JPH09222396A - 欠陥検査方法および装置 - Google Patents
欠陥検査方法および装置Info
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- JPH09222396A JPH09222396A JP5684196A JP5684196A JPH09222396A JP H09222396 A JPH09222396 A JP H09222396A JP 5684196 A JP5684196 A JP 5684196A JP 5684196 A JP5684196 A JP 5684196A JP H09222396 A JPH09222396 A JP H09222396A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 検査対象物上の欠陥の検出感度を向上すると
ともに、検査対象物にパターン形成されている場合に
は、パターン部と非パターン部における検出感度差を是
正する。 【解決手段】 光透過性基体を有する検査対象物の欠陥
を、該検査対象物に光を照射し前記欠陥からの散乱光を
受光手段で検出することにより検出する欠陥検査方法で
あって、検査対象物の反受光手段側に鏡面体を設けて、
前記受光手段で、少なくとも、前記照射光による欠陥か
らの直接散乱光と、前記照射光が一旦検査対象物を透過
し前記鏡面体で反射した後欠陥に照射された間接照射光
による間接散乱光とを検出することを特徴とする欠陥検
査方法および装置。
ともに、検査対象物にパターン形成されている場合に
は、パターン部と非パターン部における検出感度差を是
正する。 【解決手段】 光透過性基体を有する検査対象物の欠陥
を、該検査対象物に光を照射し前記欠陥からの散乱光を
受光手段で検出することにより検出する欠陥検査方法で
あって、検査対象物の反受光手段側に鏡面体を設けて、
前記受光手段で、少なくとも、前記照射光による欠陥か
らの直接散乱光と、前記照射光が一旦検査対象物を透過
し前記鏡面体で反射した後欠陥に照射された間接照射光
による間接散乱光とを検出することを特徴とする欠陥検
査方法および装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、検査対象物の欠陥
を検出する欠陥検査方法および装置に関し、とくに光学
的に高感度で精度よく欠陥を検出可能な欠陥検査方法お
よび装置に関する。
を検出する欠陥検査方法および装置に関し、とくに光学
的に高感度で精度よく欠陥を検出可能な欠陥検査方法お
よび装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】付着異物等による検査対象物上の欠陥を
光学的に検出する方法は各種知られている。例えば、液
晶表示装置用基板等の欠陥を検出する方法として、基板
に光を照射し、該基板からの散乱光を受光して、付着異
物やその他の欠陥を検出する方法がある。
光学的に検出する方法は各種知られている。例えば、液
晶表示装置用基板等の欠陥を検出する方法として、基板
に光を照射し、該基板からの散乱光を受光して、付着異
物やその他の欠陥を検出する方法がある。
【０００３】しかし、従来のこのような方法において
は、以下のような問題がある。すなわち、基板の表面材
質が異なることにより、その表面に付着した異物等の欠
陥からの散乱光光量が異なる。これにより、散乱光を検
出する検査装置においては、基板の種類によって欠陥の
検出感度が異なるばかりか、例えばガラス、透光性プラ
スティックなどの光透過性基体を有する基板上に屈折
率、反射率、吸光率、偏光特性等の光学特性が基体と異
なる部材からなるパターンが形成された基板にあって
は、パターン部表面と他の部位表面とで検出感度が異な
ることになり、欠陥の検出精度上大きな問題となる。
は、以下のような問題がある。すなわち、基板の表面材
質が異なることにより、その表面に付着した異物等の欠
陥からの散乱光光量が異なる。これにより、散乱光を検
出する検査装置においては、基板の種類によって欠陥の
検出感度が異なるばかりか、例えばガラス、透光性プラ
スティックなどの光透過性基体を有する基板上に屈折
率、反射率、吸光率、偏光特性等の光学特性が基体と異
なる部材からなるパターンが形成された基板にあって
