JPH08134234A - 改質ポリイミドフィルムおよび積層体 - Google Patents

改質ポリイミドフィルムおよび積層体

Info

Publication number
JPH08134234A
JPH08134234A JP7205732A JP20573295A JPH08134234A JP H08134234 A JPH08134234 A JP H08134234A JP 7205732 A JP7205732 A JP 7205732A JP 20573295 A JP20573295 A JP 20573295A JP H08134234 A JPH08134234 A JP H08134234A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
aromatic
polyimide film
component
polyamic acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7205732A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3235422B2 (ja
Inventor
Hiroshi Inoue
浩 井上
Seiichiro Takabayashi
誠一郎 高林
Yuji Matsui
勇二 松井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ube Corp
Original Assignee
Ube Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ube Industries Ltd filed Critical Ube Industries Ltd
Priority to JP20573295A priority Critical patent/JP3235422B2/ja
Publication of JPH08134234A publication Critical patent/JPH08134234A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3235422B2 publication Critical patent/JP3235422B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/032Organic insulating material consisting of one material
    • H05K1/0346Organic insulating material consisting of one material containing N

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ポリイミドフィルムの物性を低下させず
に接着性を改良する。 【解決手段】 芳香族ポリイミドフィルムにおいて、少
なくとも一方のフィルム表面のC/O、O/Nの重量割
合をそれぞれ、2.9〜4.6、2.4〜3.5、表面
のSi含有率を0.7〜3.0%、フィルム中のPの含
有率を5〜500ppmとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、改質ポリイミド
フィルムに関するものである。更に詳しくは、引張弾性
率が400kg/mm2 以上で、耐薬品性が優れてお
り、他の材料と張り合わせても接着強度が大きく、種々
の製造工程を経ても実質的に変化なく、製造工程での寸
法精度も高く、他部品を実装する際の位置合わせの良好
な改質ポリイミドフィルムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、ビフェニルテトラカルボン酸成分
を主成分とする芳香族テトラカルボン酸成分とフェニレ
ンジアミン類を主成分とする芳香族ジアミン成分とから
なる耐熱性の優れたポリイミドフィルムについては、例
えば特公昭60−42817号公報などに記載されてい
る。このビフェニルテトラカルボン酸系のポリイミドは
極めて優れた耐熱性、機械的強度、寸法安定性などを有
しているところから、フレキシブルプリント配線銅張基
板(FPC基板)やTAB用キャリアテ−プなどの製造
に用いる支持体として適している。このポリイミドフィ
ルムは、エポキシ系や熱可塑性ポリイミド系接着剤を介
して銅箔などと接合する際に両者の接着を充分に高くす
ることが出来ないという問題点がある。
【0003】このため、特開昭62−267330号公
報に記載されているように、シランカップリング剤をポ
リアミック酸フィルムに塗布し加熱することによってポ
リイミドフィルムの接着性を改良することも知られてい
る。 また、特開昭和62−60416号公報に記載さ
れているように、ポリアミック酸フィルムのベルト等の
基体からの剥離性を良くする目的で燐酸エステルのアミ
ン塩等を添加する方法も知られている。
【0004】しかし、これらの公知技術では、他の材料
と張り合わせた場合の接着強度が大きく、種々の製造工
程におけるアルカリのような薬品に対して耐性があり、
剛性が大きく製造工程での寸法精度も高く、他部品を実
装する際の位置合わせも良好である、という実用上求め
られる種々の性能をバランス良く満足するポリイミドフ
ィルムは得ることは困難であったり、高コスト化を招く
ため、エレクトロニクス業界における高品質・高精度・
高生産性といったニ−ズを満足することは困難になって
きている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、芳
香族ポリイミドフィルムが本来有している優れた物性、
耐熱性などを高いレベルで保持したまま、引張弾性率が
大きく、耐薬品性が優れており、他の材料と張り合わせ
ても接着強度が大きく、種々の製造工程を経ても変化が
殆どなく、寸法精度が高く、他部品を実装する際の位置
合わせの良好な改質ポリイミドフィルム及びその積層体
を提供することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】すなわちこの発明は、ポ
