JPH08133910A - 殺菌剤および殺菌方法 - Google Patents
殺菌剤および殺菌方法Info
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- JPH08133910A JPH08133910A JP25691395A JP25691395A JPH08133910A JP H08133910 A JPH08133910 A JP H08133910A JP 25691395 A JP25691395 A JP 25691395A JP 25691395 A JP25691395 A JP 25691395A JP H08133910 A JPH08133910 A JP H08133910A
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- halocyanoacetamide
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- bis
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ハロシアノアセトアミド化合物を安定化し、
日光や加水分解による分解を抑制し、皮膚刺激性がな
く、安定性及び取り扱い性の高い殺菌剤を得る。 【解決手段】 ビスフェノール系化合物と組み合わせる
ことにより、ハロシアノアセトアミド化合物が安定化し
た殺菌剤を得る。ハロシアノアセトアミド化合物には、
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドなど
が含まれ、ビスフェノール系化合物には、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパンなどが含まれる。
ハロシアノアセトアミド化合物とビスフェノール系化合
物とは包接化合物を形成してもよい。
日光や加水分解による分解を抑制し、皮膚刺激性がな
く、安定性及び取り扱い性の高い殺菌剤を得る。 【解決手段】 ビスフェノール系化合物と組み合わせる
ことにより、ハロシアノアセトアミド化合物が安定化し
た殺菌剤を得る。ハロシアノアセトアミド化合物には、
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドなど
が含まれ、ビスフェノール系化合物には、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパンなどが含まれる。
ハロシアノアセトアミド化合物とビスフェノール系化合
物とは包接化合物を形成してもよい。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロシアノアセト
アミド化合物又はその塩とビスフェノール系化合物とを
含有し、薬剤安定性に優れる殺菌剤及びそれを用いた殺
菌方法に関する。
アミド化合物又はその塩とビスフェノール系化合物とを
含有し、薬剤安定性に優れる殺菌剤及びそれを用いた殺
菌方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】産業用水の需要の増加に伴い、再循環用
水系の利用が盛んに行われているが、このような利用に
際し微生物の増殖の制御と抑制は重要な問題である。ま
た、これら産業用水以外にも産業資材の多様化に伴い、
微生物の増殖による災害、かび発生による災害は広範に
わたっている。とりわけ、製紙工程における用水、工業
用冷却水、あるいは金属加工用潤滑油、水性エマルジョ
ン、水泳プールなどに寄生する微生物（菌類、細菌類、
酵母、藻類など）によるスライム問題、微生物災害など
に対する対策が急務とされている。最近、これら微生物
の発生を防止し或いは除去するため、広い抗菌スペクト
ルを持ち、例えば、バクテリア、酵母、かびなどに対し
て優れた抗菌作用を有するハロシアノアセトアミド化合
物が殺菌剤として使用されている。例えば、特開昭６１
−８３１０５号公報、特開昭６２−７０３０１号公報、
特開平３−１７６４０７号公報および特開平５−２０１
８１０号公報には、５−クロロ−２−メチル−４−イソ
チアゾリン−３−オンなどのイソチアゾロン化合物と、
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドなど
のハロシアノアセトアミド化合物とを含む抗菌剤が開示
されている。
水系の利用が盛んに行われているが、このような利用に
際し微生物の増殖の制御と抑制は重要な問題である。ま
た、これら産業用水以外にも産業資材の多様化に伴い、
微生物の増殖による災害、かび発生による災害は広範に
わたっている。とりわけ、製紙工程における用水、工業
用冷却水、あるいは金属加工用潤滑油、水性エマルジョ
ン、水泳プールなどに寄生する微生物（菌類、細菌類、
酵母、藻類など）によるスライム問題、微生物災害など
に対する対策が急務とされている。最近、これら微生物
の発生を防止し或いは除去するため、広い抗菌スペクト
ルを持ち、例えば、バクテリア、酵母、かびなどに対し
て優れた抗菌作用を有するハロシアノアセトアミド化合
物が殺菌剤として使用されている。例えば、特開昭６１
−８３１０５号公報、特開昭６２−７０３０１号公報、
特開平３−１７６４０７号公報および特開平５−２０１
８１０号公報には、５−クロロ−２−メチル−４−イソ
チアゾリン−３−オンなどのイソチアゾロン化合物と、
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドなど
のハロシアノアセトアミド化合物とを含む抗菌剤が開示
されている。
【０００３】特開平４−９３０５号公報には、イソチア
ゾロン化合物と、この化合物を溶解させるための水性溶
媒と、安定化成分としての２，２−ジブロモ−３−ニト
リロプロピオンアミドとを含む水性製剤が開示されてい
る。
ゾロン化合物と、この化合物を溶解させるための水性溶
媒と、安定化成分としての２，２−ジブロモ−３−ニト
リロプロピオンアミドとを含む水性製剤が開示されてい
る。
【０００４】さらに、特開昭６０−２３１６０３号公報
には、ハロニトロアルコールと、シアノアセトアミド化
合物とを組合せた防菌剤が開示され、特開平２−４２０
０７号公報には、２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−ジ
アセトキシプロパンと、５−クロロ−２−メチル−４−
イソチアゾリン−３−オンなどのイソチアゾロン化合
物、ブロモニトロエタノール、ハロシアノアセトアミド
化合物（２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンア
ミドなど）から選択された殺菌剤とを組合せた工業用殺
菌剤が開示されている。
には、ハロニトロアルコールと、シアノアセトアミド化
合物とを組合せた防菌剤が開示され、特開平２−４２０
０７号公報には、２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−ジ
アセトキシプロパンと、５−クロロ−２−メチル−４−
イソチアゾリン−３−オンなどのイソチアゾロン化合
物、ブロモニトロエタノール、ハロシアノアセトアミド
化合物（２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンア
ミドなど）から選択された殺菌剤とを組合せた工業用殺
菌剤が開示されている。
【０００５】しかし、ハロシアノアセトアミド化合物は
皮膚刺激性があり、取り扱い上注意が必要である。ま
た、日光、或いは水による加水分解などにより容易に分
解することが知られている（ジャーナル・オブ・アグリ
カルチャル・アンド・フードケミストリー第２１巻、Ｎ
ｏ．５，１９７３）。そのため、日光などの光線、湿気
の存在する場所などでの保管が困難であり、ハロシアノ
アセトアミド化合物の分解により着色して品質が著しく
低下し、安定した製剤を提供することが困難である。ま
た、ハロシアノアセトアミド化合物の分解に伴って、有
毒なシアンガスが生成する。そのため、取り扱い上、非
常に危険であり、シアンガスの生成を防止することも急
務とされている。
皮膚刺激性があり、取り扱い上注意が必要である。ま
た、日光、或いは水による加水分解などにより容易に分
解することが知られている（ジャーナル・オブ・アグリ
カルチャル・アンド・フードケミストリー第２１巻、Ｎ
ｏ．５，１９７３）。そのため、日光などの光線、湿気
の存在する場所などでの保管が困難であり、ハロシアノ
アセトアミド化合物の分解により着色して品質が著しく
低下し、安定した製剤を提供することが困難である。ま
た、ハロシアノアセトアミド化合物の分解に伴って、有
毒なシアンガスが生成する。そのため、取り扱い上、非
常に危険であり、シアンガスの生成を防止することも急
務とされている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ハロシアノアセトアミド化合物又はその塩が安定化
した殺菌剤を提供することにある。本発明の他の目的
は、ハロシアノアセトアミド化合物又はその塩を含むに
も拘らず、皮膚刺激性がなく、安定性及び取り扱い性が
高く、長期間に亘りハロシアノアセトアミド化合物又は
その塩の活性を維持できる殺菌剤を提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的は、日光や加水分解などに
よる分解を抑制でき、有毒ガスなどを生成することのな
い殺菌剤を提供することにある。
は、ハロシアノアセトアミド化合物又はその塩が安定化
した殺菌剤を提供することにある。本発明の他の目的
は、ハロシアノアセトアミド化合物又はその塩を含むに