は、パターン部表面と他の部位表面とで検出感度が異な
ることになり、欠陥の検出精度上大きな問題となる。
【０００４】上記のような問題は、基本的な次のような
原因によると考えられる。例えば図１に示すように、基
板１に光を照射し、基板１上に存在する異物２等の欠陥
からの散乱光を、例えばレンズ３を介して受光手段とし
てのカメラ４で検出する装置において、基板１が光透過
率の高いものである場合には、該異物２へ直接照射され
た光による、異物２からカメラ４方向への直接散乱光の
みが受光されることになる。
原因によると考えられる。例えば図１に示すように、基
板１に光を照射し、基板１上に存在する異物２等の欠陥
からの散乱光を、例えばレンズ３を介して受光手段とし
てのカメラ４で検出する装置において、基板１が光透過
率の高いものである場合には、該異物２へ直接照射され
た光による、異物２からカメラ４方向への直接散乱光の
みが受光されることになる。
【０００５】一方、図２に示すように、反射率の高い基
板５の場合には、該基板５上の異物２には、基板５に向
けて直接照射される光６と、基板５の表面で反射した間
接照射光７とが照射され、カメラ４で受光される散乱光
も、直接照射光６による異物２からの散乱光と、間接照
射光７による異物２からの散乱光との両方となる。
板５の場合には、該基板５上の異物２には、基板５に向
けて直接照射される光６と、基板５の表面で反射した間
接照射光７とが照射され、カメラ４で受光される散乱光
も、直接照射光６による異物２からの散乱光と、間接照
射光７による異物２からの散乱光との両方となる。
【０００６】したがって、基板自身の表面材質が異なれ
ば、同じ装置であっても欠陥検出感度が異なることにな
る。また、とくに光透過性能を有する基板にパターン形
成されている場合には、同一基板中でも、パターン部と
非パターン部とで検出感度が異なることになる。つま
り、パターン部では基本的に図２に示した散乱になり、
非パターン部では基本的に図１に示した散乱になるから
である。このような検出感度差は、欠陥検出精度低下の
原因となる。
ば、同じ装置であっても欠陥検出感度が異なることにな
る。また、とくに光透過性能を有する基板にパターン形
成されている場合には、同一基板中でも、パターン部と
非パターン部とで検出感度が異なることになる。つま
り、パターン部では基本的に図２に示した散乱になり、
非パターン部では基本的に図１に示した散乱になるから
である。このような検出感度差は、欠陥検出精度低下の
原因となる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明の課題
は、とくに光透過性能を有する基板等を検査対象物とす
る場合において、その欠陥検出感度を向上することにあ
る。また、該検査対象物にパターン形成されている場合
にあっても、パターン部と非パターン部との間の検出感
度差を低減し、欠陥検出精度を向上することにある。
は、とくに光透過性能を有する基板等を検査対象物とす
る場合において、その欠陥検出感度を向上することにあ
る。また、該検査対象物にパターン形成されている場合
にあっても、パターン部と非パターン部との間の検出感
度差を低減し、欠陥検出精度を向上することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明の欠陥検査方法は、光透過性基体を有する検
査対象物の欠陥を、該検査対象物に光を照射し前記欠陥
からの散乱光を受光手段で検出することにより検出する
欠陥検査方法であって、検査対象物の反受光手段側に鏡
面体を設けて、前記受光手段で、少なくとも、前記照射
光による欠陥からの直接散乱光と、前記照射光が一旦検
査対象物を透過し前記鏡面体で反射した後欠陥に照射さ
れた間接照射光による間接散乱光とを検出することを特
徴とする方法からなる。
に、本発明の欠陥検査方法は、光透過性基体を有する検
査対象物の欠陥を、該検査対象物に光を照射し前記欠陥
からの散乱光を受光手段で検出することにより検出する
欠陥検査方法であって、検査対象物の反受光手段側に鏡
面体を設けて、前記受光手段で、少なくとも、前記照射
光による欠陥からの直接散乱光と、前記照射光が一旦検
査対象物を透過し前記鏡面体で反射した後欠陥に照射さ
れた間接照射光による間接散乱光とを検出することを特
