JPH08167564A - 半導体製造装置およびデバイス製造方法 - Google Patents
半導体製造装置およびデバイス製造方法Info
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- JPH08167564A JPH08167564A JP6330954A JP33095494A JPH08167564A JP H08167564 A JPH08167564 A JP H08167564A JP 6330954 A JP6330954 A JP 6330954A JP 33095494 A JP33095494 A JP 33095494A JP H08167564 A JPH08167564 A JP H08167564A
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- Japan
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- screen
- hierarchy
- picture
- layer
- console
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Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Multi-Process Working Machines And Systems (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 中断した作業の画面における作業を速やかに
再開し、中断時点の作業状態から作業を続行できるよう
にする。 【構成】 各画面の選択メニューを通じて多階層のツリ
ー構造を呈する画面群を介して多数の動作パラメータの
設定・変更操作および各種コマンドの入力操作を行うた
めのコンソール部と、このコンソール部において設定・
変更されまたは入力される動作パラメータおよびコマン
ドに従って動作する装置本体とを備えた半導体製造装置
において、前記ツリー構造における下位階層の画面での
操作を一時的に中断してその時点での操作状態を保持し
つつ他の操作を行うために中間階層を飛び越えて上位階
層の画面へ移行するとともに、逆にその上位階層の画面
から中間階層を飛び越えて前記操作状態が保持されてい
る下位階層の画面へ戻るようにする。
再開し、中断時点の作業状態から作業を続行できるよう
にする。 【構成】 各画面の選択メニューを通じて多階層のツリ
ー構造を呈する画面群を介して多数の動作パラメータの
設定・変更操作および各種コマンドの入力操作を行うた
めのコンソール部と、このコンソール部において設定・
変更されまたは入力される動作パラメータおよびコマン
ドに従って動作する装置本体とを備えた半導体製造装置
において、前記ツリー構造における下位階層の画面での
操作を一時的に中断してその時点での操作状態を保持し
つつ他の操作を行うために中間階層を飛び越えて上位階
層の画面へ移行するとともに、逆にその上位階層の画面
から中間階層を飛び越えて前記操作状態が保持されてい
る下位階層の画面へ戻るようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はウエハ上にステップ・ア
ンド・リピート方式によって回路パターンを焼き付ける
半導体露光装置等の半導体製造装置およびそれを用いた
デバイス製造方法に関する。
ンド・リピート方式によって回路パターンを焼き付ける
半導体露光装置等の半導体製造装置およびそれを用いた
デバイス製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、半導体製造装置例えば上述の半導
体露光装置は、オペレータが装置を操作するためのコン
ソールを有し、そのディスプレイ等を介してオペレータ
は装置を稼働させるために必要な動作パラメータの指定
等の種々の操作が行なえるようになっている。そして、
その操作の際、ディスプレイ上に表示される画面は、お
およそ、操作を大きく分類してメニュー表示する上位の
画面から下位のより詳細な分類のメニュー表示画面に移
行してゆくツリー構造となっており、オペレータは上位
の画面のメニューにおける選択により、より下位の画面
を表示させるという操作を何回か繰り返して実際の操作
画面に到り、動作パラメータ等の設定・変更等を行なう
ことができる。
体露光装置は、オペレータが装置を操作するためのコン
ソールを有し、そのディスプレイ等を介してオペレータ
は装置を稼働させるために必要な動作パラメータの指定
等の種々の操作が行なえるようになっている。そして、
