JPH08157472A - ピラゾール誘導体の製造方法 - Google Patents

ピラゾール誘導体の製造方法

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JPH08157472A
JPH08157472A JP6299230A JP29923094A JPH08157472A JP H08157472 A JPH08157472 A JP H08157472A JP 6299230 A JP6299230 A JP 6299230A JP 29923094 A JP29923094 A JP 29923094A JP H08157472 A JPH08157472 A JP H08157472A
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JP6299230A
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Kazufumi Nakamura
和史 中村
Mitsuru Shibata
充 柴田
Ichiro Nasuno
一郎 那須野
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Idemitsu Kosan Co Ltd
Original Assignee
Idemitsu Kosan Co Ltd
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  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 有用作物には薬害を及ぼさず、イネ科雑草お
よび広葉雑草を低薬量で選択的に防除できるピラゾール
誘導体の、カルボン酸中間体の合成工程や、煩雑な多く
の工程を必要としない、工業的に有利な製造方法を提供
する。 【構成】 反応式 【化1】 (R1=H又はC1〜C4アルキル、R2、X1、X2
3、X4=C1〜C4アルキル、X5=ハロゲン原子、n
=0、1又は2)で示されるピラゾール誘導体の製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、除草剤として有用なピ
ラゾール誘導体の製造方法並びに該ピラゾール誘導体の
製造に有用な中間体およびその製造方法に関する。
【0002】
【背景技術】従来、トウモロコシなどの栽培時には、ト
リアジン系除草剤であるアトラジンや、酸アニリド系除
草剤であるアラクロールおよびメトラクロールが用いら
れてきたが、アトラジンはイネ科雑草に対する活性が低
く、アラクロール、メトラクロールは逆に広葉雑草に対
する活性が低い。したがって現在のところ、単一の薬剤
でイネ科および広葉の雑草を一度に防除することは困難
である。さらに、上記の除草剤は高薬量を必要とし、環
境問題上好ましくない。
【0003】一方、本発明者らは、トウモロコシ、小
麦、大麦等の有用作物に対しては薬害を与えず、イネ科
雑草および広葉雑草の両者を低薬量で同時に防除可能な
選択性の優れた新規ピラゾール誘導体を見出し、すでに
特許出願を行っている(特願平5−191428号及び
特願平6−71788号)。これらの明細書中に開示さ
れている新規ピラゾール誘導体の製造方法では、製造中
間体としてグリニヤール反応によるカルボン酸の合成が
必要であり、さらにジシクロヘキシルカルボジイミド
(DCC)を用いた縮合反応、塩基を用いた転移反応な
どの多くの工程を必要とし、目的化合物によっては必ず
しも工業的に満足できる収率が得られない場合があっ
た。
【0004】
【発明が解決すべき課題】そこで、本発明の目的は最広
義には、除草剤として有用なピラゾール誘導体を、上記
のようなカルボン酸中間体の合成工程や、煩雑な多くの
工程を必要とせずに工業的に有利な製造方法で提供する
ことにある。
【0005】すなわち、本発明の第一の目的は、除草剤
として有用なピラゾール誘導体の新規な製造方法を提供
することにある。また、本発明の第二の目的は、新規ピ
ラゾール誘導体を製造するための製造中間体であり、か
つ新規化合物である核ハロゲン化合物の製造方法を提供
することにあり、本発明の第三の目的は、上記核ハロゲ
ン化合物を製造するための製造中間体であり、かつ新規
化合物であるチオクロマン化合物の製造方法を提供する
ことにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するべく鋭意検討を重ねた結果、下記に示す工程
からなる、カルボン酸の合成工程を含まない工業的に有
利なピラゾール誘導体の製造方法及び新規中間体の製造
方法を見出し、本発明を完成させるに到った。
【0007】すなわち、本発明の第一の目的は、一般式
(III)
【化18】 (式中、X1、X2、X3およびX4はC1〜C4アルキル基
を示し、X5はハロゲン原子を示し、nは0、1または
2の整数を示す。)で表される核ハロゲン化合物と、一
般式(IV)
【化19】 (式中、R1は水素原子またはC1〜C4アルキル基を示
し、R2はC1〜C4アルキル基を示を示す。)で表され
るピラゾール化合物を、塩基および金属触媒の存在下、
一酸化炭素と反応させることを特徴とする、一般式
(V)
【化20】 (式中、R1、R2、X1、X2、X3、X4およびnは上記
定義のとおりである。)で表されるピラゾール誘導体の
製造方法により達成される。
【0008】本発明の第二の目的は、一般式(II)
【化21】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
〜C4アルキル基を示す。)で表されるチオクロマン化
合物を、ハロゲン化剤と反応させることを特徴とする、
一般式(IIIa)
【化22】 (式中、X1、X2、X3およびX4は上記定義のとおりで
あり、X5はハロゲン原子を示す。)で表される核ハロ
ゲン化スルフィド化合物(一般式(III)においてn=
0のものに相当する)の製造方法により達成される。
【0009】また本発明の第二の目的は、一般式(III
a)
【化23】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
〜C4アルキル基を示し、X5はハロゲン原子を示す。)
で表される核ハロゲン化スルフィド化合物を、酸化する
ことを特徴とする、一般式(IIIb)
【化24】 (式中、X1、X2、X3、X4およびX5は上記定義のと
おりであり、mは1または2を示す。)で表される核ハ
ロゲン化スルホキシド化合物または核ハロゲン化スルホ
ン化合物(一般式(III)においてn=1または2のも
のに相当する)の製造方法によっても達成される。
【0010】また、本発明の第二の目的は、一般式(I
I)
【化25】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
〜C4アルキル基を示す。)で表されるチオクロマン化
合物を、まずハロゲン化剤でハロゲン化し、続いて酸化
剤を加えて酸化することを特徴とする、一般式(IIIb)
【化26】 (式中、X1、X2、X3およびX4は上記定義のとおりで
あり、X5はハロゲン原子を示し、mは1または2の整
数を示す。)で表される核ハロゲン化スルホキシド化合
物または核ハロゲン化スルホン化合物(一般式(III)
においてn=1または2のものに相当する)の製造方法
によっても達成される。
【0011】本発明の第三の目的は、一般式(I)
【化27】 (式中、X1およびX4はそれぞれ独立にC1〜C4アルキ
ル基を示す。)で表されるチオフェノール化合物を、一
般式(VI)
【化28】 (式中、X2およびX3はそれぞれ独立にC1〜C4アルキ
ル基を示す。)または一般式(VII)
【化29】 (式中、X2およびX3は上記定義のとおりである。)で
表されるアルコール化合物と反応させることを特徴とす
る、一般式(II)
【化30】 (式中、X1、X2、X3及びX4は上記定義のとおりであ
る。)で表されるチオクロマン化合物の製造方法によっ
て達成される。
【0012】また本発明の第三の目的は、一般式(VII
I)
【化31】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
〜C4アルキル基を示す。)で表されるスルフィド化合
物を、酸を用いて環化することを特徴とする、一般式
(II)
【化32】 (式中、X1、X2、X3及びX4は上記定義のとおりであ
る。)で表されるチオクロマン化合物の製造方法によっ
ても達成される。
【0013】本発明の理解を容易にするため、図1に示
した反応工程図を参照しながら一般式(V)で表される
ピラゾール誘導体、一般式(III)、(IIIa)、(III
b)で表される核ハロゲン化合物および一般式(II)で