徴とする方法からなる。
【０００９】また、本発明に係る欠陥検査装置は、光透
過性基体を有する検査対象物に光を照射する照光手段
と、検査対象物側からの散乱光を検出する受光手段と、
検査対象物の反受光手段側に設けられた鏡面体とを有す
ることを特徴とするものからなる。
過性基体を有する検査対象物に光を照射する照光手段
と、検査対象物側からの散乱光を検出する受光手段と、
検査対象物の反受光手段側に設けられた鏡面体とを有す
ることを特徴とするものからなる。
【００１０】このような方法および装置においては、検
査対象物上に、前記基体と光学特性の異なる部材からな
るパターン、たとえば基本的に非光透過部からなるパタ
ーンが周期的に配設された構造に形成されている場合に
は、該検査対象物と受光手段との間の光路に空間フィル
タを設け、該空間フィルタによってパターン部からの散
乱光の成分のみを減衰あるいは除去することが好まし
い。このようにすれば、パターン部からの散乱光の影響
を除去した状態にて、欠陥からの散乱光をより高感度で
かつ精度よく検出することが可能になる。
査対象物上に、前記基体と光学特性の異なる部材からな
るパターン、たとえば基本的に非光透過部からなるパタ
ーンが周期的に配設された構造に形成されている場合に
は、該検査対象物と受光手段との間の光路に空間フィル
タを設け、該空間フィルタによってパターン部からの散
乱光の成分のみを減衰あるいは除去することが好まし
い。このようにすれば、パターン部からの散乱光の影響
を除去した状態にて、欠陥からの散乱光をより高感度で
かつ精度よく検出することが可能になる。
【００１１】とくにパターンが、非光透過部が周期的に
配設された構造に形成されている場合には、鏡面体を、
パターン間を透過した光が鏡面体で反射した後再びパタ
ーン間を透過できる位置に決めることが好ましい。この
ようにすれば、鏡面体による間接照射光を最も効率良く
使用できる。
配設された構造に形成されている場合には、鏡面体を、
パターン間を透過した光が鏡面体で反射した後再びパタ
ーン間を透過できる位置に決めることが好ましい。この
ようにすれば、鏡面体による間接照射光を最も効率良く
使用できる。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の望ましい実施の
形態について、図面を参照して説明する。まず、図３
に、検査対象物が光透過性能を有する基板１１（基
体）、例えばガラス基板である場合について説明する。
基板１１に向けて、照光手段１２から光１３が照射され
る。この照射光１３は、平行光（コヒーレント光）であ
ることが好ましく、例えばレーザビームによってそのよ
うな平行光を作り出せる。
形態について、図面を参照して説明する。まず、図３
に、検査対象物が光透過性能を有する基板１１（基
体）、例えばガラス基板である場合について説明する。
基板１１に向けて、照光手段１２から光１３が照射され
る。この照射光１３は、平行光（コヒーレント光）であ
ることが好ましく、例えばレーザビームによってそのよ
うな平行光を作り出せる。
【００１３】基板１１上に、例えば異物１４が付着して
いると、上記照射光１３は異物１４に当たって散乱す
る。この散乱光１５の一部が、基板１１の上方に設けら
れたレンズ１６を介して集光され、受光手段１７、例え
ば受光センサを備えたカメラによって検出される。
いると、上記照射光１３は異物１４に当たって散乱す
る。この散乱光１５の一部が、基板１１の上方に設けら
れたレンズ１６を介して集光され、受光手段１７、例え
ば受光センサを備えたカメラによって検出される。
【００１４】基板１１の反受光手段側には、鏡面体１８
が設けられる。照射光１３のうち、基板１１を透過した
光は、鏡面体１８で反射し、反射した光のうち異物１４
に照射された光は、該異物１４の表面から散乱する。こ
の散乱光の一部もまた、上記同様レンズ１６を介して受
光手段１７によって検出される。すなわち、間接照射光
１９による散乱光もまた、異物１４からの散乱光として
検出される。さらに、異物１４からの散乱光の一部も、
基板１１を透過した後鏡面体１８で反射され、再び基板
１１を透過してレンズ１６方向に向かう。
が設けられる。照射光１３のうち、基板１１を透過した
光は、鏡面体１８で反射し、反射した光のうち異物１４