リマ−が芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン
成分とからなるフィルムであって、少なくとも一方のフ
ィルム表面のC(炭素)/O(酸素)が重量比で2.9
〜4.6で、O(酸素)/N(窒素)が2.4〜3.5
であり、かつ該フィルム表面のSi(ケイ素)の含有率
が0.7〜3.0%であり、全フィルム中のP(リン)
の含有率が5〜500ppmである改質ポリイミドフィ
ルムに関するものである。
【0007】またこの発明は、ポリマ−が芳香族テトラ
カルボン酸成分と芳香族ジアミン成分とからなるフィル
ムであって、少なくともフィルム表面のC(炭素)/O
(酸素)が重量比で2.9〜4.6で、O(酸素)/N
(窒素)が2.4〜3.5であり、フィルム表面のSi
(ケイ素)の含有率が0.7〜3.0%であり、かつ該
全フィルム中のP(リン)の含有率が5〜500ppm
である改質ポリイミドフィルムに直接あるいは接着剤を
介して同種あるいは異種の基材が積層されている積層体
に関するものである。
【0008】この発明における芳香族テトラカルボン酸
成分として、例えば2,3,3' ,4' −ビフェニルテ
トラカルボン酸成分、3,3' ,4,4' −ビフェニル
テトラカルボン酸成分などのビフェニルテトラカルボン
酸類成分を、全テトラカルボン酸成分に対して30モル
%以上、特に50モル%以上、そのなかでも特に60モ
ル%以上含有する芳香族テトラカルボン酸成分が好適に
挙げられる。また、芳香族テトラカルボン酸成分とし
て、3,3' ,4,4' −ベンゾフェノンテトラカルボ
ン酸成分、ピロメリット酸成分、ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)メタン成分、2,2,−ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)プロパン成分、ビス(3,4
−ジカルボキシフェニル)スルホンなどをビフェニルテ
トラカルボン酸類成分と組み合わせてもよい。例えば、
3,3' ,4,4' −ビフェニルテトラカルボン酸成分
とピロメリット酸成分との組合せが好適である。全芳香
族テトラカルボン酸成分中のビフェニルテトラカルボン
酸類成分の割合が多くなると、ポリイミドフィルムの弾
性率、耐薬品などの点において優れているので最適であ
る。逆に全芳香族テトラカルボン酸成分中のビフェニル
テトラカルボン酸類成分の割合が少なくなると、ポリイ
ミドフィルムの弾性率、耐薬品などの点が低下する傾向
にある。
【0009】この発明における芳香族ジアミン成分とし
て、例えばm−またはp−フェニレンジアミン成分、
3,5−ジアミノトルエン成分、2,5−ジアミノトル
エン成分などのフェニレンジアミン類成分を、全芳香族
ジアミン成分に対して、50モル%以上、特に60モル
%以上、そのなかでも特に70モル%以上含有する芳香
族ジアミン成分が好適に挙げられる。この発明では、芳
香族ジアミン成分として、p−フェニレンジアミン成分
を60モル%以上、特に70モル%以上含有する芳香族
ジアミン成分が好適に挙げられる。芳香族ジアミン類成
分として4,4'−ジアミノジフェニルエ−テル成分、
3,4' −ジアミノジフェニルエ−テル成分、3,3'
−ジアミノジフェニルエ−テル成分などのジアミノジフ
ェニルエ−テル類成分、4,4' −ジアミノジフェニル
メタン成分、4,4' −ジアミノジフェニルプロパン成
分、4,4' −ジアミノジフェニルスルホン成分、4,
'−ジアミノジフェニルスルフィド成分などをフェニ
レンジアミン類成分と組み合わせてもよい。これらの組
合せの中でも、4,4' −ジアミノジフェニルエ−テル
成分などのジアミノジフェニルエ−テル類成分とフェニ
レンジアミン類成分が好適である。特に、2種類の芳香
族ジアミン成分の組合せでは、p−フェニレンジアミン
成分と4,4' −ジアミノジフェニルエ−テルとの組合
せが好適である。全芳香族ジアミン成分中のフェニレン
ジアミン類成分の割合が多くなるとポリイミドフィルム
の耐熱性、前記機械的物性が優れているので好適であ
る。逆にこの割合が少なくなると、ポリイミドフィルム
の耐熱性、機械的物性が低下する傾向にある。
【0010】この発明におけるポリイミドフィルムは、
芳香族テトラカルボン酸成分の30モル%以上、特に5
0モル%以上、その中でも特に60モル%がビフェニル
テトラカルボン酸成分であり、芳香族ジアミン成分の5
0モル%以上、特に60モル%がフェニレンジアミン成
分であるポリイミドが好ましい。また、このようなポリ
イミドフィルムは各元素の重量割合がC(炭素)/O
(酸素)(Oに対するCの割合、以下同じ)が4.0〜
5.7特に4.1〜5.6であり、O/N(Nに対す
るOの割合)が1.8〜2.6、特に1.9〜2.5と
なり、この範囲内で適宜選択することが好ましい。
【0011】この発明においては、前記ポリイミドフィ
ルムの片面あるいは両面における各元素の重量割合がC
(炭素)/O(酸素)が2.9〜4.6、好ましくは
3.0〜4.5、特に好ましくは3.1〜4.4であ
り、O(酸素)/N(窒素)が2.4〜3.5、好まし
くは2.5〜3.4、特に好ましくは2.6〜3.3で
あり、フィルム表面におけるSi(ケイ素)の含有率が
0.7〜3.0%(重量%)、好ましくは0.8〜2.
9%、特に好ましくは0.9〜2.8%であり、全フィ
ルム中のP(リン)の含有率が5〜500ppm(重量
割合)、好ましくは10〜400ppm、特に好ましく
は15〜300ppmであることが必要である。
【0012】前記のC/Oが前記下限より小さいとポリ
イミドフイルムの引張弾性率が小さくなり、C/Oが前
記上限より大きいとポリイミドフィルムの伸びが小さく
なるので適当ではない。前記のO/Nが前記下限より小
さいとポリイミドフィルムの伸びが小さくなり、O/N
が前記上限より大きいとポリイミドフィルムの引張弾性
率が小さくなるので適当ではない。またフィルム表面に
おけるSiの含有率が前記下限より小さいとポリイミド
フィルムの接着性が小さく、Siの含有率が前記上限よ
り大きいとポリイミドフィルム表面に析出物が付着し表
面平滑性が損なわれるので好ましくない。さらに全ポリ
イミドフィルム中のPの含有率が前記上限より大きいと