も拘らず、皮膚刺激性がなく、安定性及び取り扱い性が
高く、長期間に亘りハロシアノアセトアミド化合物又は
その塩の活性を維持できる殺菌剤を提供することにあ
る。本発明のさらに他の目的は、日光や加水分解などに
よる分解を抑制でき、有毒ガスなどを生成することのな
い殺菌剤を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意検討の結果、ハロシアノアセトア
ミド化合物又はその塩とともにビスフェノール化合物を
共存させると、ハロシアノアセトアミド化合物又はその
塩が安定化することを見いだし、本発明を完成するに至
った。
を達成するために鋭意検討の結果、ハロシアノアセトア
ミド化合物又はその塩とともにビスフェノール化合物を
共存させると、ハロシアノアセトアミド化合物又はその
塩が安定化することを見いだし、本発明を完成するに至
った。
【０００８】すなわち、本発明の殺菌剤は、（１）ハロ
シアノアセトアミド化合物又はその塩とビスフェノール
系化合物とを含有している。この殺菌剤において、
（２）ハロシアノアセトアミド化合物は一般式（１）
シアノアセトアミド化合物又はその塩とビスフェノール
系化合物とを含有している。この殺菌剤において、
（２）ハロシアノアセトアミド化合物は一般式（１）
【０００９】
【化３】 （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｙはハロゲン原子又は水素
原子、Ｒ1 は水素原子又は低級アルキル基を示す。）で
表される化合物であってもよく、（３）ビスフェノール
系化合物は一般式（２）
原子、Ｒ1 は水素原子又は低級アルキル基を示す。）で
表される化合物であってもよく、（３）ビスフェノール
系化合物は一般式（２）
【００１０】
【化４】 （式中、Ｚはそれぞれ同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子又はアルキル基を示し、Ｒ2 は結合手又はス
ペーサーを示す。）で表される化合物であってもよい。
（４）前記スペーサーＲ2 は低級アルキレン基またはス
ルホニル基であってもよい。（５）前記ハロシアノアセ
トアミド化合物には、２，２−ジブロモ−３−ニトリロ
プロピオンアミドなどが含まれ、（６）ビスフェノール
系化合物には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
４，４′−ジヒドロキシフェニルスルホンおよび２，
２′−ジヒドロキシ−５，５′−ジクロロフェニルスル
ホンなどが含まれる。本発明の殺菌剤は、ハロシアノア
セトアミド化合物又はその塩とビスフェノール系化合物
との包接化合物で構成されていてもよい。本発明の方法
では、前記殺菌剤を、被処理液に添加することにより殺
菌する。
ロゲン原子又はアルキル基を示し、Ｒ2 は結合手又はス
ペーサーを示す。）で表される化合物であってもよい。
（４）前記スペーサーＲ2 は低級アルキレン基またはス
ルホニル基であってもよい。（５）前記ハロシアノアセ
トアミド化合物には、２，２−ジブロモ−３−ニトリロ
プロピオンアミドなどが含まれ、（６）ビスフェノール
系化合物には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
４，４′−ジヒドロキシフェニルスルホンおよび２，
２′−ジヒドロキシ−５，５′−ジクロロフェニルスル
ホンなどが含まれる。本発明の殺菌剤は、ハロシアノア
セトアミド化合物又はその塩とビスフェノール系化合物
との包接化合物で構成されていてもよい。本発明の方法
では、前記殺菌剤を、被処理液に添加することにより殺
菌する。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明で用いられるハロシアノア
セトアミド化合物は、代表的には一般式（１）などで表
される。
セトアミド化合物は、代表的には一般式（１）などで表
される。
【００１２】
【化５】 （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｙはハロゲン原子又は水素
原子、Ｒ1 は水素原子又は低級アルキル基を示す）Ｘお
よびＹで表されるハロゲン原子には、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ原子が含まれる。好ましいハロゲン原子には、
塩素原子又は臭素原子、特に臭素原子が含まれる。前記
式（１）で表される化合物において、Ｘ、Ｙが共にハロ
ゲン原子、特に臭素原子であるハロシアノアセトアミド
化合物が好適である。
原子、Ｒ1 は水素原子又は低級アルキル基を示す）Ｘお
よびＹで表されるハロゲン原子には、フッ素、塩素、臭
素、ヨウ原子が含まれる。好ましいハロゲン原子には、
塩素原子又は臭素原子、特に臭素原子が含まれる。前記
式（１）で表される化合物において、Ｘ、Ｙが共にハロ
ゲン原子、特に臭素原子であるハロシアノアセトアミド
化合物が好適である。
【００１３】Ｒ1 の低級アルキル基としては、例えば、
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基な
どの炭素数１〜６程度の直鎖状又は分枝鎖状低級アルキ
ル基が挙げられる。好ましいＲ1 には、水素原子、又は
Ｃ1-4アルキル基が含まれ、特に水素原子、メチル基、
エチル基が好ましい。されら好ましいＲ1 は水素原子又
はメチル基である。
メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピ
ル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基な
どの炭素数１〜６程度の直鎖状又は分枝鎖状低級アルキ
ル基が挙げられる。好ましいＲ1 には、水素原子、又は
Ｃ1-4アルキル基が含まれ、特に水素原子、メチル基、
エチル基が好ましい。されら好ましいＲ1 は水素原子又
はメチル基である。
【００１４】ハロシアノアセトアミド化合物（１）の具
体例としては、例えば、２−クロロ−３−ニトリロプロ
ピオンアミド、２−ブロモ−３−ニトリロプロピオンア
ミドなどの２−ハロ−３−ニトリロプロピオンアミド；
２，２−ジクロロ−３−ニトリロプロピオンアミド、
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド、２
−クロロ−２−ブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド
などの２，２−ジハロ−３−ニトリロプロピオンアミ
ド；Ｎ−メチル−２−クロロ−３−ニトリロプロピオン
アミド、Ｎ−メチル−２−ブロモ−３−ニトリロプロピ
オンアミドなどのＮ−Ｃ1-3アルキル−２−ハロ−３−
ニトリロプロピオンアミド；Ｎ−メチル−２，２−ジク
ロロ−３−ニトリロプロピオンアミド、Ｎ−メチル−
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドなど
のＮ−Ｃ1-3アルキル−２，２−ジハロ−３−ニトリロ
プロピオンアミドなどが挙げられる。これらの化合物は
単独で又は二種以上混合して使用できる。ハロシアノア
セトアミド化合物の塩としては、例えば、塩酸塩、臭化
水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩などの無機酸塩、酢酸塩、ト
リクロロ酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、メタンスルホン
酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩などの有機酸塩が例示
できる。
体例としては、例えば、２−クロロ−３−ニトリロプロ
ピオンアミド、２−ブロモ−３−ニトリロプロピオンア
ミドなどの２−ハロ−３−ニトリロプロピオンアミド；
２，２−ジクロロ−３−ニトリロプロピオンアミド、
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド、２
−クロロ−２−ブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド
などの２，２−ジハロ−３−ニトリロプロピオンアミ
ド；Ｎ−メチル−２−クロロ−３−ニトリロプロピオン
アミド、Ｎ−メチル−２−ブロモ−３−ニトリロプロピ
オンアミドなどのＮ−Ｃ1-3アルキル−２−ハロ−３−
ニトリロプロピオンアミド；Ｎ−メチル−２，２−ジク
ロロ−３−ニトリロプロピオンアミド、Ｎ−メチル−
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドなど
のＮ−Ｃ1-3アルキル−２，２−ジハロ−３−ニトリロ
プロピオンアミドなどが挙げられる。これらの化合物は
単独で又は二種以上混合して使用できる。ハロシアノア
セトアミド化合物の塩としては、例えば、塩酸塩、臭化
水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩などの無機酸塩、酢酸塩、ト
リクロロ酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、メタンスルホン
酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩などの有機酸塩が例示
できる。
【００１５】好ましいハロシアノアセトアミド化合物に
は、２，２−ジクロロ−３−ニトリロプロピオンアミ
ド、２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミ
ド、Ｎ−メチル−２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロ
ピオンアミドなどが含まれる。ハロシアノアセトアミド
化合物としては、２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロ
ピオンアミドなどを用いる場合が多い。
は、２，２−ジクロロ−３−ニトリロプロピオンアミ
ド、２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミ
ド、Ｎ−メチル−２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロ
ピオンアミドなどが含まれる。ハロシアノアセトアミド
化合物としては、２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロ
ピオンアミドなどを用いる場合が多い。
【００１６】本発明に用いられるビスフェノール系化合
物は、代表的には一般式（２）
物は、代表的には一般式（２）
【００１７】
【化６】 （式中、Ｚはそれぞれ同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子又はアルキル基を示し、Ｒ2 は結合手又はス
ペーサーを示す。）などで表される。Ｚで表されるハロ
ゲン原子には、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原
子が含まれる。好ましいハロゲン原子は、塩素原子又は
臭素原子、特に塩素原子である。Ｚで表されるアルキル
基には、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基などのＣ1-6アルキル基が含まれ
る。好ましいアルキル基には、Ｃ1-4アルキル基、特に
メチル基またはエチル基が含まれる。なお、ビスフェノ
ール化合物（２）のベンゼン環には、芳香族環、例え
ば、ベンゼン環、複素環などが縮合していてもよい。
ロゲン原子又はアルキル基を示し、Ｒ2 は結合手又はス
ペーサーを示す。）などで表される。Ｚで表されるハロ
ゲン原子には、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原
子が含まれる。好ましいハロゲン原子は、塩素原子又は
臭素原子、特に塩素原子である。Ｚで表されるアルキル
基には、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、
ペンチル、ヘキシル基などのＣ1-6アルキル基が含まれ
る。好ましいアルキル基には、Ｃ1-4アルキル基、特に
メチル基またはエチル基が含まれる。なお、ビスフェノ
ール化合物（２）のベンゼン環には、芳香族環、例え
ば、ベンゼン環、複素環などが縮合していてもよい。
【００１８】Ｒ2 で表されるスペーサーとしては、例え
ば、アルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、プロ
ピレン、２，２−ジメチルメチレン、２，２−ジメチル
エチレン、テトラメチレンなどの直鎖状又は分枝鎖状Ｃ
1-10アルキレン基）、アルケニレン基（例えば、ビニレ
ン基、プロペニレン基など）、シクロアルキレン基（例
えば、１，４−シクロアルキレン、１，１−シクロアル
キレン基など）、スルホニル基−ＳＯ2 −、スルフィニ
ル基−ＳＯ−、スルフィド基−Ｓ−、酸素原子、オキソ
基＞ＣＯ、チオキソ基＞ＳＯ、マロニル基、スクシニル
基、グルタリル基、アジポイル基などの飽和脂肪族ジカ
ルボニル基−ＯＣＲＣＯ−（Ｒは炭素数１〜１０程度の
アルキレン基を示す）、チオカルボニル基＞ＣＳ、イミ
ノ基＞ＮＨ、ヒドラゾ基−ＮＨ−ＮＨ−、アゾ基−Ｎ＝
Ｎ−、ウレイレン基−ＮＨＣＯＮＨ−などが例示でき
る。
ば、アルキレン基（例えば、メチレン、エチレン、プロ
ピレン、２，２−ジメチルメチレン、２，２−ジメチル
エチレン、テトラメチレンなどの直鎖状又は分枝鎖状Ｃ
1-10アルキレン基）、アルケニレン基（例えば、ビニレ
ン基、プロペニレン基など）、シクロアルキレン基（例
えば、１，４−シクロアルキレン、１，１−シクロアル
キレン基など）、スルホニル基−ＳＯ2 −、スルフィニ
ル基−ＳＯ−、スルフィド基−Ｓ−、酸素原子、オキソ
基＞ＣＯ、チオキソ基＞ＳＯ、マロニル基、スクシニル
基、グルタリル基、アジポイル基などの飽和脂肪族ジカ
ルボニル基−ＯＣＲＣＯ−（Ｒは炭素数１〜１０程度の
アルキレン基を示す）、チオカルボニル基＞ＣＳ、イミ
ノ基＞ＮＨ、ヒドラゾ基−ＮＨ−ＮＨ−、アゾ基−Ｎ＝
Ｎ−、ウレイレン基−ＮＨＣＯＮＨ−などが例示でき
る。
【００１９】スペーサーＲ2 がアルキレン基である化合
物（２）としては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェ
ニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニ
ルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニル
メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニ
ル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−
エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタンなど
が例示できる。
物（２）としては、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフェ
ニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）メタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニ
ルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）ジフェニル
メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニ
ル）エタン、１，１，２，２−テトラキス（３−メチル
−４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビ
ス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロ
パン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−
エチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−３−メチルブタン、２，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）ヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−４−メチルペンタン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタンなど
が例示できる。
【００２０】スペーサーＲ2 がアルケニレン基である化
合物（２）としては、例えば、１，１，４，４−テトラ
（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブチン−１，４−ジ
オール、１，１，６，６−テトラ（４−ヒドロキシフェ
ニル）−２，４−ヘキサジイン−１，６−ジオール、
４，４′−ジヒドロキシスチルベンジスルホン酸などが
挙げられる。スペーサーＲ2 がシクロアルキレン基であ
る化合物（２）には、例えば、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなどが含まれる。
合物（２）としては、例えば、１，１，４，４−テトラ
（４−ヒドロキシフェニル）−２−ブチン−１，４−ジ
オール、１，１，６，６−テトラ（４−ヒドロキシフェ
ニル）−２，４−ヘキサジイン−１，６−ジオール、
４，４′−ジヒドロキシスチルベンジスルホン酸などが
挙げられる。スペーサーＲ2 がシクロアルキレン基であ
る化合物（２）には、例えば、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなどが含まれる。
【００２１】スペーサーＲ2 がスルホニル基である化合
物（２）には、例えば、４，４′−ジヒドロキシフェニ
ルスルホン、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジメ
チルフェニルスルホン、２，２′−ジヒドロキシ−５，
５′−ジクロロフェニルスルホン、４，４′−ジヒドロ
キシ−３，３′−ジクロロフェニルスルホンなどが含ま
れ、スペーサーＲ2 がスルフィニル基である化合物
（２）としては、例えば、４，４′−ジヒドロキシフェ
ニルスルフィン、ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフ
ェニル）スルフィンなどが挙げられる。スペーサーＲ2
がスルフィド基である化合物としては、例えば、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィドなどが挙げら
れる。
物（２）には、例えば、４，４′−ジヒドロキシフェニ
ルスルホン、４，４′−ジヒドロキシ−３，３′−ジメ
チルフェニルスルホン、２，２′−ジヒドロキシ−５，
５′−ジクロロフェニルスルホン、４，４′−ジヒドロ
キシ−３，３′−ジクロロフェニルスルホンなどが含ま
れ、スペーサーＲ2 がスルフィニル基である化合物
（２）としては、例えば、４，４′−ジヒドロキシフェ