その操作の際、ディスプレイ上に表示される画面は、お
およそ、操作を大きく分類してメニュー表示する上位の
画面から下位のより詳細な分類のメニュー表示画面に移
行してゆくツリー構造となっており、オペレータは上位
の画面のメニューにおける選択により、より下位の画面
を表示させるという操作を何回か繰り返して実際の操作
画面に到り、動作パラメータ等の設定・変更等を行なう
ことができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、装置を
稼働させるために指定しなければならないパラメータは
非常に多く、上述のようなツリー構造の画面構成とした
場合、最上位の画面から目的とする操作画面に到るまで
のツリー構造の階層が非常に深くなっているのが現状で
ある。したがって、その最深部の操作画面における作業
中にエラー等の不都合が生じ、その対処のため別の操作
画面に移らなければならない場合や、一時的にその作業
を中断して他の作業を行ないたい場合には、その作業中
の画面における作業を終了させ、他の画面に移ることに
なるが、その画面における作業を終了して再び前記中断
した作業を再開するためには、再度ツリー構造に沿って
中断した作業の画面に戻らなければならず、その操作に
非常に手間がかかるという問題がある。
稼働させるために指定しなければならないパラメータは
非常に多く、上述のようなツリー構造の画面構成とした
場合、最上位の画面から目的とする操作画面に到るまで
のツリー構造の階層が非常に深くなっているのが現状で
ある。したがって、その最深部の操作画面における作業
中にエラー等の不都合が生じ、その対処のため別の操作
画面に移らなければならない場合や、一時的にその作業
を中断して他の作業を行ないたい場合には、その作業中
の画面における作業を終了させ、他の画面に移ることに
なるが、その画面における作業を終了して再び前記中断
した作業を再開するためには、再度ツリー構造に沿って
中断した作業の画面に戻らなければならず、その操作に
非常に手間がかかるという問題がある。
【０００４】本発明の目的は、このような従来技術の問
題点に鑑み、半導体製造装置およびそれを用いたデバイ
ス製造方法において、中断した作業の画面における作業
を速やかに再開し、中断時点の作業状態から作業を続行
できるようにすることにある。
題点に鑑み、半導体製造装置およびそれを用いたデバイ
ス製造方法において、中断した作業の画面における作業
を速やかに再開し、中断時点の作業状態から作業を続行
できるようにすることにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
本発明の装置は、各画面の選択メニューを通じて多階層
のツリー構造を呈する画面群を介して多数の動作パラメ
ータの設定・変更操作および各種コマンドの入力操作を
行うためのコンソール部と、このコンソール部において
設定・変更されまたは入力される動作パラメータおよび
コマンドに従って動作する装置本体とを備えた半導体製
造装置において、コンソール部は、前記ツリー構造にお
ける下位階層の画面での操作を一時的に中断してその時
点での操作状態を保持しつつ他の操作を行うために中間
階層を飛び越えて上位階層の画面へ移行する手段と、ま
た逆にその上位階層の画面から中間階層を飛び越えて前
記操作状態が保持されている下位階層の画面へ戻る手段
とを具備することを特徴とする。
本発明の装置は、各画面の選択メニューを通じて多階層
のツリー構造を呈する画面群を介して多数の動作パラメ
ータの設定・変更操作および各種コマンドの入力操作を
行うためのコンソール部と、このコンソール部において
設定・変更されまたは入力される動作パラメータおよび
コマンドに従って動作する装置本体とを備えた半導体製
造装置において、コンソール部は、前記ツリー構造にお
ける下位階層の画面での操作を一時的に中断してその時
点での操作状態を保持しつつ他の操作を行うために中間
階層を飛び越えて上位階層の画面へ移行する手段と、ま
た逆にその上位階層の画面から中間階層を飛び越えて前
記操作状態が保持されている下位階層の画面へ戻る手段
とを具備することを特徴とする。
【０００６】また、本発明の方法は、各画面の選択メニ
ューを通じて多階層のツリー構造を呈する画面群を介し
て多数の動作パラメータの設定・変更操作および各種コ
マンドの入力操作を行うためのコンソール部と、このコ
ンソール部において設定・変更されまたは入力される動
作パラメータおよびコマンドに従って動作する装置本体
とを備えた半導体製造装置により半導体デバイスを製造
するデバイス製造方法において、前記ツリー構造におけ
る下位階層の画面での操作を一時的に中断してその時点