表されるチオクロマン化合物の製造方法を順次説明す
る。
【0014】なお、図1の反応工程図中の化合物名を以
下次のように略称する。一般式(I)のチオフェノール
化合物を「チオフェノール化合物(I)」、一般式(I
I)のチオクロマン化合物を「チオクロマン化合物(I
I)」、一般式(IIIa)の核ハロゲン化スルフィド化合
物を「核ハロゲン化スルフィド化合物(IIIa)」、一般
式(IIIb)の核ハロゲン化スルホキシド化合物および核
ハロゲン化スルホン化合物をまとめて「核ハロゲン化ス
ルホキシド/スルホン化合物(IIIb)」、一般式(II
I)の核ハロゲン化合物を「核ハロゲン化合物(II
I)」、一般式(IV)のピラゾール化合物を「ピラゾー
ル化合物(IV)」、一般式(VI)および一般式(VII)
のアルコール化合物をそれぞれ「アルコール化合物(V
I)」および「アルコール化合物(VII)」、一般式(VI
II)のスルフィド化合物を「スルフィド化合物(VII
I)」、および一般式(V)のピラゾール誘導体は「ピラ
ゾール誘導体(V)」という。
【0015】上記化合物におけるR1、R2、X1、X2
3、X4においてC1〜C4アルキル基の具体例として
は、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピ
ル基などのプロピル基、n−ブチル基、i−ブチル基な
どのブチル基が挙げられる。
【0016】X5のハロゲン原子の具体例としては、臭
素、塩素等が挙げられる。
【0017】本発明の第一の目的を達成するピラゾール
誘導体(V)の製造方法は、反応式
【化33】 (式中、R1、R2、X1、X2、X3、X4、X5およびn
は上記定義のとおりである。)で示され、核ハロゲン化
合物(III)と、ピラゾール化合物(IV)を塩基および
金属触媒の存在下、一酸化炭素と反応させるものであ
り、図1において工程Dによって示されている。
【0018】本反応で用いる金属触媒としては、パラジ
ウム、ロジウム、ルテニウム、白金等の遷移金属が挙げ
られるが、好ましくはパラジウムである。金属触媒の添
加量は、核ハロゲン化合物(III)に対して0.01〜
1.0倍重量、好ましくは0.05〜0.5倍重量であ
る。金属触媒の金属に対して用いられる配位子には特に
制限はないが、トリフェニルホスフィン、トリ−n−ブ
チルホスフィン等のオルガノホスフィン系化合物が好ま
しい。配位子の添加量は、金属触媒の金属に対して2.
0〜10.0当量、好ましくは2.0〜4.0当量であ
る。
【0019】反応系に共存させる塩基としては、ピリジ
ン、トリエチルアミン、N,N−ジメチルアニリン等の
有機塩基、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナト
リウム等の無機塩基を用いることができ、好ましくはト
リエチルアミンである。添加する塩基の量は、核ハロゲ
ン化合物(III)に対して1.0〜20.0当量、好ま
しくは1.0〜10.0当量である。
【0020】本反応は、一酸化炭素雰囲気下に行う。一
酸化炭素の圧力は、常圧〜200kg/cm2の範囲で
あり、通常は50〜150kg/cm2程度が好まし
い。反応温度は、室温〜200℃、好ましくは50〜1
80℃である。反応時間は、30分〜200時間であ
り、通常は1〜100時間で完了する。反応溶媒は、反
応を妨害しないものであれば特に制限はないが、通常
1,4−ジオキサン、アセトニトリルを用いるのが好ま
しい。反応に用いるピラゾール化合物(IV)の量は、核
ハロゲン化合物(III)に対して1.0〜10.0当
量、好ましくは1.0〜5.0当量である。
【0021】反応終了後、常法に従い、反応溶媒を留去
し、得られた残渣に有機溶媒(水に不溶のもの、例え
ば、酢酸エチル、トルエン、塩化メチレン等)を加え、
アルカリ水溶液(例えば、炭酸水素ナトリウム水溶液、
炭酸ナトリウム水溶液等)で目的物を抽出する。得られ
た水層に酸(例えば、塩酸等)を加えてpHを1に調整
し、析出した固体を濾取後、乾燥することにより目的物
の結晶を単離できる。
【0022】本発明の第二の目的を達成する、核ハロゲ
ン化合物(III)のうちn=0である核ハロゲン化スル
フィド化合物(IIIa)の製造方法は、反応式
【化34】 (式中、X1、X2、X3およびX4は上記定義のとおりで
ある。)によって示されるように、チオクロマン化合物
(II)を、ハロゲン化剤を用いて核ハロゲン化するもの
