JPH08225582A - 新規なサンスクリーン剤と、これを含む光保護化粧品組成物及びその使用 - Google Patents
新規なサンスクリーン剤と、これを含む光保護化粧品組成物及びその使用Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線に対する皮膚及び髪の保護のための化
粧用組成物中のサンスクリーン剤として用いることがで
き、優れた化粧品特性を有する化合物を提供する。 【解決手段】３-ベンジリデンショウノウ誘導体、ベン
ゾトリアゾール類、ベンゾフェノン類、及びベンズイミ
ダゾール類より選択される一以上の特定のスクリーニン
グ単位を、特にヒドロシリル化反応によってグラフト化
することにより、所定の直鎖状あるいは環状のシリコー
ン鎖もしくはシランに結合させることによって優れたス
クリーニング特性を有する新規化合物を調製する。
粧用組成物中のサンスクリーン剤として用いることがで
き、優れた化粧品特性を有する化合物を提供する。 【解決手段】３-ベンジリデンショウノウ誘導体、ベン
ゾトリアゾール類、ベンゾフェノン類、及びベンズイミ
ダゾール類より選択される一以上の特定のスクリーニン
グ単位を、特にヒドロシリル化反応によってグラフト化
することにより、所定の直鎖状あるいは環状のシリコー
ン鎖もしくはシランに結合させることによって優れたス
クリーニング特性を有する新規化合物を調製する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、スルホンアミド官
能基を含む、少なくとも一の特定の的確に選択されたス
クリーニング単位をもつもの全ての特性を有する、直鎖
状あるいは環状で短鎖の、ジオルガノシロキサン型、も
しくはトリオルガノシラン型の新規な化合物に関し、さ
らに、これらの化合物は特に紫外線に対する皮膚及び髪
の保護のための化粧用組成物中の有機サンスクリーンと
して用いることができるものである。本発明はまた、上
述の化粧品応用における上記化合物の使用に関すると共
に、上記化合物を含み、その特性が向上した化粧用組成
物にも関する。
能基を含む、少なくとも一の特定の的確に選択されたス
クリーニング単位をもつもの全ての特性を有する、直鎖
状あるいは環状で短鎖の、ジオルガノシロキサン型、も
しくはトリオルガノシラン型の新規な化合物に関し、さ
らに、これらの化合物は特に紫外線に対する皮膚及び髪
の保護のための化粧用組成物中の有機サンスクリーンと
して用いることができるものである。本発明はまた、上
述の化粧品応用における上記化合物の使用に関すると共
に、上記化合物を含み、その特性が向上した化粧用組成
物にも関する。
【０００２】波長２８０〜４００nmの光照射はヒトの表
皮を日焼けさせることが知られており、特にＵＶ-Ｂ光
線として知られる波長２８０〜３２０nmの光線は、日焼
けの自然な進行を妨げる恐れのある皮膚火傷及び紅斑を
引き起こす。したがって、このＵＶ-Ｂ光線は遮断しな
ければならない。
皮を日焼けさせることが知られており、特にＵＶ-Ｂ光
線として知られる波長２８０〜３２０nmの光線は、日焼
けの自然な進行を妨げる恐れのある皮膚火傷及び紅斑を
引き起こす。したがって、このＵＶ-Ｂ光線は遮断しな
ければならない。
【０００３】波長３２０〜４００nmのＵＶ-Ａ光線もま
た、皮膚の日焼けを引き起こすものであるが、特に敏感
肌もしくは太陽光に連続的にさらされた皮膚の場合に
は、皮膚に不都合な変化を誘発しやすいことが知られて
いる。ＵＶ-Ａ光線は、特に皮膚の弾力性の喪失及び皺
の出現を引き起こし、皮膚の老化を早める。このような
光線は紅斑形成反応の開始を促進するかまたは所定の個
人においてはこの反応を拡大し、さらには光毒性もしく
は光アレルギー性反応の原因にさえなる。したがって、
ＵＶ-Ａ光線もまた遮断することが望ましい。
た、皮膚の日焼けを引き起こすものであるが、特に敏感
肌もしくは太陽光に連続的にさらされた皮膚の場合に
は、皮膚に不都合な変化を誘発しやすいことが知られて
いる。ＵＶ-Ａ光線は、特に皮膚の弾力性の喪失及び皺
の出現を引き起こし、皮膚の老化を早める。このような
光線は紅斑形成反応の開始を促進するかまたは所定の個
人においてはこの反応を拡大し、さらには光毒性もしく
は光アレルギー性反応の原因にさえなる。したがって、
ＵＶ-Ａ光線もまた遮断することが望ましい。
【０００４】今日まで、皮膚の光保護（ＵＶ-Ａ及び／
またはＵＶ-Ｂ）のための多くの化合物が提案されてい
る。
またはＵＶ-Ｂ）のための多くの化合物が提案されてい
る。
【０００５】これらはほとんどが２８０〜３１５nmの領
域、あるいは３１５〜４００nmの領域、あるいはまたこ
れらの領域双方にＵＶ光線の吸収をもつ芳香族化合物で
ある。これらは通常、水中油型エマルションの形態（い
わば、水性分散連続相及び油性分散非連続相から成る化
粧用に適した媒体）である抗太陽組成物に処方され、し
たがって、これは、親油性及び／または親水性の有機官
能基を含む、一以上の標準的な有機スクリーニング剤を
様々な濃度にて含み、選択的に有害なＵＶ光線を吸収す
ることができ、これらのスクリーニング剤（及びその
量）は望ましい保護因子（保護因子（ＰＦ）は、数学的
に、ＵＶスクリーニング剤を使用した場合に紅斑形成開
始に至るに必要な照射時間の、ＵＶスクリーニング剤を
使用していない場合に紅斑形成開始に至るに必要な照射
時間に対する比率によって与えられる）の関数として選
択されている。
域、あるいは３１５〜４００nmの領域、あるいはまたこ
れらの領域双方にＵＶ光線の吸収をもつ芳香族化合物で
ある。これらは通常、水中油型エマルションの形態（い
わば、水性分散連続相及び油性分散非連続相から成る化
粧用に適した媒体）である抗太陽組成物に処方され、し
たがって、これは、親油性及び／または親水性の有機官
能基を含む、一以上の標準的な有機スクリーニング剤を
様々な濃度にて含み、選択的に有害なＵＶ光線を吸収す
ることができ、これらのスクリーニング剤（及びその
量）は望ましい保護因子（保護因子（ＰＦ）は、数学的
に、ＵＶスクリーニング剤を使用した場合に紅斑形成開
始に至るに必要な照射時間の、ＵＶスクリーニング剤を
使用していない場合に紅斑形成開始に至るに必要な照射
時間に対する比率によって与えられる）の関数として選
択されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】スクリーニングパウダ
ーの他にも、抗ＵＶ活性をもつこれらの化合物はまた、
これを有する組成物中では優れた化粧品特性を有し、通
常の溶媒中、特にオイル及び脂肪のような油脂性物質中
でも優れた溶解性を有すると共に、水及び発汗に対して
も優れた耐性（残留性能（remanence））を有するもの
であるべきである。
ーの他にも、抗ＵＶ活性をもつこれらの化合物はまた、
これを有する組成物中では優れた化粧品特性を有し、通
常の溶媒中、特にオイル及び脂肪のような油脂性物質中
でも優れた溶解性を有すると共に、水及び発汗に対して
も優れた耐性（残留性能（remanence））を有するもの
であるべきである。
【０００７】
【課題を解決する手段及び発明の実施の形態】上記の目
的のために推薦される全ての芳香族化合物のなかでも、
特にｐ-アミノ安息香酸誘導体、特に３-ベンジリデンシ
ョウノウ誘導体等のベンジリデンショウノウ誘導体、ケ
イ皮酸誘導体及びベンゾトリアゾール誘導体を挙げるこ
とができる。しかしながら、これらの物質の中には、抗
太陽組成物中のＵＶスクリーニング剤としての適切な使
用のために要求される特性を、全て備えてはいないもの
もある。特に、その固有のスクリーニング力が不十分で
あったり、太陽保護に関して用いられる様々な型の処方
における溶解性が常に十分とはいえなかったり（特に脂
溶性）、十分に耐光性でなかったり（光安定性）、また
水及び汗に対して耐性が乏しい等の可能性がある。これ
らのスクリーニング物質は、皮膚に浸透しないことが望
ましい。
的のために推薦される全ての芳香族化合物のなかでも、
特にｐ-アミノ安息香酸誘導体、特に３-ベンジリデンシ
ョウノウ誘導体等のベンジリデンショウノウ誘導体、ケ
イ皮酸誘導体及びベンゾトリアゾール誘導体を挙げるこ
とができる。しかしながら、これらの物質の中には、抗
太陽組成物中のＵＶスクリーニング剤としての適切な使
用のために要求される特性を、全て備えてはいないもの
もある。特に、その固有のスクリーニング力が不十分で
あったり、太陽保護に関して用いられる様々な型の処方
における溶解性が常に十分とはいえなかったり（特に脂
溶性）、十分に耐光性でなかったり（光安定性）、また
水及び汗に対して耐性が乏しい等の可能性がある。これ
らのスクリーニング物質は、皮膚に浸透しないことが望
ましい。
【０００８】したがって、さらに特定してベンゾトリア
ゾールもしくは３-ベンジリデンショウノウ型のスクリ
ーニング物質の場合には、ベンゾトリアゾールもしくは
３-ベンジリデンショウノウスクリーニンググループ
を、アルキリンもしくはアルキレンオキシ型のコネクタ
ー鎖単位を用いてシリコーン型（オルガノポリシロキサ
ン）の巨大分子鎖にグラフト化する（ヒドロシリル化す
る）ことによって、特にその脂溶性及び化粧品としての
性質について、向上した特性を有する製品を得ることが
求められていた。この技術は、それぞれ、欧州特許出願
ＥＰ-Ａ-０，３９２，８８３（ベンゾトリアゾール）及
びＥＰ-Ａ-０，３３５，７７７（３-ベンジリデンショ
ウノウ）に、いずれも本出願人の名の下に記載されてお
り、確かに有利な化合物（これらの化合物は一般的に
“スクリーニングシリコーン類”として知られている）
を導くが、これらの化合物の脂溶性の性質は依然として
不十分であり、これに加えて、この型の生成物に満足な
スクリーニング特性を得るためには、これらスクリーニ
ングポリマーを比較的大量に用いる必要のあることがし
ばしばあり、このことがこれら化合物を含む処方で化粧
品特性が乏しくなるということを招いている。
ゾールもしくは３-ベンジリデンショウノウ型のスクリ
ーニング物質の場合には、ベンゾトリアゾールもしくは
３-ベンジリデンショウノウスクリーニンググループ
を、アルキリンもしくはアルキレンオキシ型のコネクタ
ー鎖単位を用いてシリコーン型（オルガノポリシロキサ
ン）の巨大分子鎖にグラフト化する（ヒドロシリル化す
る）ことによって、特にその脂溶性及び化粧品としての
性質について、向上した特性を有する製品を得ることが
求められていた。この技術は、それぞれ、欧州特許出願
ＥＰ-Ａ-０，３９２，８８３（ベンゾトリアゾール）及
びＥＰ-Ａ-０，３３５，７７７（３-ベンジリデンショ
ウノウ）に、いずれも本出願人の名の下に記載されてお
り、確かに有利な化合物（これらの化合物は一般的に
“スクリーニングシリコーン類”として知られている）
