JPH08227515A - 面内記録用磁気記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
面内記録用磁気記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH08227515A JPH08227515A JP7031987A JP3198795A JPH08227515A JP H08227515 A JPH08227515 A JP H08227515A JP 7031987 A JP7031987 A JP 7031987A JP 3198795 A JP3198795 A JP 3198795A JP H08227515 A JPH08227515 A JP H08227515A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】セラミックス等の非磁性基板を用いた面内記録
用磁気記録媒体の高密度記録、かつ、低ノイズ化を図る
こと。 【構成】非磁性ガラス基板１１上に、Ｃｒ等の非磁性下
地膜１２を介して、コバルトを主たる構成元素とする磁
気記録膜１３を、さらに非磁性被覆膜１４を設けた面内
記録用磁気記録媒体であって、磁気記録膜のＸ線回折に
より測定されるコバルトの結晶配向面の内、（０００
２）面の回折強度を、他の面の回折強度の総和の１．５
倍以上、８倍以下とすること。
用磁気記録媒体の高密度記録、かつ、低ノイズ化を図る
こと。 【構成】非磁性ガラス基板１１上に、Ｃｒ等の非磁性下
地膜１２を介して、コバルトを主たる構成元素とする磁
気記録膜１３を、さらに非磁性被覆膜１４を設けた面内
記録用磁気記録媒体であって、磁気記録膜のＸ線回折に
より測定されるコバルトの結晶配向面の内、（０００
２）面の回折強度を、他の面の回折強度の総和の１．５
倍以上、８倍以下とすること。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録装置用の磁気
ディスク等の面内記録用磁気記録媒体及びその製造方法
に関する。
ディスク等の面内記録用磁気記録媒体及びその製造方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、高記録密度用、低ノイズの磁気記
録媒体として、特開昭５９−８８８０６号公報に記載さ
れているように、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＴａ等の
磁気記録膜を使用したものや、特開平１−２３７９２５
号公報に記載されているように、ＣｏＮｉＣｒＴａの磁
気記録膜を使用したものが知られている。また、１９８
９年１１月に発行された日本応用磁気学会学術講演概要
集（１３ページ）に示されているように、基板にバイア
スを印加することにより、高い保磁力を得て高記録密
度、低ノイズを実現しようとしたものも知られている。
さらには、アイイーイーイー トランザクション オン
マグネティックス ２６巻、Ｎｏ．５ ２４５７〜２
４５９ページ（１９９０年）（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ．
Ｍａｇｎ．，ｖｏｌ．２６，Ｎｏ．５，２４５７〜２４
５９（１９９０））に、コバルトの結晶配向面は、基板
に対して磁化容易軸が極力平行で媒体円周方向の配向が
ある程度あるものが好ましいことが記載されている。な
お、本明細書において、コバルトの結晶面の表記法は、
表１に例示するように、通常数字の上にバーをつけると
ころを、その数字の前にマイナス記号を付けて表わすも
のとする。
録媒体として、特開昭５９−８８８０６号公報に記載さ
れているように、ＣｏＣｒＰｔ、ＣｏＣｒＰｔＴａ等の
磁気記録膜を使用したものや、特開平１−２３７９２５
号公報に記載されているように、ＣｏＮｉＣｒＴａの磁
気記録膜を使用したものが知られている。また、１９８
９年１１月に発行された日本応用磁気学会学術講演概要
集（１３ページ）に示されているように、基板にバイア
スを印加することにより、高い保磁力を得て高記録密
度、低ノイズを実現しようとしたものも知られている。
さらには、アイイーイーイー トランザクション オン
マグネティックス ２６巻、Ｎｏ．５ ２４５７〜２
４５９ページ（１９９０年）（ＩＥＥＥ Ｔｒａｎｓ．
Ｍａｇｎ．，ｖｏｌ．２６，Ｎｏ．５，２４５７〜２４
５９（１９９０））に、コバルトの結晶配向面は、基板
に対して磁化容易軸が極力平行で媒体円周方向の配向が
ある程度あるものが好ましいことが記載されている。な
お、本明細書において、コバルトの結晶面の表記法は、
表１に例示するように、通常数字の上にバーをつけると
ころを、その数字の前にマイナス記号を付けて表わすも
のとする。
【０００３】
【表１】
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、いず
れも非磁性基板としてアルミ合金にニッケル−リンめっ
きを施した基板を用いていた。磁気記録媒体は、高密度
化、小型化の方向に進んでおり、基板の厚さを薄くする
ことが望まれている。しかし、アルミ基板は、基板の厚
さを薄くすると強度が不十分である。一方、非磁性基板