であり、図1において工程Bによって示されている。
【0023】本反応で用いるハロゲン化剤としては、臭
素、塩化スルフリル、塩素等が挙げられ、好ましくは臭
素である。ハロゲン化剤の量は、チオクロマン化合物
(II)に対して1〜2当量、好ましくは1〜1.1当量
である。用いる溶媒は、反応を妨害しないものであれば
特に制限はなく、酢酸、塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素等が挙げられ、好ましくは塩化メチレンであ
る。反応温度は、通常0〜80℃であるが、好ましくは
20〜30℃である。反応時間は、通常1〜80時間で
あるが、好ましくは1〜3時間である。
【0024】反応終了後、常法に従い、生成したハロゲ
ン化水素を除去するため、反応液に脱ハロゲン剤(例え
ば、亜硫酸水素ナトリウム水溶液等)を加えて洗浄す
る。さらに、反応液をアルカリ水溶液(例えば、重曹
水、炭酸ナトリウム水溶液等)で洗浄する。溶媒を留去
後、得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー、蒸留等の手段で精製することにより目的物を単
離できる。
【0025】また、本発明の第二の目的を達成する、核
ハロゲン化合物(III)のうちn=1または2である核
ハロゲン化スルホキシド/スルホン化合物(IIIb)の製
造方法は、反応式
【化35】 (式中、X1、X2、X3、X4、X5およびmは上記定義
のとおりである。)によって示されるように、核ハロゲ
ン化スルフィド化合物(IIIa)に酸化剤を作用させて、
酸化するものであり、図1において工程C1によって示
されている。
【0026】本反応で用いる酸化剤としては、過酸化水
素、過酢酸、メタ過ヨウ素酸ナトリウム等が挙げられ、
好ましくは過酸化水素である。核ハロゲン化スルフィド
化合物(IIIa)1当量に対し、酸化剤を1当量反応させ
ることにより核ハロゲン化スルホキシド化合物(IIIb)
(m=1の化合物)が、2当量反応させることにより核
ハロゲン化スルホン化合物(IIIb)(m=2の化合物)
が得られる。用いる溶媒としては、反応を妨害しないも
のであれば特に制限はなく、酢酸、水、メタノール等が
挙げられるが、好ましくは酢酸である。反応温度は、室
温から溶媒の還流温度まで特に制限はないが、80℃程
度が好ましい。反応時間は、30分〜24時間程度であ
るが、1〜3時間程度が好ましい。
【0027】反応終了後、常法に従い、過剰の酸化剤を
除去するために還元剤(例えば、亜硫酸水素ナトリウム
水溶液等)を反応液に加え、生じた固体を濾過により集
め、乾燥することにより目的物の結晶を単離できる。
【0028】なお、図1における工程Bおよび工程C1
を別々の工程とせず、連続して1ポットで行い、チオク
ロマン化合物(II)から核ハロゲン化スルホキシド/ス
ルホン化合物(IIIb)を直接得ることも可能である。こ
の1ポットで核ハロゲン化スルホキシド/スルホン化合
物(IIIb)を得る方法は、反応式
【化36】 (式中、X1、X2、X3、X4、X5およびmは上記定義
のとおりである。)によって示されるように、上記工程
Bと同様の核ハロゲン化反応を行った後、反応生成物で
ある核ハロゲン化スルフィド化合物(IIIa)を単離する
ことなく、そのまま反応系に酸化剤を添加し、連続的
に、前記工程C1と同様の酸化反応を行うものであり、
図1において工程C2によって示されている。
【0029】本反応で用いる溶媒は、反応を妨害しない
ものであれば特に制限はないが、酢酸、水等が挙げら
れ、酢酸が好ましい。用いるハロゲン化剤および酸化剤
は、上記工程B及びC1で例示したものが挙げられる。
反応条件は、核ハロゲン化および酸化において、上記工
程B及びC1と同様である。
【0030】反応終了後、常法に従い、生成したハロゲ
ン化水素及び過剰の酸化剤を除去するために、脱ハロゲ
ン剤及び還元剤(例えば、亜硫酸水素ナトリウム水溶液
等)を反応液に加える。有機溶媒(水に不溶のもの、例
えば、酢酸エチル、トルエン、塩化メチレン等)で、目
的物を抽出し、有機層をアルカリ水溶液(例えば、重曹
水、炭酸ナトリウム水溶液等)で洗浄する。有機溶媒を
留去し、得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマト
グラフィー等の手段で精製することにより目的物を単離
できる。
