JPH08165553A - 化粧板の製造方法 - Google Patents

化粧板の製造方法

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JPH08165553A
JPH08165553A JP33157594A JP33157594A JPH08165553A JP H08165553 A JPH08165553 A JP H08165553A JP 33157594 A JP33157594 A JP 33157594A JP 33157594 A JP33157594 A JP 33157594A JP H08165553 A JPH08165553 A JP H08165553A
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sprayed
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sprayed coating
colored
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JP33157594A
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Kikuo Yamada
紀久夫 山田
Shuji Tanabe
修治 田辺
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Nippon Aluminium Co Ltd
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Nippon Aluminium Co Ltd
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/32Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer
    • C23C28/321Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one pure metallic layer with at least one metal alloy layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/30Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer
    • C23C28/34Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates
    • C23C28/345Coatings combining at least one metallic layer and at least one inorganic non-metallic layer including at least one inorganic non-metallic material layer, e.g. metal carbide, nitride, boride, silicide layer and their mixtures, enamels, phosphates and sulphates with at least one oxide layer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C4/00Coating by spraying the coating material in the molten state, e.g. by flame, plasma or electric discharge
    • C23C4/18After-treatment

Abstract

(57)【要約】 【目的】 需要者の要求に充分に対応できる多様な色調
に着色された安価な化粧板を製造できる方法を提供する
ことである。 【構成】 無機材又は有機高分子材からなる基板上に、
AlワイヤとTiワイヤを同時に溶融させるようにして
溶射して溶射皮膜を形成し、この溶射皮膜を陽極酸化し
て陽極酸化皮膜を形成することを特徴としている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、需要者の要求に充分に
対応できる多様な色調に着色された安価な化粧板を製造
できる方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】金属例えばAlからなる母材に陽極酸化
皮膜を形成し、これを電解着色法又は染色法により着色
して化粧板を製造する方法は、公知である。しかし、こ
の方法では、母材が金属からなるため、化粧板が高価で
あるという欠点があった。一方、無機材や有機高分子材
からなる基板上に溶射皮膜を種々の態様で形成して化粧
板を製造する方法も、公知である。例えば、特開昭60
−147333、特開昭60−171146等がある。
この方法では、基板が無機材や有機高分子材からなって
いるので、化粧板は安価であるが、色調が溶射する金属