としてガラス基板を用いることも知られており、薄い基
板でも十分な強度がある。しかし、ガラス基板の上に設
けられた磁気記録膜は、その物理的挙動がアルミ基板の
上に設けられたそれと異なるため、高密度、低ノイズ化
に適合していないという問題があった。
れも非磁性基板としてアルミ合金にニッケル−リンめっ
きを施した基板を用いていた。磁気記録媒体は、高密度
化、小型化の方向に進んでおり、基板の厚さを薄くする
ことが望まれている。しかし、アルミ基板は、基板の厚
さを薄くすると強度が不十分である。一方、非磁性基板
としてガラス基板を用いることも知られており、薄い基
板でも十分な強度がある。しかし、ガラス基板の上に設
けられた磁気記録膜は、その物理的挙動がアルミ基板の
上に設けられたそれと異なるため、高密度、低ノイズ化
に適合していないという問題があった。
【０００５】本発明の第１の目的は、セラミックス又は
カーボンからなる非磁性基板を用い、高密度記録に適合
し、低ノイズの面内記録用磁気記録媒体を提供すること
にある。本発明の第２の目的は、そのような面内記録用
磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
カーボンからなる非磁性基板を用い、高密度記録に適合
し、低ノイズの面内記録用磁気記録媒体を提供すること
にある。本発明の第２の目的は、そのような面内記録用
磁気記録媒体の製造方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記第１の目的を達成す
るために、本発明の面内記録用磁気記録媒体は、セラミ
ックス又はカーボンからなる非磁性基板を用い、その上
にコバルトを主たる構成元素とする磁気記録膜を設け、
そのＸ線回折により測定されるコバルトの結晶配向面の
内、（０００２）面の回折強度を、他の面、すなわちＣ
ｏ（１０−１０）面とＣｏ（１１−２０）面とＣｏ（１
０−１１）面の回折強度の総和の１．５倍以上、８倍以
下、好ましくは、３倍以上、８倍以下としたものであ
る。
るために、本発明の面内記録用磁気記録媒体は、セラミ
ックス又はカーボンからなる非磁性基板を用い、その上
にコバルトを主たる構成元素とする磁気記録膜を設け、
そのＸ線回折により測定されるコバルトの結晶配向面の
内、（０００２）面の回折強度を、他の面、すなわちＣ
ｏ（１０−１０）面とＣｏ（１１−２０）面とＣｏ（１
０−１１）面の回折強度の総和の１．５倍以上、８倍以
下、好ましくは、３倍以上、８倍以下としたものであ
る。
【０００７】この磁気記録膜は、ＣｒやＣｒ合金等の非
磁性下地膜を介して、非磁性ガラス基板上に設けられて
いることが好ましい。非磁性下地膜は、２層又は３層等
の複数の層であることが好ましい。各層は、同じ材質か
らなるものであってもよく、異なる材質からなるもので
あってもよい。２層とするとき、下の層も上の層も、そ
れぞれ１ｎｍから１００ｎｍの範囲の厚さとすることが
好ましく、１ｎｍから５０ｎｍの範囲の厚さとすること
がより好ましい。両者の合計の厚さは、１ｎｍから１０
０ｎｍの範囲の厚さとすることが好ましい。
磁性下地膜を介して、非磁性ガラス基板上に設けられて
いることが好ましい。非磁性下地膜は、２層又は３層等
の複数の層であることが好ましい。各層は、同じ材質か
らなるものであってもよく、異なる材質からなるもので
あってもよい。２層とするとき、下の層も上の層も、そ
れぞれ１ｎｍから１００ｎｍの範囲の厚さとすることが
好ましく、１ｎｍから５０ｎｍの範囲の厚さとすること
がより好ましい。両者の合計の厚さは、１ｎｍから１０
０ｎｍの範囲の厚さとすることが好ましい。
【０００８】磁気記録膜の厚さは、５ｎｍから７０ｎｍ
の範囲の厚さとすることが好ましい。５ｎｍ未満では、
静磁気特性が落ちる傾向にあり、７０ｎｍを越えると高
密度記録には適切でなくなるためである。さらに、高密
度記録のためには、磁気記録膜の表面の結晶の平均粒径
は、３５ｎｍ以下、５ｎｍ以上の範囲であることが好ま
しく、３５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上の範囲であることが
より好ましい。また、磁気記録膜を、２層以上の複数の
層としてもよい。このとき、複数の磁気記録膜の間に非
磁性中間層を設けてもよい。非磁性中間層は、一般的に
は、０．５ｎｍから１０ｎｍの範囲の厚さとすることが
好ましく、２ｎｍから５ｎｍの範囲の厚さとすることが
より好ましい。
の範囲の厚さとすることが好ましい。５ｎｍ未満では、
静磁気特性が落ちる傾向にあり、７０ｎｍを越えると高
密度記録には適切でなくなるためである。さらに、高密
度記録のためには、磁気記録膜の表面の結晶の平均粒径
は、３５ｎｍ以下、５ｎｍ以上の範囲であることが好ま
しく、３５ｎｍ以下、１０ｎｍ以上の範囲であることが
より好ましい。また、磁気記録膜を、２層以上の複数の
層としてもよい。このとき、複数の磁気記録膜の間に非
磁性中間層を設けてもよい。非磁性中間層は、一般的に
は、０．５ｎｍから１０ｎｍの範囲の厚さとすることが
好ましく、２ｎｍから５ｎｍの範囲の厚さとすることが
より好ましい。
【０００９】また、上記第２の目的を達成するために、
本発明の面内記録用磁気記録媒体の製造方法は、非磁性
ガラス基板上に、常温で第１の非磁性下地膜を形成し、