【0031】本発明の第三の目的を達成する、チオクロ
マン化合物(II)の製造方法は、反応式
【化37】 (式中、X1、X2、X3およびX4は上記定義のとおりで
ある。)によって示されるように、チオフェノール
(I)とアルコール化合物(VI)または(VII)を、反応
させるものであり、図1において工程A−1、A−2に
よって示される。
【0032】本工程で用いる溶媒としては、無水酢酸、
酢酸、ギ酸等が挙げられ、好ましくはギ酸である。アル
コール化合物(VI)または(VII)の量は、チオフェノ
ール化合物(I)に対して1〜5当量、好ましくは1〜
1.5当量である。反応温度は、室温から溶媒の還流温
度まで特に制限はないが、溶媒の還流温度が好ましい。
反応時間は、通常30分〜24時間であるが、7時間程
度が好ましい。
【0033】反応終了後、常法に従い、反応液に有機溶
媒(水に不溶のもの、例えば、酢酸エチル、トルエン、
塩化メチレン等)を加えて目的物を抽出する。有機層を
アルカリ水溶液(例えば、重曹水、炭酸ナトリウム水溶
液等)で洗浄する。有機溶媒を留去後、得られた油状物
質を蒸留、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等の手
段で精製することにより目的物を単離できる。
【0034】なお、本発明の第三の目的を達成する、チ
オクロマン化合物(II)の製造方法は、反応式
【化38】 (式中、X1、X2、X3およびX4は上記定義のとおりで
ある。)によって示されるように、スルフィド化合物
(VIII)を、酸によって環化する方法によっても可能で
あり、図1において工程A−3によって示されている。
【0035】本反応で用いる酸は、塩化アルミニウム、
塩化亜鉛、塩化鉄等のルイス酸、メタンスルホン酸等の
プロトン酸および酸性イオン交換樹脂等が挙げられ、酸
性イオン交換樹脂が好ましい。用いる酸の量は、スルフ
ィド化合物(VIII)に対して0.1〜3当量、好ましく
は0.1〜1.2当量である。
【0036】用いる溶媒は、反応を妨害しないものであ
れば特に制限はなく、トルエン、ベンゼン、ニトロベン
ゼン、ジクロロメタン、n−ヘキサン等が挙げられ、好
ましくはトルエンである。
【0037】反応温度は、0℃〜溶媒の還流温度である
が、好ましくは溶媒の還流温度である。反応時間は、通
常1〜80時間であるが、好ましくは3〜12時間であ
る。
【0038】酸性イオン交換樹脂を用いた場合、反応終
了後、樹脂を濾別し、濾液を留去することにより目的物
を単離できる。
【0039】また、その他の後処理方法として、常法に
従い、反応液にアルカリ水溶液(例えば、重曹水、炭酸
ナトリウム水溶液等)を加えて洗浄した後、溶媒を留去
し、得られた油状物質を蒸留、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー等の手段で精製することにより目的物を単
離できる。
【0040】次に、ピラゾール誘導体(V)を製造する
ために有用な新規製造中間体であるチオクロマン化合物
(II)及び核ハロゲン化合物(III)について説明す
る。
【0041】第1の新規中間体であるチオクロマン化合
物(II)は、上記図1中の工程Aの反応の結果得られる
化合物であり、一般式
【化39】 で表される。式中のX1、X2、X3およびX4は、それぞ
れC1〜C4アルキル基を示し、好ましくはそれぞれメチ
ル基である。
【0042】第2の新規中間体である核ハロゲン化合物
(III)は、上記図1中の工程C1またはC2の反応の結
果得られる化合物であり、一般式
【化40】 で表される。式中のX1、X2、X3およびX4は、それぞ
れC1〜C4アルキル基を示し、好ましくはそれぞれメチ
ル基である。X5は、ハロゲン原子を示し、好ましくは
臭素原子である。nは、0、1または2の整数を示し、
好ましくは2である。
【0043】ここで、核ハロゲン化合物(III)は、核
ハロゲン化スルフィド化合物(IIIa)および核ハロゲン
化スルホキシド/スルホン化合物(IIIb)の両者を包括
するものであり、核ハロゲン化合物(III)のうち、n
=0の場合が核ハロゲン化スルフィド化合物(IIIa)に
相当し、n=1の場合が核ハロゲン化スルホキシド化合
物(IIIb、n=1)及びn=2の場合が核ハロゲン化ス
ルホン化合物(IIIb、n=2)に相当する。
【0044】