ポリイミドフィルムの物性、特に伸びが低下するので好
ましくない。
【0013】この発明においては、各成分を前記の範囲
内にすることが必要であり、これによって引張弾性が4
00kg/mm2 以上であり、接着性が実用的なレベル
で充分大きく、実用的なレベルで充分な成形性を有し、
耐薬品性が優れており、伸びが好適には25%以上であ
る改質ポリイミドフイルムを得ることができるのであ
る。
【0014】この発明の改質ポリイミドフィルムは、例
えば有機溶媒中にリン含有化合物、好適にはリン酸エス
テルおよび/またはリン酸エステルのアミン塩と、芳香
族酸二無水物と芳香族ジアミンとから得られる芳香族ポ
リアミック酸とを含むポリアミック酸溶液から化学変換
の方法によって、あるいは熱変換の方法によってポリア
ミック酸をイミド化することによって得ることができ
る。好適には、前記芳香族ポリアミック酸(その20%
以下がイミド化されていてもよい)溶液を基体上にフィ
ルム状に流延し、加熱して自己支持性フィルムを形成
し、この自己支持性フィルムの表面にシランカップリン
グ剤の溶液を塗布し、加熱して、フイルム表面のC/
O、O/N、Siの含有率、全フイルム中のPの含有率
を前記の範囲内にすることによってこの発明の改質ポリ
イミドフィルムを得ることができる。
【0015】前記の有機溶媒は、前記の芳香族ポリアミ
ック酸(このポリアミック酸は20%以下がイミド化さ
れていてもよい)を約2〜50重量%、特に5〜40重
量%程度の濃度で均一に溶解することができる有機極性
溶媒であればよく、例えば、N,N−ジメチルホルムア
ミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチ
ルメトキシアセトアミドなどのN,N−ジ低級アルキル
カルボキシルアミド類、N−メチル−2−ピロリドン、
ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホンなどの有機極
性溶媒を挙げることができる。
【0016】前記のリン含有化合物としては、例えば、
モノカプロイルリン酸エステル、モノオクチルリン酸エ
ステル、、モノラウリルリン酸エステル、モノミリスチ
ルリン酸エステル、モノセチルリン酸エステル、モノス
テアリルリン酸エステル、トリエチレングリコ−ルモノ
トリデシルエ−テルのモノリン酸エステル、テトラエチ
レングリコ−ルモノラウリルエ−テルのモノリン酸エス
テル、ジエチレングリコ−ルモノステアリルエ−テルの
モノリン酸エステル、ジカプロイルリン酸エステル、ジ
オクチルリン酸エステル、ジカプリルリン酸エステル、
ジラウリルリン酸エステル、ジミリスチルリン酸エステ
ル、ジセチルリン酸エステル、ジステアリルリン酸エス
テル、テトラエチレングリコ−ルモノネオペンチルエ−
テルのジリン酸エステル、トリエチレングリコ−ルモノ
トリデシルエ−テルのジリン酸エステル、テトラエチレ
ングリコ−ルモノラウリルエ−テルのジリン酸エステ
ル、ジエチレングリコ−ルモノステアリルエ−テルのジ
リン酸エステル等のリン酸エステルやこれらリン酸エス
テルのアミン塩が挙げられる。前記アミンとしてはアン
モニア、モノメチルアミン、モノエチルアミン、モノプ
ロピルアミン、モノブチルアミン、ジメチルアミン、ジ
エチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ト
リメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミ
ン、トリブチルアミン、モノエタノ−ルアミン、ジエタ
ノ−ルアミン、トリエタノ−ルアミン等がある。
【0017】前記の芳香族ポリアミック酸は、例えば前
述の芳香族テトラカルボン酸成分と芳香族ジアミン成分
とから低温での重合で得られたイミド化率が20%以下
のビフェニルテトラカルボン酸系のポリイミド前駆体で
あると共に、対数粘度(測定温度:30℃、濃度:0.
5g/100ml溶液、溶媒:N−メチル−2−ピロリ
ドン)が0.1〜7、特に0.2〜5程度であり、有機
溶媒に約2〜50重量%の濃度、特に5〜40重量%に
まで均一に溶解できるポリマ−であることが好ましい。
前記の対数粘度は次式によって算出された値である。 対数粘度=自然対数(溶液粘度/溶媒粘度)/溶液の濃
【0018】前記のポリアミック酸の自己支持性フィル
ム(70%以下がイミド化していても良い)は、前記芳
香族ポリアミック酸100重量部と、有機溶媒5〜15
0重量部、好ましくは10〜120重量部、特に好まし
くは20〜100重量部と、ポリアミック酸重合体10
0重量部に対して好ましくは0.01〜1重量部、特に
0.02〜0.8重量部のリン酸アミンおよび/または
リン酸エステルのアミン塩とを含有している芳香族ポリ
アミック酸組成物からなる柔軟で自己支持性フィルムで
あり、特に長尺の固化フィルムであることが好ましい。
【0019】前記のポリアミック酸の自己支持性フィル
ムは、例えば、前述の芳香族テトラカルボン酸成分と芳
香族ジアミン成分との略等モル(各成分の添加順序には
特に制限はなく、最初から略等モルを添加してもよく、
何段階かに分けて添加してもよい。)を、前記有機溶媒
中、約100℃以下の低い温度で、特に好ましくは0〜
80℃の温度で約0.1〜10時間、重合して得られた
高分子量の芳香族ポリアミック酸(芳香族ポリイミド前
駆体)が、有機溶媒に約2〜50重量%の濃度で均一に
溶解している芳香族ポリアミック酸溶液に、前述のリン
含有化合物を加えて溶解させて得られた組成物を、製膜
用ド−プ液として使用して好ましくは約150℃以下の
流延温度、特に好ましくは0〜120℃程度の流延温度
で支持体面上に液状の薄膜を形成し、その薄膜を支持体
上で好ましくは約150℃以下の乾燥温度、特に好まし
くは20〜140℃程度の乾燥温度で、好ましくは約
0.1〜1時間乾燥する溶液流延法などの製膜法で形成
される自己支持性の固化フィルムが好適に使用できる。
【0020】さらに、前記のポリアミック酸の自己支持
性フィルムは、例えば、前述の芳香族テトラカルボン酸
成分と芳香族ジアミン成分との略等モル(各成分の添加
順序には特に制限はなく、最初から略等モルを添加して
もよく、何段階かに分けて添加してもよい。)を、前記
有機溶媒中、約100℃以下の低い温度で、特に好まし