１００℃から４５０℃の範囲の温度で、第１の非磁性下
地膜上に第２の非磁性下地膜を形成し、第２の非磁性下
地膜上に磁気記録膜を形成するようにしたものである。
本発明の面内記録用磁気記録媒体の製造方法は、非磁性
ガラス基板上に、常温で第１の非磁性下地膜を形成し、
１００℃から４５０℃の範囲の温度で、第１の非磁性下
地膜上に第２の非磁性下地膜を形成し、第２の非磁性下
地膜上に磁気記録膜を形成するようにしたものである。
【００１０】
【作用】Ｘ線回折により測定されるコバルトの結晶配向
面の内、（０００２）面の回折強度が大きいことは、結
晶が垂直配向していることを示している。高密度記録で
円周方向への配向のないガラス等の円板においては、垂
直配向している結晶がある程度多く存在し、また、好ま
しくは結晶粒径がある程度小さい方がノイズが少なくな
ると思われる。
面の内、（０００２）面の回折強度が大きいことは、結
晶が垂直配向していることを示している。高密度記録で
円周方向への配向のないガラス等の円板においては、垂
直配向している結晶がある程度多く存在し、また、好ま
しくは結晶粒径がある程度小さい方がノイズが少なくな
ると思われる。
【００１１】
【実施例】以下に、本発明の実施例を図面を用いて詳細
に説明する。図１は、本発明の一実施例の磁気記録媒体
の断面図である。同図で、１１はソーダライム系ガラス
材等からなるガラス基板、１２、１２’はＣｒ等の非磁
性下地膜、１３はＣｏ基合金からなる磁気記録膜、１４
はＣ等からなる非磁性被覆膜、１５はパーフルオロアル
キルポリエーテル等からなる潤滑膜である。このうち、
非磁性下地膜１２、１２’、磁気記録膜１３及び非磁性
被覆膜１４は、いずれもスパッタリングにより形成さ
れ、潤滑膜１５は塗布法等により形成される。以下にこ
の磁気記録媒体の詳細な構成を製法と共に説明する。
に説明する。図１は、本発明の一実施例の磁気記録媒体
の断面図である。同図で、１１はソーダライム系ガラス
材等からなるガラス基板、１２、１２’はＣｒ等の非磁
性下地膜、１３はＣｏ基合金からなる磁気記録膜、１４
はＣ等からなる非磁性被覆膜、１５はパーフルオロアル
キルポリエーテル等からなる潤滑膜である。このうち、
非磁性下地膜１２、１２’、磁気記録膜１３及び非磁性
被覆膜１４は、いずれもスパッタリングにより形成さ
れ、潤滑膜１５は塗布法等により形成される。以下にこ
の磁気記録媒体の詳細な構成を製法と共に説明する。
【００１２】〈実施例１〉外径９５ｍｍφ、内径２５ｍ
ｍφ、厚さ０．８ｍｍのガラス基板１１を中心線粗さＲ
ａで１ｎｍ以下まで表面研磨し、さらにガラスの化学強
化を行う。洗浄の後、基板加熱を行わずに常温でＡｒ圧
５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2でＣｒの非磁
性下地膜１２を厚さ５０ｎｍ形成し、さらにその後基板
温度２００℃、Ａｒ圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ
／ｃｍ2でＣｒの非磁性下地膜１２’を厚さ１００ｎｍ
形成し、ＣｏＣｒ12Ｐｔ4合金を用いて磁気記録膜１３
をＡｒ圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で厚
さ４０ｎｍ形成した。さらに、基板加熱を行わずに、Ａ
ｒ圧３ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力３Ｗ／ｃｍ2でＣから
なる非磁性被覆膜１４を厚さ１５ｎｍ形成し、パーフル
オロアルキルポリエーテルの溶液を塗布し、潤滑膜１５
を形成し、磁気記録媒体を作成した。また、比較例１と
して、上記の非磁性下地膜１２と非磁性下地膜１２’に
代えて、その合計の厚さと同じ厚さの１５０ｎｍのＣｒ
に非磁性下地膜１２のみを一度に基板温度２００℃で形
成した磁気記録媒体を作成した。
ｍφ、厚さ０．８ｍｍのガラス基板１１を中心線粗さＲ
ａで１ｎｍ以下まで表面研磨し、さらにガラスの化学強
化を行う。洗浄の後、基板加熱を行わずに常温でＡｒ圧
５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2でＣｒの非磁
性下地膜１２を厚さ５０ｎｍ形成し、さらにその後基板
温度２００℃、Ａｒ圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ
／ｃｍ2でＣｒの非磁性下地膜１２’を厚さ１００ｎｍ
形成し、ＣｏＣｒ12Ｐｔ4合金を用いて磁気記録膜１３
をＡｒ圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で厚
さ４０ｎｍ形成した。さらに、基板加熱を行わずに、Ａ
ｒ圧３ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力３Ｗ／ｃｍ2でＣから
なる非磁性被覆膜１４を厚さ１５ｎｍ形成し、パーフル
オロアルキルポリエーテルの溶液を塗布し、潤滑膜１５
を形成し、磁気記録媒体を作成した。また、比較例１と
して、上記の非磁性下地膜１２と非磁性下地膜１２’に
代えて、その合計の厚さと同じ厚さの１５０ｎｍのＣｒ
に非磁性下地膜１２のみを一度に基板温度２００℃で形