を導くが、これらの化合物の脂溶性の性質は依然として
不十分であり、これに加えて、この型の生成物に満足な
スクリーニング特性を得るためには、これらスクリーニ
ングポリマーを比較的大量に用いる必要のあることがし
ばしばあり、このことがこれら化合物を含む処方で化粧
品特性が乏しくなるということを招いている。
【０００９】本発明は、特定のスクリーニング単位を含
み、特にその脂肪性物質への溶解性及び化粧品特性につ
いて向上した特性を有するスクリーニングシリコーン型
の新規な化合物を提案することによって、上記の問題を
克服することを目指したものである。
み、特にその脂肪性物質への溶解性及び化粧品特性につ
いて向上した特性を有するスクリーニングシリコーン型
の新規な化合物を提案することによって、上記の問題を
克服することを目指したものである。
【００１０】さらに詳しくは、本発明によれば、３-ベ
ンジリデンショウノウ誘導体、ベンゾトリアゾール類、
ベンゾフェノン類、及びベンズイミダゾール類より選択
される一以上の特定のスクリーニング単位を、特にヒド
ロシリル化反応によってグラフト化することにより、ス
ルホンアミド官能基を含む特定のコネクター鎖単位を経
て、適切に選択された直鎖状あるいは環状のシリコーン
鎖もしくは適切に選択されたシランに結合させることに
よって、従来のスクリーニングシリコーンの欠点を除き
つつスクリーニングシリコーン型の新規化合物に到達す
ることが可能となり、これらの特に優れたスクリーニン
グ特性を有する新規化合物は、その化学構造により、Ｕ
Ｖ-Ａ領域もしくはＵＶ-Ｂ領域のいずれかにおいて非常
に優れたスクリーニング特性を示し、通常の有機溶媒、
特にオイル等の脂肪性物質に対して非常に優れた溶解性
を有すると共にこの上ない化粧品特性を有し、紫外線に
対する皮膚及び／または髪の保護のための化粧用組成物
中のサンスクリーンとしての使用に、もしくはその調製
のために、特に適したものとなる。
ンジリデンショウノウ誘導体、ベンゾトリアゾール類、
ベンゾフェノン類、及びベンズイミダゾール類より選択
される一以上の特定のスクリーニング単位を、特にヒド
ロシリル化反応によってグラフト化することにより、ス
ルホンアミド官能基を含む特定のコネクター鎖単位を経
て、適切に選択された直鎖状あるいは環状のシリコーン
鎖もしくは適切に選択されたシランに結合させることに
よって、従来のスクリーニングシリコーンの欠点を除き
つつスクリーニングシリコーン型の新規化合物に到達す
ることが可能となり、これらの特に優れたスクリーニン
グ特性を有する新規化合物は、その化学構造により、Ｕ
Ｖ-Ａ領域もしくはＵＶ-Ｂ領域のいずれかにおいて非常
に優れたスクリーニング特性を示し、通常の有機溶媒、
特にオイル等の脂肪性物質に対して非常に優れた溶解性
を有すると共にこの上ない化粧品特性を有し、紫外線に
対する皮膚及び／または髪の保護のための化粧用組成物
中のサンスクリーンとしての使用に、もしくはその調製
のために、特に適したものとなる。
【００１１】従って本発明の第一の主題は、下記の化学
式（１）〜（３）のいずれかに相当することを特徴とす
る新規化合物である。：
式（１）〜（３）のいずれかに相当することを特徴とす
る新規化合物である。：
【００１２】
【化１０】
【００１３】
【化１１】
【００１４】
【化１２】
【００１５】上記（１）〜（３）式中： - Ｒ基は、同一でも異なるものでもよく、Ｃ1-Ｃ10ア
ルキル、フェニル及び３，３，３-トリフルオロプロピ
ル基より選択され、数値的に少なくとも８０％のＲ基が
メチルであって、 - Ｂ基は、同一でも異なるものでもよく、上記Ｒ基及
び下記のＡ基より選択され、 - Ｒ’基は、同一でも異なるものでもよく、Ｃ1-Ｃ8ア
ルキル基、もしくはフェニル基より選択され、 - ｒは、０から５０までの整数であって、ｓは０から
２０までの整数であって、ｓが０である場合は二つの記
号Ｂのうち少なくとも一つはＡを表し、 -
ｕは１から６までの整数であって、ｔは０から１０まで
の整数であって、ｔ＋ｕが３以上であることを前提と
し、 -記号Ａはシリコン原子に直接結合する基を表し、上記
のＡ基が下記の化学式（４．１）〜（４．４）のいずれ
か一つに相当する。
ルキル、フェニル及び３，３，３-トリフルオロプロピ
ル基より選択され、数値的に少なくとも８０％のＲ基が
メチルであって、 - Ｂ基は、同一でも異なるものでもよく、上記Ｒ基及
び下記のＡ基より選択され、 - Ｒ’基は、同一でも異なるものでもよく、Ｃ1-Ｃ8ア
ルキル基、もしくはフェニル基より選択され、 - ｒは、０から５０までの整数であって、ｓは０から
２０までの整数であって、ｓが０である場合は二つの記
号Ｂのうち少なくとも一つはＡを表し、 -
ｕは１から６までの整数であって、ｔは０から１０まで
の整数であって、ｔ＋ｕが３以上であることを前提と
し、 -記号Ａはシリコン原子に直接結合する基を表し、上記
のＡ基が下記の化学式（４．１）〜（４．４）のいずれ
か一つに相当する。
【００１６】
【化１３】
【００１７】上記（４．１）式中、 ★ Ｘは水素原子もしくは下記化学式（５）の二価の-
Ｙ-基を表す：
Ｙ-基を表す：
【００１８】
【化１４】
【００１９】上記（５）式中、 - Ｒ1は水素原子もしくはＣ1-Ｃ4アルキルもしくはヒ
ドロキシアルキル基を表し、 - Ｒ2は水素原子もしくはＣ1-Ｃ6アルキルもしくはＣ1
-Ｃ6アルコキシ基を表し、 - ｐは１から１０までの整数であり、 - 末端-ＣＨ2-基が直接シリコン原子に結合している。 ★ Ｘ2及びＸ3は、同一でも異なるものでもよく、水素
原子もしくはハロゲン原子、Ｃ1-Ｃ4アルキルもしくは
アルコキシ基、二価の-Ｙ-基もしくは下記の化学式
（６）：
ドロキシアルキル基を表し、 - Ｒ2は水素原子もしくはＣ1-Ｃ6アルキルもしくはＣ1
-Ｃ6アルコキシ基を表し、 - ｐは１から１０までの整数であり、 - 末端-ＣＨ2-基が直接シリコン原子に結合している。 ★ Ｘ2及びＸ3は、同一でも異なるものでもよく、水素
原子もしくはハロゲン原子、Ｃ1-Ｃ4アルキルもしくは
アルコキシ基、二価の-Ｙ-基もしくは下記の化学式
（６）：
【化１５】 のＺ基を表すか、あるいはまたＸ2及びＸ3が共に、アル
キリデン基が１または２の炭素原子を含むアルキリデン
ジオキシ基を形成してもよく、この化学式（４．１）に
おいては、 - 三つの記号Ｘ1、Ｘ2及びＸ3の一つが二価の-Ｙ-基を
必然的に表し、他の二つの残りの記号のいずれも、二価
の-Ｙ-基を表してはならず、 - Ｘ1が水素原子を表す場合、Ｘ2及びＸ3は必然的に異
なり、このどちらもがＺ基を表してはならず、 - Ｘ1が二価の-Ｙ-基を表す場合、Ｘ2及びＸ3は同時に
Ｚ基を表してもよく、 - Ｘ1が水素原子を表し、Ｘ3が二価の-Ｙ-基を表す場
合、Ｘ2は水素原子以外であることが望ましい。
キリデン基が１または２の炭素原子を含むアルキリデン
ジオキシ基を形成してもよく、この化学式（４．１）に
おいては、 - 三つの記号Ｘ1、Ｘ2及びＸ3の一つが二価の-Ｙ-基を
必然的に表し、他の二つの残りの記号のいずれも、二価
の-Ｙ-基を表してはならず、 - Ｘ1が水素原子を表す場合、Ｘ2及びＸ3は必然的に異
なり、このどちらもがＺ基を表してはならず、 - Ｘ1が二価の-Ｙ-基を表す場合、Ｘ2及びＸ3は同時に
Ｚ基を表してもよく、 - Ｘ1が水素原子を表し、Ｘ3が二価の-Ｙ-基を表す場
合、Ｘ2は水素原子以外であることが望ましい。
【００２０】
【化１６】
【００２１】上記化学式（４．２）において、 ★ Ｘ4は水素原子、Ｃ1-Ｃ8アルキル基もしくは二価の
-Ｙ-基を表し、 ★ Ｘ5は水素原子もしくはＣ1-Ｃ4アルキル基もしくは
アルコキシル基もしくは二価の-Ｙ-基を表し、 ★ Ｒ3はＣ1-Ｃ8アルキル基を表し、この化学式（４．
２）においては、二つの記号Ｘ4及びＸ5のうち、一つは
必然的に二価の-Ｙ-基を表さねばならず、残りの記号が
二価の-Ｙ-基を表すことはあり得ないことが理解され
る。
-Ｙ-基を表し、 ★ Ｘ5は水素原子もしくはＣ1-Ｃ4アルキル基もしくは
アルコキシル基もしくは二価の-Ｙ-基を表し、 ★ Ｒ3はＣ1-Ｃ8アルキル基を表し、この化学式（４．
２）においては、二つの記号Ｘ4及びＸ5のうち、一つは
必然的に二価の-Ｙ-基を表さねばならず、残りの記号が
二価の-Ｙ-基を表すことはあり得ないことが理解され
る。
【００２２】
【化１７】
【００２３】
【化１８】
【００２４】上記化学式（１）及び（３）においては、
Ａは、開始シリコーン含有の短鎖もしくは開始シランに
結合した後、２８０〜４００nmの範囲の波長領域内での
紫外線に関して、直鎖状ジオルガノシロキサン型（化学
式（１））もしくは環状ジオルガノシロキサン型（化学
式（２））もしくはトリオルガノシラン型（化学式
（３））の化合物に吸収特性を与える、３-ベンジリデ
ンショウノウ誘導体（化学式４．１）、ベンゾトリアゾ
ール類（化学式４．２）、ベンズイミダゾール類（化学
式４．３）及びベンゾフェノン類（化学式４．４）より
選択されるスクリーニンググループを表す。上述のよう
に、また、上記の化学式（４．１）から（４．４）の定
義から判るように、このグループは必然的に、シリコー
ン鎖もしくはシランにスクリーニング単位を確実に結合
する鎖単位により与えられる、少なくとも一のスルホン
アミド基（化学式５）を有する。本発明による化合物、
より詳しくはスクリーニング単位Ａが化学式（４．１）
もしくは化学式（４．２）に相当するものに付随する利
点としては、このスクリーニング単位Ａに担持される様
々な成分の性質及び／または位置によって、特に高い消
滅係数をもつ、純粋にＵＶ-Ａもしくは反対に純粋にＵ
Ｖ-Ｂを遮断する薬剤を得ることが可能な点である。
Ａは、開始シリコーン含有の短鎖もしくは開始シランに
結合した後、２８０〜４００nmの範囲の波長領域内での
紫外線に関して、直鎖状ジオルガノシロキサン型（化学
式（１））もしくは環状ジオルガノシロキサン型（化学
式（２））もしくはトリオルガノシラン型（化学式
（３））の化合物に吸収特性を与える、３-ベンジリデ
ンショウノウ誘導体（化学式４．１）、ベンゾトリアゾ
ール類（化学式４．２）、ベンズイミダゾール類（化学
式４．３）及びベンゾフェノン類（化学式４．４）より
選択されるスクリーニンググループを表す。上述のよう
に、また、上記の化学式（４．１）から（４．４）の定
義から判るように、このグループは必然的に、シリコー
ン鎖もしくはシランにスクリーニング単位を確実に結合
する鎖単位により与えられる、少なくとも一のスルホン
アミド基（化学式５）を有する。本発明による化合物、
より詳しくはスクリーニング単位Ａが化学式（４．１）
もしくは化学式（４．２）に相当するものに付随する利
点としては、このスクリーニング単位Ａに担持される様