くは0〜80℃の温度で約0.1〜10時間、重合して
得られた高分子量の芳香族ポリアミック酸(芳香族ポリ
イミド前駆体)が、有機溶媒に約2〜50重量%の濃度
で均一に溶解している芳香族ポリアミック酸溶液に、ピ
リジン、ベ−タピコリンなどの第3アミン化合物や無水
酢酸のような酸無水物などの化学変換剤、および前述の
リン含有化合物を加えて溶解させて得られた組成物を、
製膜用ド−プ液として使用して好ましくは0〜150℃
の流延温度、特に好ましくは0〜120℃程度の流延温
度で支持体面上に液状の薄膜を形成し、その薄膜を支持
体上で好ましくは約150℃以下の乾燥温度、特に好ま
しくは20〜140℃程度の乾燥温度で、好ましくは約
0.1〜1時間乾燥する溶液流延法などの製膜法で形成
される自己支持性の固化フィルムが好適に使用できる。
【0021】この発明の改質ポリイミドフィルムは、前
記自己支持性フィルム(ポリアミック酸、あるいはその
一部がイミド化されたポリイミド前駆体)の少なくとも
片方の表面(必要であれば両側の表面)に、ケイ素化合
物を均一に分布させ、加熱してフィルムを形成している
ポリアミック酸をイミド化することによって得ることが
できる。例えば、前記自己支持性フィルムに、ケイ素化
合物を0.5%以上の濃度で含有し、しかも水分の含有
率が20%以下であるケイ素化合物の溶液を、グラビア
コ−ト法、シルクスクリ−ン法、浸漬法などの塗布法で
均一に塗布して均一に分布させ、その塗布フィルムをポ
リアミック酸をイミド化率90%以上に、特に実質的に
アミド−酸結合の存在しないように加熱処理してイミド
化するとともに、該フィルムから前記溶媒などの揮発成
分を蒸発し除去する乾燥を行うことによって、好適に得
ることができる。
【0022】前記のケイ素化合物として、分解温度が好
ましくは275℃以上、特に好ましくは280〜600
℃、そのなかでも特に好ましくは290〜550℃の範
囲のアミノシラン化合物、エポキシシラン化合物を挙げ
ることができる。すなわち、β−(3,4−エポキシシ
クロヘキシル)−エチル−トリメトキシシラン、γ−グ
リシリドキシプロプル−トリメトキシシランなどのエポ
キシシラン化合物、γ−アミノプロピル−トリエトキシ
シラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピ
ル−トリエトキシシラン、N−(アミノカルボミル)−
γ−アミノプロピル−トリエトキシシラン、N−〔β−
(フェニルアミノ)エチル〕−γ−アミノプロピル−ト
リエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピル
−トリエトキシシランなどのアミノシラン化合物が好ま
しい。なかでも特にN−フェニル−γ−アミノプロピル
−トリエトキシシランが好ましい。
【0023】前記のけい素化合物は、この化合物を0.
5重量%以上、特に1〜100重量%、更に好ましくは
5〜60重量%の濃度で含有しており、回転粘度(25
℃の測定温度で回転粘度計によって測定した溶液粘度)
が10〜50000センチポイズである溶液として用い
ることが好ましい。前記ケイ素化合物を0.5重量%以
上、特に好ましくは1〜60重量%。さらに好ましくは
3〜55重量%の濃度で、低級アルコ−ル、アミド系溶
媒などの有機溶媒に均一に溶解している低い粘度の溶液
が好ましい。前述の芳香族ポリアミック酸の製造に使用
される重合溶媒や自己支持性フィルムに含有されている
溶媒と同じ種類の溶媒を挙げることができる。また、エ
チルアルコ−ル、メチルアルコ−ル、プロプルアルコ−
ル、ブチルアルコ−ルなどの低級アルコ−ルを使用する
ことができる。
【0024】前記の加熱処理は、最初に約100〜40
0℃での温度においてポリマ−のイミド化および溶媒の
蒸発・除去を約0.1〜5時間、特に0.2〜3時間で
徐々に行うことが好ましい。特に、加熱処理を約100
〜170℃の比較的低い温度で約1〜30分間第一次加
熱処理し、次いで170〜220℃の温度で約1〜30
分間第二次加熱処理して、そして220〜400℃の高
温で約1〜30分間第三次加熱処理するように段階的に
行うことが好ましい。前記加熱に加えて、400〜60
0℃の高い温度で第四次高温加熱してもよい。250℃
以上の連続加熱処理においては、ピンテンタ−、クリッ
プ、枠などで、少なくとも長尺のフィルムの長手方向に
直角の方向の両端を固定して行うことが好ましい。
【0025】この発明の改質ポリイミドフィにおける各
成分の分析は、例えば、フィルム表面の各元素の重量割
合は、X線光電子分光装置(VG社ESCALAB・2
00X型)でMg KaのX線源(300W)を用い、
2X3mmのフィルムの極く表面(〜数十A)に存在す
る元素を調べることにより求めることができる。フィル
ム中のPは、ポリイミドフィルムを酸化亜鉛と一緒に燃
焼灰化させ、希硫酸で溶解後、モリブデン酸アンモニウ
ム、亜硫酸ソ−ダ、ハイドロキノンを加え、分光光度計
で吸光度(波長655nm)を測定する方法によって行
った。
【0026】この発明の積層体は、例えば、前述のポリ
イミドフィルムにスパッタリングのような方法で直接あ
るいは接着剤を介してポリイミドフィルムの様な同種あ
るいは銅のような異種の基材を積層することによって得
ることができる。
【0027】この発明の積層体として、例えば、この発
明の改質ポリイミドフィルムの上(前記Siを特定の割
合で含有する表面上)に接着剤を塗布、乾燥し、銅箔を
張り合わせる方法、あるいは前記ポリイミドフィルムの
片面あるいは両面に耐熱性接着剤、例えば熱可塑性ポリ
イミドの溶液、あるいはその前駆体であるポリアミック
酸の溶液を塗布、乾燥、加熱した耐熱性接着剤付きポリ
イミドフィルムや、このポリイミドフィルムに直接金属
(銅、クロム、ニッケル等)を蒸着、スパッタで直接付
着し、その上にさらに金属(例えば銅)を電解または無
電解メッキで付着させた2層基板にすることができる。
【0028】この発明の積層体は、例えば、FPC、T
AB、LOC(リ−ド・オン・チップ)等に好適に使用
することができる。
【0029】
【実施例】以下にこの発明の実施例を示す。以下の記載
において部は重量部を示す。
【0030】参考例1 N,N−ジメチルアセトアミド2470部中に3,