の固有の色にしかならないため、需要者の要求に充分に
対応することはできなかった。
【0003】
【発明の目的】本発明は、需要者の要求に充分に対応で
きる多様な色調に着色された安価な化粧板を製造できる
方法を提供することを目的とする。
【0004】
【目的を達成するための手段】請求項1記載の化粧板の
製造方法は、無機材又は有機高分子材からなる基板上
に、金属を溶射して溶射皮膜を形成する第1工程と、上
記溶射皮膜を陽極酸化して陽極酸化皮膜を形成する第2
工程とを備え、第1工程において、用いる金属がTi、
Alの内の少なくとも一方であり、溶射を、金属のワイ
ヤを複数本同時に溶融させるように行なうことを特徴と
している。
【0005】請求項2記載の化粧板の製造方法は、請求
項1の第1工程において、溶射の後に、溶射皮膜に対し
てショットピーニングを施すものである。
【0006】請求項3記載の化粧板の製造方法は、請求
項1の第1工程において、Al及びTiの両者を用いる
ものである。
【0007】請求項4記載の化粧板の製造方法は、請求
項1の第1工程において、Al及びTiの両者を用い、
AlワイヤとTiワイヤの太さを異ならせるものであ
る。
【0008】請求項5記載の化粧板の製造方法は、請求
項3、4の場合において、第2工程で得られた陽極酸化
皮膜を電解着色法又は染色法により着色するものであ
る。
【0009】請求項6記載の化粧板の製造方法は、請求
項1の第1工程においてAlのみを用いた場合に、第2
工程で得られた陽極酸化皮膜を電解着色法又は染色法に
より着色するものである。
【0010】なお、第1工程の溶射法としては、ガス、
電気、プラズマ等を用いた通常の方法が用いられる。
【0011】第2工程の陽極酸化法としては、通常の方
法が用いられる。即ち、例えば硫酸、リン酸、クロム酸
等の無機酸、又はシュウ酸、スルホサリチル酸、マロン
酸等の有機酸、又は水酸化ナトリウム、リン酸三ナトリ
ウム等のアルカリ性の水溶液の電解浴中で、直流、交
流、パルス、PR波、又は交直重畳法により、電解する
方法が用いられる。
【0012】電解着色法や染色法としては、通常の方法
が用いられる。
【0013】
【作用】請求項1記載の方法においては、溶射において
金属のワイヤを複数本同時に溶融させるので、溶射粒子
が大きくなる。そのため、溶射粒子の衝突エネルギーが
大きくなり、溶射粒子相互の機械的接合強度が増大し、
溶射粒子間の界面に陽極酸化時の反応液が侵入するのが
抑制され、溶射粒子の脱落が防止される。しかも、陽極
酸化時に溶融されても、核が残る。従って、溶射皮膜が
脱落することなく、陽極酸化が行なわれ、溶射皮膜に陽
極酸化皮膜が形成される。
【0014】また、形成された陽極酸化皮膜には、溶射
皮膜の肌荒れが現れているので、陽極酸化皮膜の色又は
これに着色する色に、肌荒れが加味されることとなり、
特有の色調が得られる。
【0015】しかも、基板として、無機材又は有機高分
子材を用いているので、得られた化粧板は安価なものと
なる。
【0016】請求項2記載の方法においては、ショット
ピーニングによって、溶射粒子相互の機械的接合強度が
増大されるとともに溶射粒子間の空隙が潰されるので、
溶射粒子間の界面に陽極酸化時の反応液が侵入するのが
より確実に抑制される。
【0017】請求項3記載の方法においては、AlとT
iの溶射粒子が散在することとなる。通常の陽極酸化法
によれば、Al粒子上には厚膜が形成され、Ti粒子上
には薄膜である干渉膜が形成される。干渉膜の厚さは陽
極酸化時の電圧や電流密度で制御されるので、干渉膜は
種々の色を呈する。従って、Alの陽極酸化皮膜固有の
色の中に干渉膜による種々の色が散在してなる特有の色
調が得られる。
【0018】請求項4記載の方法においては、溶射皮膜
を構成するAlとTiの比率が変化するため、請求項3
記載の方法により得られる色調に更に変化が加わること
となる。
【0019】請求項5記載の方法においては、請求項
3、4におけるAlの陽極酸化皮膜が種々の色に着色さ
れるので、請求項3、4で得られた色調に、Alの陽極
酸化皮膜の種々の色が加わることとなり、変化に富んだ
特有の色調が得られる。
【0020】請求項6記載の方法においては、Alの陽
極酸化皮膜が種々の色に着色されるので、Alの陽極酸
化皮膜固有の色とは異なった色調が得られる。
【0021】
【実施例】以下、本発明の実施例を図に基づいて説明す
る。 (実施例1)まず、セラミックからなる基板に、下地処
理としてのブラスト処理を施した後、基板上にAlを溶
射して溶射皮膜を形成した(第1工程)。この工程にお
いて、溶射は次のように行なった。即ち、線径が1.6
mmであるAlワイヤを2本用い、両ワイヤに180A
の電流を流してアークを発生させ、溶融されて生じたA
l粒子をエアー圧60PSIで基板上に吹付けた。
【0022】次に、得られた溶射皮膜を陽極酸化して陽
極酸化皮膜を形成した(第2工程)。具体的には、ま
ず、前処理として、溶射皮膜を、60℃の5%NaOH
水溶液中に1〜3分間浸漬した。次に、本処理として、
溶射皮膜を20℃の15%H2SO4中に浸漬した状態で
1A/dm2の電流を30分間印加した。図1は陽極酸
化皮膜の形成された溶射皮膜の断面を示す顕微鏡写真、