成した磁気記録媒体を作成した。
【００１３】これらの実施例、比較例の磁気記録媒体の
特性を検討した。ただし、Ｘ線回折、静磁気特性は、非
磁性被覆膜を形成していない試料を別に作成して行っ
た。図２は、作成した媒体を７ｍｍ×７ｍｍに切断した
試料を（振動試料型磁力計：Ｖｉｂｒａｔｉｏｎ Ｓａ
ｍｐｌｅ Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ：ＶＳＭ）を用い
て、飽和磁界１０ｋＯｅ、測定時間２０分／ループで静
磁気特性を測定した結果を示す図である。両試料共に保
磁力Ｈｃは２０００ Ｏｅ、残留磁束量３００Ｇμｍで
あった。
特性を検討した。ただし、Ｘ線回折、静磁気特性は、非
磁性被覆膜を形成していない試料を別に作成して行っ
た。図２は、作成した媒体を７ｍｍ×７ｍｍに切断した
試料を（振動試料型磁力計：Ｖｉｂｒａｔｉｏｎ Ｓａ
ｍｐｌｅ Ｍａｇｎｅｔｏｍｅｔｅｒ：ＶＳＭ）を用い
て、飽和磁界１０ｋＯｅ、測定時間２０分／ループで静
磁気特性を測定した結果を示す図である。両試料共に保
磁力Ｈｃは２０００ Ｏｅ、残留磁束量３００Ｇμｍで
あった。
【００１４】これらの磁気記録媒体の記録再生特性をギ
ャップ長０．３μｍ、コイル巻数４５回、トラック幅
５．０μｍの薄膜ヘッドで、相対速度８ｍ／ｓ、ヘッド
浮上量５０ｎｍ、８０ｋＦＣＩの条件で測定したとこ
ろ、図３に示すように、出力では本実施例の試料、比較
例１の試料ともに２５０μＶｐｐと差が現れなかった
が、媒体ノイズに大きな差が現れ、本実施例の試料は４
μＶｒｍｓ、比較例１の試料は８μＶｒｍｓであり、本
実施例の方が１／２ほどの大きさであった。
ャップ長０．３μｍ、コイル巻数４５回、トラック幅
５．０μｍの薄膜ヘッドで、相対速度８ｍ／ｓ、ヘッド
浮上量５０ｎｍ、８０ｋＦＣＩの条件で測定したとこ
ろ、図３に示すように、出力では本実施例の試料、比較
例１の試料ともに２５０μＶｐｐと差が現れなかった
が、媒体ノイズに大きな差が現れ、本実施例の試料は４
μＶｒｍｓ、比較例１の試料は８μＶｒｍｓであり、本
実施例の方が１／２ほどの大きさであった。
【００１５】さらにこれらの試料のＸ線回折によって、
磁気記録膜の結晶構造解析を行った。広角ゴニオメータ
を用いて、管電圧５０ｋＶ、管電流１００ｍＡ、サンプ
リング幅０．０４°、走査速度４°／分で解析を行った
ところ、図４に示すように、本実施例の試料ではＣｒ
（１１０）面とＣｏ（０００２）面の回折強度が比較例
１に比べて非常に大きかった。さらに本実施例ではＣｏ
（１１−２０）面の回折強度がほとんど観察できなかっ
た。本実施例では、Ｃｏ（０００２）面の回折強度が、
他の面、すなわちＣｏ（１０−１０）面とＣｏ（１１−
２０）面とＣｏ（１０−１１）面の回折強度の総和の約
２倍であった。このことから保磁力、残留磁束量が同等
でも、Ｃｏ（０００２）面の回折強度の大小により、媒
体ノイズの発生量が異なることが分かる。ガラス基板に
おいては、Ｃｏ（０００２）面の回折強度を大きくする
ことで、低ノイズの磁気記録媒体が得られる。また、磁
気記録膜の結晶粒径の微細化は重要であるが、本実施例
と比較例の両試料共に平均粒径は、走査電子顕微鏡像に
おいて金属表面で３５ｎｍであった。また、本実施例に
おいては媒体円周方向の配向はなかった。
磁気記録膜の結晶構造解析を行った。広角ゴニオメータ
を用いて、管電圧５０ｋＶ、管電流１００ｍＡ、サンプ
リング幅０．０４°、走査速度４°／分で解析を行った
ところ、図４に示すように、本実施例の試料ではＣｒ
（１１０）面とＣｏ（０００２）面の回折強度が比較例
１に比べて非常に大きかった。さらに本実施例ではＣｏ
（１１−２０）面の回折強度がほとんど観察できなかっ
た。本実施例では、Ｃｏ（０００２）面の回折強度が、
他の面、すなわちＣｏ（１０−１０）面とＣｏ（１１−
２０）面とＣｏ（１０−１１）面の回折強度の総和の約
２倍であった。このことから保磁力、残留磁束量が同等
でも、Ｃｏ（０００２）面の回折強度の大小により、媒
体ノイズの発生量が異なることが分かる。ガラス基板に
おいては、Ｃｏ（０００２）面の回折強度を大きくする
ことで、低ノイズの磁気記録媒体が得られる。また、磁
気記録膜の結晶粒径の微細化は重要であるが、本実施例
と比較例の両試料共に平均粒径は、走査電子顕微鏡像に
おいて金属表面で３５ｎｍであった。また、本実施例に
おいては媒体円周方向の配向はなかった。
【００１６】なお、上記実施例では、非磁性下地膜１
２’の形成は２００℃で行ったが、１００℃、３００℃
又は４５０℃で行っても、Ｃｏ（０００２）面の回折強
度が他の面の回折強度の総和の１．５倍以上の磁気記録
膜を得ることができた。このような磁気記録膜を有する
磁気記録媒体のノイズは、上記比較例のものより小さか
った。
２’の形成は２００℃で行ったが、１００℃、３００℃
又は４５０℃で行っても、Ｃｏ（０００２）面の回折強
度が他の面の回折強度の総和の１．５倍以上の磁気記録
膜を得ることができた。このような磁気記録膜を有する
磁気記録媒体のノイズは、上記比較例のものより小さか
った。
【００１７】面内の磁気特性を得るためには、非磁性下
地膜１２’の形成は、少なくとも１００℃以上の加熱が
好ましい。しかし、加熱温度が高すぎると電磁変換特性
