JPH08152719A - 非平面基板への露光方法及び装置 - Google Patents

非平面基板への露光方法及び装置

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JPH08152719A
JPH08152719A JP6294544A JP29454494A JPH08152719A JP H08152719 A JPH08152719 A JP H08152719A JP 6294544 A JP6294544 A JP 6294544A JP 29454494 A JP29454494 A JP 29454494A JP H08152719 A JPH08152719 A JP H08152719A
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和夫 大場
Yoshinori Shima
好範 嶋
Akira Oba
章 大場
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 凹凸や曲面を有する非平面基板に対して配線
回路の露光描画を高速、精密で確実に行う方法及び装置
を提供する。 【構成】 基板表面に凹凸や曲面を有する非平面基板へ
の露光方法において、(1)基板表面の各部分に対して
非感光性光又は超音波を照射し、その回帰反射の強度測
定によって該部分の垂直方向を検出し、(2)検出され
た垂直方向より光が照射されるように密封型伸縮自在プ
リズムを作動させ、(3)基板表面の各部分に配線回路
印刷フィルム面を透過した光を垂直に照射する、ことを
特徴とする非平面基板への露光方法及び装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は立体成形基板、モールド
基板、反り基板、フレキシブル基板など、表面に凹凸や
曲面を有する非平面基板に対する配線回路露光描画を高
速で精密に確実に行う方法及び装置に関する。
【0002】
【従来の技術】最近のエレクトロニクスの急激な進歩に
伴い、プリント基板は電気製品のみならず、さまざまな
製品の基本コンポーネントとして、その重要性がますま
す高まっている。しかもプリント回路構成も著しく複雑
化、多層化しつつあり、また製品サイクルの短縮化に伴
うプリント基板設計、製作期間の短縮の要求も高まって
きている。プリント基板設計は回路設計に始まりパター
ン設計を行い、製造データ出力となる。回路図作成はC
AD/CAMにより自動化されるようになった。回路図
にもとづいて、エッチングやコーティングを行ってプリ
ント基板が製造されるが、そのためには基板表面に配線
回路印刷フィルムを用いて、基板表面に設けられた感光
層を露光する工程が必要である。
【0003】次に基板面へ露光で作画するときはフォト
マスク作成の中間工程としての密着作業がある。用途に
より装置は大小あり、大は建物の一階部に光源を設置
し、二階部に操業盤と厚さ10mm、縦3m、横3m程
の大きなガラス面を有し、その範囲内の密着反転が可能
なプリンターから微細パターン用のプリンターまであ
る。これは原理的には太陽を電気光源に置き変えた日光
写真と同じで、厚板と生感材(フィルムもしくはガラス
乾板)を合わせて光を照射するだけである。密着部に透
明ガラスを有し、その上に原板と生感材を密着状態にす
るためのゴムシート部があり、これがガラス面全体を覆
うかたちである。内部の光源は用途によってタングステ
ンランプ、高圧水銀灯、ハロゲンランプなど使われてい
る。密着工程は原板上にクリーンにしたガラス面に膜面
(画像がある乳剤面)を上にセットし、生フィルムをそ
の上に膜面を下にした状態でセットする。前記ゴムシー
トで覆いかぶせ、真空ポンプでガラス面とゴムシートの
間のエアーを抜き取り、同時に真空ムラを発生させない
ためにゴムシートの上からローラー等でしごき、完全真
空にして、露光をかければ、密着工程は終わりで露光工
程に入る。
【0004】しかしながら、上記の方法は表面に凹凸面
や曲面を有する基板の場合には十分な密着度が得られな
い。基板表面が一方向で、かつ段差が小さい場合は不完
全ながら密着できるが、段差が大きい場合、二方向以上
に段状を有する場合、基板中央に凹凸部がある場合、基
板表面が曲面の場合などは、配線回路印刷フィルムを密
着させることは困難である。凹凸面を有する基板にプリ
ント回路を設けるための従来方法には、基板形状に合わ
せたプレス型を用意し、その間に配線回路を印刷された
フィルムを入れ、プレスする方法があるが、凹又は凸部
に対しては一平面フィルムをプレスすると凹又は凸部の
傾斜面ではフィルムが伸ばされ、配線回路が変形された
り、印刷線幅の伸びや亀裂が発生したりするとともに、
露光が一様でなく、製品不良の原因となる問題があっ
た。又、他の従来技術にフィルム面に配線を印刷し、こ
のフィルムを型の中に入れるとともにその上に透明樹脂