での操作状態を保持しつつ他の操作を行うために中間階
層を飛び越えて上位階層の画面へ移行する工程と、また
逆にその上位階層の画面から中間階層を飛び越えて前記
操作状態が保持されている下位階層の画面へ戻る工程
と、この下位階層の画面における操作を続行する工程と
を具備することを特徴とする。
ューを通じて多階層のツリー構造を呈する画面群を介し
て多数の動作パラメータの設定・変更操作および各種コ
マンドの入力操作を行うためのコンソール部と、このコ
ンソール部において設定・変更されまたは入力される動
作パラメータおよびコマンドに従って動作する装置本体
とを備えた半導体製造装置により半導体デバイスを製造
するデバイス製造方法において、前記ツリー構造におけ
る下位階層の画面での操作を一時的に中断してその時点
での操作状態を保持しつつ他の操作を行うために中間階
層を飛び越えて上位階層の画面へ移行する工程と、また
逆にその上位階層の画面から中間階層を飛び越えて前記
操作状態が保持されている下位階層の画面へ戻る工程
と、この下位階層の画面における操作を続行する工程と
を具備することを特徴とする。
【０００７】ここで、例えば、前記上位階層の画面にお
いては、前記操作が中断されている下位階層の画面が存
在する場合、その下位階層の画面に係る選択メニューの
項目の表示態様が変更されるとともに、その項目が選択
されることにより前記操作が中断されている下位階層の
画面に中間階層を飛び越えて移行する。
いては、前記操作が中断されている下位階層の画面が存
在する場合、その下位階層の画面に係る選択メニューの
項目の表示態様が変更されるとともに、その項目が選択
されることにより前記操作が中断されている下位階層の
画面に中間階層を飛び越えて移行する。
【０００８】
【作用】この構成において、オペレータは、動作パラメ
ータの設定・変更等を行うために、上位の画面における
選択メニューから所望の項目を選択することにより、よ
り下位の画面へ移行し、これを繰り返して目的とする画
面へ至り、動作パラメータの設定・変更等を行うことが
できるが、その下位の操作画面における作業中にエラー
等の不都合が生じ、その対処のため別の操作画面に移ら
なければならない場合や、一時的にその作業を中断して
他の作業を行ないたい場合には、所定のボタン操作等に
より、その作業中の画面における作業を一時的に中断し
て、その時点での操作状態を保持しつつ他の操作を行う
ために中間階層を飛び越えて上位階層の画面へ移行す
る。この画面からは、通常の手順に従って、メニュー選
択を通じて前記エラーの対処等を行うための画面へ移行
し、必要な操作を行う。そしてその操作が終了したら前
記上位階層の画面へ戻るためのボタン操作等を行うこと
により、あるいはそのようにして戻った上位画面におい
て所定のボタン操作等をすることにより、前記作業を中
断した下位の画面へ中間の階層を飛び越えて一気に移行
し、中断した時点での状態から作業を再開する。
ータの設定・変更等を行うために、上位の画面における
選択メニューから所望の項目を選択することにより、よ
り下位の画面へ移行し、これを繰り返して目的とする画
面へ至り、動作パラメータの設定・変更等を行うことが
できるが、その下位の操作画面における作業中にエラー
等の不都合が生じ、その対処のため別の操作画面に移ら
なければならない場合や、一時的にその作業を中断して
他の作業を行ないたい場合には、所定のボタン操作等に
より、その作業中の画面における作業を一時的に中断し
て、その時点での操作状態を保持しつつ他の操作を行う
ために中間階層を飛び越えて上位階層の画面へ移行す
る。この画面からは、通常の手順に従って、メニュー選
択を通じて前記エラーの対処等を行うための画面へ移行
し、必要な操作を行う。そしてその操作が終了したら前
記上位階層の画面へ戻るためのボタン操作等を行うこと
により、あるいはそのようにして戻った上位画面におい
て所定のボタン操作等をすることにより、前記作業を中
断した下位の画面へ中間の階層を飛び越えて一気に移行
し、中断した時点での状態から作業を再開する。
【０００９】以下、実施例を通じて本発明をより詳細に
説明する。
説明する。
【００１０】
【実施例】図１は本発明の一実施例に係る半導体露光装
置の外観を示す斜視図である。同図に示すように、この
半導体露光装置は、装置本体の環境温度制御を行なう温
調チャンバ１０１、その内部に配置され、装置本体の制
御を行うＣＰＵを有するＥＷＳ本体１０６、ならびに、
装置における所定の情報を表示するＥＷＳ用ディスプレ
イ装置１０２、装置本体において撮像手段を介して得ら
れる画像情報を表示するモニタＴＶ１０５、装置に対し
所定の入力を行うための操作パネル１０３、ＥＷＳ用キ
ーボード１０４等を含むコンソール部を備えている。図