に照射された光は、該異物１４の表面から散乱する。こ
の散乱光の一部もまた、上記同様レンズ１６を介して受
光手段１７によって検出される。すなわち、間接照射光
１９による散乱光もまた、異物１４からの散乱光として
検出される。さらに、異物１４からの散乱光の一部も、
基板１１を透過した後鏡面体１８で反射され、再び基板
１１を透過してレンズ１６方向に向かう。
【００１５】したがって、鏡面体１８を設置しない場合
に比べ、異物１４からの散乱光光量が増大され、それだ
け異物１４（欠陥）の検出感度が向上する。
に比べ、異物１４からの散乱光光量が増大され、それだ
け異物１４（欠陥）の検出感度が向上する。
【００１６】なお、鏡面体１８は、基板１１の裏面に密
着させてもよく、裏面から離して設置してもよい。離す
場合には、基板１１と平行に設置することが好ましい。
着させてもよく、裏面から離して設置してもよい。離す
場合には、基板１１と平行に設置することが好ましい。
【００１７】図４に、検査対象物が光透過性能を有する
基板２１であり、該基板２１上に、基本的に非光透過部
からなるパターン２２が形成されている場合を示す。こ
の場合には、異物１４が完全に非パターン部にある場
合、基本的な図３に示したと同様の状態で検出される。
基板２１であり、該基板２１上に、基本的に非光透過部
からなるパターン２２が形成されている場合を示す。こ
の場合には、異物１４が完全に非パターン部にある場
合、基本的な図３に示したと同様の状態で検出される。
【００１８】また、異物１４が、図示したように非パタ
ーン部とパターン部２２とにまたがった位置にあるよう
な場合、異物１４には、直接照射光１３と、一旦非パタ
ーン部を透過して鏡面体１８で反射し、再び非パターン
部を透過してきた間接照射光１９と、パターン部２２上
で反射し異物１４に向けて照射される間接照射光（図示
略）とが照射される可能性がある。したがって、異物１
４からの散乱光としては、上記直接照射光による散乱光
と、上記二種の間接照射光による散乱光とが検出される
可能性が生じる。
ーン部とパターン部２２とにまたがった位置にあるよう
な場合、異物１４には、直接照射光１３と、一旦非パタ
ーン部を透過して鏡面体１８で反射し、再び非パターン
部を透過してきた間接照射光１９と、パターン部２２上
で反射し異物１４に向けて照射される間接照射光（図示
略）とが照射される可能性がある。したがって、異物１
４からの散乱光としては、上記直接照射光による散乱光
と、上記二種の間接照射光による散乱光とが検出される
可能性が生じる。
【００１９】さらに、異物１４が完全にパターン部２２
上に存在する場合には、基本的に前述の図２に示したと
同様の状態で検出される。
上に存在する場合には、基本的に前述の図２に示したと
同様の状態で検出される。
【００２０】したがって、異物１４がいずれの位置に存
在する場合にあっても、間接照射光による散乱光が有効
に検出されることになり、検出される散乱光光量が増大
されて検出感度が向上する。そして、いずれの位置にお
いても間接照射光が有効利用され、直接照射光による散
乱光とともに間接照射光による散乱光が検出されること
になるから、検出される散乱光光量に、異物の存在位置
による差がほとんど無くなり、パターン部２２上におけ
る欠陥検出感度と、非パターン部上における欠陥検出感
度との間の感度差が極めて小さくなる。この感度差是正
により、欠陥検出精度も向上する。
在する場合にあっても、間接照射光による散乱光が有効
に検出されることになり、検出される散乱光光量が増大
されて検出感度が向上する。そして、いずれの位置にお
いても間接照射光が有効利用され、直接照射光による散
乱光とともに間接照射光による散乱光が検出されること
になるから、検出される散乱光光量に、異物の存在位置
による差がほとんど無くなり、パターン部２２上におけ
る欠陥検出感度と、非パターン部上における欠陥検出感
度との間の感度差が極めて小さくなる。この感度差是正
により、欠陥検出精度も向上する。
【００２１】上記のようなパターン付き基板であって、
かつ、該パターンが周期的構造を有する場合において
は、鏡面体１８の設置条件が次の条件を満たすと、最も
効率が高い。
かつ、該パターンが周期的構造を有する場合において
は、鏡面体１８の設置条件が次の条件を満たすと、最も