液を流し込み、硬化した樹脂を取り出したあと、再び型
合せし、露光する方法がある。この方法によっても凹凸
部の傾斜面ではフィルムが伸ばされ、配線回路の段切れ
や露光量が不均一となるといった問題の他に工程的にも
複雑であり、これらは非平面基板に対しての配線技術と
して十分なものではなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は凹凸や曲面を
有する非平面基板に対して配線回路露光描画を高速、精
密で確実に行う方法及び装置を提供せんとするものであ
る。特に露光描画の自動化に役立つ。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討した
結果、基板表の各部分に対して垂直方向より露光するこ
とにより上記課題が解決されることを見出し本発明に至
った。即ち、本発明は次の(1)〜(5)である。 (1)基板表面に凹凸や曲面を有する非平面基板への露
光方法において、(i)基板表面の各部分に対して非感
光性光又は超音波を照射し、その回帰反射の強度測定に
よって該部分の垂直方向を検出し、(ii)検出された垂
直方向より光が照射されるように密封型伸縮自在プリズ
ムを作動させ、(iii)基板表面の各部分に配線回路印
刷フィルム面を透過した光を垂直に照射する、ことを特
徴とする非平面基板への露光方法。
【0007】(2)基板表面に凹凸や曲面を有する非平
面基板への露光方法において、(i)基板表面の各部分
に対して非感光性光又は超音波を照射し、その回帰反射
の強度測定によって該部分の垂直方向を検出し、(ii)
検出された垂直方向より光が照射されるようにカバー付
き球状ガラス先端を有するガラスファイバーの照射方向
を作動させ、(iii)基板表面の各部分に配線回路印刷
フィルム面を透過した光を垂直に照射する、ことを特徴
とする非平面基板への露光方法。 (3)基板表面の各部分に対して非感光性光又は超音波
を照射し、その回帰反射によって該部分の垂直方向を検
出する際に、CCDカメラによる光量検出又は超音波セ
ンサーによる検出、及び自動フォーカス機構を用い、密
封型伸縮自在プリズム又はカバー付き球状ガラス先端を
有するガラスファイバーの照射方向の制御を行うことを
特徴とする(1)又は(2)記載の非平面基板への露光
方法。
【0008】(4)基板表面に凹凸や曲面を有する非平
面基板への露光装置において、(i)基板表面の各部分
に対して非感光性光又は超音波を照射し、その回帰反射
の強度測定によって該部分の垂直方向を検出する垂直方
向検出器、(ii)検出された垂直方向へ光が照射される
ように作動する密封型伸縮自在プリズム、又はカバー付
き球状ガラス先端を有するガラスファイバー、(iii)
自動フォーカス機構、を有することを特徴とする非平面
基板への露光装置。 (5)垂直方向検出器がCCDカメラ又は超音波センサ
ーであることを特徴とする(4)記載の非平面基板への
露光装置。
【0009】本発明でいう非平面基板とは、平面基板の
上に導体が配線された通常のプリント基板ではなく、高
密度化、部品の配置、配線パターンの立体化などの種々
の理由によって基板表面に凹凸や曲面を有するもので、
例えば立体成形基板、モールド基板、反り基板、フレキ
シブル基板などが挙げられる。各部分の凹凸や曲面を見
出し、その垂直方向を検出するために、本発明ではスキ
ャンする発光部又は超音波発振部から非感光性光又は超
音波を基板表面に向って照射し、基板表面で回帰反射す
る非感光性光又は超音波の強度がピークとなる点をCC
Dカメラなどの受光器又は超音波センサーで求めてデー
タ化することによって行われる。この場合、スキャン中
に基板表面に凹凸部又は曲面が存在すると、この部分で
の反射強度が弱くなったりゼロになることから、このよ
うな部分については、再度、発光部又は超音波発振部を
角度を変えて、いわば首を振りながらスキャンさせて反
射強度のピークをその方向とともにデータ化し、記録す
る。但し、基板表面について設計時のデータが使える時
は該工程は簡略され、設計データより垂直方向に関する
データへ変換することができる。又、後述するように複
数のセンサーを用いることもできる。
【0010】図1及び2は本発明の原理を示す。非平面
基板1は互いに段差を有する平面2,3,4を有してい
る。図1のように、基板全体の表面と平行な平面部分3
においては、非感光性光又は超音波を照射する投射器5
から平面3に照射された非感光性光又は超音波は平面で
反射し露光装置より平面への垂線に対して入射角と反射
角が等しく反射して、その延長線上にある検出器6に入
る。このように検出器に非感光性光又は超音波が検出さ
れたことは平面3に対して垂直に露光が可能である。こ
れに対して非平面基板においては露光される面が、例え
ば図1の平面部分4のように基板全体の表面に対して傾
いている場合がある。図2のように、投射器5から照射