中、１０７はＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１０８は非常停止
スイッチ、１０９は各種スイッチ、マウス等、１１０は
ＬＡＮ通信ケーブル、１１１はコンソール機能からの発
熱の排気ダクト、そして１１２はチャンバの排気装置で
ある。半導体露光装置本体はチャンバ１０１の内部に設
置される。
置の外観を示す斜視図である。同図に示すように、この
半導体露光装置は、装置本体の環境温度制御を行なう温
調チャンバ１０１、その内部に配置され、装置本体の制
御を行うＣＰＵを有するＥＷＳ本体１０６、ならびに、
装置における所定の情報を表示するＥＷＳ用ディスプレ
イ装置１０２、装置本体において撮像手段を介して得ら
れる画像情報を表示するモニタＴＶ１０５、装置に対し
所定の入力を行うための操作パネル１０３、ＥＷＳ用キ
ーボード１０４等を含むコンソール部を備えている。図
中、１０７はＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１０８は非常停止
スイッチ、１０９は各種スイッチ、マウス等、１１０は
ＬＡＮ通信ケーブル、１１１はコンソール機能からの発
熱の排気ダクト、そして１１２はチャンバの排気装置で
ある。半導体露光装置本体はチャンバ１０１の内部に設
置される。
【００１１】ＥＷＳ用ディスプレイ１０２は、ＥＬ、プ
ラズマ、液晶等の薄型フラットタイプのものであり、チ
ャンバ１０１前面に納められ、ＬＡＮケーブル１１０に
よりＥＷＳ本体１０６と接続される。操作パネル１０
３、キーボード１０４、モニタＴＶ１０５等もチャンバ
１０１前面に設置し、チャンバ１０１前面から従来と同
様のコンソール操作が行なえるようにしてある。
ラズマ、液晶等の薄型フラットタイプのものであり、チ
ャンバ１０１前面に納められ、ＬＡＮケーブル１１０に
よりＥＷＳ本体１０６と接続される。操作パネル１０
３、キーボード１０４、モニタＴＶ１０５等もチャンバ
１０１前面に設置し、チャンバ１０１前面から従来と同
様のコンソール操作が行なえるようにしてある。
【００１２】図２は、図１の装置の内部構造を示す図で
ある。同図においては、半導体露光装置としてのステッ
パが示されている。図中、２０２はレチクル、２０３は
ウエハであり、光源装置２０４から出た光束が照明光学
系２０５を通ってレチクル２０２を照明するとき、投影
レンズ２０６によりレチクル２０２上のパターンをウエ
ハ２０３上の感光層に転写することができる。レチクル
２０２はレチクル２０２を保持、移動するためのレチク
ルステージ２０７により支持されている。ウエハ２０３
はウエハチャック２９１により真空吸着された状態で露
光される。ウエハチャック２９１はウエハステージ２０
９により各軸方向に移動可能である。レチクル２０２の
上側にはレチクルの位置ずれ量を検出するためのレチク
ル光学系２８１が配置される。ウエハステージ２０９の
上方に、投影レンズ２０６に隣接してオフアクシス顕微
鏡２８２が配置されている。オフアクシス顕微鏡２８２
は内部の基準マークとウエハ２０３上のアライメントマ
ークとの相対位置検出を行なうのが主たる役割である。
また、これらステッパ本体に隣接して周辺装置であるレ
チクルライブラリ２２０やウエハキャリアエレベータ２
３０が配置され、必要なレチクルやウエハはレチクル搬
送装置２２１およびウエハ搬送装置２３１によってステ
ッパ本体に搬送される。
ある。同図においては、半導体露光装置としてのステッ
パが示されている。図中、２０２はレチクル、２０３は
ウエハであり、光源装置２０４から出た光束が照明光学
系２０５を通ってレチクル２０２を照明するとき、投影
レンズ２０６によりレチクル２０２上のパターンをウエ
ハ２０３上の感光層に転写することができる。レチクル
２０２はレチクル２０２を保持、移動するためのレチク
ルステージ２０７により支持されている。ウエハ２０３
はウエハチャック２９１により真空吸着された状態で露
光される。ウエハチャック２９１はウエハステージ２０
９により各軸方向に移動可能である。レチクル２０２の
上側にはレチクルの位置ずれ量を検出するためのレチク
ル光学系２８１が配置される。ウエハステージ２０９の
上方に、投影レンズ２０６に隣接してオフアクシス顕微
鏡２８２が配置されている。オフアクシス顕微鏡２８２
は内部の基準マークとウエハ２０３上のアライメントマ
ークとの相対位置検出を行なうのが主たる役割である。
また、これらステッパ本体に隣接して周辺装置であるレ
チクルライブラリ２２０やウエハキャリアエレベータ２
３０が配置され、必要なレチクルやウエハはレチクル搬
送装置２２１およびウエハ搬送装置２３１によってステ