々な成分の性質及び／または位置によって、特に高い消
滅係数をもつ、純粋にＵＶ-Ａもしくは反対に純粋にＵ
Ｖ-Ｂを遮断する薬剤を得ることが可能な点である。
【００２５】上述の定義から判るように、本発明によれ
ば、鎖単位-ＳＯ2-Ｎ（Ｒ1）-（ＣＨ2）p-ＣＨ（Ｒ2）-
ＣＨ2-（いわば、スルホンアミド基をもつ化学式（５）
の二価の-Ｙ-基）は、３-ベンジリデンショウノウから
誘導されるスクリーニング単位上に結合されてもよく、
このことにより上記単位のシリコーン含有鎖中のもしく
はシランのシリコン原子への結合は確実なものとなり、
記号Ｘ1、Ｘ2及びＸ3の占める位置のいずれか一つにお
いて、上記鎖単位の-ＳＯ2-末端部が３-ベンジリデンシ
ョウノウから誘導される単位に結合され、その-ＣＨ2-
末端部がシリコーン含有鎖のもしくはシランのシリコン
原子に結合され始める。さらに、使用されるスクリーニ
ング単位が３-ベンジリデンショウノウである特定の場
合には、このスクリーニング単位は、任意で二つのコネ
クター鎖を有してもよく（Ｘ1が二価の-Ｙ-基を表し、
同時にＸ2もしくはＸ3がこの二価の-Ｙ-基を担持するＺ
基を表す場合に実際に可能である）、また二つの異なる
シリコーン含有鎖もしくは二つの異なるシリル単位に結
合されてもよい。
ば、鎖単位-ＳＯ2-Ｎ（Ｒ1）-（ＣＨ2）p-ＣＨ（Ｒ2）-
ＣＨ2-（いわば、スルホンアミド基をもつ化学式（５）
の二価の-Ｙ-基）は、３-ベンジリデンショウノウから
誘導されるスクリーニング単位上に結合されてもよく、
このことにより上記単位のシリコーン含有鎖中のもしく
はシランのシリコン原子への結合は確実なものとなり、
記号Ｘ1、Ｘ2及びＸ3の占める位置のいずれか一つにお
いて、上記鎖単位の-ＳＯ2-末端部が３-ベンジリデンシ
ョウノウから誘導される単位に結合され、その-ＣＨ2-
末端部がシリコーン含有鎖のもしくはシランのシリコン
原子に結合され始める。さらに、使用されるスクリーニ
ング単位が３-ベンジリデンショウノウである特定の場
合には、このスクリーニング単位は、任意で二つのコネ
クター鎖を有してもよく（Ｘ1が二価の-Ｙ-基を表し、
同時にＸ2もしくはＸ3がこの二価の-Ｙ-基を担持するＺ
基を表す場合に実際に可能である）、また二つの異なる
シリコーン含有鎖もしくは二つの異なるシリル単位に結
合されてもよい。
【００２６】ベンゾトリアゾール型（化学式４．２）も
しくはベンズイミダゾール型（化学式４．３）もしくは
ベンゾフェノン型（化学式４．４）の場合には一つのコ
ネクター鎖単位-Ｙ-があるのみである；この鎖単位は、
ベンゾトリアゾールの場合には記号Ｘ4及びＸ5が占める
位置のいずれか一つに配置され、他の二者の場合にはは
っきり限定した位置に配置される。
しくはベンズイミダゾール型（化学式４．３）もしくは
ベンゾフェノン型（化学式４．４）の場合には一つのコ
ネクター鎖単位-Ｙ-があるのみである；この鎖単位は、
ベンゾトリアゾールの場合には記号Ｘ4及びＸ5が占める
位置のいずれか一つに配置され、他の二者の場合にはは
っきり限定した位置に配置される。
【００２７】上記化学式（１）〜（３）においては、ア
ルキル基は直線状もしくは分枝状のものであってよく、
特にメチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-
ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ｎ-アミル、イソア
ミル、ネオペンチル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプチル、ｎ-
オクチル、２-エチルヘキシル及びtert-オクチル基より
選択されるものであるとよい。さらに詳しくは、Ｒ、
Ｒ’及びＢ基は、すべてメチル基である。ハロゲン類に
関しては、特に塩素、フッ素及び臭素より選択され、塩
素であるのが好ましい。アルコキシ基は、特にメトキ
シ、エトキシ、ｎ-プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ-ブ
トキシ及びイソブトキシ基より選択されるとよい。
ルキル基は直線状もしくは分枝状のものであってよく、
特にメチル、エチル、ｎ-プロピル、イソプロピル、ｎ-
ブチル、イソブチル、tert-ブチル、ｎ-アミル、イソア
ミル、ネオペンチル、ｎ-ヘキシル、ｎ-ヘプチル、ｎ-
オクチル、２-エチルヘキシル及びtert-オクチル基より
選択されるものであるとよい。さらに詳しくは、Ｒ、
Ｒ’及びＢ基は、すべてメチル基である。ハロゲン類に
関しては、特に塩素、フッ素及び臭素より選択され、塩
素であるのが好ましい。アルコキシ基は、特にメトキ
シ、エトキシ、ｎ-プロポキシ、イソプロポキシ、ｎ-ブ
トキシ及びイソブトキシ基より選択されるとよい。
【００２８】上記化学式（１）〜（３）の中では、化学
式（１）もしくは化学式（２）に相当するものを用いる
ことが好ましく、すなわち、短鎖で直線状もしくは環状
のジオルガノシロキサンであるとよい。
式（１）もしくは化学式（２）に相当するものを用いる
ことが好ましく、すなわち、短鎖で直線状もしくは環状
のジオルガノシロキサンであるとよい。
【００２９】本発明の範疇に入る直線状もしくは環状の
ジオルガノシロキサンの中では、特に、少なくとも一、
好ましくは下記の特性の全て（スクリーニング単位が３
-ベンジリデンショウノウである場合に三つの記号Ｘ1、
Ｘ2及びＸ3に、もしくはスクリーニング単位がベンゾト
リアゾールである場合に二つの記号Ｘ4及びＸ5につい
て、上述した相互排他の場合を除く）を有するランダム
誘導体もしくははっきり限定したブロック誘導体がより
好ましく： - Ｒはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 - Ｂはアルキル、さらに好ましくはメチル（化学式
（１）の直線状化合物の場合）であり、 - ｒは０から３まで、ｓは０から３まで（化学式
（１）の直線状化合物の場合）であり、 - ｔ＋ｕは３から５まで（化学式（２）の環状化合物
の場合）であり、 - Ｒ1はＨであり、 - Ｒ2はＨもしくはメチルであり、 - ｐは１から３までであり、 - Ｘ1はＨもしくは-Ｙ-であり、 - Ｘ2はＨ、メチル、メトキシ、-Ｙ-もしくはＺであ
り、 - Ｘ3はＨもしくは-Ｙ-であり、 - Ｘ4はtert-ブチルもしくは-Ｙ-であり、 - Ｘ5はＨもしくは-Ｙ-であり、 - Ｒ3はメチルもしくはtert-ブチルである。
ジオルガノシロキサンの中では、特に、少なくとも一、
好ましくは下記の特性の全て（スクリーニング単位が３
-ベンジリデンショウノウである場合に三つの記号Ｘ1、
Ｘ2及びＸ3に、もしくはスクリーニング単位がベンゾト
リアゾールである場合に二つの記号Ｘ4及びＸ5につい
て、上述した相互排他の場合を除く）を有するランダム
誘導体もしくははっきり限定したブロック誘導体がより
好ましく： - Ｒはアルキル、さらに好ましくはメチルであり、 - Ｂはアルキル、さらに好ましくはメチル（化学式
（１）の直線状化合物の場合）であり、 - ｒは０から３まで、ｓは０から３まで（化学式
（１）の直線状化合物の場合）であり、 - ｔ＋ｕは３から５まで（化学式（２）の環状化合物
の場合）であり、 - Ｒ1はＨであり、 - Ｒ2はＨもしくはメチルであり、 - ｐは１から３までであり、 - Ｘ1はＨもしくは-Ｙ-であり、 - Ｘ2はＨ、メチル、メトキシ、-Ｙ-もしくはＺであ
り、 - Ｘ3はＨもしくは-Ｙ-であり、 - Ｘ4はtert-ブチルもしくは-Ｙ-であり、 - Ｘ5はＨもしくは-Ｙ-であり、 - Ｒ3はメチルもしくはtert-ブチルである。
【００３０】本発明の範疇に入る化学式（１）から
（３）の好ましい化合物は、上記の化学式（４．１）に
相当する３-ベンジリデンショウノウ誘導体より選択さ
れるスクリーニング単位Ａを表すものである。
（３）の好ましい化合物は、上記の化学式（４．１）に
相当する３-ベンジリデンショウノウ誘導体より選択さ
れるスクリーニング単位Ａを表すものである。
【００３１】化学式（１）及び（２）のシリコーン含有
スクリーニング剤を調整するためには、下式のヒドロシ
リル化反応を用いた標準的製法（ルート１）に従うこと
が可能である。
スクリーニング剤を調整するためには、下式のヒドロシ
リル化反応を用いた標準的製法（ルート１）に従うこと
が可能である。
【００３２】
【化１９】
【００３３】例えば、全てのＡ基が水素原子であるよう
な、相当するシリコーンから開始することが可能であ
る。この開始シリコーンは、以下にＳｉＨ含有誘導体と
称され；ＳｉＨグループは鎖中及び／またはシリコーン
鎖の末端に存在してもよい。ＳｉＨを含むこれらの誘導
体は、シリコーン工業においてはよく知られた製品であ
り、通常市販のものである。これらは例えば、米国特許
ＵＳ-Ａ-３，２２０，９７２、ＵＳ-Ａ-３，６９７，４
７３及びＵＳ-Ａ-４，３４０，７０９に記載されてい
る。
な、相当するシリコーンから開始することが可能であ
る。この開始シリコーンは、以下にＳｉＨ含有誘導体と
称され；ＳｉＨグループは鎖中及び／またはシリコーン
鎖の末端に存在してもよい。ＳｉＨを含むこれらの誘導
体は、シリコーン工業においてはよく知られた製品であ
り、通常市販のものである。これらは例えば、米国特許
ＵＳ-Ａ-３，２２０，９７２、ＵＳ-Ａ-３，６９７，４
７３及びＵＳ-Ａ-４，３４０，７０９に記載されてい
る。
【００３４】したがってＳｉＨを含むこの誘導体は、場
合によって、下記の化学式（１ｂｉｓ）：
合によって、下記の化学式（１ｂｉｓ）：
【化２０】 ［上記式中、Ｒ、ｒ及びｓは、上記の化学式（１）で与
えられたと同様の意味であり、Ｂ’基は、同一または異
なるもので、Ｒ基及び水素原子より選択されるとよ
い。］、もしくは下記の化学式（２bis）：
えられたと同様の意味であり、Ｂ’基は、同一または異
なるもので、Ｒ基及び水素原子より選択されるとよ
い。］、もしくは下記の化学式（２bis）：
【化２１】 ［Ｒ、ｔ及びｕは、上記の化学式（２）で与えられたと
同様の意味である。］に表される。
同様の意味である。］に表される。
【００３５】化学式（１bis）もしくは（２bis）の、Ｓ
ｉＨを含むこの誘導体に、触媒として効果的な量の白金
触媒の存在下で標準的なヒドロシリル化反応を行った
が、場合によって（すなわち、グラフト化されるスクリ
ーニング単位の性質によって）、 - 下記の化学式（４．１bis）の有機３-ベンジリデン
ショウノウ誘導体：
ｉＨを含むこの誘導体に、触媒として効果的な量の白金
触媒の存在下で標準的なヒドロシリル化反応を行った
が、場合によって（すなわち、グラフト化されるスクリ
ーニング単位の性質によって）、 - 下記の化学式（４．１bis）の有機３-ベンジリデン