効率が高い。
【００２２】すなわち、図５に示すように、直接照射光
１３の基板２１に対する照射角をθ、パターン周期を
ｄ、基板２１の板厚をｔ、基板２１の屈折率をｎ、空気
の屈折率をｎ0 、基板２１と鏡面体１８との距離をＬと
するとき、下記式 ２〔ｔ・ sin（arcsin（ｎ0/ｎ・sin θ）) ＋Ｌ・sin
θ〕＝ｍ×ｄ を満たすとき、効率は最も高い。ここで、ｍは０または
正の整数である。この条件は、基板２１の非パターン部
を透過した光が、鏡面体１８で反射した後、再び、丁度
別の非パターン部を透過していく条件である。照射領域
が狭い場合、ｍが小さいほど効率は高い。
１３の基板２１に対する照射角をθ、パターン周期を
ｄ、基板２１の板厚をｔ、基板２１の屈折率をｎ、空気
の屈折率をｎ0 、基板２１と鏡面体１８との距離をＬと
するとき、下記式 ２〔ｔ・ sin（arcsin（ｎ0/ｎ・sin θ）) ＋Ｌ・sin
θ〕＝ｍ×ｄ を満たすとき、効率は最も高い。ここで、ｍは０または
正の整数である。この条件は、基板２１の非パターン部
を透過した光が、鏡面体１８で反射した後、再び、丁度
別の非パターン部を透過していく条件である。照射領域
が狭い場合、ｍが小さいほど効率は高い。
【００２３】
【実施例】次に、より具体的な実施例を、空間フィルタ
を用いる場合について説明する。図６および図７は、本
発明の一実施例に係る欠陥検査装置を示している。図に
おいて、３１は照光手段としてのレーザ光源を示してお
り、光源３１からのコヒーレント光（平行光）が、検査
対象物３２に照射される。本実施例では、検査対象物３
２は、その表面に周期的な形状のパターン３２ａが形成
された、液晶表示装置用のガラス基板からなっている。
を用いる場合について説明する。図６および図７は、本
発明の一実施例に係る欠陥検査装置を示している。図に
おいて、３１は照光手段としてのレーザ光源を示してお
り、光源３１からのコヒーレント光（平行光）が、検査
対象物３２に照射される。本実施例では、検査対象物３
２は、その表面に周期的な形状のパターン３２ａが形成
された、液晶表示装置用のガラス基板からなっている。
【００２４】検査対象物３２からの散乱光は、フーリエ
変換レンズ３３を介して空間フィルタ３４の面上に集光
され、パターン３２ａによる散乱光の成分のみが除去さ
れた後、逆フーリエ変換レンズ３５を介して、一次元セ
ンサまたは二次元センサを有する受光手段３６上に集光
され、該受光手段３６で散乱光が検出される。この受光
手段３６からの出力に基づいて、信号処理手段３７で、
検出された散乱光の信号が処理され、検査対象物３２上
の欠陥として検出される。
変換レンズ３３を介して空間フィルタ３４の面上に集光
され、パターン３２ａによる散乱光の成分のみが除去さ
れた後、逆フーリエ変換レンズ３５を介して、一次元セ
ンサまたは二次元センサを有する受光手段３６上に集光
され、該受光手段３６で散乱光が検出される。この受光
手段３６からの出力に基づいて、信号処理手段３７で、
検出された散乱光の信号が処理され、検査対象物３２上
の欠陥として検出される。
【００２５】検査対象物３２の反受光手段側には、鏡面
体３８が設けられており、前述した原理に基づき、間接
照射光による散乱光も欠陥検出に利用される。
体３８が設けられており、前述した原理に基づき、間接
照射光による散乱光も欠陥検出に利用される。
【００２６】空間フィルタ３４は、図７に示すように、
パターン部３２ａからの散乱光の成分のみを、該フィル
タ３４上に予め設定された遮光パターン３４ａで除去す
る。このような遮光パターン３４ａは、例えばこの系の
中に未露光の写真乾板をセットして露光し、それを現像
すれば、検査対象物３２のパターン３２ａに対応した遮
光パターン３４ａとして比較的簡単に形成できる。
パターン部３２ａからの散乱光の成分のみを、該フィル
タ３４上に予め設定された遮光パターン３４ａで除去す
る。このような遮光パターン３４ａは、例えばこの系の
中に未露光の写真乾板をセットして露光し、それを現像
すれば、検査対象物３２のパターン３２ａに対応した遮
光パターン３４ａとして比較的簡単に形成できる。
【００２７】このように空間フィルタ３４を用いた光学
系とすることにより、とくに周期的な形状のパターン３
２ａが形成された検査対象物３２について、該パターン