ッパ本体に搬送される。
【００１３】チャンバ１０１は、主に空気の温度調節を
行なう空調機室２１０および微小異物を濾過し清浄空気
の均一な流れを形成するフィルタボックス２１３、また
装置環境を外部と遮断するブース２１４で構成されてい
る。チャンバ１０１内では、空調機室２１０内にある冷
却器２１５および再熱ヒーター２１６により温度調節さ
れた空気が、送風機２１７によりエアフィルタｇを介し
てブース２１４内に供給される。このブース２１４に供
給された空気はリターン口ｒａより再度空調機室２１０
に取り込まれチャンバ１０１内を循環する。通常、この
チャンバ１０１は厳密には完全な循環系ではなく、ブー
ス２１４内を常時陽圧に保つため循環空気量の約１割の
ブース２１４外の空気を空調機室２１０に設けられた外
気導入口ｏａより送風機を介して導入している。このよ
うにしてチャンバ１０１は本装置の置かれる環境温度を
一定に保ち、かつ空気を清浄に保つことを可能にしてい
る。また光源装置２０４には超高圧水銀灯の冷却やレー
ザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口ｓａと排気口ｅ
ａが設けられ、ブース２１４内の空気の一部が光源装置
２０４を経由し、空調機室２１０に備えられた専用の排
気ファンを介して工場設備に強制排気されている。ま
た、空気中の化学物質を除去するための化学吸着フィル
タｃｆを、空調機室２１０の外気導入口ｏａおよびリタ
ーン口ｒａにそれぞれ接続して備えている。
行なう空調機室２１０および微小異物を濾過し清浄空気
の均一な流れを形成するフィルタボックス２１３、また
装置環境を外部と遮断するブース２１４で構成されてい
る。チャンバ１０１内では、空調機室２１０内にある冷
却器２１５および再熱ヒーター２１６により温度調節さ
れた空気が、送風機２１７によりエアフィルタｇを介し
てブース２１４内に供給される。このブース２１４に供
給された空気はリターン口ｒａより再度空調機室２１０
に取り込まれチャンバ１０１内を循環する。通常、この
チャンバ１０１は厳密には完全な循環系ではなく、ブー
ス２１４内を常時陽圧に保つため循環空気量の約１割の
ブース２１４外の空気を空調機室２１０に設けられた外
気導入口ｏａより送風機を介して導入している。このよ
うにしてチャンバ１０１は本装置の置かれる環境温度を
一定に保ち、かつ空気を清浄に保つことを可能にしてい
る。また光源装置２０４には超高圧水銀灯の冷却やレー
ザ異常時の有毒ガス発生に備えて吸気口ｓａと排気口ｅ
ａが設けられ、ブース２１４内の空気の一部が光源装置
２０４を経由し、空調機室２１０に備えられた専用の排
気ファンを介して工場設備に強制排気されている。ま
た、空気中の化学物質を除去するための化学吸着フィル
タｃｆを、空調機室２１０の外気導入口ｏａおよびリタ
ーン口ｒａにそれぞれ接続して備えている。
【００１４】図３は、図１の装置の電気回路構成を示す
ブロック図である。同図において、３２１は装置全体の
制御を司る、前記ＥＷＳ本体１０６に内蔵された本体Ｃ
ＰＵであり、マイクロコンピュータまたはミニコンピュ
ータ等の中央演算処理装置からなる。３２２はウエハス
テージ駆動装置、３２３は前記オフアクシス顕微鏡２８
２等のアライメント検出系、３２４はレチクルステージ
駆動装置、３２５は前記光源装置２０４等の照明系、３
２６はシャッタ駆動装置、３２７はフォーカス検出系、
３２８はＺ駆動装置であり、これらは、本体ＣＰＵ３２
１により制御される。３２９は前記レチクル搬送装置２
２１、ウエハ搬送装置２３１等の搬送系である。３３０
は前記ディスプレイ１０２、キーボード１０４等を有す
るコンソールユニットであり、本体ＣＰＵ３２１にこの
露光装置の動作に関する各種のコマンドやパラメータを
与えるためのものである。すなわち、オペレータとの間
で情報の授受を行うためのものである。３３１はコンソ
ールＣＰＵ、３３２はパラメータ等を記憶する外部メモ
リである。
ブロック図である。同図において、３２１は装置全体の
制御を司る、前記ＥＷＳ本体１０６に内蔵された本体Ｃ
ＰＵであり、マイクロコンピュータまたはミニコンピュ
ータ等の中央演算処理装置からなる。３２２はウエハス
テージ駆動装置、３２３は前記オフアクシス顕微鏡２８
２等のアライメント検出系、３２４はレチクルステージ
駆動装置、３２５は前記光源装置２０４等の照明系、３
２６はシャッタ駆動装置、３２７はフォーカス検出系、
３２８はＺ駆動装置であり、これらは、本体ＣＰＵ３２
１により制御される。３２９は前記レチクル搬送装置２
２１、ウエハ搬送装置２３１等の搬送系である。３３０
は前記ディスプレイ１０２、キーボード１０４等を有す
るコンソールユニットであり、本体ＣＰＵ３２１にこの