に影響を与え、媒体ノイズが増える。このため、最大加
熱温度は４５０℃以下が好ましく、この条件でＣｏ（０
００２）面の回折強度が他の面の回折強度の総和の１．
５倍以上の磁気記録膜を得ることができた。
地膜１２’の形成は、少なくとも１００℃以上の加熱が
好ましい。しかし、加熱温度が高すぎると電磁変換特性
に影響を与え、媒体ノイズが増える。このため、最大加
熱温度は４５０℃以下が好ましく、この条件でＣｏ（０
００２）面の回折強度が他の面の回折強度の総和の１．
５倍以上の磁気記録膜を得ることができた。
【００１８】〈実施例２〉次に外径６５ｍｍφ、内径２
０ｍｍφ、厚さ０．６３５ｍｍのガラス基板１１の上を
表面研磨し、中心線粗さＲａで２ｎｍ以下に仕上げ、さ
らに化学強化を施した後洗浄を行い、基板を加熱せず
に、Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で
Ｃｒの非磁性下地膜１２を厚さ２５ｎｍ形成し、その後
基板温度２００℃、Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力
４Ｗ／ｃｍ2でＣｒの非磁性下地膜１２’を２５ｎｍ形
成し、ＣｏＣｒ14Ｐｔ6合金を用いて磁気記録膜１３を
Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で４５
ｎｍ形成し、ついで、基板加熱を行わずに、Ａｒ圧３ｍ
Ｔｏｒｒ、ＤＣ投入電力３Ｗ／ｃｍ2でＣからなる非磁
性被覆膜１４を厚さ１５ｎｍ形成し、パーフルオロアル
キルポリエーテルの溶液を塗布し、潤滑膜１５を形成
し、磁気記録媒体を作成した。
０ｍｍφ、厚さ０．６３５ｍｍのガラス基板１１の上を
表面研磨し、中心線粗さＲａで２ｎｍ以下に仕上げ、さ
らに化学強化を施した後洗浄を行い、基板を加熱せず
に、Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で
Ｃｒの非磁性下地膜１２を厚さ２５ｎｍ形成し、その後
基板温度２００℃、Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力
４Ｗ／ｃｍ2でＣｒの非磁性下地膜１２’を２５ｎｍ形
成し、ＣｏＣｒ14Ｐｔ6合金を用いて磁気記録膜１３を
Ａｒ圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で４５
ｎｍ形成し、ついで、基板加熱を行わずに、Ａｒ圧３ｍ
Ｔｏｒｒ、ＤＣ投入電力３Ｗ／ｃｍ2でＣからなる非磁
性被覆膜１４を厚さ１５ｎｍ形成し、パーフルオロアル
キルポリエーテルの溶液を塗布し、潤滑膜１５を形成
し、磁気記録媒体を作成した。
【００１９】比較のために、上記の非磁性下地膜１２と
非磁性下地膜１２’に代えて、Ｃｒの非磁性下地膜１２
を基板を加熱せずに、上記の合計と同じ膜厚である５０
ｎｍを同じ作製条件であるＡｒ圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投
入電力４Ｗ／ｃｍ2で１度に形成したもの（比較例２と
する）と、基板温度を４５０℃にして１度に形成したも
の（比較例３とする）を作製した。
非磁性下地膜１２’に代えて、Ｃｒの非磁性下地膜１２
を基板を加熱せずに、上記の合計と同じ膜厚である５０
ｎｍを同じ作製条件であるＡｒ圧７ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投
入電力４Ｗ／ｃｍ2で１度に形成したもの（比較例２と
する）と、基板温度を４５０℃にして１度に形成したも
の（比較例３とする）を作製した。
【００２０】このときの静磁気特性は、本実施例の試料
では保磁力２３００ Ｏｅ、残留磁束量３００Ｇμｍで
あった。また、基板を加熱せずに非磁性下地膜を作成し
た比較例２の試料は保磁力１３００ Ｏｅ、残留磁束量
３２０Ｇμｍ、４５０℃に加熱して作成した比較例３の
試料は保磁力２０００ Ｏｅ、残留磁束量３００Ｇμｍ
であった。
では保磁力２３００ Ｏｅ、残留磁束量３００Ｇμｍで
あった。また、基板を加熱せずに非磁性下地膜を作成し
た比較例２の試料は保磁力１３００ Ｏｅ、残留磁束量
３２０Ｇμｍ、４５０℃に加熱して作成した比較例３の
試料は保磁力２０００ Ｏｅ、残留磁束量３００Ｇμｍ
であった。
【００２１】これらの磁気記録媒体の記録再生特性をギ
ャップ長０．３μｍ、コイル巻数４５回、トラック幅
５．０μｍの薄膜ヘッドで、相対速度８ｍ／ｓ、ヘッド
浮上量５０ｎｍ、９０ｋＦＣＩの条件で測定した。図５
に示すように、出力では比較例３の試料は２２０μＶｐ
ｐで本実施例と大きな差はないが、比較例２の試料では
１８０μＶｐｐと差が現れた。さらに媒体ノイズに大き
な差が現れ、本実施例の試料は４．５μＶｒｍｓ、比較
例３の試料は９μＶｒｍｓ、比較例２の試料は１２μＶ
ｒｍｓであり、本実施例の方が１／２以下の媒体ノイズ
量であった。
ャップ長０．３μｍ、コイル巻数４５回、トラック幅
５．０μｍの薄膜ヘッドで、相対速度８ｍ／ｓ、ヘッド
浮上量５０ｎｍ、９０ｋＦＣＩの条件で測定した。図５
に示すように、出力では比較例３の試料は２２０μＶｐ
ｐで本実施例と大きな差はないが、比較例２の試料では
１８０μＶｐｐと差が現れた。さらに媒体ノイズに大き