【実施例】次に本発明の各製造方法を実施例を挙げて具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定され
るものではない。
【0045】実施例1:4,4,5,8−テトラメチル
チオクロマン(化合物No.1)の合成 (工程A−1) 2,5−ジメチルチオフェノール1.7
9g(0.01モル)にギ酸20mlおよび3−メチル
−2−ブテン−1−オール 0.95g(0.011モ
ル)を加え、7時間加熱還流した。反応液を氷水に注加
し、酢酸エチルにて抽出した後、有機層を飽和重曹水で
洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒
を留去し、得られた油状物質をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィーにて精製し、標題の目的物0.95g(収
率46%)を得た。
【0046】(工程A−2)上記(工程A−1)におい
て用いた3−メチル−2−ブテン−1−オールの代わり
に3−メチル−1,3−ブタンジオールを用いた以外は
(工程A−1)と同様の操作を行い、標題の目的物0.
91g(収率44%)を得た。
【0047】実施例2:6−ブロモ−4,4,5,8−
テトラメチルチオクロマン(化合物No .2)の合成(工
程B) 実施例1の(工程A−1)又は(工程A−2)で得た
4,4,5,8−テトラメチルチオクロマン13.2g
(0.064モル)に塩化メチレン100mlを加え、
そこに臭素10.2g(0.064モル)を室温下に滴
下し、滴下後2時間反応させた。反応終了後、反応液に
2%亜硫酸水素ナトリウム水溶液70mlを加え、過剰
の臭素を除去し、分液した。有機層を飽和重曹水溶液、
次いで飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧下に塩化メチレンを留去し、得られた油状物
質をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、
標題の目的物1.59g(収率87%)を得た。
【0048】実施例3:6−ブロモ−4,4,5,8−
テトラメチルチオクロマン−1,1−ジオキシド(化合
物No.3)の合成(工程C1 実施例2で得た4,4,5,8−テトラメチル−6−ブ
ロモチオクロマン5.0g(0.0175モル)に酢酸
5mlを加え、さらに30%過酸化水素水5.95g
(0.0525モル)を加え、80℃で2時間加熱し
た。反応終了後、反応混合物に2%亜硫酸水素ナトリウ
ム水溶液30mlを加え、析出した固体を濾取し、標題
の目的物4.9g(収率88%)を得た。
【0049】実施例4:6−ブロモ−4,4,5,8−
テトラメチルチオクロマン−1,1−ジオキシド(化合
物No.3)の合成(1ポットからなる工程C2 実施例2で得た6−ブロモ−4,4,5,8−テトラメ
チルチオクロマン5.0g(0.0242モル)に酢酸
10mlを加え、そこに臭素3.87g(0.0242
モル)を室温下に滴下し、滴下後4時間反応させた。反
応液に30%過酸化水素水8.22g(0.0726モ
ル)を滴下し、80℃で2時間加熱した。反応終了後、
反応混合物に2%亜硫酸水素ナトリウム水溶液20ml
および酢酸エチル50mlを加え、分液した。有機層を
飽和重曹水で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
減圧下に酢酸エチルを留去し、得られた油状物質をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、標題の目
的物6.30g(収率82%)を得た。
【0050】実施例5:4,4,5,8−テトラメチル
−6−(1−エチル−5−ヒドロキシピラゾール−4−
イル)カルボニルチオクロマン−1,1−ジオキシド
(化合物 No.4)の合成(工程D) 実施例4で得た6−ブロモ−4,4,5,8−テトラメ
チルチオクロマン−1,1−ジオキシド1.50g
(4.73ミリモル)、1−エチル−5−ヒドロキシピ
ラゾール1.73g(11.83ミリモル)、トリエチ
ルアミン1.91g(18.92ミリモル)、無水炭酸
カリウム1.95g(14.20ミリモル)、テトラ−
n−ブチルアンモニウムブロマイド0.61g(1.8
9ミリモル)、ジクロロ−(ビストリフェニルホスフィ
ン)−パラジウム0.33g(0.47ミリモル)およ