ニルスルフィン、ビス（４−ヒドロキシ−３−クロロフ
ェニル）スルフィンなどが挙げられる。スペーサーＲ2
がスルフィド基である化合物としては、例えば、４，
４′−ジヒドロキシジフェニルスルフィドなどが挙げら
れる。
【００２２】Ｒ2 が酸素原子である化合物には、例え
ば、４，４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、Ｒ2
がオキソ基である化合物には、例えば、４，４′−オキ
シビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、
１，１′−オキシビス（２−ナフトール）、２，２−オ
キシビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）な
どが挙げられ、Ｒ2 がチオキソ基である化合物には、例
えば、４，４′−チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチ
ルフェノール）、１，１′−チオビス（２−ナフトー
ル）、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）などが挙げられる。
ば、４，４′−ジヒドロキシジフェニルエーテル、Ｒ2
がオキソ基である化合物には、例えば、４，４′−オキ
シビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、
１，１′−オキシビス（２−ナフトール）、２，２−オ
キシビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）な
どが挙げられ、Ｒ2 がチオキソ基である化合物には、例
えば、４，４′−チオビス（６−ｔ−ブチル−３−メチ
ルフェノール）、１，１′−チオビス（２−ナフトー
ル）、２，２−チオビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）などが挙げられる。
【００２３】Ｒ2 がマロニル基、スクシニル基、グルタ
リル基、アジポイル基などの飽和脂肪族ジカルボニル基
である化合物には、例えば、ジ（４−ヒドロキシベンゾ
イル）メタン、１，２−ジ（４−ヒドロキシベンゾイ
ル）プロパン、１，４−ジ（４−ヒドロキシベンゾイ
ル）ブタンなどが含まれる。Ｒ2 がチオカルボニル基で
ある化合物には、例えば、１，１′−ビス（４−ヒドロ
キシフェニルチオン）、Ｒ2 がイミノ基である化合物に
は、例えば、ジ（４−ヒドロキシフェニル）アミン、Ｒ
2 がヒドラゾ基である化合物には、例えば、４，４′−
ジヒドロキシヒドラゾベンゼン、Ｒ2 がアゾ基である化
合物には、例えば、４，４′−ジヒドロキシアゾベンゼ
ンなどが含まれる。さらに、Ｒ2 がウレイレン基である
化合物には、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジ（４−ヒドロキシフ
ェニル）ウレアなどが例示できる。これらの化合物
（２）は単独で又は二種以上混合して使用できる。
リル基、アジポイル基などの飽和脂肪族ジカルボニル基
である化合物には、例えば、ジ（４−ヒドロキシベンゾ
イル）メタン、１，２−ジ（４−ヒドロキシベンゾイ
ル）プロパン、１，４−ジ（４−ヒドロキシベンゾイ
ル）ブタンなどが含まれる。Ｒ2 がチオカルボニル基で
ある化合物には、例えば、１，１′−ビス（４−ヒドロ
キシフェニルチオン）、Ｒ2 がイミノ基である化合物に
は、例えば、ジ（４−ヒドロキシフェニル）アミン、Ｒ
2 がヒドラゾ基である化合物には、例えば、４，４′−
ジヒドロキシヒドラゾベンゼン、Ｒ2 がアゾ基である化
合物には、例えば、４，４′−ジヒドロキシアゾベンゼ
ンなどが含まれる。さらに、Ｒ2 がウレイレン基である
化合物には、例えば、Ｎ，Ｎ′−ジ（４−ヒドロキシフ
ェニル）ウレアなどが例示できる。これらの化合物
（２）は単独で又は二種以上混合して使用できる。
【００２４】好ましい化合物（２）には、Ｒ2 がアルキ
レン基（特にＣ1-3アルキレン基）である化合物［例え
ば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパンな
ど］、およびＲ2 がスルホニル基である化合物［例え
ば、４，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，
２′−ジヒドロキシ−５，５′−ジクロロフェニルスル
ホンなど］などが含まれる。
レン基（特にＣ1-3アルキレン基）である化合物［例え
ば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス
（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）プロパンな
ど］、およびＲ2 がスルホニル基である化合物［例え
ば、４，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン、２，
２′−ジヒドロキシ−５，５′−ジクロロフェニルスル
ホンなど］などが含まれる。
【００２５】本発明の殺菌剤は、ハロシアノアセトアミ
ド化合物又はその塩とビスフェノール系化合物とを適当
な割合にて混合することにより容易に得ることができ
る。ハロシアノアセトアミド化合物又はその塩とビスフ
ェノール系化合物との割合は、安定性を損わない限り広
い範囲で選択でき、ハロシアノアセトアミド化合物又は
その塩の使用量は、例えば、ビスフェノール系化合物１
モルに対して０．１〜３モル、好ましくは０．２５〜２
モル、さらに好ましく０．５〜１．５モル程度である。
ド化合物又はその塩とビスフェノール系化合物とを適当
な割合にて混合することにより容易に得ることができ
る。ハロシアノアセトアミド化合物又はその塩とビスフ
ェノール系化合物との割合は、安定性を損わない限り広
い範囲で選択でき、ハロシアノアセトアミド化合物又は
その塩の使用量は、例えば、ビスフェノール系化合物１
モルに対して０．１〜３モル、好ましくは０．２５〜２
モル、さらに好ましく０．５〜１．５モル程度である。
【００２６】さらに、前記成分の混合においては、ハロ
シアノアセトアミド化合物又はその塩とビスフェノール
系化合物との包接化合物、例えば、ビスフェノール系化
合物によるハロシアノアセトアミド化合物又はその塩の
包接化合物を生成させるのが望ましい。この場合、安定
性に加えて、皮膚刺激を防止できるなどのより一層の効
果が得られる。さらに高い効果を得るには、ビスフェノ
ール系化合物１モルに対してハロシアノアセトアミド化
合物又はその塩が０．１〜２モル、０．２５〜１．５モ
ル、さらに好ましくは０．５〜１モルの範囲で包接され
ていることが好ましい。
シアノアセトアミド化合物又はその塩とビスフェノール
系化合物との包接化合物、例えば、ビスフェノール系化
合物によるハロシアノアセトアミド化合物又はその塩の
包接化合物を生成させるのが望ましい。この場合、安定
性に加えて、皮膚刺激を防止できるなどのより一層の効
果が得られる。さらに高い効果を得るには、ビスフェノ
ール系化合物１モルに対してハロシアノアセトアミド化
合物又はその塩が０．１〜２モル、０．２５〜１．５モ
ル、さらに好ましくは０．５〜１モルの範囲で包接され
ていることが好ましい。
【００２７】包接化合物は、例えば、次のようにして調
製できる。ビスフェノール系化合物に対して０．５〜５
０重量倍、好ましくは０．５〜３０重量部、さらに好ま
しくは１〜２０重量倍の溶媒を用いて、ハロシアノアセ
トアミド化合物又はその塩及びビスフェノール系化合物
を溶解する。溶解温度は特に制限されず、溶媒の種類に
応じて、２０〜８０℃、好ましくは４０〜６０℃程度の
温度で溶解することができる。この場合、ハロシアノア
セトアミド化合物又はその塩及びビスフェノール系化合
物をそれぞれ異なる溶媒に溶解した後、各溶液を混合し
てもよく、前記各化合物を同一の溶媒に溶解させてもよ
い。このようにして調製された混合液に、ハロシアノア
セトアミド化合物又はその塩が難溶である媒質（貧溶
媒）を加え、結晶を析出させる。前記媒質の使用量は、
結晶の析出性を損わない範囲で選択でき、例えば、前記
溶媒に対して０．１〜５０重量倍、好ましくは０．５〜
２０重量倍程度である。結晶を析出させるには、ハロシ
アノアセトアミド化合物又はその塩が難溶である媒質
（貧溶媒）を加えて、例えば、０．５〜４８時間又はそ
れ以上の時間で、比較的低温（例えば、−１０℃〜２５
℃程度の温度）で放置すればよい。析出した結晶は、濾
過などにより溶液と分離した後、減圧乾燥などにより乾
燥することにより、ハロシアノアセトアミド化合物又は
その塩とビスフェノール系化合物との粉末状包接化合物
として得ることができる。
製できる。ビスフェノール系化合物に対して０．５〜５
０重量倍、好ましくは０．５〜３０重量部、さらに好ま
しくは１〜２０重量倍の溶媒を用いて、ハロシアノアセ
トアミド化合物又はその塩及びビスフェノール系化合物
を溶解する。溶解温度は特に制限されず、溶媒の種類に
応じて、２０〜８０℃、好ましくは４０〜６０℃程度の
温度で溶解することができる。この場合、ハロシアノア
セトアミド化合物又はその塩及びビスフェノール系化合
物をそれぞれ異なる溶媒に溶解した後、各溶液を混合し
てもよく、前記各化合物を同一の溶媒に溶解させてもよ
い。このようにして調製された混合液に、ハロシアノア
セトアミド化合物又はその塩が難溶である媒質（貧溶
媒）を加え、結晶を析出させる。前記媒質の使用量は、
結晶の析出性を損わない範囲で選択でき、例えば、前記
溶媒に対して０．１〜５０重量倍、好ましくは０．５〜
２０重量倍程度である。結晶を析出させるには、ハロシ
アノアセトアミド化合物又はその塩が難溶である媒質