された非感光性光又は超音波は平面4で反射するが、所
定の位置にある検出器6では検出されない。このことか
ら、平面4は傾いた面、あるいは非平面であると判断さ
れる。検出器6及び/又は投射器5と平面4の位置関係
を変化させることにより、検出器6で非感光性光又は超
音波を捉えた位置関係は、結局、傾いた平面4の垂線上
より露光するに必要な情報を教えることになる。この情
報に基づいて傾いた平面部分4に対しても垂直方向から
露光することが可能となる。
【0011】なお、上記垂直方向を検出する具体的方法
の一つを赤外線を例にとって説明する。一つの赤外線発
光素子からなる投射器、及び照射された赤外線が基板平
面で反射したものを入射角と反射角を等しくされた、換
言すれば露光方向が正しく基板平面に対して垂直方向に
向けられた場合に、反射赤外線を感知する位置、方向に
設けられた赤外線センサーからなる1個の検出器の組み
合せの他に、上記赤外線センサーの近傍に1個又は2個
以上のコントラスト比較用の赤外線センサーを配置す
る。主となる赤外線センサーとコントラスト比較用赤外
線センサーの受光量を比較し、その差が強くなる方向に
探りながら垂直方向検出器を作動させることにより、最
終的には主となる赤外線センサーのみが赤外線を検知す
る位置関係となった時が垂直方向検出器が基板表面と平
行になったことを示す。非感光性光とは、基板表面に感
光性樹脂が塗布された感光層を反応させない光のことで
あり、感光性樹脂が感度を有しない波長の光、赤外線、
紫外線などから選ばれて用いられる。発光源としてはフ
ィルター付きの各種ランプ、発光ダイオード、レーザな
どが用いられる。
【0012】これら光又は超音波を用いた回帰反射型検
知器によって、基板表面の各部分の垂直方向が検出され
る。基板表面の各部分の垂直方向が検出されると、次に
そのデータに基づいて、検出された垂直方向より基板に
向って光が照射される。この光は非感光性光とは違って
感光性樹脂を反応させるものであり、用いる感光性樹脂
によって波長が定まる。照射する光の方向を変化させる
ために、本発明では密封型伸縮自在プリズムやカバー付
き球状ガラス先端を有するガラスフアイバーが用いられ
る。密封型伸縮自在プリズムとはじゃばら状の伸縮自在
の側面を有する容器に透明液体、透明樹脂液が封入され
たものであって、光が入る入射面と光が出ていく投写面
が平行である時光は直線的に進むが、入射面と投写面が
平行でない時はプリズムとして作用して光は屈折して進
んでいく。本発明の密封型伸縮自在プリズムでは、先の
工程で得られた垂直方向のデータによってアクチュエー
ターが入射面と投写面を変化させ、基板の各部分の所望
の垂直方向に光を照射させることができる。
【0013】一方、カバー付き球状ガラス先端を有する
ガラスファイバーとは、胃カメラなどの内視鏡と同じ原
理であって、図4に示される。ガラスファイバー14の
先端が球状15になっており、しかも光を特定方向のみ
に照射するための反射器又は覆い16が球状部分を囲ん
でいる構造を有するものである。図4の場合は覆い16
に投射口17が開孔している。この反射器又は覆いはガ
ラスファイバーと並設されている一本又は2本以上の制
御棒18によって方向を自由に変えることができ、それ
によって投光方向を自由に変えることができる。基板へ
の露光は、光源より上記の密封型伸縮自在プリズム又は
ガラスファイバーより基板の各部分へ垂直方向より照射
され、配線回路印刷回路フィルムを透過して感光樹脂層
を光化学反応させる。この際、光源は先の垂直方向のデ
ータにもとづいて、オートフォーカス機構によって正確
に基板表面に露光させることができる。上記のような方
法又は装置によって、基板の立体面にも精密で正確な配
線を描くことが可能となる。本発明の露光工程のあと、
エッチング及び/又はコーティング等の通常の手段によ
って配線基板が完成される。
【0014】
【実施例】本発明の実施例を図面を用いて以下に説明す
る。図3は本発明の露光方法及び装置を示している。非
平面基板1のある部分に対して露光する際、投射器5よ
り非感光性光又は超音波が基板に向って照射され、その
反射光又は超音波が検出器6で感知される。両者5,6
を有する垂直方向検出器7が基板面と平行な位置にあれ
ば、検出器6で完全に感知されるが、もし垂直方向検出
器7が基板面と平行な位置でなければ反射光又は超音波
は感知されないか、弱く感知されるので、最も強く感知
される位置関係が得られるように垂直方向検出器7を作
動させる。このようにして、垂直方向検出器7を基板表
面と平行した後、露光を行なった。
【0015】露光はランプ8より投射された光が配線パ
ターンが描かれたフィルム9(図3においてはロールツ
ーロールになっている)及び平板ガラス10を透過し、
密封型伸縮自在プリズム12に入る。密封型伸縮自在プ
リズムの両端には適宜レンズ11,13が設けられ、投
射された光配線パターンフィルムを透過したあと、基板