' ,4,4' −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
294.33部とP−フェニレンジアミン108.14
部を加え約10時間反応させてポリアミック酸溶液を得
た。このポリアミック酸の対数粘度2.66はであり、
溶液の30℃の粘度は3100ポイズであった。
【0031】参考例2 N,N−ジメチルアセトアミド3037部中に3,
' ,4,4' −ビフェニルテトラカルボン酸二無水物
294.22部と4,4' −ジアミノジフェニルエ−テ
ル200.24部を加え室温で約10時間反応させてポ
リアミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液の対
数粘度は2.71はであり、溶液の30℃の粘度は26
00ポイズであった。
【0032】参考例3 N,N−ジメチルアセトアミド2570部中に4,4'
−ジアミノジフェニルエ−テル200.24部を添加
後、ピロメリット酸二無水物218.12部を加え約6
時間反応させてポリアミック酸溶液を得た。このポリア
ミック酸溶液の対数粘度は1.60であり、溶液の30
℃の粘度は300ポイズであった。
【0033】参考例4 N−メチル−2−ピロリドン1980部中に3,3'
4,4' −ビフェニテトラカルボン酸二無水物147.
2部、ピロメリット酸二無水物100.1部、パラフェ
ニレンジアミン75.7部、4,4' −ジアミノジフェ
ニルエ−テル60.6部を加え約6時間反応させてポリ
アミック酸溶液を得た。このポリアミック酸溶液の対数
粘度(30℃、0.5g/100mlN−メチル−2−
ピロリドン)は2.51であり、溶液の30℃の粘度は
2900ポイズであった。
【0034】実施例1 参考例1で調整したポリアミック酸溶液に、ポリアミッ
ク酸100部に対する割合でモノステアリルリン酸エス
テルトリエタノ−ルアミン塩0.1部を加え、室温で6
時間攪拌してポリアミック酸組成物を得た。この組成物
をステンレスベルト上に流延塗布し、120℃で20分
間乾燥したのち、ステンレスベルト面より剥がし自己支
持性フィルムを得た。剥離はスム−ズであった。
【0035】得られた自己支持性フィルムの表面にN−
フェニル−γ−アミノプロピルエトキシシランのN,N
−ジメチルアセトアミド溶液(シラン化合物濃度:5重
量%)を塗布して、150℃で5分間加熱し、次いで2
00℃に昇温してその温度で7分間加熱し、さらに25
0℃に昇温し、その温度で9分間加熱し、最後に450
℃にまで昇温し、その温度で7分間熱処理して、ポリマ
−のイミド化およびフィルムの乾燥を行って厚さ50μ
mの改質ポリイミドフィルムを製造した。塗布しないで
求めたこのフィルムのC/Oは5.5、O/Nは2.0
であった(柳本製作所、元素分析計:MT−3型使
用)。
【0036】エポキシ系接着剤(ハイソ−ルジャパン社
製、ハイソ−ル:LOL.No.OX−035)を厚さ
35μmの電解銅箔上に塗布し、120℃で30分間加
熱乾燥して接着剤層(厚さ200μm)を形成した。次
に、この電解銅箔上の接着剤層に上記芳香族ポリイミド
フィルムを重合わせた後、170℃、40kg/cm2
で5分間プレスして積層体を形成した。そして、この積
層体を180℃で60分間乾燥した後13時間放置し
て、銅箔層とポリイミドフィルム層との間のT−剥離試
験(ASTM−D−1876)と180度剥離試験(A
STM−D−903)とを行って評価した。
【0037】T−剥離強度は、B面(流延による自己支
持性フィルムの製造時にステンレスベルト面に接してい
た側の表面)が1.6kg/cm以上、F面(流延によ
る自己支持性フィルムの製造時にステンレスベルト面に
接していなかった側の表面)が1.5であり180度剥
離強度は、B面が3.8kg/cmでF面が3.0Kg
/cmであった。
【0038】上記改質ポリイミドフィルムの表面のC/
O、O/N、Siの含有率、フィルム中のPの含有率を
表1に示す。また、フィルム中は引張弾性率が810k
g/mm2 、10%NaOH水溶液に60℃で1時間浸
漬してもほとんど変化なく形状を保持していた。
【0039】実施例2 参考例4で調製したポリアミック酸溶液に、ポリアミッ
ク酸100部に対する割合でモノステアリルリン酸エス
テルトリエタノ−ルアミン塩0.1部を加え、室温で6
時間攪拌してポリアミック酸組成物を得た。この組成物
をステンレスベルト上に流延塗布し、120℃で10分
間乾燥したのち、ステンレスベルト面より剥がし自己支
持性フィルムを得た。剥離はスム−ズであった。得られ
た自己支持性フィルムの表面にN−フェニル−γ−アミ
ノプロピルエトキシシランのN,N−ジメチルアセトア
ミド溶液(シラン化合物濃度:5重量%)を塗布して、
実施例1と同様にして厚さ50μの改質ポリイミドフィ
ルムを製造した。塗布しないで求めたフィルムのC/O
は4.1、O/Nは2.3であった。
【0040】この改質ポリイミドフィルムを使用して実
施例1と同様にしてエポキシ系接着剤と張り合わせた。
T−剥離強度は、B面が1.7kg/cm、F面が1.
4kg/cmであり、180度剥離強度は、B面が3.
3kg/cmでF面が2.9kg/cmであった。上記
芳香族ポリイミドフィルムの表面及びフィルム中の各成
分の重量割合、含有率を表1に示す。また、このフィル
ムの引張弾性率は580kg/mm2 ,10%NaOH
水溶液に60℃で1時間浸漬してもほとんど変化なく形
状保持していた。
【0041】比較例1 参考例1で調製したポリアミック酸溶液を使用して、自
己支持性フィルムの表面にN−フェニル−γ−アミノプ
ロピルエトキシシランのN,N−ジメチルアセトアミド
溶液を塗布しなかった他は実施例1と同様にしてポリイ
ミドフィルムを製造した。このポリイミドフィルムを使
用して実施例1と同様にしてエポキシ系接着剤と張り合
わせた。T−剥離強度は、B面が0.03kg/cm、
F面が0.02kg/cmであり、180度剥離強度
は、B面が0.3kg/cmでF面が0.1kg/cm
であった。上記芳香族ポリイミドフィルムの表面及びフ
ィルム中の各成分の重量割合、含有率を表1に示す。ま
た、このフィルムの引張弾性率は810kg/mm2
10%NaOH水溶液に60℃で1時間浸漬してもほと
んど変化なく形状保持していた。