（貧溶媒）を加えて、例えば、０．５〜４８時間又はそ
れ以上の時間で、比較的低温（例えば、−１０℃〜２５
℃程度の温度）で放置すればよい。析出した結晶は、濾
過などにより溶液と分離した後、減圧乾燥などにより乾
燥することにより、ハロシアノアセトアミド化合物又は
その塩とビスフェノール系化合物との粉末状包接化合物
として得ることができる。
【００２８】ハロシアノアセトアミド化合物又はその塩
とビスフェノール系化合物とを溶解させる溶媒（良溶
媒）としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−
プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｔｅｒｔ−ブタ
ノールなどのアルコール系溶媒；エチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−
ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコー
ル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンなどのケトン系溶媒；ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテル系溶媒；
例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなど
のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メ
チルナフタレン、ソルベントナフサなどの芳香族炭化水
素系溶媒；塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルムな
どのハロゲン化炭化水素系溶媒；ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの極性
溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は２種類以上混合
してもよい。
とビスフェノール系化合物とを溶解させる溶媒（良溶
媒）としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−
プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｔｅｒｔ−ブタ
ノールなどのアルコール系溶媒；エチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−
ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノメチルエーテルなどのグリコー
ル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソ
ブチルケトンなどのケトン系溶媒；ジオキサン、テトラ
ヒドロフラン、エチルエーテルなどのエーテル系溶媒；
例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなど
のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メ
チルナフタレン、ソルベントナフサなどの芳香族炭化水
素系溶媒；塩化メチレン、四塩化炭素、クロロホルムな
どのハロゲン化炭化水素系溶媒；ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの極性
溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は２種類以上混合
してもよい。
【００２９】また、ハロシアノアセトアミド化合物が難
溶である媒質（貧溶媒）としては、例えば、水；ｎ−ペ
ンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、
ｎ−ノナン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロ
オクタン、シクロノナン、流動パラフィンなどの脂肪族
又は脂環族炭化水素などが挙げられる。これらの貧溶媒
は単独で又は二種以上混合して使用できる。ハロシアノ
アセトアミド化合物に対する貧溶媒としては、水を用い
る場合が多い。
溶である媒質（貧溶媒）としては、例えば、水；ｎ−ペ
ンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、
ｎ−ノナン、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロ
オクタン、シクロノナン、流動パラフィンなどの脂肪族
又は脂環族炭化水素などが挙げられる。これらの貧溶媒
は単独で又は二種以上混合して使用できる。ハロシアノ
アセトアミド化合物に対する貧溶媒としては、水を用い
る場合が多い。
【００３０】本発明の殺菌剤の形態は特に制限されず、
例えば、粉剤、粒剤、微粉剤、ペースト剤などであって
もよいが、通常、乳剤、水和剤、水溶剤、懸濁剤などの
液剤として使用する場合が多い。粉剤などにおける固体
担体としては、例えば、カオリン、ベントナイト、酸性
白土などのクレー類、タルク類、シリカ類、アルミナ、
活性炭などが挙げられ、これらの固体担体は一種又は二
種以上使用できる。液剤における溶媒（液体担体）とし
ては、前記成分を溶解又は分散可能な種々の溶媒、例え
ば、水及び／又は有機溶媒が使用できる。有機溶媒とし
ては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、
イソプロピルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチ
ル、酢酸エチルなどのエステル類；アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素などのハロゲン化炭素水素類；ジオキサン、テト
ラヒドロフランなどのエーテル類；ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの極性
溶媒；エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５
−ペンタンジオール、グリセリンなどの多価アルコール
とその誘導体などが挙げられる。多価アルコールの誘導
体には、グリコール系溶媒、例えば、メチルセロソル
ブ、エチルセロルブ、ブチルセロソルブなどのセロソル
ブ類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテルなどのカルビトー
ル類などが含まれる。これらの溶媒は一種又は二種以上
混合して使用できる。
例えば、粉剤、粒剤、微粉剤、ペースト剤などであって
もよいが、通常、乳剤、水和剤、水溶剤、懸濁剤などの
液剤として使用する場合が多い。粉剤などにおける固体
担体としては、例えば、カオリン、ベントナイト、酸性
白土などのクレー類、タルク類、シリカ類、アルミナ、
活性炭などが挙げられ、これらの固体担体は一種又は二
種以上使用できる。液剤における溶媒（液体担体）とし
ては、前記成分を溶解又は分散可能な種々の溶媒、例え
ば、水及び／又は有機溶媒が使用できる。有機溶媒とし
ては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、
イソプロピルアルコールなどのアルコール類；酢酸メチ
ル、酢酸エチルなどのエステル類；アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類；
ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩
化炭素などのハロゲン化炭素水素類；ジオキサン、テト
ラヒドロフランなどのエーテル類；ジメチルホルムアミ
ド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリルなどの極性
溶媒；エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロ
ピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプ
ロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５
−ペンタンジオール、グリセリンなどの多価アルコール
とその誘導体などが挙げられる。多価アルコールの誘導
体には、グリコール系溶媒、例えば、メチルセロソル
ブ、エチルセロルブ、ブチルセロソルブなどのセロソル
ブ類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノエチルエーテルなどのカルビトー
ル類などが含まれる。これらの溶媒は一種又は二種以上
混合して使用できる。
【００３１】前記化合物（１）（２）の総使用量は、剤
型及び使用目的、用途などによって異なるが、一般に
は、製剤中０．１〜９９．９重量％の範囲から選択で
き、具体的には、例えば、溶液剤では０．１〜２０重量
％程度、水和剤では１０〜８０重量％程度、粉剤では１
０〜９９．９重量％程度の範囲から選択できる。
型及び使用目的、用途などによって異なるが、一般に
は、製剤中０．１〜９９．９重量％の範囲から選択で
き、具体的には、例えば、溶液剤では０．１〜２０重量
％程度、水和剤では１０〜８０重量％程度、粉剤では１
０〜９９．９重量％程度の範囲から選択できる。
【００３２】さらに、本発明の殺菌剤や包接化合物に
は、その目的、用途などにおいて公知の種々の添加剤、
例えば、他の殺菌剤、界面活性剤、酸化防止剤、安定剤