び1,4−ジオキサン47mlを、撹拌機、バンドヒー
ター、温調器付き150mlオートクレーブ(SUS3
16)に仕込み、オートクレーブ内を一酸化炭素で置換
した後、75kg/cm2の圧力下、120℃で7時間
反応させた。
【0051】反応終了後、不溶分を濾去し、濾液を留去
後、得られた残渣に5%炭酸ナトリウム水溶液と酢酸エ
チルを加えて分液した。得られた水層に塩酸を加えてp
Hを1に調整し、生じた固体を濾過により集め、標題の
目的物0.95g(収率53%)を得た。
【0052】参考例:下記実施例6で用いた2−メチル
−4−(2,5−ジメチルフェニル)チオ−2−ブテン
の合成 2,5−ジメチル−チオフェノール89.3g(0.6
46モル)にアセトン300mlおよび炭酸カリウム8
9.3g(0.646モル)を加え、撹拌した。反応液
に1−クロロ−3−メチル−2−ブテン74.3g
(0.71モル)を滴下し、室温にて5時間反応させ
た。薄層クロマトグラフィー(TLC)(展開液:n−
ヘキサン)にて原料の消失および目的物の生成を確認し
た。反応終了後、生じた塩を濾去し、濾液を留去した
後、得られた油状物質に酢酸エチルを加え、飽和食塩水
で2回洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、酢酸
エチルを留去して標題の目的物120.9g(収率91
%)を得た。
【0053】実施例6:4,4,5,8−テトラメチル
チオクロマン(化合物No.1)の合成(工程A−3) 上記参考例で得た2−メチル−4−(2,5−ジメチル
チオフェニル)チオ−2−ブテン3.9g(18.8ミ
リモル)に、トルエン12mlおよび酸性イオン交換樹
脂(Amberlyst 15)0.4gを加え、3時間加熱還流し
た。反応終了後、酸性イオン交換樹脂を濾別し、濾液を
留去して標題の目的物3.62g(収率93%)を得
た。
【0054】上記実施例で得られたそれぞれの化合物の
構造式および物性データを下記表1に示す。
【0055】
【表1】
【0056】
【発明の効果】以上詳細に述べたように、本発明によれ
ば、トウモロコシ、小麦、大麦等の有用作物には薬害を
及ぼさず、イネ科雑草および広葉雑草の両者を低薬量で
選択的に防除可能な新規ピラゾール誘導体を、カルボン
酸合成工程等多くの工程を必要とせず、工業的に有利に
製造することができる方法が提供された。
【0057】さらに本発明のピラゾール誘導体の製造に
おいて好適な新規中間体化合物およびその製造方法が提
供された。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のピラゾール誘導体の製造工程を示した
図である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 231:18 335:06)

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(III) 【化1】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
    〜C4アルキル基を示し、X5はハロゲン原子を示し、n
    は0、1または2の整数を示す。)で表される核ハロゲ
    ン化合物と、一般式(IV) 【化2】 (式中、R1は水素原子またはC1〜C4アルキル基を示
    し、R2はC1〜C4アルキル基を示を示す。)で表され
    るピラゾール化合物を、塩基および金属触媒の存在下、
    一酸化炭素と反応させることを特徴とする、一般式
    (V) 【化3】 (式中、R1、R2、X1、X2、X3、X4およびnは上記
    定義のとおりである。)で表されるピラゾール誘導体の
    製造方法。
  2. 【請求項2】 一般式(II) 【化4】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
    〜C4アルキル基を示す。)で表されるチオクロマン化
    合物を、ハロゲン化剤と反応させることを特徴とする、
    一般式(IIIa) 【化5】 (式中、X1、X2、X3およびX4は上記定義のとおりで
    あり、X5はハロゲン原子を示す。)で表される核ハロ
    ゲン化スルフィド化合物の製造方法。
  3. 【請求項3】 一般式(IIIa) 【化6】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