な差が現れ、本実施例の試料は４．５μＶｒｍｓ、比較
例３の試料は９μＶｒｍｓ、比較例２の試料は１２μＶ
ｒｍｓであり、本実施例の方が１／２以下の媒体ノイズ
量であった。
【００２２】さらにＸ線回折の結果は、図６に示すよう
に、本実施例の試料ではＣｏ（０００２）面の回折強度
が最も強く、（１１−２０）面の回折強度がほとんどな
く、（０００２）面の回折強度は他の面の回折強度の総
和の数倍あったのに対して、比較例２の試料ではＣｏ
（１０−１１）面の回折強度が最も強く、（０００２）
面の回折強度はほとんど観察できなかった。また、比較
例３の試料は、Ｃｏの主たる回折面である（１０−１
０）、（１０−１１）、（１１−２０）、（０００２）
面は現れるが、その強度の大小は（０００２）、（１０
−１０）、（１１−２０）、（１０−１１）面の順に小
さくなり、このとき（０００２）面の回折強度はその他
の面の回折強度の総和とほぼ同等であった。また、本実
施例の平均粒径は３２ｎｍであった。
に、本実施例の試料ではＣｏ（０００２）面の回折強度
が最も強く、（１１−２０）面の回折強度がほとんどな
く、（０００２）面の回折強度は他の面の回折強度の総
和の数倍あったのに対して、比較例２の試料ではＣｏ
（１０−１１）面の回折強度が最も強く、（０００２）
面の回折強度はほとんど観察できなかった。また、比較
例３の試料は、Ｃｏの主たる回折面である（１０−１
０）、（１０−１１）、（１１−２０）、（０００２）
面は現れるが、その強度の大小は（０００２）、（１０
−１０）、（１１−２０）、（１０−１１）面の順に小
さくなり、このとき（０００２）面の回折強度はその他
の面の回折強度の総和とほぼ同等であった。また、本実
施例の平均粒径は３２ｎｍであった。
【００２３】〈実施例３〉次に外径６５ｍｍφ、内径２
０ｍｍφ、厚さ０．８８９ｍｍのガラス基板１１の上を
表面研磨し、中心線粗さＲａで１．５ｎｍ以下に仕上
げ、化学強化を行った後、基板を加熱せずに、Ａｒ圧５
ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で、Ｃｒの非磁
性下地膜１２を厚さ２５ｎｍ形成し、その後基板温度２
００℃、Ａｒ圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ
2でＣｒに非磁性下地膜１２’を厚さ２５ｎｍ形成し
た。さらにＣｏＣｒ14Ｐｔ6合金を用いて磁気記録膜１
３をＡｒ圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で
厚さ２０ｎｍずつ２回、総膜厚で４０ｎｍ形成した。以
下、実施例１と同様に、非磁性被覆膜１４と潤滑膜１５
を形成し、磁気記録媒体を作成した。
０ｍｍφ、厚さ０．８８９ｍｍのガラス基板１１の上を
表面研磨し、中心線粗さＲａで１．５ｎｍ以下に仕上
げ、化学強化を行った後、基板を加熱せずに、Ａｒ圧５
ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で、Ｃｒの非磁
性下地膜１２を厚さ２５ｎｍ形成し、その後基板温度２
００℃、Ａｒ圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ
2でＣｒに非磁性下地膜１２’を厚さ２５ｎｍ形成し
た。さらにＣｏＣｒ14Ｐｔ6合金を用いて磁気記録膜１
３をＡｒ圧５ｍＴｏｒｒ、ＤＣ投入電力４Ｗ／ｃｍ2で
厚さ２０ｎｍずつ２回、総膜厚で４０ｎｍ形成した。以
下、実施例１と同様に、非磁性被覆膜１４と潤滑膜１５
を形成し、磁気記録媒体を作成した。
【００２４】このとき、静磁気特性は保磁力２４００Ｏ
ｅ、残留磁束量３１０Ｇμｍであった。なお、磁気記録
膜を一度に形成した場合（実施例３ｂとする）も、これ
らの値は同じであった。これらの磁気記録媒体の記録再
生特性をギャップ長０．３μｍ、コイル巻数４５回、ト
ラック幅５．０μｍの薄膜ヘッドで相対速度８ｍ／ｓ、
ヘッド浮上量５０ｎｍ、８５ｋＦＣＩの条件で測定した
ところ、図７に示すように、出力では両試料共に２３０
μＶｐｐであったが、媒体ノイズにやや差が現れ、実施
例３の試料は４．５μＶｒｍｓ、実施例３ｂの試料では
４．８μＶｒｍｓと実施例３の試料の方がやや媒体ノイ
ズ量が小さかった。さらにＸ線回折の結果は、両試料共
にＣｏ（０００２）面の回折強度が最も強く、（１１−
２０）面の回折強度がほとんどなく、（０００２）面の
回折強度は、その他の面の回折強度の総和の２．５倍以
上であった。ただし、実施例３ｂの（０００２）面の回
折強度の方が強く、多層膜にすることによって結晶配向
的にはやや乱れを生ずるが、強い（０００２）面の配向
と磁気記録膜の多層化によって総合的に媒体ノイズを低
減することができる。
ｅ、残留磁束量３１０Ｇμｍであった。なお、磁気記録
膜を一度に形成した場合（実施例３ｂとする）も、これ
らの値は同じであった。これらの磁気記録媒体の記録再
生特性をギャップ長０．３μｍ、コイル巻数４５回、ト
ラック幅５．０μｍの薄膜ヘッドで相対速度８ｍ／ｓ、
ヘッド浮上量５０ｎｍ、８５ｋＦＣＩの条件で測定した
ところ、図７に示すように、出力では両試料共に２３０
μＶｐｐであったが、媒体ノイズにやや差が現れ、実施