ショウノウ誘導体：
【化２２】 ［上式中、Ｘ1Ｘ2及びＸ3は、これら三つの基のうち一
つを除いて上記の化学式（４．１）で与えられたと同様
の意味であって、上記化学式（５）の飽和の二価-Ｙ-基
を表す代わりに、この場合は対応する下記の化学式（５
bis）の不飽和の同族一価-Ｙ’基を表し：
つを除いて上記の化学式（４．１）で与えられたと同様
の意味であって、上記化学式（５）の飽和の二価-Ｙ-基
を表す代わりに、この場合は対応する下記の化学式（５
bis）の不飽和の同族一価-Ｙ’基を表し：
【化２３】 （上式中、Ｒ1、Ｒ2及びｐは化学式（５）における意味
と同様の意味をもち）］； - あるいはまた、下記の化学式（４．２bis）の有機ベ
ンゾトリアゾール誘導体において
と同様の意味をもち）］； - あるいはまた、下記の化学式（４．２bis）の有機ベ
ンゾトリアゾール誘導体において
【化２４】 ［上式中Ｘ4及びＸ5は、これらの二つの基のうち一つを
除いて化学式（４．２）で与えられたと同様の意味であ
って、上記の化学式（５）の飽和の二価-Ｙ-基を表す代
わりにこの場合は対応する下記の化学式（５bis）の不
飽和の同族一価-Ｙ’基を表す］； - あるいはまた、下記の化学式（４．３bis）の有機ベ
ンズイミダゾール誘導体：
除いて化学式（４．２）で与えられたと同様の意味であ
って、上記の化学式（５）の飽和の二価-Ｙ-基を表す代
わりにこの場合は対応する下記の化学式（５bis）の不
飽和の同族一価-Ｙ’基を表す］； - あるいはまた、下記の化学式（４．３bis）の有機ベ
ンズイミダゾール誘導体：
【化２５】 ［上式中、Ｙ’は上記の化学式（５bis）の不飽和の一
価基、化学式（４．３）の飽和のジラジカル-Ｙ-の同族
を表す］； - あるいはまた、下記の化学式（４．４bis）の有機ベ
ンゾフェノン誘導体：
価基、化学式（４．３）の飽和のジラジカル-Ｙ-の同族
を表す］； - あるいはまた、下記の化学式（４．４bis）の有機ベ
ンゾフェノン誘導体：
【化２６】 ［上式中、Ｙ’は上記の化学式（５bis）の不飽和の一
価基、化学式（４．４）の飽和のジラジカル-Ｙ-の同族
を表す］のいずれかにおいて、この反応は進む。
価基、化学式（４．４）の飽和のジラジカル-Ｙ-の同族
を表す］のいずれかにおいて、この反応は進む。
【００３６】上記の、本発明の範囲に特に適する、化学
式（４．１bis）の化合物の中では：ａ） Ｎ-アリル-
４-（４，７，７-トリメチル-３-オキソビシクロ-
［２．２．１］ヘプト-２-イリデンメチル）ベンゼンス
ルホンアミド ｂ） Ｎ-アリル-Ｃ-［３-（４-メトキシベンジリデ
ン）-７，７-ジメチル-２-オキソビシクロ［２．２．
１］ヘプト-１-イル］メタンスルホンアミド ｃ） Ｎ-アリル-Ｃ-（３-ベンジリデン-７，７-ジメチ
ル-２-オキソビシクロ［２．２．１］ヘプト-１-イル）
メタンスルホンアミド ｄ） Ｎ-アリル-Ｃ-（３-ベンゾ［１，３］ジオキソー
ル-５-イルメチレン-７，７-ジメチル-２-オキソビシク
ロ［２．２．１］ヘプト-１-イル］メタンスルホンアミ
ド ｅ） Ｎ-（２-メチル-アリル）-４-（４，７，７-トリ
メチル-３-オキソビシクロ［２．２．１］ヘプト-２-イ
リデンメチル）ベンゼンスルホンアミドを挙げることが
できる。
式（４．１bis）の化合物の中では：ａ） Ｎ-アリル-
４-（４，７，７-トリメチル-３-オキソビシクロ-
［２．２．１］ヘプト-２-イリデンメチル）ベンゼンス
ルホンアミド ｂ） Ｎ-アリル-Ｃ-［３-（４-メトキシベンジリデ
ン）-７，７-ジメチル-２-オキソビシクロ［２．２．
１］ヘプト-１-イル］メタンスルホンアミド ｃ） Ｎ-アリル-Ｃ-（３-ベンジリデン-７，７-ジメチ
ル-２-オキソビシクロ［２．２．１］ヘプト-１-イル）
メタンスルホンアミド ｄ） Ｎ-アリル-Ｃ-（３-ベンゾ［１，３］ジオキソー
ル-５-イルメチレン-７，７-ジメチル-２-オキソビシク
ロ［２．２．１］ヘプト-１-イル］メタンスルホンアミ
ド ｅ） Ｎ-（２-メチル-アリル）-４-（４，７，７-トリ
メチル-３-オキソビシクロ［２．２．１］ヘプト-２-イ
リデンメチル）ベンゼンスルホンアミドを挙げることが
できる。
【００３７】上記の化学式（４．１bis）〜（４．４bi
s）は、下式（５ter）の対応する不飽和の（i）
s）は、下式（５ter）の対応する不飽和の（i）
【化２７】 ［上式中、Ｒ1、Ｒ2及びｐは、化学式（５）で与えられ
たと同様の意味を有する］を、（ii）のグラフト化のた
めに望ましいスクリーニング単位の塩化スルホニル、す
なわち： - 下記の化学式（４．１ter）より選択される有機３-
ベンジリデンショウノウ誘導体の塩化スルホニルのいず
れか一つ：
たと同様の意味を有する］を、（ii）のグラフト化のた
めに望ましいスクリーニング単位の塩化スルホニル、す
なわち： - 下記の化学式（４．１ter）より選択される有機３-
ベンジリデンショウノウ誘導体の塩化スルホニルのいず
れか一つ：
【化２８】 ［上式中、Ｘ1、Ｘ2及びＸ3は、これら三つの基のうち
一つが上記化学式（５）の二価の-Ｙ-基を表す代わり
に、一価の-ＳＯ2Ｃｌを表すことを除けば、化学式
（４．１）で与えられたと同様の意味を有する］、ま
た； - 下記の化学式（４．２ter）より選択される有機ベン
ゾトリアゾール誘導体の塩化スルホニル：
一つが上記化学式（５）の二価の-Ｙ-基を表す代わり
に、一価の-ＳＯ2Ｃｌを表すことを除けば、化学式
（４．１）で与えられたと同様の意味を有する］、ま
た； - 下記の化学式（４．２ter）より選択される有機ベン
ゾトリアゾール誘導体の塩化スルホニル：
【化２９】 ［上式中、Ｘ4及びＸ5は、これら二つの基のうち一つが
上記化学式（５）の飽和の二価-Ｙ-基を表す代わりに、
この場合は一価の-ＳＯ2Ｃｌを表すことを除けば、上記
化学式（４．２）で与えられたと同様の意味を有す
る］、また； - 以下の化学式（４．３ter）の塩化ベンゾイミダゾー
ルスルホニル
上記化学式（５）の飽和の二価-Ｙ-基を表す代わりに、
この場合は一価の-ＳＯ2Ｃｌを表すことを除けば、上記
化学式（４．２）で与えられたと同様の意味を有す
る］、また； - 以下の化学式（４．３ter）の塩化ベンゾイミダゾー
ルスルホニル
【化３０】 - あるいは、以下の化学式（４．４ter）の塩化ベンゾ
フェノンスルホニルと反応させることにより、従来の方
法（この点に関しては、特に化学式４．１bisについて
仏国特許出願ＦＲ-Ａ-２，５２９，８８７を参照のこ
と）によって得ることができる。
フェノンスルホニルと反応させることにより、従来の方
法（この点に関しては、特に化学式４．１bisについて
仏国特許出願ＦＲ-Ａ-２，５２９，８８７を参照のこ
と）によって得ることができる。
【化３１】
【００３８】上記の塩化スルホニルは全て、そのものを
従来通りにＤＭＦのような溶媒中での反応により得られ
るものであって、この反応は（i）対応するスルホン酸
ナトリウム（すなわち、この場合は-Ｙ’基が-ＳＯ3Ｎ
ａを表す化学式４．１bis、４．２bis、４．３bis、及
び４．４bisの化合物）と（ii）塩化チオニル（この点
に関しては、特に上記特許出願ＦＲ-Ａ-２，５２９，８
８７を参照のこと）とで行うものである。
従来通りにＤＭＦのような溶媒中での反応により得られ
るものであって、この反応は（i）対応するスルホン酸
ナトリウム（すなわち、この場合は-Ｙ’基が-ＳＯ3Ｎ
ａを表す化学式４．１bis、４．２bis、４．３bis、及
び４．４bisの化合物）と（ii）塩化チオニル（この点
に関しては、特に上記特許出願ＦＲ-Ａ-２，５２９，８
８７を参照のこと）とで行うものである。
【００３９】上記の化学式（１bis）もしくは（２bis）
の化合物と、上記の化学式（４．１bis）から（４．４b
is）とのヒドロシリル化反応を行うために用いる白金触
媒は、よく知られたものであり、広く文献にも紹介され
ている。特に、米国特許ＵＳ-Ａ-３，１５９，６０１、
ＵＳ-Ａ-３，１５９，６０２、ＵＳ-Ａ-３，２２０，９
７２及び欧州特許出願ＥＰ-Ａ-０，０５７，４５９、Ｅ
Ｐ-Ａ-０，１８８，９７８及びＥＰ-Ａ-０，１９０，５
３０には白金の錯体及び有機生成物の記載があり、米国
特許ＵＳ-Ａ-３，４１９，５９３、ＵＳ-Ａ-３，３７
７，４３２及びＵＳ-Ａ-３，８１４，７３０には白金の
錯体及びオルガノポリシロキサンビニルの記載があるこ
とを挙げることができる。化学式（１bis）もしくは
（２bis）の化合物を化学式（４．１bis）から（４．４
bis）の化合物と反応させるためには、化学式（１bis）
もしくは（２bis）の化合物の重量に基づき、金属白金
の重量で計算して、白金触媒の量は５〜６００ppm、好
ましくは１０から２００ppmが、通常用いられる。ヒド
ロシリル化反応は、例えばトルエン、ヘプタン、キシレ
ン、テトラヒドロフランもしくはテトラクロロエチレン
のような大量のもしくは揮発性の有機溶媒中で行うとよ
い。通常は反応混合物を、反応が完結するのに要する時
間、６０〜１２０℃の温度に加熱するのが望ましい。化
学式（１bis）もしくは（２bis）の化合物を、触媒を含
む有機溶媒溶液となっている化学式（４．１bis）、
（４．２bis）、（４．３bis）もしくは（４．４bis）
の化合物に滴々と加えるとよい。化学式（１bis）もし
くは（２bis）の化合物 及び （４．１bis）（もしくは
（４．２bis）〜（４．４bis）のそれぞれの化合物）
を、有機溶媒中の触媒の懸濁液に同時に加えてもよい。
残留ＳｉＨを水酸化カリウムアルコールを用いて検査す
ることによって反応が完結したことを確認し、例えば減
圧蒸留などによって溶媒を除去することが推奨される。
得られた未精製のオイルは、例えばシリカの吸収剤カラ
ムを透過させるなどして精製するとよい。
の化合物と、上記の化学式（４．１bis）から（４．４b
is）とのヒドロシリル化反応を行うために用いる白金触
媒は、よく知られたものであり、広く文献にも紹介され
ている。特に、米国特許ＵＳ-Ａ-３，１５９，６０１、
ＵＳ-Ａ-３，１５９，６０２、ＵＳ-Ａ-３，２２０，９
７２及び欧州特許出願ＥＰ-Ａ-０，０５７，４５９、Ｅ
Ｐ-Ａ-０，１８８，９７８及びＥＰ-Ａ-０，１９０，５
３０には白金の錯体及び有機生成物の記載があり、米国
特許ＵＳ-Ａ-３，４１９，５９３、ＵＳ-Ａ-３，３７
７，４３２及びＵＳ-Ａ-３，８１４，７３０には白金の
錯体及びオルガノポリシロキサンビニルの記載があるこ
とを挙げることができる。化学式（１bis）もしくは
（２bis）の化合物を化学式（４．１bis）から（４．４
bis）の化合物と反応させるためには、化学式（１bis）
もしくは（２bis）の化合物の重量に基づき、金属白金
