JPH08115538A - 有機光記録ディスクの製造方法 - Google Patents
有機光記録ディスクの製造方法Info
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- JPH08115538A JPH08115538A JP7249182A JP24918295A JPH08115538A JP H08115538 A JPH08115538 A JP H08115538A JP 7249182 A JP7249182 A JP 7249182A JP 24918295 A JP24918295 A JP 24918295A JP H08115538 A JPH08115538 A JP H08115538A
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- Japan
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- dye
- substrate
- organic
- recording layer
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 基板損傷がなく高反射率形成が可能な有機光
記録ディスクの製造方法を提供する。 【解決手段】 プレグルーブがある基板に有機色素液を
コーティングさせて記録層を収得するに際し、１２０℃
以上の高沸点の有機溶媒である主溶媒に基板を損傷させ
ないアルコールまたは飽和炭化水素である副溶媒を混合
した複合溶媒に色素を溶解させ、これをスピンコーティ
ング方法で基板上にコーティングして記録層を収得する
有機光記録ディスクの製造方法である。
記録ディスクの製造方法を提供する。 【解決手段】 プレグルーブがある基板に有機色素液を
コーティングさせて記録層を収得するに際し、１２０℃
以上の高沸点の有機溶媒である主溶媒に基板を損傷させ
ないアルコールまたは飽和炭化水素である副溶媒を混合
した複合溶媒に色素を溶解させ、これをスピンコーティ
ング方法で基板上にコーティングして記録層を収得する
有機光記録ディスクの製造方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンパクトディス
ク（ＣＤ）との互換性を有する１回だけ記録可能な有機
光記録ディスク（ＣＤ−Ｒ（ＣＤ−Recordable））の製
造方法に関する。
ク（ＣＤ）との互換性を有する１回だけ記録可能な有機
光記録ディスク（ＣＤ−Ｒ（ＣＤ−Recordable））の製
造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、コンパクトディスク（ＣＤ）との
互換性を有する１回だけ記録可能な追記型光記録媒体
（ＣＤ−Ｒ（ＣＤ−Recordable））が、少量製作用ＣＤ
及びＣＤ−ロム（ＲＯＭ）として大きい関心を引いてい
る。ＣＤ−Ｒは使用者が直接情報を記録することができ
るので、既存のＣＤの最大欠点である追加記録不可能と
いう問題を解決し、既存のＣＤＰ（Compact Disc Playe
r ）で再生可能であるという利点を有するのでその需要
が急増する趨勢にある。
互換性を有する１回だけ記録可能な追記型光記録媒体
（ＣＤ−Ｒ（ＣＤ−Recordable））が、少量製作用ＣＤ
及びＣＤ−ロム（ＲＯＭ）として大きい関心を引いてい
る。ＣＤ−Ｒは使用者が直接情報を記録することができ
るので、既存のＣＤの最大欠点である追加記録不可能と
いう問題を解決し、既存のＣＤＰ（Compact Disc Playe
r ）で再生可能であるという利点を有するのでその需要
が急増する趨勢にある。
【０００３】このようなＣＤ−Ｒディスクは、図１に示
すように、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、Ｐ
Ｃ（ポリカーボネート）、ＡＰＯ（アモルファスポリオ
レフィン）等の透明樹脂基板１上に記録層２として有機
色素層を形成し、その上にＡｕ反射層３及びＵＶ（紫外
線）硬化樹脂保護層４を形成した構造からなっている。
ＣＤ−ＲディスクはＣＤとの互換性を有するように、未
記録部が７０％以上の高反射率を得るため、反射層とし