図2は図1の一部拡大模式図である。両図から、アルミ
ニウム溶射皮膜1の表面に薄く陽極酸化皮膜2が形成さ
れていることがわかる。
【0023】そして、得られた陽極酸化皮膜を染色法に
より着色した。染料としては、アルミニウム染料である
商品名「サノダールレッドB3LW」(サンド社製)を
用い、処理条件は、染料濃度5g/l、50〜60℃、
3〜5分間とした。処理後の陽極酸化皮膜は、赤色を呈
した。
【0024】なお、染料としては、他のものを用いても
よい。また、陽極酸化皮膜の着色は電解着色法で行なっ
てもよい。また、第1工程の下地処理として、エポキシ
樹脂等を塗装してもよい。また、下地処理は省略しても
よい。また、基板には、セラミック以外の無機材や有機
高分子材を用いてもよい。
【0025】(実施例2)まず、セラミックからなる基
板に、実施例1と同様にして、Alの溶射皮膜を形成し
た(第1工程)。なお、得られた溶射皮膜に対しては、
ショットピーニングを施した。その条件は、ガラスビー
ズを用い、吸引式3kg/cm2とした。
【0026】次に、溶射皮膜を、実施例1と同様に陽極
酸化して陽極酸化皮膜を形成した(第2工程)。
【0027】そして、得られた陽極酸化皮膜を電解着色
法により着色した。具体的には、陽極酸化皮膜を、10
0g/lの硫酸ニッケル水溶液中に浸漬し、25Vの電
圧を1分間印加した。処理後の陽極酸化皮膜は、ブロン
ズ色を呈した。
【0028】なお、電解着色法に用いる金属塩として
は、他のものを用いてもよい。また、陽極酸化皮膜の着
色は染色法で行なってもよい。また、第1工程の下地処
理として、エポキシ樹脂等を塗装してもよい。また、下
地処理は省略してもよい。また、基板には、セラミック
以外の無機材や有機高分子材を用いてもよい。
【0029】(実施例3)まず、ABS樹脂からなる基
板上にTiを溶射して溶射皮膜を形成した(第1工
程)。この工程において、溶射は次のように行なった。
即ち、径が1.6mmであるTiワイヤを2本用い、両
ワイヤに250Aの電流を流してアークを発生させ、溶
融されて生じたTi粒子をエアー圧65PSIで基板上
に吹付けた。
【0030】次に、得られた溶射皮膜を陽極酸化して陽
極酸化皮膜を形成した(第2工程)。具体的には、溶射
皮膜を20℃の10%リン酸三ナトリウム水溶液中に浸
漬した状態で1A/dm2の電流を30分間印加した。
得られた陽極酸化皮膜は、ブルー色を呈した。
【0031】なお、第1工程においては、ブラスト処理
やエポキシ樹脂等の塗装処理等の下地処理を施してもよ
い。また、基板には、ABS樹脂以外の有機高分子材や
無機材を用いてもよい。
【0032】また、第2工程において、電流密度や電圧
を変えれば、得られた陽極酸化皮膜の呈する色は上記色
とは異なった色に変化する。
【0033】(実施例4)まず、セラミックからなる基
板に、下地処理としてのブラスト処理を施した後、基板
上にAl及びTiを同時に溶射して溶射皮膜を形成した
(第1工程)。この工程において、溶射は次のように行
なった。即ち、線径が1.6mmであるAlワイヤと同
じくTiワイヤを1本ずつ用い、両ワイヤに210Aの
電流を流してアークを発生させ、溶融されて生じたAl
粒子及びTi粒子をエアー圧65PSIで基板上に吹付
けた。なお、得られた溶射皮膜に対しては、ショットピ
ーニングを施した。その条件は、ガラスビーズを用い、
吸引式3kg/cm2とした。
【0034】次に、得られた溶射皮膜を陽極酸化して陽
極酸化皮膜を形成した(第2工程)。具体的には、溶射
皮膜を20℃の10%リン酸三ナトリウム水溶液中に浸
漬した状態で1A/dm2の電流を30分間印加した。
得られた陽極酸化皮膜は、Alの部分が乳白色、Tiの
部分がブルー色となり、両色が点状に散在した色調とな
った。
【0035】なお、第1工程の下地処理として、エポキ
シ樹脂等を塗装してもよい。また、下地処理は省略して
もよい。また、基板には、セラミック以外の無機材や有
機高分子材を用いてもよい。
【0036】(実施例5)AlワイヤとTiワイヤの線
径を異ならせ、その他は実施例4と同様に行なった。具
体的には、Alワイヤの線径を2.0mmとし、Tiワ
イヤの線径を1.5mmとした。得られた陽極酸化皮膜
の点状に散在した色調は、実施例4に比してAlの部分
である乳白色が多いものとなった。
【0037】(実施例6)実施例5とは逆にAlワイヤ
の線径をTiワイヤより細くし、その他は実施例4と同
様に行なった。具体的には、Alワイヤの線径を1.5
mmとし、Tiワイヤの線径を2.0mmとした。得ら
れた陽極酸化皮膜の点状に散在した色調は、実施例4に
比してTiの部分であるブルー色が多いものとなった。
【0038】(実施例7)実施例4と同様にして陽極酸
化皮膜を得た後、陽極酸化皮膜を染色法により着色し
た。染料としては、アルミニウム染料である商品名「サ
ノダールレッドB3LW」(サンド社製)を用い、処理
条件は、染料濃度5g/l、50〜60℃、3〜5分間
とした。処理後の陽極酸化皮膜は、Alの部分が赤色、
Tiの部分がブルー色となり、両色が点状に散在した色
調となった。なお、染色法の代わりに電解着色法を用い
てもよい。
【0039】(実施例8)実施例5と同様にして陽極酸