（カルボキシメチルセルロース、アルギン酸とその塩、
ポリビニルアルコールなど）、防錆剤などの助剤、香料
などを添加してもよい。該殺菌剤としては、イソチアゾ
リン系化合物（例えば、１，２−ベンツイソチアゾリン
−３−オン、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３
−オン、５−ブロモ−２−メチル−４−イソチアゾリン
−３−オン、２−エチル−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、５−クロロ−２−エチル−４−イソチアゾリン−３
−オン、２−プロピル−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、２−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５
−クロロ−２−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、４，５−ジクロロ−２−オクチル−４−イソチアゾ
リン−３−オンなど）、カーバメイト系化合物（例え
ば、３−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメイト、
メチル−２−ベンツイミダゾールカーバメイトなど）、
アルコール系化合物（例えば、２，２−ジブロモ−２−
ニトロエタノール、２，２−ジクロロ−２−ニトロエタ
ノール、２−ブロモ−２−クロロ−２−ニトロエタノー
ル、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオー
ルなど）、ジチオール系化合物（例えば、４，５−ジク
ロロ−１，２−ジチオール−３−オンなど）などが挙げ
られる。これら殺菌剤は２種類以上併用してもよい。こ
れらの殺菌剤の使用量は、特に制限されず、例えば、ハ
ロシアノアセトアミド化合物およびビスフェノール系化
合物の総量１００重量部に対して０〜２００重量部、好
ましくは０〜１００重量部程度の範囲から選択できる。
は、その目的、用途などにおいて公知の種々の添加剤、
例えば、他の殺菌剤、界面活性剤、酸化防止剤、安定剤
（カルボキシメチルセルロース、アルギン酸とその塩、
ポリビニルアルコールなど）、防錆剤などの助剤、香料
などを添加してもよい。該殺菌剤としては、イソチアゾ
リン系化合物（例えば、１，２−ベンツイソチアゾリン
−３−オン、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、５−クロロ−２−メチル−４−イソチアゾリン−３
−オン、５−ブロモ−２−メチル−４−イソチアゾリン
−３−オン、２−エチル−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、５−クロロ−２−エチル−４−イソチアゾリン−３
−オン、２−プロピル−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、２−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン、５
−クロロ−２−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オ
ン、４，５−ジクロロ−２−オクチル−４−イソチアゾ
リン−３−オンなど）、カーバメイト系化合物（例え
ば、３−ヨード−２−プロピニルブチルカーバメイト、
メチル−２−ベンツイミダゾールカーバメイトなど）、
アルコール系化合物（例えば、２，２−ジブロモ−２−
ニトロエタノール、２，２−ジクロロ−２−ニトロエタ
ノール、２−ブロモ−２−クロロ−２−ニトロエタノー
ル、２−ブロモ−２−ニトロプロパン−１，３−ジオー
ルなど）、ジチオール系化合物（例えば、４，５−ジク
ロロ−１，２−ジチオール−３−オンなど）などが挙げ
られる。これら殺菌剤は２種類以上併用してもよい。こ
れらの殺菌剤の使用量は、特に制限されず、例えば、ハ
ロシアノアセトアミド化合物およびビスフェノール系化
合物の総量１００重量部に対して０〜２００重量部、好
ましくは０〜１００重量部程度の範囲から選択できる。
【００３３】界面活性剤としては、石鹸類、ノニオン系
界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活
性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤などの公
知の界面活性剤のいずれでもよい。これらの界面活性剤
のうちノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が
好ましく用いられる。ノニオン系界面活性剤には、例え
は、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル
（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなど）、
酸化エチレンと酸化プロピレンブロック共重合体などが
挙げられる。アニオン系界面活性剤としては、アルキル
ベンゼンスルホン酸金属塩、アルキルナフタレンスルホ
ン酸金属塩、ポリカルボン酸型界面活性剤、ジアルキル
スルホコハク酸エステル金属塩、ポリオキシエチレンジ
スチレン化フェニルエーテルサルフェートアンモニウム
塩、リグニンスルホン酸金属塩などが挙げられ、金属塩
としては、ナトリウム塩、カリウム塩などが挙げられ
る。
界面活性剤、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活
性剤、両イオン界面活性剤、高分子界面活性剤などの公
知の界面活性剤のいずれでもよい。これらの界面活性剤
のうちノニオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤が
好ましく用いられる。ノニオン系界面活性剤には、例え
は、ポリオキシアルキレンアルキルフェニルエーテル
（ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなど）、
酸化エチレンと酸化プロピレンブロック共重合体などが
挙げられる。アニオン系界面活性剤としては、アルキル
ベンゼンスルホン酸金属塩、アルキルナフタレンスルホ
ン酸金属塩、ポリカルボン酸型界面活性剤、ジアルキル
スルホコハク酸エステル金属塩、ポリオキシエチレンジ
スチレン化フェニルエーテルサルフェートアンモニウム
塩、リグニンスルホン酸金属塩などが挙げられ、金属塩
としては、ナトリウム塩、カリウム塩などが挙げられ
る。
【００３４】酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−４−メチルフェノール、２，２′−メチレンビス
［４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール］などのフェ
ノール系酸化防止剤、アルキルジフェニルアミン、Ｎ，
Ｎ′−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなどの
アミン系酸化防止剤などが挙げられる。これら界面活性
剤、酸化防止剤などの添加剤は、一般に、製剤全量に対
して０〜８０重量％（例えば、５〜８０重量％）程度の
割合で使用できる。これらの添加剤は、ハロシアノアセ
トアミド化合物とビスフェノール系化合物とを混合する
際に添加してもよく、混合した後、製剤化の際に添加し
てもよい。
チル−４−メチルフェノール、２，２′−メチレンビス
［４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール］などのフェ
ノール系酸化防止剤、アルキルジフェニルアミン、Ｎ，
Ｎ′−ジ−ｓ−ブチル−ｐ−フェニレンジアミンなどの
アミン系酸化防止剤などが挙げられる。これら界面活性
剤、酸化防止剤などの添加剤は、一般に、製剤全量に対
して０〜８０重量％（例えば、５〜８０重量％）程度の
割合で使用できる。これらの添加剤は、ハロシアノアセ
トアミド化合物とビスフェノール系化合物とを混合する
際に添加してもよく、混合した後、製剤化の際に添加し
てもよい。
【００３５】このようにして得られた本発明の殺菌剤
は、皮膚刺激性がなく、優れた抗菌作用を有すると共
に、長期間に亘り安定した高い殺菌作用を示す。そのた
め、種々の被処理液に添加し、高い抗菌・殺菌活性を発
現させる上で有用である。具体的には、製紙パルプ工
場、冷却水循環工程のスライムコントロール剤や殺菌洗
浄剤として利用できると共に、金属加工油剤、カゼイ
ン、澱粉塗工液、水性塗料、水性接着剤の防腐剤などの
工業用殺菌剤として使用できる。
は、皮膚刺激性がなく、優れた抗菌作用を有すると共
に、長期間に亘り安定した高い殺菌作用を示す。そのた
め、種々の被処理液に添加し、高い抗菌・殺菌活性を発
現させる上で有用である。具体的には、製紙パルプ工
場、冷却水循環工程のスライムコントロール剤や殺菌洗
浄剤として利用できると共に、金属加工油剤、カゼイ
ン、澱粉塗工液、水性塗料、水性接着剤の防腐剤などの
工業用殺菌剤として使用できる。
【００３６】製紙工程に用いる場合、パルプがスラリー
状で存在する場所、例えば、パルプ濃度の比較的低いリ
フラー、フローボックス、白水ピットなどに殺菌剤を添
加するのが好ましい。また、合成樹脂エマルジョン、澱
粉糊、にかわ、切削油などには、殺菌剤を直接添加して
もよく、或いはその二次製品であるコーティングカラ
ー、塗料、印刷インキ、接着剤、サイズ剤などに殺菌剤
を添加してもよい。また、化粧用品、不織布、皮革など
の殺菌処理などにも利用できる。
状で存在する場所、例えば、パルプ濃度の比較的低いリ