３２ａによる散乱光成分を効率よく除去でき、欠陥によ
る散乱光成分のみが精度よく検出されることになる。
系とすることにより、とくに周期的な形状のパターン３
２ａが形成された検査対象物３２について、該パターン
３２ａによる散乱光成分を効率よく除去でき、欠陥によ
る散乱光成分のみが精度よく検出されることになる。
【００２８】なお、上記実施例では、空間フィルタ３４
を用いた系について説明したが、本発明は、空間フィル
タを用いることなく、受光手段で検出した画像を処理す
る方法によっても可能であり、そのような装置構成とす
ることも可能である。
を用いた系について説明したが、本発明は、空間フィル
タを用いることなく、受光手段で検出した画像を処理す
る方法によっても可能であり、そのような装置構成とす
ることも可能である。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の欠陥検査
方法および装置によれば、光透過性基体を有する検査対
象物の反受光手段側に鏡面体を設けて、鏡面体からの反
射光である間接照射光による散乱光も欠陥検出に利用で
きるようにしたので、欠陥検出感度を大幅に向上するこ
とができ、欠陥検出精度を向上することができる。
方法および装置によれば、光透過性基体を有する検査対
象物の反受光手段側に鏡面体を設けて、鏡面体からの反
射光である間接照射光による散乱光も欠陥検出に利用で
きるようにしたので、欠陥検出感度を大幅に向上するこ
とができ、欠陥検出精度を向上することができる。
【００３０】また、検査対象物にパターン形成されてい
る場合には、パターン部と非パターン部の感度差を是正
することができ、このような検査対象物に対しても欠陥
検出精度を向上することができる。とくに周期的な構造
のパターンが形成されている場合等には、空間フィルタ
を用いることにより、一層高精度の欠陥検出が可能とな
る。
る場合には、パターン部と非パターン部の感度差を是正
することができ、このような検査対象物に対しても欠陥
検出精度を向上することができる。とくに周期的な構造
のパターンが形成されている場合等には、空間フィルタ
を用いることにより、一層高精度の欠陥検出が可能とな
る。
【図１】従来の欠陥検査方法を示す概略構成図である。
【図２】従来の別の欠陥検査方法を示す概略構成図であ
る。
る。
【図３】本発明の欠陥検査方法を示す概略構成図であ
る。
る。
【図４】本発明の別の欠陥検査方法を示す概略構成図で
ある。
ある。
【図５】パターン付き検査対象物と鏡面体との最適位置
関係を示す説明図である。
関係を示す説明図である。
【図６】本発明において空間フィルタを用いた場合の系
を示す概略斜視図である。
を示す概略斜視図である。
【図７】図６の系における空間フィルタの機能を説明す
るための概略側面図である。
るための概略側面図である。
１１、２１、３２ 検査対象物としての基板 １２ 照光手段 １３ （直接）照射光 １４ 欠陥としての異物 １５ 散乱光 １６ レンズ １７、３６ 受光手段 １８、３８ 鏡面体 １９ 間接照射光 ２２、３２ａ パターン ３１ 照光手段としてのレーザ光源 ３３ フーリエ変換レンズ ３４ 空間フィルタ ３４ａ 遮光パターン ３５ 逆フーリエ変換レンズ ３７ 信号処理手段
Claims (11)
- 【請求項１】 光透過性基体を有する検査対象物の欠陥
を、該検査対象物に光を照射し前記欠陥からの散乱光を
受光手段で検出することにより検出する欠陥検査方法で
あって、検査対象物の反受光手段側に鏡面体を設けて、
前記受光手段で、少なくとも、前記照射光による欠陥か
らの直接散乱光と、前記照射光が一旦検査対象物を透過
し前記鏡面体で反射した後欠陥に照射された間接照射光
による間接散乱光とを検出することを特徴とする欠陥検
査方法。 - 【請求項２】 前記検査対象物上に前記基体と光学特性
の異なる部材からなるパターンが周期的に形成されてい
る、請求項１の欠陥検査方法。 - 【請求項３】 検査対象物に平行光を照射する、請求項
１または２の欠陥検査方法。 - 【請求項４】 前記検査対象物上に前記基体と光学特性
の異なる部材からなるパターンが周期的に形成されてお
り、該パターン間を通過した光が前記鏡面体で反射した
後、再びパターン間を通過させることを特徴とする、請