露光装置の動作に関する各種のコマンドやパラメータを
与えるためのものである。すなわち、オペレータとの間
で情報の授受を行うためのものである。３３１はコンソ
ールＣＰＵ、３３２はパラメータ等を記憶する外部メモ
リである。
【００１５】コンソールＣＰＵ３３１は、ディスプレイ
１０２に表示する、各画面の選択メニューを通じて多階
層のツリー構造を呈する画面群を介し、多数の動作パラ
メータの設定・変更操作および各種コマンドの入力操作
を受け入れる機能を有する。そして、本体ＣＰＵ３２１
は、このようにコンソールユニット３３０において設定
・変更あるいは入力される動作パラメータおよびコマン
ドに従ってウエハステージ２０９等の各ユニットを駆動
制御する。
１０２に表示する、各画面の選択メニューを通じて多階
層のツリー構造を呈する画面群を介し、多数の動作パラ
メータの設定・変更操作および各種コマンドの入力操作
を受け入れる機能を有する。そして、本体ＣＰＵ３２１
は、このようにコンソールユニット３３０において設定
・変更あるいは入力される動作パラメータおよびコマン
ドに従ってウエハステージ２０９等の各ユニットを駆動
制御する。
【００１６】この構成において、オペレータは、動作パ
ラメータの設定・変更等を行うために、図４に示すよう
な選択メニュー・ボタンを表示した上位の画面におい
て、例えば、露光ジョブに関するエディットを行うため
に「EDIT JOB」ボタン４０１を押下すると、コンソールＣ
ＰＵ３３１は、ディスプレイ１０２上の表示を、図５に
示すような、エディット・ジョブ画面５０１に切り替え
る。この画面において、さらに、露光ジョブを実行する
のに必要なジョブ・パラメータをエディットするため
に、「PARAMETER」 ボタン５０２を押下すると、さらに、
パラメータ・エディタ等の種類を表示した下位のウイン
ドウ５０３を表示する。オペレータは、このウインドウ
において所望のパラメータ・エディタ等を選択して、ジ
ョブ・パラメータのエディットを行うことができる。
ラメータの設定・変更等を行うために、図４に示すよう
な選択メニュー・ボタンを表示した上位の画面におい
て、例えば、露光ジョブに関するエディットを行うため
に「EDIT JOB」ボタン４０１を押下すると、コンソールＣ
ＰＵ３３１は、ディスプレイ１０２上の表示を、図５に
示すような、エディット・ジョブ画面５０１に切り替え
る。この画面において、さらに、露光ジョブを実行する
のに必要なジョブ・パラメータをエディットするため
に、「PARAMETER」 ボタン５０２を押下すると、さらに、
パラメータ・エディタ等の種類を表示した下位のウイン
ドウ５０３を表示する。オペレータは、このウインドウ
において所望のパラメータ・エディタ等を選択して、ジ
ョブ・パラメータのエディットを行うことができる。
【００１７】ここで、その作業中にエラー等の不都合が
生じ、その対処のため別の操作画面に移らなければなら
ない場合や、一時的にその作業を中断して他の作業を行
ないたい場合には、「SUSP」ボタン５０４を押下する。こ
れにより、コンソールＣＰＵ３３１は、そのエディット
作業を一時的に中断して、その時点での操作状態を保持
しつつ直ちに、ディスプレイ１０２上の表示を、図４の
画面に切り替える。そしてオペレータはその画面におい
て、必要な他の作業を行うためのボタンを押下し、下位
の操作画面における作業を行う。これを終了して、オペ
レータが図４の画面へ戻るボタン操作を行うと、コンソ
ールＣＰＵ３３１は、ディスプレイ１０２上の表示を、
直ちに上述のジョブ・パラメータのエディットを行って
いた状態の画面へ戻す。これにより、オペレータはその
画面において中断状態にあるエディット作業を再開し続
行することができる。
生じ、その対処のため別の操作画面に移らなければなら
ない場合や、一時的にその作業を中断して他の作業を行
ないたい場合には、「SUSP」ボタン５０４を押下する。こ
れにより、コンソールＣＰＵ３３１は、そのエディット
作業を一時的に中断して、その時点での操作状態を保持
しつつ直ちに、ディスプレイ１０２上の表示を、図４の
画面に切り替える。そしてオペレータはその画面におい
て、必要な他の作業を行うためのボタンを押下し、下位
の操作画面における作業を行う。これを終了して、オペ
レータが図４の画面へ戻るボタン操作を行うと、コンソ
ールＣＰＵ３３１は、ディスプレイ１０２上の表示を、
直ちに上述のジョブ・パラメータのエディットを行って
いた状態の画面へ戻す。これにより、オペレータはその
画面において中断状態にあるエディット作業を再開し続
行することができる。
【００１８】なお、上述の「SUSP」ボタン５０４の押下に
より図４の画面に切り替えた後は、露光ジョブに関する