て既存のＡｌの代わりに高価なＡｕを使用しており、全
ての仕様にＣＤを基準としている。また、追加記録でき
るようにウォッブルグルーブ（Wobble groove ）が形成
されている基板を使用している。このようにＣＤ−Ｒデ
ィスクを製造するのに最も難しい点は、７０％以上の高
反射率を有するディスクを製造することで、適正色素の
選定、グルーブの設計、記録層の適正厚さ設計技術等が
複合的に要求される。
すように、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、Ｐ
Ｃ（ポリカーボネート）、ＡＰＯ（アモルファスポリオ
レフィン）等の透明樹脂基板１上に記録層２として有機
色素層を形成し、その上にＡｕ反射層３及びＵＶ（紫外
線）硬化樹脂保護層４を形成した構造からなっている。
ＣＤ−ＲディスクはＣＤとの互換性を有するように、未
記録部が７０％以上の高反射率を得るため、反射層とし
て既存のＡｌの代わりに高価なＡｕを使用しており、全
ての仕様にＣＤを基準としている。また、追加記録でき
るようにウォッブルグルーブ（Wobble groove ）が形成
されている基板を使用している。このようにＣＤ−Ｒデ
ィスクを製造するのに最も難しい点は、７０％以上の高
反射率を有するディスクを製造することで、適正色素の
選定、グルーブの設計、記録層の適正厚さ設計技術等が
複合的に要求される。
【０００４】また、記録層２として使用される色素はＣ
Ｄ−Ｒ記録器（recorder）の光源である半導体レーザー
（７８０ｎｍ）の波長帯で高い吸収率を有する近赤外線
吸収色素が使用され、複素屈折率のｎが1.８〜3.２、ｋ
が0.０４〜0.１２の値を有する色素（日本国特開平３−
６６０４２号公報）が多く使用されている。このような
屈折率を有する色素のうち、比較的広く使用される色素
はインドルニン系シアニン色素であり、下記の一般式で
表現される構造を有する場合、最適の光記録特性を呈す
ると知られている。
Ｄ−Ｒ記録器（recorder）の光源である半導体レーザー
（７８０ｎｍ）の波長帯で高い吸収率を有する近赤外線
吸収色素が使用され、複素屈折率のｎが1.８〜3.２、ｋ
が0.０４〜0.１２の値を有する色素（日本国特開平３−
６６０４２号公報）が多く使用されている。このような
屈折率を有する色素のうち、比較的広く使用される色素
はインドルニン系シアニン色素であり、下記の一般式で
表現される構造を有する場合、最適の光記録特性を呈す
ると知られている。
【０００５】
【化１】
【０００６】（式中、ｌは２または３の整数、Ｚはベン
ゼン環またはナフタリン環を形成する原子団、Ｒ1 はア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル
基、ハロゲン化アルキル基の群から選択される一つの
基、（Ｒｉ）ｍ、（Ｒｉ′）ｎで、ｍ、ｎはそれぞれ置
換基の数を示し、ｍ、ｎは１〜４の整数であり、Ｒｉ、
Ｒｉ′のｉは２〜５の整数を取る相違する置換基であ
り、（Ｒｉ）ｍ、（Ｒｉ′）ｎはそれぞれｉから任意に
選択された同種または異種置換基で、アルキル基、アル
コキシ基、ハロゲン、水素中の一つであり、Ｘ- はハロ
ゲン、過塩素酸、アルキルスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸等の陰イオンを示す） しかし、このようなシアニン色素は耐光性が良くない欠
点を有するので、この改善のためにクエンチャー（Quen
cher）を色素とともに混合して使用する場合（日本特開
平２−２７３３３９号公報、３−２０３６９４号公報、
４−２８５８８号公報、３−２０３６９０〜３号公報、
２−８４３８４号公報）が多い。このように耐光性向上
の目的で多く使用されるクエンチャーとしては下記の構
造式で表現される色素が多く知られており、代表的な商
品としては日本火薬製のＩＲＧ−０２３、三井東圧製の
ＰＡ−１００６がある。
ゼン環またはナフタリン環を形成する原子団、Ｒ1 はア
ルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カルボキシル
基、ハロゲン化アルキル基の群から選択される一つの
基、（Ｒｉ）ｍ、（Ｒｉ′）ｎで、ｍ、ｎはそれぞれ置