化皮膜を得た後、陽極酸化皮膜を電解着色法により着色
した。具体的には、陽極酸化皮膜を、100g/lの硫
酸ニッケル水溶液中に浸漬し、25Vの電圧を1分間印
加した。処理後の陽極酸化皮膜は、実施例5に比してA
lの部分がブロンズ色となった。なお、電解着色法の代
わりに染色法を用いてもよい。
【0040】(実施例9)実施例6と同様にして陽極酸
化皮膜を得た後、陽極酸化皮膜を染色法により着色し
た。染料としては、アルミニウム染料である商品名「サ
ノダールレッドB3LW」(サンド社製)を用い、処理
条件は、染料濃度5g/l、50〜60℃、3〜5分間
とした。処理後の陽極酸化皮膜は、実施例6に比してA
lの部分が赤色となった。なお、染色法の代わりに電解
着色法を用いてもよい。
【0041】
【発明の効果】以上のように本発明の化粧板の製造方法
によれば、以下のような効果を奏する。 (1)請求項1記載の方法によれば、金属のワイヤを複
数本同時に溶融させるようにして溶射するので、大きな
溶射粒子を溶射できる。従って、溶射粒子相互の機械的
接合強度を増大でき、溶射粒子間の界面に陽極酸化時の
反応液が侵入するのを抑制でき、また、核を残すことが
できる。このため、陽極酸化時に溶射皮膜が脱落するの
を防止でき、無機材又は有機高分子材からなる基板上に
形成した溶射皮膜に陽極酸化皮膜を形成できる。従っ
て、安価な基板に、多様な色調を現す元となる陽極酸化
皮膜を形成でき、安価な化粧板の製造を可能にできる。
【0042】しかも、溶射皮膜を陽極酸化して陽極酸化
皮膜を形成しているので、陽極酸化皮膜に溶射皮膜の肌
荒れを現すことができる。従って、陽極酸化皮膜の色又
はこれに着色する色に、肌荒れを加味でき、特有の色調
を得ることを可能にできる。
【0043】(2)請求項2記載の方法によれば、溶射
皮膜に対してショットピーニングを施しているので、溶
射粒子相互の機械的接合強度を増大できるとともに溶射
粒子間の空隙を潰すことができる。従って、陽極酸化時
に反応液が溶射粒子間の界面に侵入するのをより確実に
抑制でき、請求項1による効果をより確実に発揮でき
る。
【0044】(3)請求項3記載の方法によれば、Al
とTiの溶射粒子を散在させることができるので、陽極
酸化によって、Al粒子上の厚膜とTi粒子上の干渉膜
とを散在させることができる。従って、Alの陽極酸化
皮膜固有の色の中に干渉膜による種々の色が散在してな
る特有の色調を得ることができる。
【0045】(4)請求項4記載の方法によれば、溶射
皮膜を構成するAlとTiの比率を変化させることがで
きるので、請求項3記載の方法により得られる色調を更
に変化に富んだものにできる。
【0046】(5)請求項5記載の方法によれば、請求
項3、4におけるAlの陽極酸化皮膜を種々の色に着色
できるので、請求項3、4で得られた色調に、Alの陽
極酸化皮膜の種々の色を加えて、変化に富んだ特有の色
調を得ることができる。
【0047】(6)請求項6記載の方法によれば、Al
の陽極酸化皮膜を種々の色に着色できるので、Alの陽
極酸化皮膜固有の色とは異なった色調を得ることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図面に代わる写真であって、実施例1におい
て陽極酸化皮膜の形成された溶射皮膜の断面を示す顕微
鏡写真である。
【図2】 図1の一部拡大模式図である。
【符号の説明】 1 アルミニウム溶射皮膜 2 陽極酸化皮膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C25D 11/04 305 11/18 305 11/22 A 11/26 302

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 無機材又は有機高分子材からなる基板上
    に、金属を溶射して溶射皮膜を形成する第1工程と、 上記溶射皮膜を陽極酸化して陽極酸化皮膜を形成する第
    2工程とを備え、 第1工程において、用いる金属がTi、Alの内の少な
    くとも一方であり、溶射を、金属のワイヤを複数本同時
    に溶融させるように行なうことを特徴とする化粧板の製
    造方法。
  2. 【請求項2】 第1工程において、溶射の後に、溶射皮
    膜に対してショットピーニングを施す請求項1記載の化
    粧板の製造方法。
  3. 【請求項3】 第1工程において、Al及びTiの両者
    を用いる請求項1記載の化粧板の製造方法。
  4. 【請求項4】 第1工程において、Al及びTiの両者
    を用い、AlワイヤとTiワイヤの太さを異ならせる請
    求項1記載の化粧板の製造方法。
  5. 【請求項5】 第2工程で得られた陽極酸化皮膜を電解
    着色法又は染色法により着色する請求項3又は4記載の
    化粧板の製造方法。
  6. 【請求項6】 第1工程においてAlのみを用いた場合
    に、第2工程で得られた陽極酸化皮膜を電解着色法又は
    染色法により着色する請求項1記載の化粧板の製造方
    法。
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