求項１ないし３のいずれかに記載の欠陥検査方法。 - 【請求項５】 前記検査対象物上に前記基体と光学特性
の異なる部材からなるパターンが周期的に形成されてお
り、該検査対象物と前記受光手段との間の光路で、空間
フィルタにより、前記パターンによる散乱光の成分のみ
減衰または除去する、請求項１ないし４のいずれかに記
載の欠陥検査方法。 - 【請求項６】 光透過性基体を有する検査対象物に光を
照射する照光手段と、検査対象物側からの散乱光を検出
する受光手段と、検査対象物の反受光手段側に設けられ
た鏡面体とを有することを特徴とする欠陥検査装置。 - 【請求項７】 前記検査対象物上に前記基体と光学特性
の異なる部材からなるパターンが周期的に形成されてい
る、請求項６の欠陥検査装置。 - 【請求項８】 前記照光手段が検査対象物に平行光を照
射する手段である、請求項６または７の欠陥検査装置。 - 【請求項９】 前記検査対象物上に前記基体と光学特性
の異なる部材からなるパターンが周期的に形成されてお
り、前記鏡面体が、該パターン間を透過した光が鏡面体
で反射した後再びパターン間を透過できる位置に決める
ことが可能に構成されている、請求項６ないし８のいず
れかに記載の欠陥検査装置。 - 【請求項１０】 前記検査対象物が前記基体と光学特性
の異なる部材からなるパターンが周期的に形成されたも
のであり、該検査対象物と前記受光手段との間の光路
に、前記パターンによる散乱光の成分のみ減衰または除
去する空間フィルタが設けられている、請求項６ないし
９のいずれかに記載の欠陥検査装置。 - 【請求項１１】 前記検査対象物と空間フィルタとの間
にフーリエ変換レンズが、空間フィルタと受光手段との
間に逆フーリエ変換レンズがそれぞれ設けられている、
請求項１０の欠陥検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5684196A JPH09222396A (ja) | 1996-02-19 | 1996-02-19 | 欠陥検査方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5684196A JPH09222396A (ja) | 1996-02-19 | 1996-02-19 | 欠陥検査方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09222396A true JPH09222396A (ja) | 1997-08-26 |
Family
ID=13038637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5684196A Pending JPH09222396A (ja) | 1996-02-19 | 1996-02-19 | 欠陥検査方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09222396A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006349576A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Moritex Corp | 反射光及び透過光による目視検査用照明装置 |
| JP2013253903A (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-19 | Mutual Corp | 検査装置および検査方法 |
-
1996
- 1996-02-19 JP JP5684196A patent/JPH09222396A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006349576A (ja) * | 2005-06-17 | 2006-12-28 | Moritex Corp | 反射光及び透過光による目視検査用照明装置 |
| JP2013253903A (ja) * | 2012-06-08 | 2013-12-19 | Mutual Corp | 検査装置および検査方法 |
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