例３の試料は４．５μＶｒｍｓ、実施例３ｂの試料では
４．８μＶｒｍｓと実施例３の試料の方がやや媒体ノイ
ズ量が小さかった。さらにＸ線回折の結果は、両試料共
にＣｏ（０００２）面の回折強度が最も強く、（１１−
２０）面の回折強度がほとんどなく、（０００２）面の
回折強度は、その他の面の回折強度の総和の２．５倍以
上であった。ただし、実施例３ｂの（０００２）面の回
折強度の方が強く、多層膜にすることによって結晶配向
的にはやや乱れを生ずるが、強い（０００２）面の配向
と磁気記録膜の多層化によって総合的に媒体ノイズを低
減することができる。
【００２５】さらに、磁気記録膜間に２ｎｍのＣｒ中間
膜を形成した結果、さらに媒体ノイズは低減し、４．２
μＶｒｍｓであった。このときの静磁気特性はほぼ単層
の磁気記録膜の結果と変わらなかった。さらには、（０
００２）面の回折強度は、その他の面の回折強度の総和
の２．５倍以上であった。また、磁気記録膜の最表面の
結晶粒径は共に平均３０ｎｍであった。なお、磁気記録
膜は３層以上にしてもよく、また、これらの各層の間
に、それぞれＣｒ中間膜を設けてもよい。
膜を形成した結果、さらに媒体ノイズは低減し、４．２
μＶｒｍｓであった。このときの静磁気特性はほぼ単層
の磁気記録膜の結果と変わらなかった。さらには、（０
００２）面の回折強度は、その他の面の回折強度の総和
の２．５倍以上であった。また、磁気記録膜の最表面の
結晶粒径は共に平均３０ｎｍであった。なお、磁気記録
膜は３層以上にしてもよく、また、これらの各層の間
に、それぞれＣｒ中間膜を設けてもよい。
【００２６】上記実施例においては、直径３．５イン
チ、２．５インチのガラス基板についてのみ示したが、
本発明は基板の直径、板厚に依存することはなく、多様
な直径、板厚の基板について適用できる。また、上記実
施例においては、ソーダライム系ガラスについてのみ述
べたが、本発明は特定の組成を有するガラスにのみに適
用するものではなく、他のガラス材についても適用で
き、さらにガラス材以外のセラミックス又はカーボン材
についても同様の結果が得られた。なお、ガラス材以外
のセラミックス又はカーボン材を用いるときは、Ｃｒ等
の非磁性下地膜を設ける方が好ましい。
チ、２．５インチのガラス基板についてのみ示したが、
本発明は基板の直径、板厚に依存することはなく、多様
な直径、板厚の基板について適用できる。また、上記実
施例においては、ソーダライム系ガラスについてのみ述
べたが、本発明は特定の組成を有するガラスにのみに適
用するものではなく、他のガラス材についても適用で
き、さらにガラス材以外のセラミックス又はカーボン材
についても同様の結果が得られた。なお、ガラス材以外
のセラミックス又はカーボン材を用いるときは、Ｃｒ等
の非磁性下地膜を設ける方が好ましい。
【００２７】また、非磁性下地膜、非磁性中間膜はＣｒ
に限らず、Ｃｒ合金やＷ、Ｍｏ等の非磁性金属によって
も低ノイズを達成できる。さらに非磁性下地膜、非磁性
中間膜は単層だけではなく多層膜についても適用でき
る。
に限らず、Ｃｒ合金やＷ、Ｍｏ等の非磁性金属によって
も低ノイズを達成できる。さらに非磁性下地膜、非磁性
中間膜は単層だけではなく多層膜についても適用でき
る。
【００２８】
【発明の効果】以上詳しく説明したように、本発明によ
れば、ガラス基板上に形成された磁性コバルトを主たる
構成元素とする磁気記録膜において、Ｘ線回折によるコ
バルトの結晶配向面のうち、（０００２）面の回折強度
が他のコバルトの配向面の回折強度の総和よりも１．５
倍以上大きくすることで、高記録密度に対応した低ノイ
ズの磁気記録媒体を提供することができた。また、その
ような磁気記録媒体を容易に製造することができた。
れば、ガラス基板上に形成された磁性コバルトを主たる
構成元素とする磁気記録膜において、Ｘ線回折によるコ
バルトの結晶配向面のうち、（０００２）面の回折強度
が他のコバルトの配向面の回折強度の総和よりも１．５
倍以上大きくすることで、高記録密度に対応した低ノイ
ズの磁気記録媒体を提供することができた。また、その
ような磁気記録媒体を容易に製造することができた。
【図１】本発明の一実施例の磁気記録媒体の断面図であ
る。
る。
【図２】本発明の一実施例の磁気記録媒体の静磁気特性
を示す図である。
を示す図である。
【図３】本発明の一実施例の磁気記録媒体の記録再生特
性を示す図である。
性を示す図である。
【図４】本発明の一実施例の磁気記録媒体のＸ線回折強
度を示す図である。
度を示す図である。
【図５】本発明の他の実施例の磁気記録媒体の記録再生
特性を示す図である。
特性を示す図である。
【図６】本発明の他の実施例の磁気記録媒体のＸ線回折
強度を示す図である。
強度を示す図である。
【図７】本発明のさらに他の実施例の磁気記録媒体の記
録再生特性を示す図である。
録再生特性を示す図である。
１１…ガラス基板 １２、１２’…非磁性下地膜 １３…磁気記録膜 １４…非磁性被覆膜 １５…潤滑膜
Claims (5)
- 【請求項１】セラミックス又はカーボンからなる非磁性
基板及び該非磁性基板上に設けられたコバルトを主たる
構成元素とする磁気記録膜を有し、該磁気記録膜は、Ｘ
線回折により測定されるコバルトの結晶配向面の内、
（０００２）面の回折強度が、他の面の回折強度の総和