フラー、フローボックス、白水ピットなどに殺菌剤を添
加するのが好ましい。また、合成樹脂エマルジョン、澱
粉糊、にかわ、切削油などには、殺菌剤を直接添加して
もよく、或いはその二次製品であるコーティングカラ
ー、塗料、印刷インキ、接着剤、サイズ剤などに殺菌剤
を添加してもよい。また、化粧用品、不織布、皮革など
の殺菌処理などにも利用できる。
【００３７】本発明の殺菌剤は、少量であっても高い殺
菌及び抗菌活性が発現するので、被処理液の性質、例え
ば、分散安定性、流動性などに悪影響を及ぼすことがな
い。また、安定性が高いので、長期間に亘り高い殺菌及
び抗菌活性を持続できる。そのため、殺菌剤の添加量
は、被処理液の種類に応じて、例えば、ハロシアノアセ
トアミド化合物に換算して、０．１〜１００００ｐｐ
ｍ、好ましくは１〜７５０ｐｐｍ、さらに好ましくは５
〜５００ｐｐｍ程度の範囲から適当に選択できる。殺菌
剤の添加量は、ハロシアノアセトアミド化合物に換算し
て、例えば、製紙工業用水の場合は用水量に対して０．
０１〜２００ｐｐｍ、好ましくは０．１〜１００ｐｐｍ
程度、合成樹脂エマルジョンに対しては１〜１０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１０〜５００ｐｐｍ程度、表面サイズ
剤に対しては１〜１０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜５
００ｐｐｍ程度、澱粉糊をバインダーとして用いるコー
ティングカラーに対しては１〜１０００ｐｐｍ、好まし
くは１０〜２００ｐｐｍ程度である。
菌及び抗菌活性が発現するので、被処理液の性質、例え
ば、分散安定性、流動性などに悪影響を及ぼすことがな
い。また、安定性が高いので、長期間に亘り高い殺菌及
び抗菌活性を持続できる。そのため、殺菌剤の添加量
は、被処理液の種類に応じて、例えば、ハロシアノアセ
トアミド化合物に換算して、０．１〜１００００ｐｐ
ｍ、好ましくは１〜７５０ｐｐｍ、さらに好ましくは５
〜５００ｐｐｍ程度の範囲から適当に選択できる。殺菌
剤の添加量は、ハロシアノアセトアミド化合物に換算し
て、例えば、製紙工業用水の場合は用水量に対して０．
０１〜２００ｐｐｍ、好ましくは０．１〜１００ｐｐｍ
程度、合成樹脂エマルジョンに対しては１〜１０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１０〜５００ｐｐｍ程度、表面サイズ
剤に対しては１〜１０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜５
００ｐｐｍ程度、澱粉糊をバインダーとして用いるコー
ティングカラーに対しては１〜１０００ｐｐｍ、好まし
くは１０〜２００ｐｐｍ程度である。
【００３８】
【発明の効果】本発明の殺菌剤は、ビスフェノール系化
合物と組み合わせているので、ハロシアノアセトアミド
化合物またはその塩を安定化できる。また、ハロシアノ
アセトアミド化合物またはその塩を含むにも拘らず、皮
膚刺激性がなく、安定性及び取り扱い性が高く、長期間
に亘りハロシアノアセトアミド化合物の高い活性を維持
できる。さらに、日光や加水分解などによる分解を抑制
でき、有毒ガスなどが生成することがなく、殺菌剤とし
て有効に使用できる。
合物と組み合わせているので、ハロシアノアセトアミド
化合物またはその塩を安定化できる。また、ハロシアノ
アセトアミド化合物またはその塩を含むにも拘らず、皮
膚刺激性がなく、安定性及び取り扱い性が高く、長期間
に亘りハロシアノアセトアミド化合物の高い活性を維持
できる。さらに、日光や加水分解などによる分解を抑制
でき、有毒ガスなどが生成することがなく、殺菌剤とし
て有効に使用できる。
【００３９】
【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。 実施例１ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１ｇ
にクロロホルム１１ｍｌを添加し、５０℃に加熱して溶
解した。この溶液に、メタノール１ｍｌに溶かした２，
２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド１．０６
ｇを加えた。室温に戻し、ｎ−ヘキサン８ｍｌを加え冷
蔵庫で１日放置した。生成した結晶を吸引濾過後、減圧
乾燥し、粉末の白色結晶１．６ｇを得た。得られた白色
結晶は、素手で取り扱っても皮膚に対する刺激はなかっ
た。この粉末結晶中のハロシアノアセトアミドの含有率
を液体クロマトグラフィーで定量したところ、含有率は
５１．６重量％であった。また、粉末Ｘ線解析、赤外吸
収スペクトルにより、前記生成物が包接化合物であるこ
とを確認した。 包接化合物の粉末Ｘ線データのピーク 面間隔（オングストローム）；１４．８６６（Ｉ／
Ｉ0 ；１００）、４．４５３（Ｉ／Ｉ0 ；４３）、２．
８６６（Ｉ／Ｉ0 ；２１）、３．５０１（Ｉ／Ｉ0；２
０） 包接化合物の赤外線スペクトル ＩＲ（cm-1）；１７１０．０、１３７６．９、１５１
０．０、３３６５．２ 実施例２ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１ｇ
および２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミ
ド１ｇにメタノール４ｍｌを加え、５０℃に加熱して溶
解した。この溶液に水９ｍｌを加え冷蔵庫で１日放置し
た。生じた結晶を吸引濾過後、減圧乾燥し、粉末の白色
結晶１．９ｇを得た。得られた白色結晶は、素手で取り
扱っても皮膚に対する刺激はなかった。この粉末中のハ
ロシアノアセトアミドの含有率を液体クロマトグラフィ
ーにて定量したところ、含有率は５０．７重量％であっ
た。
に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定され
るものではない。 実施例１ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１ｇ
にクロロホルム１１ｍｌを添加し、５０℃に加熱して溶
解した。この溶液に、メタノール１ｍｌに溶かした２，
２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド１．０６
ｇを加えた。室温に戻し、ｎ−ヘキサン８ｍｌを加え冷
蔵庫で１日放置した。生成した結晶を吸引濾過後、減圧
乾燥し、粉末の白色結晶１．６ｇを得た。得られた白色
結晶は、素手で取り扱っても皮膚に対する刺激はなかっ
た。この粉末結晶中のハロシアノアセトアミドの含有率
を液体クロマトグラフィーで定量したところ、含有率は
５１．６重量％であった。また、粉末Ｘ線解析、赤外吸
収スペクトルにより、前記生成物が包接化合物であるこ
とを確認した。 包接化合物の粉末Ｘ線データのピーク 面間隔（オングストローム）；１４．８６６（Ｉ／
Ｉ0 ；１００）、４．４５３（Ｉ／Ｉ0 ；４３）、２．
８６６（Ｉ／Ｉ0 ；２１）、３．５０１（Ｉ／Ｉ0；２
０） 包接化合物の赤外線スペクトル ＩＲ（cm-1）；１７１０．０、１３７６．９、１５１
０．０、３３６５．２ 実施例２ ２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１ｇ
および２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミ
ド１ｇにメタノール４ｍｌを加え、５０℃に加熱して溶
解した。この溶液に水９ｍｌを加え冷蔵庫で１日放置し
た。生じた結晶を吸引濾過後、減圧乾燥し、粉末の白色
結晶１．９ｇを得た。得られた白色結晶は、素手で取り
扱っても皮膚に対する刺激はなかった。この粉末中のハ
ロシアノアセトアミドの含有率を液体クロマトグラフィ
ーにて定量したところ、含有率は５０．７重量％であっ
た。
【００４０】実施例３ ４，４′−ジヒドロキシフェニルスルホン１ｇおよび
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド１ｇ
にメタノール４ｍｌを加え、５０℃に加熱して溶解し
た。この溶液に水１０ｍｌを加え冷蔵庫で１日放置し
た。生じた結晶を吸引濾過後、減圧乾燥したところ、粉
末の白色結晶１．８ｇを得た。得られた白色結晶は、素
手で取り扱っても皮膚に対する刺激はなかった。この粉
末中のハロシアノアセトアミドの含有率を液体クロマト
グラフィーにて定量したところ、含有率は４９．２重量
％であった。
２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド１ｇ
にメタノール４ｍｌを加え、５０℃に加熱して溶解し
た。この溶液に水１０ｍｌを加え冷蔵庫で１日放置し
た。生じた結晶を吸引濾過後、減圧乾燥したところ、粉
末の白色結晶１．８ｇを得た。得られた白色結晶は、素
手で取り扱っても皮膚に対する刺激はなかった。この粉
末中のハロシアノアセトアミドの含有率を液体クロマト
グラフィーにて定量したところ、含有率は４９．２重量
％であった。
【００４１】実施例４ ２，２′−ジヒドロキシ−５，５′−ジクロロフェニル
スルホン１ｇおよび２，２−ジブロモ−３−ニトリロプ
ロピオンアミド１ｇにメタノール４ｍｌを加え、５０℃
に加熱して溶解した。この溶液に水９ｍｌを加え冷蔵庫
で１日放置した。生じた結晶を吸引濾過後、減圧乾燥
し、粉末の白色結晶１．９ｇを得た。得られた白色結晶
は、素手で取り扱っても皮膚に対する刺激はなかった。
この粉末中のハロシアノアセトアミドの含有率を液体ク
ロマトグラフィーにて定量したところ、含有率は４２．
１重量％であった。
スルホン１ｇおよび２，２−ジブロモ−３−ニトリロプ