の重量で計算して、白金触媒の量は５〜６００ppm、好
ましくは１０から２００ppmが、通常用いられる。ヒド
ロシリル化反応は、例えばトルエン、ヘプタン、キシレ
ン、テトラヒドロフランもしくはテトラクロロエチレン
のような大量のもしくは揮発性の有機溶媒中で行うとよ
い。通常は反応混合物を、反応が完結するのに要する時
間、６０〜１２０℃の温度に加熱するのが望ましい。化
学式（１bis）もしくは（２bis）の化合物を、触媒を含
む有機溶媒溶液となっている化学式（４．１bis）、
（４．２bis）、（４．３bis）もしくは（４．４bis）
の化合物に滴々と加えるとよい。化学式（１bis）もし
くは（２bis）の化合物 及び （４．１bis）（もしくは
（４．２bis）〜（４．４bis）のそれぞれの化合物）
を、有機溶媒中の触媒の懸濁液に同時に加えてもよい。
残留ＳｉＨを水酸化カリウムアルコールを用いて検査す
ることによって反応が完結したことを確認し、例えば減
圧蒸留などによって溶媒を除去することが推奨される。
得られた未精製のオイルは、例えばシリカの吸収剤カラ
ムを透過させるなどして精製するとよい。
【００４０】上記の化学式（３）のトリオルガノシラン
型のスクリーニング剤の調製に関しては、やはり上記の
ようにヒドロキシル化反応によって行うことができる
が、この場合は化学式（Ｒ’）3ＳｉＨ（化学式（３bi
s）、式中Ｒ’は化学式（３）のものと同様の意味を有
する）の開始シランと、（最終生成物に望まれるスクリ
ーニング単位によって）上記の化学式（４．１bis）の
有機３-ベンジリデンショウノウ誘導体、上記の化学式
（４．２bis）の有機ベンゾトリアゾール誘導体、上記
の化学式（４．３bis）の有機ベンズイミダゾール誘導
体、及び上記の化学式（４．４bis）の有機ベンゾフェ
ノン誘導体より選択される有機誘導体とで反応を行う。
型のスクリーニング剤の調製に関しては、やはり上記の
ようにヒドロキシル化反応によって行うことができる
が、この場合は化学式（Ｒ’）3ＳｉＨ（化学式（３bi
s）、式中Ｒ’は化学式（３）のものと同様の意味を有
する）の開始シランと、（最終生成物に望まれるスクリ
ーニング単位によって）上記の化学式（４．１bis）の
有機３-ベンジリデンショウノウ誘導体、上記の化学式
（４．２bis）の有機ベンゾトリアゾール誘導体、上記
の化学式（４．３bis）の有機ベンズイミダゾール誘導
体、及び上記の化学式（４．４bis）の有機ベンゾフェ
ノン誘導体より選択される有機誘導体とで反応を行う。
【００４１】化学式（１）及び（２）のシリコーン含有
スクリーニング剤の調製に適当である、別の可能な合成
経路（ルート２）としては、全てのＡ基が下記の化学式
（５quater）の基に置き換えられている、化学式（１）
もしくは化学式（２）にそれぞれ対応する誘導体を用い
て開始することからなる。
スクリーニング剤の調製に適当である、別の可能な合成
経路（ルート２）としては、全てのＡ基が下記の化学式
（５quater）の基に置き換えられている、化学式（１）
もしくは化学式（２）にそれぞれ対応する誘導体を用い
て開始することからなる。
【００４２】
【化３２】
【００４３】上式中、Ｒ１Ｒ２及びｐは、化学式（５）
と同様の意味を有する。
と同様の意味を有する。
【００４４】化学式（５quater）の基は、シリコーン含
有鎖中及び／またはシリコーン含有鎖の末端にあるとよ
い。すなわちこれらの開始アミノシロキサン誘導体は、
下記の化学式（１ter）：
有鎖中及び／またはシリコーン含有鎖の末端にあるとよ
い。すなわちこれらの開始アミノシロキサン誘導体は、
下記の化学式（１ter）：
【化３３】 ［上式中、Ｒ、ｒ及びｓは化学式（１）と同様の意味を
有し、Ｂ''基はＲ基及び化学式（５quater）より選択さ
れるもので、同一でも異なるものでもよい］か、または
下記の化学式（２ter）（環状アミノシロキサン誘導
体）：
有し、Ｂ''基はＲ基及び化学式（５quater）より選択さ
れるもので、同一でも異なるものでもよい］か、または
下記の化学式（２ter）（環状アミノシロキサン誘導
体）：
【化３４】 ［Ｒ、ｔ及びｕは、上記の化学式（２）のに与えられた
意味を有する］によって表される。
意味を有する］によって表される。
【００４５】上記の化学式（１ter）もしくは（２ter）
のアミノシロキサン誘導体は、シリコーン工業において
はよく知られたものであり、通常市販されている。さら
にこれらは特に、短鎖のシリコーン類について特許出願
ＤＥ-Ａ-３，７０２，６３１に記載がある。
のアミノシロキサン誘導体は、シリコーン工業において
はよく知られたものであり、通常市販されている。さら
にこれらは特に、短鎖のシリコーン類について特許出願
ＤＥ-Ａ-３，７０２，６３１に記載がある。
【００４６】これらのアミノシロキサン誘導体はグラフ
ト化されるものとして望ましいスクリーニング単位の塩
化スルホニルと反応させるが、これはすなわち： - 上記の化学式（４．１ter）より選択される有機３-
ベンジリデンショウノウ誘導体の塩化スルホニル； - 上記の化学式（４．２ter）より選択される有機３-
ベンゾトリアゾール誘導体の塩化スルホニル； - 上記の化学式（４．３ter）のベンズイミダゾールの
塩化スルホニル； - 上記の化学式（４．４ter）のベンゾフェノンの塩化
スルホニル；のいずれかである。
ト化されるものとして望ましいスクリーニング単位の塩
化スルホニルと反応させるが、これはすなわち： - 上記の化学式（４．１ter）より選択される有機３-
ベンジリデンショウノウ誘導体の塩化スルホニル； - 上記の化学式（４．２ter）より選択される有機３-
ベンゾトリアゾール誘導体の塩化スルホニル； - 上記の化学式（４．３ter）のベンズイミダゾールの
塩化スルホニル； - 上記の化学式（４．４ter）のベンゾフェノンの塩化
スルホニル；のいずれかである。
【００４７】このように、特に上述の特許出願ＥＰ-Ａ-
０，３９２，８８３及びＥＰ-Ａ-０，３３５，７７７に
記載のもののような従来のスクリーニングシリコーンと
比較すると、本発明によるスクリーニングシリコーンに
は、一以上の構造上の本質的な相違があり、この相違が
これらの顕著な特徴の源となっている：特に、シリコー
ン含有鎖は、選択されたスクリーニング単位にグラフト
化されているが、まず、ずっと短く；次に、選択された
スクリーニング単位が依然としてスルホンアミド基を担
持している。
０，３９２，８８３及びＥＰ-Ａ-０，３３５，７７７に
記載のもののような従来のスクリーニングシリコーンと
比較すると、本発明によるスクリーニングシリコーンに
は、一以上の構造上の本質的な相違があり、この相違が
これらの顕著な特徴の源となっている：特に、シリコー
ン含有鎖は、選択されたスクリーニング単位にグラフト
化されているが、まず、ずっと短く；次に、選択された
スクリーニング単位が依然としてスルホンアミド基を担
持している。
【００４８】上に示したように、上記化学式（１）〜
（３）の化合物は、紫外線（生成物の構造によりＵＶ-
Ａ及び／またはＵＶ-Ｂ）に対してこの上ない本質的な
スクリーニング力を有する。異なる構造の生成物を混合
することによって、いわば、さらに詳しくは、本発明に
よる純粋にＵＶ-Ａ活性である生成物と、本発明による
純粋にＵＶ-Ｂ活性である生成物とを混合することによ
って、有害なＵＶ領域（ＵＶ-Ａ ＋ ＵＶ-Ｂ）全般に、
全体でスクリーニング活性を有する組成物を得ることが
可能になり、これは相当に有利なことである。さらに、
これらが高い脂溶性をもつことにより、上記の化学式
（１）〜（３）の化合物は高濃度にて使用することがで
き、このことによって最終組成物に非常に高い保護因子
を与えることができる；さらにまたこれらは、少なくと
も一の脂肪相もしくは化粧品として許容される有機溶媒
を含む標準的化粧用媒体中に均一に分布することがで
き、したがって皮膚もしくは髪に適用されると効果的な
保護膜を構成することができる。最後に、これらの化粧
品特性は非常に優れており、すなわち、特に従来のスク
リーニングシリコーンと比較するとべたつきが減少し、
より滑らかさを与えるものである。
（３）の化合物は、紫外線（生成物の構造によりＵＶ-
Ａ及び／またはＵＶ-Ｂ）に対してこの上ない本質的な
スクリーニング力を有する。異なる構造の生成物を混合
することによって、いわば、さらに詳しくは、本発明に
よる純粋にＵＶ-Ａ活性である生成物と、本発明による
純粋にＵＶ-Ｂ活性である生成物とを混合することによ
って、有害なＵＶ領域（ＵＶ-Ａ ＋ ＵＶ-Ｂ）全般に、
全体でスクリーニング活性を有する組成物を得ることが
可能になり、これは相当に有利なことである。さらに、
これらが高い脂溶性をもつことにより、上記の化学式
（１）〜（３）の化合物は高濃度にて使用することがで
き、このことによって最終組成物に非常に高い保護因子
を与えることができる；さらにまたこれらは、少なくと
も一の脂肪相もしくは化粧品として許容される有機溶媒
を含む標準的化粧用媒体中に均一に分布することがで
き、したがって皮膚もしくは髪に適用されると効果的な
保護膜を構成することができる。最後に、これらの化粧
品特性は非常に優れており、すなわち、特に従来のスク
リーニングシリコーンと比較するとべたつきが減少し、
より滑らかさを与えるものである。
【００４９】すなわち本発明の主題はまた、好ましくは
少なくとも一の脂肪相もしくは有機溶媒を含む化粧品と
して許容される支持体中に、少なくとも一の、上記の化
学式（１）〜（３）の化合物を効果的な量で含む化粧用
組成物である。
少なくとも一の脂肪相もしくは有機溶媒を含む化粧品と
して許容される支持体中に、少なくとも一の、上記の化
学式（１）〜（３）の化合物を効果的な量で含む化粧用
組成物である。
【００５０】化学式（１）〜（３）の化合物は、通常、
組成物全重量に対して０．１〜２０重量％、好ましくは
０．５〜１０重量％の割合を占める。
組成物全重量に対して０．１〜２０重量％、好ましくは
０．５〜１０重量％の割合を占める。
【００５１】本発明の組成物は、紫外線に対してヒトの
表皮もしくはヒトの髪を保護するための組成物、抗太陽
組成物もしくはメークアップ製品として使用することが
できる。
表皮もしくはヒトの髪を保護するための組成物、抗太陽
組成物もしくはメークアップ製品として使用することが
できる。
【００５２】本組成物は特に、ローション、濃縮ローシ
ョン、ゲル、クリーム、乳液、パウダーもしくは固形ス
テイックの形態とすることができ、任意でエアロゾルと
して包装すること及びフォームもしくはスプレーの形態
とすることができる。
ョン、ゲル、クリーム、乳液、パウダーもしくは固形ス
テイックの形態とすることができ、任意でエアロゾルと
して包装すること及びフォームもしくはスプレーの形態
とすることができる。