エディットが中断状態にある旨を、「EDIT JOB」ボタン４
０１の表示態様を変化させることにより示すとともに、
前記必要な他の作業を終了してオペレータが図４の画面
へ戻るボタン操作を行うと、図４の画面を表示し、そこ
に中断状態にある旨を示す態様で表示されている「EDIT
JOB」ボタン４０１をオペレータが押下することにより、
直ちに上述のジョブ・パラメータのエディットを行って
いた状態の画面へ戻るようにしてもよい。この場合は、
前記必要な他の作業として、図４の画面に表示された複
数の項目に係る作業を行うことができるという利点があ
る。
より図４の画面に切り替えた後は、露光ジョブに関する
エディットが中断状態にある旨を、「EDIT JOB」ボタン４
０１の表示態様を変化させることにより示すとともに、
前記必要な他の作業を終了してオペレータが図４の画面
へ戻るボタン操作を行うと、図４の画面を表示し、そこ
に中断状態にある旨を示す態様で表示されている「EDIT
JOB」ボタン４０１をオペレータが押下することにより、
直ちに上述のジョブ・パラメータのエディットを行って
いた状態の画面へ戻るようにしてもよい。この場合は、
前記必要な他の作業として、図４の画面に表示された複
数の項目に係る作業を行うことができるという利点があ
る。
【００１９】
【発明の効果】本発明によれば、ツリー構造を呈する下
位階層の画面での操作を一時的に中断してその時点での
操作状態を保持しつつ他の操作を行うために中間階層を
飛び越えて上位階層の画面へ移行するとともに、また逆
にその上位階層の画面から中間階層を飛び越えて前記操
作状態が保持されている下位階層の画面へ戻るようにし
たため、下位階層の操作画面における作業中にエラー等
の不都合が生じ、その対処のため別の操作画面に移らな
ければならない場合や、一時的にその作業を中断して他
の作業を行ないたい場合には、そのような対処等を行っ
た後、直ちに、中断状態にある下位画面での作業を再開
し、中断時点の作業状態から作業を続行することができ
る。
位階層の画面での操作を一時的に中断してその時点での
操作状態を保持しつつ他の操作を行うために中間階層を
飛び越えて上位階層の画面へ移行するとともに、また逆
にその上位階層の画面から中間階層を飛び越えて前記操
作状態が保持されている下位階層の画面へ戻るようにし
たため、下位階層の操作画面における作業中にエラー等
の不都合が生じ、その対処のため別の操作画面に移らな
ければならない場合や、一時的にその作業を中断して他
の作業を行ないたい場合には、そのような対処等を行っ
た後、直ちに、中断状態にある下位画面での作業を再開
し、中断時点の作業状態から作業を続行することができ
る。
【図１】 本発明の一実施例に係る半導体露光装置の外
観を示す斜視図である。
観を示す斜視図である。
【図２】 図１の装置の内部構造を示す図である。
【図３】 図１の装置の電気回路構成を示すブロック図
である。
である。
【図４】 図１の装置における上位階層の画面例を示す
図である。
図である。
【図５】 図１の装置における下位階層の画面例を示す
図である。
図である。
１０１：温調チャンバ、１０２：ＥＷＳ用ディスプレイ
装置、１０３：操作パネル、１０４：ＥＷＳ用キーボー
ド、１０５：モニタＴＶ、１０６：ＥＷＳ本体、１０
７：ＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１０８：非常停止スイッ
チ、１０９：各種スイッチ、マウス等、１１０：ＬＡＮ
通信ケーブル、１１１：排気ダクト、１１２：排気装
置、２０２：レチクル、２０３：ウエハ、２０４：光源
装置、２０５：照明光学系、２０６：投影レンズ、２０
７：レチクルステージ、２０９：ウエハステージ、２８
１：レチクル顕微鏡、２８２：オフアクシス顕微鏡、２
１０：空調機室、２１３：フィルタボックス、２１４：
ブース、２１７：送風機、ｇ：エアフィルタ、ｃｆ：化
学吸着フィルタ、ｏａ：外気導入口、ｒａ：リターン
口、３２１：本体ＣＰＵ、３３０：コンソール、３３
１：コンソールＣＰＵ、３３２：外部メモリ、４０１，
５０２，５０４：ボタン、５０１：エディット・ジョブ
画面、５０３：下位のウインドウ。
装置、１０３：操作パネル、１０４：ＥＷＳ用キーボー
ド、１０５：モニタＴＶ、１０６：ＥＷＳ本体、１０
７：ＯＮ−ＯＦＦスイッチ、１０８：非常停止スイッ
チ、１０９：各種スイッチ、マウス等、１１０：ＬＡＮ
通信ケーブル、１１１：排気ダクト、１１２：排気装
置、２０２：レチクル、２０３：ウエハ、２０４：光源
装置、２０５：照明光学系、２０６：投影レンズ、２０
７：レチクルステージ、２０９：ウエハステージ、２８
１：レチクル顕微鏡、２８２：オフアクシス顕微鏡、２