【0042】比較例2 参考例2で調製したポリアミック酸溶液を使用した他は
実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを製造した。
このポリイミドフィルムを使用して実施例1と同様にし
てエポキシ系接着剤と張り合わせた。T−剥離強度は、
B面が1.5kg/cm、F面が1.6kg/cmであ
り、180度剥離強度は、B面が2.3kg/cmでF
面が2.8kg/cmであった。上記芳香族ポリイミド
フィルムの表面及びフィルム中の各成分の重量割合、含
有率を表1に示す。また、このフィルムの引張弾性率は
380kg/mm2 ,10%NaOH水溶液に60℃で
1時間浸漬してもほとんど変化なく形状保持していた。
【0043】比較例3 参考例3で調製したポリアミック酸溶液を使用した他は
実施例1と同様にしてポリイミドフィルムを製造した。
このポリイミドフィルムを使用して実施例1と同様にし
てエポキシ系接着剤と張り合わせた。T−剥離強度は、
B面が1.7kg/cm、F面が1.6kg/cmであ
り、180度剥離強度は、B面が3.0kg/cmでF
面が2.9kg/cmであった。上記芳香族ポリイミド
フィルムの表面及びフィルム中の各成分の重量割合、含
有率を表1に示す。また、このフィルムの引張弾性率は
310kg/mm2 ,10%NaOH水溶液に60℃で
1時間浸漬するとフィルムは溶解していた。
【0044】比較例4 参考例3で調製したポリアミック酸溶液に対して、モノ
ステアリルリン酸エステルトリエタノ−ルアミン塩を添
加しないで、ステンレスベルト上に流延塗布し、120
℃で10分間乾燥したのち、ステンレスベルト面より剥
がそうとしたが、剥離が困難でフィルムが切断したり、
剥離面にも剥離痕が付いたりし、良好なフィルムを製造
することができなかった。
【0045】実施例3〜8 N−フェニル−γ−アモノプロピルエトキシシランの
N,N−ジメチルアセトアミド溶液のシラン化合物濃度
を、1重量%(実施例3)に変えたか、15重量%(実
施例4)に変えたか、モノステアリルリン酸エステルト
リエタノ−ルアミン塩を0.025部(実施例5)に変
えたか、モノステアリルリン酸エステルトリエタノ−ル
アミン塩を0.5部(実施例6)に変えたか、モノステ
アリルリン酸エステルトリエタノ−ルアミン塩に変え
て、ジオクチルリン酸エステルモノエタノ−ルアミン塩
を0.1部用いた(実施例7)か、トリエチレングリコ
−ルモノトリデシルエ−テルのモノリン酸エステルを
0.1部用いた(実施例8)他は実施例1と同様に実施
した。結果をまとめて表1に示す。
【0046】
【表1】
【0047】実施例9 実施例1〜8で得られたポリイミドフィルムをスリット
し、35mm幅のテ−プを作製し、その上に26mm幅
のポリイミド系接着剤テ−プ(宇部興産製、グレ−ド
名:UPA−322)をポリイミドテ−プとその中心線
が重なるようにラミネ−トして接着剤付きテ−プ(厚
さ:95μm)を作製した。この接着剤付きポリイミド
テ−プのポリイミド上にスプロケット穴やデバイスホ−
ルをパンチングで開け、銅箔(35μm)を130℃で
張り合わせ、接着剤を硬化させた。その銅箔に常法によ
るパタ−ンニング・エッチングによりIL(インナ−リ
−ド)やOL(アウタ−リ−ド)等の回路を形成しTA
B用キャリア−テ−プを作製した。このTAB用キャリ
ア−テ−プにICを実装した所、ICのパッドとILの
寸法精度にほとんど狂いがなく、正確にボンディングす
ることができた。
【0048】さらにボンディング樹脂でICを封止後、
プリント基板の上に実装したところプリント基板の回路
とTABのOLとの寸法の狂いが小さく、正確にボンデ
ィングできた。
【0049】比較例5 比較例1〜3で得られたポリイミドフィルムを用いた他
は上記と同様にしてTAB用キャリア−テ−プを作製し
た。このTAB用キャリア−テ−プにICを実装した
所、ICのパッドとILの寸法は大幅に狂い、正確にボ
ンディングすることができず使用不可であった。
【0050】
【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に記載のような効果を奏する。
【0051】この改質ポリイミドフィルムは、引張弾性
率が400kg/mm2 以上であり、耐薬品性に優れ、
他の材料と張り合わせても接着強度が大きく、種々の製
造工程を経ても変化なく、製造工程での寸法精度も高
く、他部品を実装する際の位置合わせが良好である。
【0052】改質ポリイミドフィルムを用いた積層体
は、接着強度が大きく、種々の製造工程を経ても変化な
く、製造工程での寸法精度も高く、他部品を実装する際
の位置合わせが良好である。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ポリマ−が芳香族テトラカルボン酸成分と
    芳香族ジアミン成分とからなるフィルムであって、少な
    くとも一方のフィルム表面における各元素の重量割合が
    C/Oが2.9〜4.6で、O/Nが2.4〜3.5で
    あり、かつ該フィルム表面におけるSiの含有率が0.
    7〜3.0%であり、全フィルム中のPの含有率が5〜
    500ppmであることを特徴とする改質ポリイミドフ
    ィルム。
  2. 【請求項2】ポリマ−が芳香族テトラカルボン酸成分と
    芳香族ジアミン成分とからなるフィルムであって、少な
    くとも一方のフィルム表面における各元素の重量割合が
    C/Oが2.9〜4.6で、O/Nが2.4〜3.5で
    あり、かつ該フィルム表面におけるSiの含有率が0.
    7〜3.0%であり、全フィルム中のPの含有率が5〜
    500ppmである改質ポリイミドフィルムに、直接あ
    るいは接着剤を介して同種あるいは異種の基材が積層さ
    れていることを特徴とする積層体。
JP20573295A 1994-09-16 1995-08-11 積層体 Expired - Lifetime JP3235422B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20573295A JP3235422B2 (ja) 1994-09-16 1995-08-11 積層体

