC2H5）３］２である上
記１に記載のポリシロキサン組成物。
6.成分（Ｅ）が熱分解法シリカ、沈降シリカ又は沈降白
亜から成る補強用充填剤である上記１に記載のポリシロ
キサン組成物。
亜から成る補強用充填剤である上記１に記載のポリシロ
キサン組成物。
7.成分（Ｅ）がチョーク、ドロマイト、クレー、スレー
ト粉末、雲母、タルク、珪灰石、石英、珪藻土マカーボ
ン・ブラックから成る非補強用充填剤である上記１に記
載のポリシロキサン組成物。
ト粉末、雲母、タルク、珪灰石、石英、珪藻土マカーボ
ン・ブラックから成る非補強用充填剤である上記１に記
載のポリシロキサン組成物。
8.成分（Ｆ）がチタン、アルミニウム又は錫を含む有機
金属触媒である上記１に記載のポリシロキサン組成物。
金属触媒である上記１に記載のポリシロキサン組成物。
9.成分（Ｆ）がジアルキル錫ジカルボキシレートである
上記１に記載のポリシロキサン組成物。
上記１に記載のポリシロキサン組成物。
10.ジアルキル錫ジカルボキシレートが（C4H9）2Sn（OC
OCH3）２、 （C8H17）2Sn（OCOC11H23）２又は （C4H9）2Sn［OCOCH（C2H5）C4H9］２である上記９に記
載のポリロキサン組成物。
OCH3）２、 （C8H17）2Sn（OCOC11H23）２又は （C4H9）2Sn［OCOCH（C2H5）C4H9］２である上記９に記
載のポリロキサン組成物。
11.成分（Ｇ）が （CH3）3SiN（CH3）COC6H5、 （CH3）2Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（CH2＝CH）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（CH6H5）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（C2H5O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 CH3（C2H5O）2SiN（CH3）COC6H5、 CH3（CH3O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２、 又はCH3［C2H5（CH3）CHO］2SiN（CH3）COC6H5である上
記１に記載のポリシロキサン組成物。
記１に記載のポリシロキサン組成物。
12.成分（Ｇ）が （CH3）3SiN（CH3）COC6H5又は CH3（C2H5O）Si［Ｎ（CH3）COC6H5］２である上記１に
記載のポリシロキサン組成物。
記載のポリシロキサン組成物。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス・ザトレツカー ドイツ連邦共和国デー5074オーデンター ル‐グレーブツシユ・アウフデムハイトヘ ン ９ (72)発明者 カルル−ハインツ・ゾツケル ドイツ連邦共和国デー5090レーフエルクー ゼン１・エリーゼシユトラーセ 13 (72)発明者 ビルヘルム・ベーバー ドイツ連邦共和国デー5000ケルン80・リブ ニカーシユトラーセ 12 (56)参考文献 特開 昭59−142250（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】（Ａ）ジオルガニルオキシ−オルガノシリ
ル又はトリオルガニルオキシシリル末端基を含み、0.1
ないし100Pasの粘度を有するポリジメチルシロキサン10
0重量部、 （Ｂ）0.04ないし10Pasの粘度を有するα，ω−ビス−
（トリメチルシロキシ）−ポリジメチルシロキサン０な
いし100重量部、 （Ｃ）下記式 R1 aSi（OR2）4-a 但し、R1はC1−C6アルキル、C2−C6アルケニル又はC5−
C6アリールであり； R2はC1−C6アルキルであり、及びａは０又は１である、 を有するアルコキシシラン０ないし５重量部、 （Ｄ）少なくとも３個の炭素原子を通じてシリコン原子
に結合している一個又は多数個の塩基性窒素原子を含む
アミノアルキルアルコキシシラン0.1ないし５重量部、 （Ｅ）補強用又は非補強用充填剤又は充填剤混合物５な
いし250重量部、 （Ｆ）有機金属触媒0.01ないし２重量部及び （Ｇ）下記式 但し R3は任意の他のR3と同一又は異なっており、C1−
C6アルキル、C2−C6アルケニル、C5−C6アリール、又は
分枝のない或いは随時分枝したC1−C6アルコキシであ
り、 ＸはC1−C4アルキルであり、及び ｂは１又は２である、 のアミドシラン0.5ないし５重量部 から成ることを特徴とする、湿気の無い状態で保存で
き、湿気の存在において硬化するポリシロキサン組成
物。
Applications Claiming Priority (2)
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|---|---|---|---|
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| DE19873736993 DE3736993A1 (de) | 1987-10-31 | 1987-10-31 | Feuchtigkeitshaertende einkomponenten-polysiloxanmassen |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01152157A JPH01152157A (ja) | 1989-06-14 |
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Family
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|---|---|---|---|
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Country Status (6)
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|---|---|
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| EP (1) | EP0317765B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0822963B2 (ja) |
| AT (1) | ATE92515T1 (ja) |
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| US4978706A (en) * | 1989-08-28 | 1990-12-18 | Dow Corning Corporation | Silicone sealants |
| DE4210349A1 (de) * | 1992-03-30 | 1993-10-07 | Nuenchritz Chemie Gmbh | Verfahren zur Herstellung eines bei Raumtemperatur durch Kondensationsreaktionen vernetzenden Silikonkautschukes |
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| MX2018008028A (es) | 2016-01-27 | 2018-08-23 | Momentive Performance Mat Inc | Composicion de revestimiento de silicon resistente a la recoleccion de suciedad. |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| DE3323912A1 (de) * | 1983-07-02 | 1985-01-10 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Einkomponentige siliconpasten |
| US4489191A (en) * | 1983-08-31 | 1984-12-18 | General Electric Company | Silane scavengers for hydroxy radicals containing silicon-hydrogen bonds |
| US4555420A (en) * | 1984-07-05 | 1985-11-26 | General Electric Company | Curable silicone compositions and processes |
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1987
- 1987-10-31 DE DE19873736993 patent/DE3736993A1/de not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-10-19 US US07/259,785 patent/US4870130A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-20 DE DE8888117459T patent/DE3882921D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-20 AT AT88117459T patent/ATE92515T1/de not_active IP Right Cessation
- 1988-10-20 ES ES88117459T patent/ES2058208T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-20 EP EP88117459A patent/EP0317765B1/de not_active Expired - Lifetime
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