表面において所望の縮尺となるように設計されている。
投射された光は密封型伸線自在プリズム中の媒体が有す
る屈折率によって、その進行方向が曲げられ、プリズム
を出る時には垂直位置検出器7によって、基板表面に垂
直方向に投射される。以上の操作は、基板全体の表面と
非平行な平面又は曲面についても実行される結果、非平
面基板の全ての面に対して、垂直方向から露光が行なわ
れることになって、凹凸や曲線を有する非平面基板に対
して配線パターンを正確かつ高速で露光、描画すること
ができた。これらの操作及び装置は自動化することがで
きる。本発明の他の実施例として、図3で示される密封
型伸縮自在プリズムにかえて、図4で示されるカバー付
き球状ガラス先端を有するガラスファイバーを用いた。
カバーに設けられた投射口17の操作は、垂直方向検出
器によって得られたデータに基づいて、制御棒18によ
り非感光性光が常に基板表面に垂直に照射されるように
行なった。
【0016】
【発明の効果】上記のとおり、本発明によれば、凹凸や
曲面を有する非平面基板に対して配線回路の露光描画を
高速、精密で確実に行う方法及び装置を提供する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理を示す図、
【図2】本発明の原理を示す図、
【図3】本発明の一実施例、
【図4】本発明に用いられるカバー付き球状ガラス先端
を有するガラスファイバー。
【符号の説明】 1 非平面基板 2 基板の表面の部分 3 基板の表面の別の部分 4 基板の表面の別の部分 5 投射器 6 垂直方向検出器 8 ランプ 9 配線パターンフィルム 10 平板ガラス 11 レンズ 12 密封型伸縮自在プリズム 13 レンズ 14 ガラスファイバー 15 ガラスファイバーの球状先端部 16 カバー 17 カバーに開けられた投射口 18 制御棒

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板表面に凹凸や曲面を有する非平面基
    板への露光方法において、 (1)基板表面の各部分に対して非感光性光又は超音波
    を照射し、その回帰反射の強度測定によって該部分の垂
    直方向を検出し、 (2)検出された垂直方向より光が照射されるように密
    封型伸縮自在プリズムを作動させ、 (3)基板表面の各部分に配線回路印刷フィルム面を透
    過した光を垂直に照射する、ことを特徴とする非平面基
    板への露光方法。
  2. 【請求項2】 基板表面に凹凸や曲面を有する非平面基
    板への露光方法において、 (1)基板表面の各部分に対して非感光性光又は超音波
    を照射し、その回帰反射の強度測定によって該部分の垂
    直方向を検出し、 (2)検出された垂直方向より光が照射されるようにカ
    バー付き球状ガラス先端を有するガラスファイバーの照
    射方向を作動させ、 (3)基板表面の各部分に配線回路印刷フィルム面を透
    過した光を垂直に照射する、ことを特徴とする非平面基
    板への露光方法。
  3. 【請求項3】 基板表面の各部分に対して非感光性光又
    は超音波を照射し、その回帰反射によって該部分の垂直
    方向を検出する際に、CCDカメラによる光量検出又は
    超音波センサーによる検出、及び自動フォーカス機構を
    用い、密封型伸縮自在プリズム又はカバー付き球状ガラ
    ス先端を有するガラスファイバーの照射方向の制御を行
    うことを特徴とする請求項1又は2記載の非平面基板へ
    の露光方法。
  4. 【請求項4】 基板表面に凹凸や曲面を有する非平面基
    板への露光装置において、 (1)基板表面の各部分に対して非感光性光又は超音波
    を照射し、その回帰反射の強度測定によって該部分の垂
    直方向を検出する垂直方向検出器、 (2)検出された垂直方向へ光が照射されるように作動
    する密封型伸縮自在プリズム、又はカバー付き球状ガラ
    ス先端を有するガラスファイバー、 (3)自動フォーカス機構、を有することを特徴とする
    非平面基板への露光装置。
  5. 【請求項5】 垂直方向検出器がCCDカメラ又は超音
    波センサーであることを特徴とする請求項4記載の非平
    面基板への露光装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006179902A (ja) * 2004-12-22 2006-07-06 Asml Netherlands Bv 超音波距離センサ
JP4485463B2 (ja) * 2004-12-22 2010-06-23 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置および素子製造方法

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