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22162094 1994-09-16
JP6-221620 1994-09-16
JP20573295A JP3235422B2 (ja) 1994-09-16 1995-08-11 積層体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08134234A true JPH08134234A (ja) 1996-05-28
JP3235422B2 JP3235422B2 (ja) 2001-12-04

Family

ID=26515223

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP20573295A Expired - Lifetime JP3235422B2 (ja) 1994-09-16 1995-08-11 積層体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3235422B2 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08120098A (ja) * 1994-10-25 1996-05-14 Ube Ind Ltd 改質ポリイミドフィルムおよび積層体
JP2004160897A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Du Pont Toray Co Ltd ポリイミドフイルム
KR100651386B1 (ko) * 2004-10-15 2006-11-29 삼성전기주식회사 폴리이미드 커버레이의 이형처리방법 및 상기 이형처리된폴리이미드 커버레이를 이용한 경연성 다층인쇄회로기판의 제조방법
JP2009235145A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Du Pont Toray Co Ltd 高接着性ポリイミドフィルムおよびその製造方法
JP2011032357A (ja) * 2009-07-31 2011-02-17 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムおよびポリイミドフィルムの製造方法
JP2012201860A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムの製造方法およびポリイミドフィルム
JP2012211221A (ja) * 2011-03-30 2012-11-01 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムの製造方法、およびポリイミドフィルム
JP2012211218A (ja) * 2011-03-30 2012-11-01 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムの製造方法、およびポリイミドフィルム
TWI391531B (zh) * 2008-07-18 2013-04-01 Iljin Copper Foil Co Ltd 印刷電路板用的銅箔及其製備方法以及使用聚醯胺酸前驅物與銅箔的可撓式覆銅層壓板
US8415024B2 (en) 2005-04-07 2013-04-09 Ube Industries, Ltd. Process for producing polyimide film, and polyimide film

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS557805A (en) * 1978-06-30 1980-01-21 Ube Ind Ltd Preparation of polyimide molded articles
JPS60244507A (ja) * 1984-05-18 1985-12-04 Ube Ind Ltd 芳香族ポリイミドフイルムの製造法
JPS61111359A (ja) * 1984-11-06 1986-05-29 Ube Ind Ltd ポリイミド膜
JPS61264028A (ja) * 1985-05-17 1986-11-21 Ube Ind Ltd 寸法安定なポリイミドフイルム及びその製法
JPS62267330A (ja) * 1986-05-15 1987-11-20 Ube Ind Ltd ポリイミドフイルムの製造法
JPH08100072A (ja) * 1994-09-30 1996-04-16 Ube Ind Ltd ポリイミドフィルムおよび積層体
JPH08120098A (ja) * 1994-10-25 1996-05-14 Ube Ind Ltd 改質ポリイミドフィルムおよび積層体