換基の数を示し、ｍ、ｎは１〜４の整数であり、Ｒｉ、
Ｒｉ′のｉは２〜５の整数を取る相違する置換基であ
り、（Ｒｉ）ｍ、（Ｒｉ′）ｎはそれぞれｉから任意に
選択された同種または異種置換基で、アルキル基、アル
コキシ基、ハロゲン、水素中の一つであり、Ｘ- はハロ
ゲン、過塩素酸、アルキルスルホン酸、トルエンスルホ
ン酸等の陰イオンを示す） しかし、このようなシアニン色素は耐光性が良くない欠
点を有するので、この改善のためにクエンチャー（Quen
cher）を色素とともに混合して使用する場合（日本特開
平２−２７３３３９号公報、３−２０３６９４号公報、
４−２８５８８号公報、３−２０３６９０〜３号公報、
２−８４３８４号公報）が多い。このように耐光性向上
の目的で多く使用されるクエンチャーとしては下記の構
造式で表現される色素が多く知られており、代表的な商
品としては日本火薬製のＩＲＧ−０２３、三井東圧製の
ＰＡ−１００６がある。
【０００７】
【化２】
【０００８】（Ｒ1 〜Ｒ8 は水素、アルキル基またはハ
ロゲン）
ロゲン）
【０００９】
【化３】
【００１０】（Ｒ1 〜Ｒ6 は水素またはアルキル基、Ｘ
はハロゲン） ＣＤ−Ｒの記録原理は、近赤外線色素で形成されている
記録層に光が照射されると、色素が光を吸収して発熱
し、記録層に隣接する基板が色素の温度上昇により熱変
形されるとともに一部色素が溶融分解されることによ
り、基板と色素が界面で混合され、その結果、ピット
（pit ）またはバンプ（bump）が基板と記録層間の界面
に記録信号として形成される。このピットまたはバンプ
では、光の位相差に変化が生じて、未記録部に比べて反
射率が大きく低下するので、ＣＤにおけるピットと同じ
役割を果たし、記録されたＣＤ−Ｒディスクは既存ＣＤ
Ｐでも再生できるようになる。一方、記録層の支持体の
役割を果たす透明樹脂基板上には記録時のトラッキング
のためにグルーブが形成されており、グルーブの深さ、
幅、形態等によって光の位相差が変わるので、記録層と
して使用される色素の屈折率によって深さ、幅、形態等
を適宜設計し製作することにより高反射率のＣＤ−Ｒデ
ィスクを製造することができる。
はハロゲン） ＣＤ−Ｒの記録原理は、近赤外線色素で形成されている
記録層に光が照射されると、色素が光を吸収して発熱
し、記録層に隣接する基板が色素の温度上昇により熱変
形されるとともに一部色素が溶融分解されることによ
り、基板と色素が界面で混合され、その結果、ピット
（pit ）またはバンプ（bump）が基板と記録層間の界面
に記録信号として形成される。このピットまたはバンプ
では、光の位相差に変化が生じて、未記録部に比べて反
射率が大きく低下するので、ＣＤにおけるピットと同じ
役割を果たし、記録されたＣＤ−Ｒディスクは既存ＣＤ
Ｐでも再生できるようになる。一方、記録層の支持体の
役割を果たす透明樹脂基板上には記録時のトラッキング
のためにグルーブが形成されており、グルーブの深さ、
幅、形態等によって光の位相差が変わるので、記録層と
して使用される色素の屈折率によって深さ、幅、形態等
を適宜設計し製作することにより高反射率のＣＤ−Ｒデ
ィスクを製造することができる。
【００１１】このように反射率を決定的な要素として作
用する記録層を形成するに際して、最も一般に使用する
コーティング方式はスピンコーティング方式で、有機色
素を溶媒に溶解させて容易に塗布できるので最も多く用
いられている。このような色素のスピンコーティング
時、溶媒として多く用いられる有機溶媒はクロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、ジ
メチルホルムアミド、メタノールが挙げられるが、基板
の一部を損傷させてしまう他、沸点が低く乾燥速度があ
まり速くて、記録層の製造後の最終記録層の形成状態
が、図２の写真に示すように、グルーブ部位とランド部
位の記録層の厚さが等しく形成されて反射層と記録層の
界面が屈曲してしまい、その結果、再生光の照射時に光
散乱現象が発生する。従って、このような溶媒を使用す
る場合、５０％以上の反射率を得ることは殆ど不可能で
あって、実際に使用不可能であるという問題を有する。
即ち、高反射率を得るためには、グルーブ部位の記録層
をランド部位に形成された記録層の厚さにグルーブの深