【００５３】本組成物は、例えば脂肪成分、有機溶媒、
シリコーン、増粘剤、軟化剤、相補的サンスクリーン、
フォーミング防止剤、保湿剤、香料、防腐剤、界面活性
剤、充填剤、金属イオン封鎖剤、アニオン性、カチオン
性、非イオン性もしくは両性イオン性もしくはこれらの
混合物、推進薬、塩基性もしくは酸性化剤、染料、顔料
もしくはナノピグメント（nanopigments）等の、この分
野で通常用いられる補助剤を含むものであるとよく、特
に物理的に紫外線を遮断することによって相補的な光保
護効果を与えるためのもの、もしくは、特に抗太陽組成
物の製造のための、化粧品に通常用いられる他のあらゆ
る成分を含むものであってよい。
シリコーン、増粘剤、軟化剤、相補的サンスクリーン、
フォーミング防止剤、保湿剤、香料、防腐剤、界面活性
剤、充填剤、金属イオン封鎖剤、アニオン性、カチオン
性、非イオン性もしくは両性イオン性もしくはこれらの
混合物、推進薬、塩基性もしくは酸性化剤、染料、顔料
もしくはナノピグメント（nanopigments）等の、この分
野で通常用いられる補助剤を含むものであるとよく、特
に物理的に紫外線を遮断することによって相補的な光保
護効果を与えるためのもの、もしくは、特に抗太陽組成
物の製造のための、化粧品に通常用いられる他のあらゆ
る成分を含むものであってよい。
【００５４】有機溶媒の中でも、エタノール、イソプロ
パノール、プロピレングリコール、グリセロール及びソ
ルビトール等の低級アルコールを挙げることができる。
パノール、プロピレングリコール、グリセロール及びソ
ルビトール等の低級アルコールを挙げることができる。
【００５５】上記脂肪成分は、オイルもしくはワックス
もしくはこれらの混合物、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂
肪アルコール、ワセリン、パラフィン、ラノリン、水素
化ラノリンもしくはアセチル化ラノリンからなるもので
あるとよい。上記オイルは、動物性、植物性、鉱物性も
しくは合成のオイルより選択され、特に水素化パームオ
イル、水素化カスターオイル、流動ワセリン、流動パラ
フィン、パーセリンオイル（purcellin oil）、精製の
もしくは未精製のシリコーンオイル、及びイソパラフィ
ンより選択されるとよい。
もしくはこれらの混合物、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂
肪アルコール、ワセリン、パラフィン、ラノリン、水素
化ラノリンもしくはアセチル化ラノリンからなるもので
あるとよい。上記オイルは、動物性、植物性、鉱物性も
しくは合成のオイルより選択され、特に水素化パームオ
イル、水素化カスターオイル、流動ワセリン、流動パラ
フィン、パーセリンオイル（purcellin oil）、精製の
もしくは未精製のシリコーンオイル、及びイソパラフィ
ンより選択されるとよい。
【００５６】本発明の化粧用組成物が、より詳しくはＵ
Ｖ光線に対して、もしくは抗太陽組成物としてヒトの表
皮を保護するためものである場合には、これは溶媒もし
くは脂肪成分中の懸濁液もしくは分散液の形態であると
よく、あるいはまたクリームもしくは乳液のようなエマ
ルションの形態（特にＯ／ＷもしくはＷ／Ｏ型のもの、
ただし、Ｏ／Ｗ型であることが好ましい）、もしくは小
胞分散体、軟膏、ゲル、固形ステイックもしくはエアロ
ゾルの形態であるとよい。上記エマルションは、アニオ
ン性、非イオン性、カチオン性もしくは両性界面活性剤
を、さらに含んでもよい。
Ｖ光線に対して、もしくは抗太陽組成物としてヒトの表
皮を保護するためものである場合には、これは溶媒もし
くは脂肪成分中の懸濁液もしくは分散液の形態であると
よく、あるいはまたクリームもしくは乳液のようなエマ
ルションの形態（特にＯ／ＷもしくはＷ／Ｏ型のもの、
ただし、Ｏ／Ｗ型であることが好ましい）、もしくは小
胞分散体、軟膏、ゲル、固形ステイックもしくはエアロ
ゾルの形態であるとよい。上記エマルションは、アニオ
ン性、非イオン性、カチオン性もしくは両性界面活性剤
を、さらに含んでもよい。
【００５７】本発明による化粧用組成物が、髪の保護の
ために用いられる場合は、シャンプー、ローション、ゲ
ルもしくは洗い流して、シャンプーの前後、染色もしく
は脱色の前、髪のパーマネントウエーブもしくはストレ
ートパーマ処理の前、間及び後に適用される組成物の形
態、もしくはスタイリングもしくはトリートメントロー
ションもしくはゲル、ブロー乾燥用もしくはヘアセット
用ローションもしくはゲル、ヘアスプレー、パーマネン
トウエーブ用もしくはストレートパーマ用組成物、ある
いは髪の染色もしくは脱色のための組成物であるとよ
い。
ために用いられる場合は、シャンプー、ローション、ゲ
ルもしくは洗い流して、シャンプーの前後、染色もしく
は脱色の前、髪のパーマネントウエーブもしくはストレ
ートパーマ処理の前、間及び後に適用される組成物の形
態、もしくはスタイリングもしくはトリートメントロー
ションもしくはゲル、ブロー乾燥用もしくはヘアセット
用ローションもしくはゲル、ヘアスプレー、パーマネン
トウエーブ用もしくはストレートパーマ用組成物、ある
いは髪の染色もしくは脱色のための組成物であるとよ
い。
【００５８】本発明による組成物が、例えばスキントリ
ートメントクリーム、ファンデーション、口紅のステイ
ック、アイシャドウ、ブラッシャー、アイライナー、マ
スカラもしくはカラーリングゲルのような、眉、睫毛、
皮膚もしくは髪のための、メイクアップ製品として用い
られる場合、水中油型もしくは油中水型のエマルショ
ン、懸濁液もしくはゲルのような、固体もしくはペース
ト状の、両性もしくは水性の形態であるとよい。
ートメントクリーム、ファンデーション、口紅のステイ
ック、アイシャドウ、ブラッシャー、アイライナー、マ
スカラもしくはカラーリングゲルのような、眉、睫毛、
皮膚もしくは髪のための、メイクアップ製品として用い
られる場合、水中油型もしくは油中水型のエマルショ
ン、懸濁液もしくはゲルのような、固体もしくはペース
ト状の、両性もしくは水性の形態であるとよい。
【００５９】本発明の主題はまた、上記の化粧用組成
物、もしくは上記の（１）、（２）もしくは（３）の化
合物の効果的な量を皮膚もしくは髪に適用することから
成る、特に太陽光線等の紫外線に対する皮膚及び髪の保
護のための方法である。
物、もしくは上記の（１）、（２）もしくは（３）の化
合物の効果的な量を皮膚もしくは髪に適用することから
成る、特に太陽光線等の紫外線に対する皮膚及び髪の保
護のための方法である。
【００６０】下記の実施例は、本発明をその範囲を限定
することなく詳説するものである。
することなく詳説するものである。
【００６１】
（実施例１）本実施例は、Ｎ-３-［１，３，３，３-テ
トラメチル-１-［（トリメチルシリル）オキシ］ジシロ
キサニル］プロピル-４-（４，７，７-トリメチル）-３
-オキソビシクロ［２．２．１］ヘプト-２-イリデンメ
チル）ベンゼンスルホンアミド、すなわち本発明による
下式に相当する化合物の調製（ルート１による）を詳説
するものである。：
トラメチル-１-［（トリメチルシリル）オキシ］ジシロ
キサニル］プロピル-４-（４，７，７-トリメチル）-３
-オキソビシクロ［２．２．１］ヘプト-２-イリデンメ
チル）ベンゼンスルホンアミド、すなわち本発明による
下式に相当する化合物の調製（ルート１による）を詳説
するものである。：
【００６２】
【化３５】
【００６３】上式中、Ａは下記のものを表す。
【００６４】
【化３６】 （本生成物は化学式（１）の化合物に相当し、Ｒ＝Ｂ＝
ＣＨ3；ｒ＝０，ｓ＝１；Ｘ1＝Ｘ3＝Ｈ；Ｒ1＝Ｒ2＝
Ｈ；ｐ＝１である）
ＣＨ3；ｒ＝０，ｓ＝１；Ｘ1＝Ｘ3＝Ｈ；Ｒ1＝Ｒ2＝
Ｈ；ｐ＝１である）
【００６５】ａ） 第一段階 ４-（４，７，７-トリメチル）-３-オキソビシクロ
［２．２．１］ヘプト-２-イリデンメチル）ベンゼンス
ルホン酸のナトリウム塩３４．２gと、ジメチルホルム
アミド２００mlとを、５００mlの反応容器に導入した。
ここに塩化チオニル１３gを滴下して導入した。この反
応混合物を室温にて２時間攪拌した。次にアリルアミン
（６．３g）、その後トリエチルアミン（１１．１g）を
滴下し、攪拌を３時間続けた。反応混合物を水３００ml
中に注いだ。得られた固形物の水気を切り、乾燥させ、
精製して、下記の特性を有するＮ-アリル-４-（４，
７，７-トリメチル-３-オキソビシクロ［２．２．１］
ヘプト-２-イリデンメチル）ベンゼンスルホンアミド２
１．４gを回収した： 白色粉末 m.p.：１３１℃ 元素分析： 理論値 Ｃ 67.09 Ｈ 7.04 Ｎ 3.66 Ｓ 8.88 実測値 Ｃ 66.82 Ｈ 7.01 Ｎ 3.90 Ｓ 8.92
［２．２．１］ヘプト-２-イリデンメチル）ベンゼンス
ルホン酸のナトリウム塩３４．２gと、ジメチルホルム
アミド２００mlとを、５００mlの反応容器に導入した。
ここに塩化チオニル１３gを滴下して導入した。この反
応混合物を室温にて２時間攪拌した。次にアリルアミン
（６．３g）、その後トリエチルアミン（１１．１g）を
滴下し、攪拌を３時間続けた。反応混合物を水３００ml
中に注いだ。得られた固形物の水気を切り、乾燥させ、
精製して、下記の特性を有するＮ-アリル-４-（４，
７，７-トリメチル-３-オキソビシクロ［２．２．１］
ヘプト-２-イリデンメチル）ベンゼンスルホンアミド２
１．４gを回収した： 白色粉末 m.p.：１３１℃ 元素分析： 理論値 Ｃ 67.09 Ｈ 7.04 Ｎ 3.66 Ｓ 8.88 実測値 Ｃ 66.82 Ｈ 7.01 Ｎ 3.90 Ｓ 8.92
【００６６】ｂ） 第二段階 上記のように得られた生成物１７．９７g及びトルエン
５０mlを反応容器に入れた。この混合物を窒素雰囲気下
で８０℃に加熱した。ヒドロシリル化触媒（シクロビニ
ルメチルシロキサン中にＰｔ３〜３．５％を含有する錯
体１００μm、Huls Petrarch PC085）を加え、続いてヘ
プタメチルトリシロキサン１１．２４gを加えた。
５０mlを反応容器に入れた。この混合物を窒素雰囲気下
で８０℃に加熱した。ヒドロシリル化触媒（シクロビニ
ルメチルシロキサン中にＰｔ３〜３．５％を含有する錯
体１００μm、Huls Petrarch PC085）を加え、続いてヘ
プタメチルトリシロキサン１１．２４gを加えた。
【００６７】窒素雰囲気下で８０℃に４時間保った後、
反応媒体を濃縮し、シリカ上で加圧下にてクロマトグラ
フィーを行った（溶離剤：ヘプタン／ＥｔＯＡｃ ９７
／３）。このようにして下記の特性を有する望ましい最
終生成物が２１．８g得られた。 白色粉末 m.p.：７３℃ 元素分析： 理論値 Ｃ 55.72 Ｈ 8.14 Ｎ 2.41 Ｓ 5.51 Ｓｉ