    〜C4アルキル基を示し、X5はハロゲン原子を示す。)
    で表される核ハロゲン化スルフィド化合物を、酸化する
    ことを特徴とする、一般式(IIIb) 【化7】 (式中、X1、X2、X3、X4およびX5は上記定義のと
    おりであり、mは1または2を示す。)で表される核ハ
    ロゲン化スルホキシド化合物または核ハロゲン化スルホ
    ン化合物の製造方法。
  4. 【請求項4】 一般式(II) 【化8】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
    〜C4アルキル基を示す。)で表されるチオクロマン化
    合物を、まずハロゲン化剤でハロゲン化し、続いて酸化
    剤を加えて酸化することを特徴とする、一般式(IIIb) 【化9】 (式中、X1、X2、X3及びX4は上記定義のとおりであ
    り、X5はハロゲン原子を示し、mは1または2を示
    す。)で表される核ハロゲン化スルホキシド化合物また
    は核ハロゲン化スルホン化合物の製造方法。
  5. 【請求項5】 一般式(I) 【化10】 (式中、X1およびX4はそれぞれ独立にC1〜C4アルキ
    ル基を示す。)で表されるチオフェノール化合物を、一
    般式(VI) 【化11】 (式中、X2およびX3はそれぞれ独立にC1〜C4アルキ
    ル基を示す。)または一般式(VII) 【化12】 (式中、X2およびX3は上記定義のとおりである。)で
    表されるアルコール化合物と反応させることを特徴とす
    る、一般式(II) 【化13】 (式中、X1、X2、X3及びX4は上記定義のとおりであ
    る。)で表されるチオクロマン化合物の製造方法。
  6. 【請求項6】 一般式(VIII) 【化14】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
    〜C4アルキル基を示す。)で表されるスルフィド化合
    物を、酸を用いて環化することを特徴とする、一般式
    (II) 【化15】 (式中、X1、X2、X3及びX4は上記定義のとおりであ
    る。)で表されるチオクロマン化合物の製造方法。
  7. 【請求項7】 一般式(III) 【化16】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
    〜C4アルキル基を示し、X5はハロゲン原子を示し、n
    は0、1または2の整数を示す。)で表される核ハロゲ
    ン化合物。
  8. 【請求項8】 一般式(II) 【化17】 (式中、X1、X2、X3およびX4はそれぞれ独立にC1
    〜C4アルキル基を示す。)で表されるチオクロマン化
    合物。
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AR33448395A AR001772A1 (es) 1994-12-02 1995-12-01 Proceso para preparar compuestos de (5-hidroxipirazol-4-il)carbonil-tiocromano,y1-oxido o 1,1-dioxido y compuestos intermediarios de aplicación en dicho proceso y procesos para obtenir dichos compuestos intermediarios
AU39941/95A AU3994195A (en) 1994-12-02 1995-12-01 Process for producing pyrazole derivative
PCT/JP1995/002454 WO1996016962A1 (fr) 1994-12-02 1995-12-01 Procede de production de derives de pyrazole

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013014534A (ja) * 2011-07-04 2013-01-24 Daicel Corp ベンゾイルギ酸化合物、及びその製造方法

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