の１．５倍以上、８倍以下であることを特徴とする面内
記録用磁気記録媒体。 - 【請求項２】上記磁気記録膜は、非磁性下地膜を介し
て、上記非磁性基板上に設けられたことを特徴とする請
求項１記載の面内記録用磁気記録媒体。 - 【請求項３】上記磁気記録膜は、２層以上の層からなる
ことを特徴とする請求項１又は２記載の面内記録用磁気
記録媒体。 - 【請求項４】上記磁気記録膜は、表面の結晶の平均粒径
は、３５ｎｍ以下、５ｎｍ以上の範囲であることを特徴
とする請求項１から３のいずれか一に記載の面内記録用
磁気記録媒体。 - 【請求項５】セラミックス又はカーボンからなる非磁性
基板上に、常温で第１の非磁性下地膜を形成し、１００
℃から４５０℃の範囲の温度で、第１の非磁性下地膜上
に第２の非磁性下地膜を形成し、第２の非磁性下地膜上
に磁気記録膜を形成することを特徴とする面内記録用磁
気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7031987A JPH08227515A (ja) | 1995-02-21 | 1995-02-21 | 面内記録用磁気記録媒体及びその製造方法 |
| US08/603,163 US5766756A (en) | 1995-02-21 | 1996-02-20 | Magnetic recording medium for longitudinal recording and method of manufacturing the same |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7031987A JPH08227515A (ja) | 1995-02-21 | 1995-02-21 | 面内記録用磁気記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08227515A true JPH08227515A (ja) | 1996-09-03 |
Family
ID=12346282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7031987A Pending JPH08227515A (ja) | 1995-02-21 | 1995-02-21 | 面内記録用磁気記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5766756A (ja) |
| JP (1) | JPH08227515A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1074618A (ja) * | 1996-08-30 | 1998-03-17 | Hoya Corp | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5988806A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-22 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| US4894133A (en) * | 1985-11-12 | 1990-01-16 | Virgle L. Hedgcoth | Method and apparatus making magnetic recording disk |
| US4654276A (en) * | 1986-04-29 | 1987-03-31 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording medium with an underlayer and a cobalt-based magnetic layer |
| US4842917A (en) * | 1986-09-01 | 1989-06-27 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and process for producing the same |
| JPH01237925A (ja) * | 1988-03-18 | 1989-09-22 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録媒体 |
| US5569533A (en) * | 1994-03-14 | 1996-10-29 | Hmt Technology Corporation | Thin-film medium with sublayer |
-
1995
- 1995-02-21 JP JP7031987A patent/JPH08227515A/ja active Pending
-
1996
- 1996-02-20 US US08/603,163 patent/US5766756A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5766756A (en) | 1998-06-16 |
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