14.48 実測値 Ｃ 55.88 Ｈ 8.09 Ｎ 2.62 Ｓ 5.49 Ｓｉ
14.28
反応媒体を濃縮し、シリカ上で加圧下にてクロマトグラ
フィーを行った（溶離剤：ヘプタン／ＥｔＯＡｃ ９７
／３）。このようにして下記の特性を有する望ましい最
終生成物が２１．８g得られた。 白色粉末 m.p.：７３℃ 元素分析： 理論値 Ｃ 55.72 Ｈ 8.14 Ｎ 2.41 Ｓ 5.51 Ｓｉ
14.48 実測値 Ｃ 55.88 Ｈ 8.09 Ｎ 2.62 Ｓ 5.49 Ｓｉ
14.28
【００６８】本化合物のＵＶ吸収特性は、以下の通りで
あった（エタノール中で測定）： λmax： ２９５nm εmax： ２８，９００
あった（エタノール中で測定）： λmax： ２９５nm εmax： ２８，９００
【００６９】したがって、本生成物はＵＶ-Ｂ領域で活
性なサンスクリーンとして非常に効果的に使用すること
ができる。
性なサンスクリーンとして非常に効果的に使用すること
ができる。
【００７０】（実施例２）実施例１に与えられたと同様
の方法に従って本発明による他の４つの化合物（化合物
Ａ〜Ｄ）を調製したが、これらは全て一般式（１）の範
疇に入り、下記の同一のシリコン骨格を有する。
の方法に従って本発明による他の４つの化合物（化合物
Ａ〜Ｄ）を調製したが、これらは全て一般式（１）の範
疇に入り、下記の同一のシリコン骨格を有する。
【００７１】
【化３７】
【００７２】しかし、上記化合物は、それぞれ異なる性
質のスクリーニング単位を有するものである。
質のスクリーニング単位を有するものである。
【００７３】結果を表１にまとめた。
【００７４】
【表１】
【００７５】このように、上記化合物Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤ
はそれぞれ、ＵＶ-Ａ領域、ＵＶ-Ｂ領域、ＵＶ-Ａ領域
及びＵＶ-Ｂ領域において活性なサンスクリーンとして
非常に効果的に用いることができる。
はそれぞれ、ＵＶ-Ａ領域、ＵＶ-Ｂ領域、ＵＶ-Ａ領域
及びＵＶ-Ｂ領域において活性なサンスクリーンとして
非常に効果的に用いることができる。
【００７６】（実施例３）本実施例はビス-Ｎ-｛３-
［１，３，３，３-テトラメチル-１-［（トリメチルシ
リル）オキシ］ジシロキサニル］プロピル｝-３，３’-
テトラフタルイリデン-１０，１０’-ジカンファスルホ
ンアミド、すなわち本発明による次式に相当する化合物
の調製（ルート２による）を詳説するものである。
［１，３，３，３-テトラメチル-１-［（トリメチルシ
リル）オキシ］ジシロキサニル］プロピル｝-３，３’-
テトラフタルイリデン-１０，１０’-ジカンファスルホ
ンアミド、すなわち本発明による次式に相当する化合物
の調製（ルート２による）を詳説するものである。
【００７７】
【化３８】 （本生成物は化学式（１）に相当し、Ｒ＝Ｂ＝ＣＨ3；
ｒ＝０，ｓ＝１；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈでｐ＝１であるときＸ1
＝-Ｙ-；Ｘ2＝Ｚ；Ｘ3＝Ｈ；である）
ｒ＝０，ｓ＝１；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈでｐ＝１であるときＸ1
＝-Ｙ-；Ｘ2＝Ｚ；Ｘ3＝Ｈ；である）
【００７８】３，３-テレフタルイリデン-１０，１０’
-ジカンファスルホン酸４g及びジメチルホルムアミド１
６mlとを、反応容器に入れた。ここに塩化チオニル１．
１mlを滴下して導入し、１時間半攪拌を続けた。この不
均一な混合物を少量ずつトリエチルアミン（３．０４
g）と１-アミノ-１-［１，３，３，３-テトラメチル-３
-［（トリメチルシリル）-オキシ］ジシロキサニル］プ
ロパン（４．２g）との混合物に加えた。この反応混合
物を３時間室温に保ち、これを氷温水１００mlに注ぎ込
み、最後にジクロロメタンで抽出した。有機相を硫酸ナ
トリウムで乾燥させ、濃縮した。シリカ上でのクロマト
グラフィー（溶離剤：ＣＨ2Ｃｌ2）の後、下記の特性を
有する望ましい最終生成物が３g得られた。 白色粉末 m.p.：１７６〜１７７℃ 元素分析： 理論値 Ｃ 52.23 Ｈ 8.00 Ｎ 2.65 Ｓ 6.06 Ｓｉ
15.93 実測値 Ｃ 52.92 Ｈ 8.12 Ｎ 2.43 Ｓ 5.94 Ｓｉ
15.37
-ジカンファスルホン酸４g及びジメチルホルムアミド１
６mlとを、反応容器に入れた。ここに塩化チオニル１．
１mlを滴下して導入し、１時間半攪拌を続けた。この不
均一な混合物を少量ずつトリエチルアミン（３．０４
g）と１-アミノ-１-［１，３，３，３-テトラメチル-３
-［（トリメチルシリル）-オキシ］ジシロキサニル］プ
ロパン（４．２g）との混合物に加えた。この反応混合
物を３時間室温に保ち、これを氷温水１００mlに注ぎ込
み、最後にジクロロメタンで抽出した。有機相を硫酸ナ
トリウムで乾燥させ、濃縮した。シリカ上でのクロマト
グラフィー（溶離剤：ＣＨ2Ｃｌ2）の後、下記の特性を
有する望ましい最終生成物が３g得られた。 白色粉末 m.p.：１７６〜１７７℃ 元素分析： 理論値 Ｃ 52.23 Ｈ 8.00 Ｎ 2.65 Ｓ 6.06 Ｓｉ
15.93 実測値 Ｃ 52.92 Ｈ 8.12 Ｎ 2.43 Ｓ 5.94 Ｓｉ
15.37
【００７９】本化合物のＵＶ吸収特性は、以下の通りで
あった（ＣＨＣｌ3中で測定）： λmax： ３４４nm εmax： ４７，１００
あった（ＣＨＣｌ3中で測定）： λmax： ３４４nm εmax： ４７，１００
【００８０】したがって、本生成物はＵＶ-Ａ領域で活
性なサンスクリーンとして非常に効果的に使用すること
ができる。
性なサンスクリーンとして非常に効果的に使用すること
ができる。
【００８１】（実施例４）本実施例は２-フェニル-１Ｈ
-ベンズイミダゾール-５-｛Ｎ-３-［１，３，３，３-テ
トラメチル-１-［（トリメチルシリル）オキシ］-ジシ
ロキサニル］プロピル｝スルホンアミド、すなわち本発
明による化式に相当する化合物の調製（ルート２によ
る）を詳説するものである。
-ベンズイミダゾール-５-｛Ｎ-３-［１，３，３，３-テ
トラメチル-１-［（トリメチルシリル）オキシ］-ジシ
ロキサニル］プロピル｝スルホンアミド、すなわち本発
明による化式に相当する化合物の調製（ルート２によ
る）を詳説するものである。
【００８２】
【化３９】
【００８３】上式中、Ａは下式を表す。
【００８４】
【化４０】 （本生成物は化学式（１）に相当し、Ｒ＝Ｂ＝ＣＨ3；
ｒ＝０；ｓ＝１；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈでｐ＝１）
ｒ＝０；ｓ＝１；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈでｐ＝１）
【００８５】無水ジクロロメタン１００ml、トリエチル
アミン６０ml及びヘプタメチルアミノプロピルトリシロ
キサン（化学式（１ter）に相当する生成物であって、
Ｒ＝Ｂ''＝ＣＨ3；ｒ＝０；ｓ＝１；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈ；ｐ
＝１であるもの）を反応器に入れた。２-フェニル-１Ｈ
-ベンズイミダゾール-５-スルホニルクロリド２３．４g
を、室温にて、１時間半かけて少量ずつこの混合物に加
えた。得られた不均一な混合物を３時間６０℃に加熱し
た。冷却した後、反応混合物を水３００mlに注ぎ込ん
だ。ジクロロメタンで抽出し、シリカ上でのクロマトグ
ラフィー（溶離剤：ヘプタン／ＣＨ2Ｃｌ2 ５０／５
０）により精製し、下記の特性を有する望ましい最終生
成物８gを得られた。： 白色粉末 m.p.：１６９〜１７０℃
アミン６０ml及びヘプタメチルアミノプロピルトリシロ
キサン（化学式（１ter）に相当する生成物であって、
Ｒ＝Ｂ''＝ＣＨ3；ｒ＝０；ｓ＝１；Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈ；ｐ
＝１であるもの）を反応器に入れた。２-フェニル-１Ｈ
-ベンズイミダゾール-５-スルホニルクロリド２３．４g
を、室温にて、１時間半かけて少量ずつこの混合物に加
えた。得られた不均一な混合物を３時間６０℃に加熱し
た。冷却した後、反応混合物を水３００mlに注ぎ込ん
だ。ジクロロメタンで抽出し、シリカ上でのクロマトグ
ラフィー（溶離剤：ヘプタン／ＣＨ2Ｃｌ2 ５０／５
０）により精製し、下記の特性を有する望ましい最終生
成物８gを得られた。： 白色粉末 m.p.：１６９〜１７０℃
【００８６】本化合物のＵＶ吸収特性は、以下の通りで
あった（エタノール中で測定）： λmax： ３０５nm εmax： ２９，５００ λmax： ３１７nm εmax： １９，６７５
あった（エタノール中で測定）： λmax： ３０５nm εmax： ２９，５００ λmax： ３１７nm εmax： １９，６７５
【００８７】したがって、本生成物はＵＶ-Ｂ領域で活
性なサンスクリーン剤として非常に効果的に使用するこ
とができる。
性なサンスクリーン剤として非常に効果的に使用するこ
とができる。
【００８８】（実施例５）実施例４に与えられたと同様
の方法に従って、下記の化学式に相当する本発明による
別の化合物を調製した。
の方法に従って、下記の化学式に相当する本発明による
別の化合物を調製した。
【００８９】
【化４１】
【００９０】上式中、Ａは下式を表す。
【００９１】
【化４２】 （本生成物は化学式（１）に相当し、Ｒ＝Ｂ＝ＣＨ3；
ｒ＝０，ｓ＝１；Ｘ4＝-Ｙ-でＲ1＝Ｒ2＝Ｈ及びｐ＝１
であるときＲ3＝メチルである）
ｒ＝０，ｓ＝１；Ｘ4＝-Ｙ-でＲ1＝Ｒ2＝Ｈ及びｐ＝１
であるときＲ3＝メチルである）
【００９２】本化合物のＵＶ吸収特性は、以下の通りで
あった（エタノール中で測定）： λmax： ２９４nm εmax： １２，１００ λmax： ３２５nm εmax： ７，３００
あった（エタノール中で測定）： λmax： ２９４nm εmax： １２，１００ λmax： ３２５nm εmax： ７，３００
【００９３】したがって、本生成物はＵＶ-Ｂ領域及び
ＵＶ-Ａ領域で活性なサンスクリーン剤として非常に効
果的に使用することができる。
ＵＶ-Ａ領域で活性なサンスクリーン剤として非常に効
果的に使用することができる。
【００９４】（実施例６）本発明による具体的な抗太陽
化粧用組成物の具体的な処方、すなわち抗太陽クリーム
を、ここに示す。
化粧用組成物の具体的な処方、すなわち抗太陽クリーム
を、ここに示す。