１０：空調機室、２１３：フィルタボックス、２１４：
ブース、２１７：送風機、ｇ：エアフィルタ、ｃｆ：化
学吸着フィルタ、ｏａ：外気導入口、ｒａ：リターン
口、３２１：本体ＣＰＵ、３３０：コンソール、３３
１：コンソールＣＰＵ、３３２：外部メモリ、４０１，
５０２，５０４：ボタン、５０１：エディット・ジョブ
画面、５０３：下位のウインドウ。
Claims (4)
- 【請求項１】 各画面の選択メニューを通じて多階層の
ツリー構造を呈する画面群を介して多数の動作パラメー
タの設定・変更操作および各種コマンドの入力操作を行
うためのコンソール部と、このコンソール部において設
定・変更されまたは入力される動作パラメータおよびコ
マンドに従って動作する装置本体とを備えた半導体製造
装置において、コンソール部は、前記ツリー構造におけ
る下位階層の画面での操作を一時的に中断してその時点
での操作状態を保持しつつ他の操作を行うために中間階
層を飛び越えて上位階層の画面へ移行する手段と、また
逆にその上位階層の画面から中間階層を飛び越えて前記
操作状態が保持されている下位階層の画面へ戻る手段と
を具備することを特徴とする半導体製造装置。 - 【請求項２】 コンソール部は、前記上位階層の画面に
おいては、前記操作が中断されている下位階層の画面が
存在する場合、その下位階層の画面に係る選択メニュー
の項目の表示態様を変更するとともに、その項目が選択
されることにより前記操作が中断されている下位階層の
画面に中間階層を飛び越えて移行するものであることを
特徴とする請求項１記載の半導体製造装置。 - 【請求項３】 各画面の選択メニューを通じて多階層の
ツリー構造を呈する画面群を介して多数の動作パラメー
タの設定・変更操作および各種コマンドの入力操作を行
うためのコンソール部と、このコンソール部において設
定・変更されまたは入力される動作パラメータおよびコ
マンドに従って動作する装置本体とを備えた半導体製造
装置により半導体デバイスを製造するデバイス製造方法
において、前記ツリー構造における下位階層の画面での
操作を一時的に中断してその時点での操作状態を保持し
つつ他の操作を行うために中間階層を飛び越えて上位階
層の画面へ移行する工程と、また逆にその上位階層の画
面から中間階層を飛び越えて前記操作状態が保持されて
いる下位階層の画面へ戻る工程と、この下位階層の画面
における操作を続行する工程とを具備することを特徴と
するデバイス製造方法。 - 【請求項４】 前記操作が中断されている下位階層の画
面が存在する場合、前記上位階層の画面において、その
下位階層の画面に係る選択メニューの項目の表示態様を
変更する工程を備え、前記下位階層の画面へ戻る工程に
おいてはその項目を選択することにより前記操作が中断
されている下位階層の画面に中間階層を飛び越えて移行
することを特徴とする請求項３記載の半導体製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33095494A JP3214597B2 (ja) | 1994-12-09 | 1994-12-09 | 半導体製造装置およびデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33095494A JP3214597B2 (ja) | 1994-12-09 | 1994-12-09 | 半導体製造装置およびデバイス製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08167564A true JPH08167564A (ja) | 1996-06-25 |
| JP3214597B2 JP3214597B2 (ja) | 2001-10-02 |
Family
ID=18238261
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33095494A Expired - Fee Related JP3214597B2 (ja) | 1994-12-09 | 1994-12-09 | 半導体製造装置およびデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3214597B2 (ja) |
-
1994
- 1994-12-09 JP JP33095494A patent/JP3214597B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3214597B2 (ja) | 2001-10-02 |
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