ロピオンアミド１ｇにメタノール４ｍｌを加え、５０℃
に加熱して溶解した。この溶液に水９ｍｌを加え冷蔵庫
で１日放置した。生じた結晶を吸引濾過後、減圧乾燥
し、粉末の白色結晶１．９ｇを得た。得られた白色結晶
は、素手で取り扱っても皮膚に対する刺激はなかった。
この粉末中のハロシアノアセトアミドの含有率を液体ク
ロマトグラフィーにて定量したところ、含有率は４２．
１重量％であった。
【００４２】試験例１（耐候性試験） 実施例１で調製した白色結晶、及び比較例として２，２
−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド各々１ｇを
それぞれポリ袋に入れ、耐候性試験の条件（湿度９０
％、温度６０℃、紫外線強度２．８ｗ／ｍ2 ）下で約３
００時間放置した。３００時間後において、実施例１で
調製した白色結晶は白色を維持し変化は認められなかっ
たが、比較例の２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピ
オンアミドは淡黄色に変色していた。
−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミド各々１ｇを
それぞれポリ袋に入れ、耐候性試験の条件（湿度９０
％、温度６０℃、紫外線強度２．８ｗ／ｍ2 ）下で約３
００時間放置した。３００時間後において、実施例１で
調製した白色結晶は白色を維持し変化は認められなかっ
たが、比較例の２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロピ
オンアミドは淡黄色に変色していた。
【００４３】試験例２（抗菌力測定） グルコース寒天培地を用いた倍数希釈法を利用し、細菌
では３３℃×１８時間、かび、酵母では２８℃×３日間
培養し、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ，μｇ／ｍｌ）を求
めた。
では３３℃×１８時間、かび、酵母では２８℃×３日間
培養し、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ，μｇ／ｍｌ）を求
めた。
【００４４】試料としては実施例１で調製した殺菌剤を
用い、比較例として２，２−ジブロモ−３−ニトリロプ
ロピオンアミドを水に溶解した溶液を使用した。なお、
試験においては両者の２，２−ジブロモ−３−ニトリロ
プロピオンアミドの量が同一となるように試料を調製し
た。供試菌及び測定結果を表１に示す。
用い、比較例として２，２−ジブロモ−３−ニトリロプ
ロピオンアミドを水に溶解した溶液を使用した。なお、
試験においては両者の２，２−ジブロモ−３−ニトリロ
プロピオンアミドの量が同一となるように試料を調製し
た。供試菌及び測定結果を表１に示す。
【００４５】
【表１】 表１より、実施例１と比較例では、抗菌力に差異はな
く、包接の有無に拘らず、抗菌力は同じであることがわ
かる。
く、包接の有無に拘らず、抗菌力は同じであることがわ
かる。
【００４６】試験例３ 実施例１で調製した殺菌剤（包接化合物）５００ｇ、お
よび比較例として２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロ
ピオンアミド５００ｇを、デシケーター（容量３．８
Ｌ）に入れ、６０℃で３日間放置した後、生成したシア
ン化水素を、北川式採取器を用いて検知管の変色を観察
することにより、定量し、試料１ｋｇ当たりのシアン化
水素の生成量（ｍｇ）に換算した。結果を表２に示す。
よび比較例として２，２−ジブロモ−３−ニトリロプロ
ピオンアミド５００ｇを、デシケーター（容量３．８
Ｌ）に入れ、６０℃で３日間放置した後、生成したシア
ン化水素を、北川式採取器を用いて検知管の変色を観察
することにより、定量し、試料１ｋｇ当たりのシアン化
水素の生成量（ｍｇ）に換算した。結果を表２に示す。
【００４７】
【表２】 表２より、明らかなように、ビスフェノール系化合物で
処理して包接化合物とすることにより、シアンガスの発
生を大幅に低減できる。
処理して包接化合物とすることにより、シアンガスの発
生を大幅に低減できる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 (Ａ０１Ｎ 41/10 37:34）
Claims (8)
- 【請求項１】 ハロシアノアセトアミド化合物又はその
塩とビスフェノール系化合物とを含有する殺菌剤。 - 【請求項２】 ハロシアノアセトアミド化合物が一般式
（１） 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｙはハロゲン原子又は水素
原子、Ｒ1 は水素原子又は低級アルキル基を示す。）で
表される化合物である請求項１記載の殺菌剤。 - 【請求項３】 ビスフェノール系化合物が一般式（２） 【化２】 （式中、Ｚはそれぞれ同一または異なって水素原子、ハ
ロゲン原子又はアルキル基を示し、Ｒ2 は結合手又はス
ペーサーを示す。）で表される化合物である請求項１記
載の殺菌剤。 - 【請求項４】 スペーサーが低級アルキレン基またはス
ルホニル基である請求項３記載の殺菌剤。 - 【請求項５】 ハロシアノアセトアミド化合物が２，２
−ジブロモ−３−ニトリロプロピオンアミドである請求
項１記載の殺菌剤。 - 【請求項６】 ビスフェノール系化合物が、ビス（４−
ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、４，４′−ジヒドロキシフェニ
ルスルホンおよび２，２′−ジヒドロキシ−５，５′−
ジクロロフェニルスルホンから選択された少なくとも一
種である請求項１記載の殺菌剤。 - 【請求項７】 ハロシアノアセトアミド化合物又はその
塩とビスフェノール系化合物との包接化合物で構成され
た殺菌剤。 - 【請求項８】 請求項１又は７記載の殺菌剤を、被処理
液に添加する殺菌方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25691395A JP3650181B2 (ja) | 1994-09-13 | 1995-09-07 | 殺菌剤および殺菌方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-217760 | 1994-09-13 | ||
| JP21776094 | 1994-09-13 | ||
| JP25691395A JP3650181B2 (ja) | 1994-09-13 | 1995-09-07 | 殺菌剤および殺菌方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08133910A true JPH08133910A (ja) | 1996-05-28 |
| JP3650181B2 JP3650181B2 (ja) | 2005-05-18 |
Family
ID=26522196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25691395A Expired - Fee Related JP3650181B2 (ja) | 1994-09-13 | 1995-09-07 | 殺菌剤および殺菌方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3650181B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999011609A1 (fr) * | 1997-09-02 | 1999-03-11 | Nippon Soda Co., Ltd. | Composes moleculaires contenant des derives phenol en tant que constituant |
| JPH11189565A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-07-13 | Nippon Soda Co Ltd | フェノール誘導体を成分化合物とする分子化合物 |
| JP2008272667A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Japan Organo Co Ltd | 逆浸透膜処理剤およびそれを用いた逆浸透膜処理方法 |
-
1995
- 1995-09-07 JP JP25691395A patent/JP3650181B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999011609A1 (fr) * | 1997-09-02 | 1999-03-11 | Nippon Soda Co., Ltd. | Composes moleculaires contenant des derives phenol en tant que constituant |
| JPH11189565A (ja) * | 1997-09-02 | 1999-07-13 | Nippon Soda Co Ltd | フェノール誘導体を成分化合物とする分子化合物 |
| JP2008272667A (ja) * | 2007-04-27 | 2008-11-13 | Japan Organo Co Ltd | 逆浸透膜処理剤およびそれを用いた逆浸透膜処理方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3650181B2 (ja) | 2005-05-18 |
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