【００９５】 - 実施例１の化合物 5g - セチルステアリルアルコールと ＥＯ（Henkel社製の“ＳＩＮＮＯＷＡＸ ＡＯ”）３３molでオキシエチレン化した セチルステアリルアルコールとの混合物 7g - 非-自発-乳化性グリセリルモノ-及び ジステアラートとの混合物 2g - セチルアルコール 1.5g - Ｃ12-Ｃ15アルキルベンゾアート （Witco社製の“ＦＩＮＳＯＬＶ ＴＮ”） 20g - ポリジメチルシロキサン 1.5g - グリセリン 17.5g - 香料、防腐剤 適量 - 水 全体を100gとする量
【００９６】このクリームは、乳化剤を含む脂肪相中に
スクリーニング剤を溶解し、この脂肪相を７０〜８０℃
に加熱し、激しく攪拌しながら同じ温度にまで加熱して
おいた水を加える、エマルションを調製する標準的な方
法によって調整した。１０〜１５分間攪拌を続け、穏や
かに攪拌しながら冷却した後、最後に約４０℃にて香料
及び防腐剤を加えた。
スクリーニング剤を溶解し、この脂肪相を７０〜８０℃
に加熱し、激しく攪拌しながら同じ温度にまで加熱して
おいた水を加える、エマルションを調製する標準的な方
法によって調整した。１０〜１５分間攪拌を続け、穏や
かに攪拌しながら冷却した後、最後に約４０℃にて香料
及び防腐剤を加えた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｌ 83/08 ＬＲＲ Ｃ０８Ｌ 83/08 ＬＲＲ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４ Ｃ０９Ｋ 3/00 １０４Ｚ １０４Ｂ １０４Ｃ (72)発明者 アラン・ラグランジ フランス・77450・クープヴレイ・リュ・ ドゥ・モントリ・５
Claims (30)
- 【請求項１】 下記の化学式（１）〜（３） 【化１】 または 【化２】 または 【化３】 において、 - Ｒ基は、同一でも異なるものでもよく、Ｃ1-Ｃ10ア
ルキル、フェニル及び３，３，３-トリフルオロプロピ
ル基より選択され、数値的に少なくとも８０％のＲ基が
メチルであって、 - Ｂ基は、同一でも異なるものでもよく、上記Ｒ基及
び下記のＡ基より選択され、 - Ｒ’基は、同一でも異なるものでもよく、Ｃ1-Ｃ8ア
ルキル基、もしくはフェニル基より選択され、 - ｒは、０から５０までの整数であって、ｓは０から
２０までの整数であって、ｓが０である場合は二つの記
号Ｂのうち少なくとも一つはＡを表し、 -
ｕは１から６までの整数であって、ｔは０から１０まで
の整数であって、ｔ＋ｕが３以上であることを前提と
し、 - 記号Ａはシリコン原子に直接結合する基を表し、上
記のＡ基が下記の化学式（４．１）〜（４．４）： 【化４】 ［上記（４．１）式中、 ★ Ｘは水素原子もしくは下記化学式（５）の二価の-
Ｙ-基を表し； 【化５】 （上記（５）式中、 - Ｒ1は水素原子もしくはＣ1-Ｃ4アルキルもしくはヒ
ドロキシアルキル基を表し、 - Ｒ2は水素原子もしくはＣ1-Ｃ6アルキルもしくはＣ1
-Ｃ6アルコキシ基を表し、 - ｐは１から１０までの整数であり、 - 末端-ＣＨ2-基が直接シリコン原子に結合してい
る）； ★ Ｘ2及びＸ3は、同一でも異なるものでもよく、水素
原子もしくはハロゲン原子、Ｃ1-Ｃ4アルキルもしくは
アルコキシ基、二価の-Ｙ-基もしくは下記の化学式
（６）： 【化６】 のＺ基を表すか、あるいはまたＸ2及びＸ3が共に、アル
キリデン基が１または２の炭素原子を含むアルキリデン
ジオキシ基を形成し、上式（４．１）においては下記の
事項を前提とする。： - 三つの記号Ｘ1、Ｘ2及びＸ3の一つが二価の-Ｙ-基を
必然的に表し、他の二つの残りの記号は二価の-Ｙ-基を
表してはならず、 - Ｘ1が水素原子を表す場合、Ｘ2及びＸ3は必然的に異
なり、このどちらもがＺ基を表してはならず、 - Ｘ1が二価の-Ｙ-基を表す場合、Ｘ2及びＸ3は同時に
Ｚ基を表してもよく、 - Ｘ1が水素原子を表し、Ｘ3が二価の-Ｙ-基を表す場
合、Ｘ2は水素原子以外であることが望ましく］、 【化７】 ［上記化学式（４．２）中、 ★ Ｘ4は水素原子、Ｃ1-Ｃ8アルキル基もしくは二価の
-Ｙ-基を表し、 ★ Ｘ5は水素原子もしくはＣ1-Ｃ4アルキル基もしくは
アルコキシル基もしくは二価の-Ｙ-基を表し、 ★ Ｒ3はＣ1-Ｃ8アルキル基を表し、二つの記号Ｘ4及
びＸ5のうち、一つは必然的に二価の-Ｙ-基を表さねば
ならず、残りの記号が二価の-Ｙ-基を表すことはあり得
ない。］ 【化８】 【化９】 に相当することを特徴とする新規化合物。 - 【請求項２】 化学式（１）あるいは化学式（２）に相
当し、Ｒ基がアルキル基であることを特徴とする請求項
１に記載の新規化合物。 - 【請求項３】 Ｒ基がメチル、エチル、プロピル、ｎ-
ブチル、ｎ-オクチルもしくは２-エチルヘキシル基であ
ることを特徴とする請求項２に記載の新規化合物。 - 【請求項４】 Ｒ基がメチル基であることを特徴とする
請求項３に記載の新規化合物。 - 【請求項５】 化学式（１）に相当し、Ｂ基がアルキル
基であることを特徴とする請求項１から４のいずれか１
項に記載の新規化合物。 - 【請求項６】 Ｂ基がメチル、エチル、プロピル、ｎ-
ブチル、ｎ-オクチルもしくは２-エチルヘキシル基であ
ることを特徴とする請求項５に記載の新規化合物。 - 【請求項７】 Ｂ基がメチル基であることを特徴とする
請求項６に記載の新規化合物。 - 【請求項８】 化学式（１）に相当し、ｒが０から３で
あって、ｓが０から３までであることを特徴とする請求
項１から７のいずれか１項に記載の新規化合物。 - 【請求項９】 化学式（２）に相当し、ｔ＋ｕが３から
５までであることを特徴とする請求項１から４のいずれ
か１項に記載の新規化合物。 - 【請求項１０】 化学式（３）に相当し、Ｒ’基が、メ
チル、エチル、プロピル、ｎ-ブチル、ｎ-オクチル及び
２-エチルヘキシル基であることを特徴とする請求項１
に記載の新規化合物。 - 【請求項１１】 Ｒ’基がメチル基であることを特徴と
する請求項１０に記載の新規化合物。 - 【請求項１２】 二価の-Ｙ-基においてｐが１から３ま
でであることを特徴とする請求項１から１１のいずれか
１項に記載の新規化合物。 - 【請求項１３】 二価の-Ｙ-基においてＲ1が水素原子
を表すことを特徴とする請求項１から１２のいずれか１
項に記載の新規化合物。 - 【請求項１４】 二価の-Ｙ-基においてＲ2が水素原子
あるいはメチル基を表すことを特徴とする請求項１から
１３のいずれか１項に記載の新規化合物。 - 【請求項１５】 Ａが化学式（４．１）に相当すること
を特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の
新規化合物。 - 【請求項１６】 Ｘ2がハロゲン、メチル、メトキシも
しくは-Ｙ-基であることを特徴とする請求項１５に記載
の新規化合物。 - 【請求項１７】 Ｘ3が水素原子もしくは-Ｙ-基である
ことを特徴とする請求項１５と１６のいずれか１項に記
載の新規化合物。 - 【請求項１８】 Ａが化学式（４．２）に相当すること
を特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の
新規化合物。 - 【請求項１９】 Ｘ4がtert-ブチルあるいは-Ｙ-基であ
ることを特徴とする請求項１８に記載の新規化合物。 - 【請求項２０】 Ｘ5が水素原子もしくは-Ｙ-基である
ことを特徴とする請求項１８と１９のいずれか１項に記
載の新規化合物。 - 【請求項２１】 Ｒ3がメチルあるいはtert-ブチルであ
ることを特徴とする請求項１８から２０のいずれか１項
に記載の新規化合物。 - 【請求項２２】 Ａが化学式（４．３）に相当すること
を特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の
新規化合物。 - 【請求項２３】 Ａが化学式（４．４）に相当すること
を特徴とする請求項１から１４のいずれか１項に記載の
新規化合物。 - 【請求項２４】 ＵＶ-Ａ及び／またはＵＶ-Ｂ領域にお
いて活性であるサンスクリーン剤としての、請求項１か
ら２３のいずれか１項に記載の化学式（１）〜（３）の
化合物の使用。 - 【請求項２５】 化粧品として許容される媒体中に、請
求項１から２３のいずれか１項に記載の少なくとも一の
化合物の効果的な量を含むことを特徴とする、紫外線を
遮断するための化粧用組成物。 - 【請求項２６】 上記の化粧用として許容される媒体中
に少なくとも一の脂肪相あるいは有機溶媒を含むことを
特徴とする請求項２５に記載の化粧用組成物。 - 【請求項２７】 上記の媒体が、水中油型あるいは油中
水型のエマルションの形態であることを特徴とする請求
項２６に記載の化粧用組成物。 - 【請求項２８】 スクリーニング化合物の含有量が、組
成物全重量に対して０．１〜２０重量％であることを特
徴とする請求項２５から２７のいずれか１項に記載の化
粧用組成物。 - 【請求項２９】 上記スクリーニング化合物の含有量
が、組成物全重量に対して０．５〜１０重量％であるこ
とを特徴とする請求項２８に記載の化粧用組成物。 - 【請求項３０】 請求項１から２９のいずれか１項に記
載の少なくとも一の化合物あるいは組成物の効果的な量
を、皮膚及び／または髪に適用することからなることを
特徴とする、太陽光等の紫外線照射に対して皮膚及び／
または髪を保護するための方法。
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|---|---|---|---|
| FR9413771 | 1994-11-17 | ||
| FR9413771A FR2727115B1 (fr) | 1994-11-17 | 1994-11-17 | Nouveaux filtres solaires, compositions cosmetiques photoprotectrices les contenant et utilisations |
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|---|---|
| JPH08225582A true JPH08225582A (ja) | 1996-09-03 |
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|---|---|---|---|
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| JP2016524589A (ja) * | 2013-03-14 | 2016-08-18 | モーメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・インク | 高屈折率シロキサン |
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