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS557805A (en) * 1978-06-30 1980-01-21 Ube Ind Ltd Preparation of polyimide molded articles
JPS60244507A (ja) * 1984-05-18 1985-12-04 Ube Ind Ltd 芳香族ポリイミドフイルムの製造法
JPS61111359A (ja) * 1984-11-06 1986-05-29 Ube Ind Ltd ポリイミド膜
JPS61264028A (ja) * 1985-05-17 1986-11-21 Ube Ind Ltd 寸法安定なポリイミドフイルム及びその製法
JPS62267330A (ja) * 1986-05-15 1987-11-20 Ube Ind Ltd ポリイミドフイルムの製造法
JPH08100072A (ja) * 1994-09-30 1996-04-16 Ube Ind Ltd ポリイミドフィルムおよび積層体
JPH08120098A (ja) * 1994-10-25 1996-05-14 Ube Ind Ltd 改質ポリイミドフィルムおよび積層体

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08120098A (ja) * 1994-10-25 1996-05-14 Ube Ind Ltd 改質ポリイミドフィルムおよび積層体
JP2004160897A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Du Pont Toray Co Ltd ポリイミドフイルム
JP4521683B2 (ja) * 2002-11-14 2010-08-11 東レ・デュポン株式会社 ポリイミドフイルム
KR100651386B1 (ko) * 2004-10-15 2006-11-29 삼성전기주식회사 폴리이미드 커버레이의 이형처리방법 및 상기 이형처리된폴리이미드 커버레이를 이용한 경연성 다층인쇄회로기판의 제조방법
US8415024B2 (en) 2005-04-07 2013-04-09 Ube Industries, Ltd. Process for producing polyimide film, and polyimide film
JP2009235145A (ja) * 2008-03-26 2009-10-15 Du Pont Toray Co Ltd 高接着性ポリイミドフィルムおよびその製造方法
TWI391531B (zh) * 2008-07-18 2013-04-01 Iljin Copper Foil Co Ltd 印刷電路板用的銅箔及其製備方法以及使用聚醯胺酸前驅物與銅箔的可撓式覆銅層壓板
JP2011032357A (ja) * 2009-07-31 2011-02-17 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムおよびポリイミドフィルムの製造方法
JP2012201860A (ja) * 2011-03-28 2012-10-22 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムの製造方法およびポリイミドフィルム
JP2012211221A (ja) * 2011-03-30 2012-11-01 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムの製造方法、およびポリイミドフィルム
JP2012211218A (ja) * 2011-03-30 2012-11-01 Ube Industries Ltd ポリイミドフィルムの製造方法、およびポリイミドフィルム

Also Published As

Publication number Publication date
JP3235422B2 (ja) 2001-12-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5880658B2 (ja) ポリイミドフィルム、およびこれらのポリイミド積層体、ポリイミド金属積層体
JP2775647B2 (ja) メタライズドポリイミドフィルムの製法
US4731287A (en) Process for producing polyimide/metallic foil composite film
TWI465492B (zh) And a method of manufacturing an aromatic polyimide film having a linear expansion coefficient smaller than the linear expansion coefficient in the transport direction
JPH062828B2 (ja) ポリイミドフイルムの製造法
WO2011125563A1 (ja) ポリイミドフィルム、およびポリイミドフィルムの製造方法
JP3235370B2 (ja) 積層体
JPH0358193B2 (ja)
JP3235422B2 (ja) 積層体
JP3322028B2 (ja) ポリイミドフィルムおよび積層体
TW525420B (en) Heat resistant resin film having metal layer, wiring board and processes for producing them
JPS645476B2 (ja)
US20120034455A1 (en) Polyimide film, method for producing the same, and metal-laminated polyimide film
JP3309654B2 (ja) 改質されたポリイミドフィルムおよび積層体
JPH08134232A (ja) ポリイミドフィルム、積層体およびフレキシブル回路用基板
JPH08283411A (ja) 改質されたポリイミドフィルムおよび積層体
JP3178279B2 (ja) 接着剤付きポリイミドフィルムおよび積層体
JPH0152843B2 (ja)
JP2000326442A (ja) ポリイミド/金属積層体並びにそれを用いた電気・電子機器用基盤、磁気記録用基盤、太陽電池用基盤、宇宙空間航行用機材の被覆フィルム、及びフィルム状抵抗体
JP5499555B2 (ja) ポリイミドフィルムおよびポリイミドフィルムの製造方法
JPH11158276A (ja) 接着性の改良されたポリイミドフィルム、その製法およびその積層体
JPH02131935A (ja) フレキシブル銅張り基板
JP2002338930A (ja) 半導体装置用接着材料および樹脂付き金属箔ならびに配線板
JP2002363319A (ja) ポリイミドフィルムおよびその製造方法およびそのポリイミドフィルムを用いたポリイミド/金属積層体およびフレキシブルプリント配線板
JP2004352811A (ja) 半導体装置用接着剤組成物およびそれを用いたプリント回路基板

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070928

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080928

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090928

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100928

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110928

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110928

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120928

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120928

Year of fee payment: 11

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130928

Year of fee payment: 12

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term