さを合わせたものと殆ど同じに形成させて、記録層と反
射層との界面が水平を成すことにより、光散乱を最小化
させるようにすることが理想的である。また、基板とし
て使用されるＰＭＭＡまたはＰＣを損傷させずに色素を
溶解させる溶媒とは、色素の溶媒が大部分の基板の溶媒
でもあるということなので大変探しにくい状況である。
従って、大部分の場合、基板を損傷させない溶媒を先ず
選定してから最大溶解度に色素を溶解させて色素溶液を
製造してスピンコーティングを実施する方法を選んでお
り、このような溶媒としてはメタノール、エタノール等
のアルコール類が多く使用されている。しかし、このよ
うなアルコール類はシアニン有機色素の溶解度が極めて
低くて実際使用に困難があるばかりでなく、概して沸点
が低く乾燥速度が速くて均一な色素層表面を得ることが
難しいという問題を有する。
用する記録層を形成するに際して、最も一般に使用する
コーティング方式はスピンコーティング方式で、有機色
素を溶媒に溶解させて容易に塗布できるので最も多く用
いられている。このような色素のスピンコーティング
時、溶媒として多く用いられる有機溶媒はクロロホル
ム、１，２−ジクロロエタン、メチルエチルケトン、ジ
メチルホルムアミド、メタノールが挙げられるが、基板
の一部を損傷させてしまう他、沸点が低く乾燥速度があ
まり速くて、記録層の製造後の最終記録層の形成状態
が、図２の写真に示すように、グルーブ部位とランド部
位の記録層の厚さが等しく形成されて反射層と記録層の
界面が屈曲してしまい、その結果、再生光の照射時に光
散乱現象が発生する。従って、このような溶媒を使用す
る場合、５０％以上の反射率を得ることは殆ど不可能で
あって、実際に使用不可能であるという問題を有する。
即ち、高反射率を得るためには、グルーブ部位の記録層
をランド部位に形成された記録層の厚さにグルーブの深
さを合わせたものと殆ど同じに形成させて、記録層と反
射層との界面が水平を成すことにより、光散乱を最小化
させるようにすることが理想的である。また、基板とし
て使用されるＰＭＭＡまたはＰＣを損傷させずに色素を
溶解させる溶媒とは、色素の溶媒が大部分の基板の溶媒
でもあるということなので大変探しにくい状況である。
従って、大部分の場合、基板を損傷させない溶媒を先ず
選定してから最大溶解度に色素を溶解させて色素溶液を
製造してスピンコーティングを実施する方法を選んでお
り、このような溶媒としてはメタノール、エタノール等
のアルコール類が多く使用されている。しかし、このよ
うなアルコール類はシアニン有機色素の溶解度が極めて
低くて実際使用に困難があるばかりでなく、概して沸点
が低く乾燥速度が速くて均一な色素層表面を得ることが
難しいという問題を有する。
【００１２】このような記録層のスピンコーティング時
の溶媒選択問題は最終ディスクの物性に大きい影響を及
ぼす要素で、特に高反射率を要求するＣＤ−Ｒディスク
の製造時、反射率変化に決定的な役割を果たす。前述し
たように、色素層の形態がグルーブとランド部位に沿っ
て屈曲を成しながら形成される場合、根本的に７０％以
上の高反射率を得ることが難しいので、これの解決のた
めに沸点の高い溶媒を用いる方法が公開されている。こ
のような用途に適する溶媒としては、ＤＭＦ（ジメチル
ホルムアミド）、メチルセロソルブ（日本特開平２−１
３２６４９号公報、２−１３２６５６号公報）、４−ヒ
ドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン（日本特開平３
−２２４７９２号公報、４−１６７２３８号公報）等が
挙げられ、これらの沸点はそれぞれ１５３℃、１２４
℃、１６６℃で比較的高くて乾燥速度が遅いので、色素
のスピンコーティング時、記録層と反射層との界面が水
平に、つまりグルーブ部分の記録層がランド部分の記録
層に比べて相対的に厚く形成されることにより、光照射
時に散乱現象が小さく起こって高反射率の光ディスクを
得ることが容易になる。
の溶媒選択問題は最終ディスクの物性に大きい影響を及
ぼす要素で、特に高反射率を要求するＣＤ−Ｒディスク
の製造時、反射率変化に決定的な役割を果たす。前述し
たように、色素層の形態がグルーブとランド部位に沿っ
て屈曲を成しながら形成される場合、根本的に７０％以
上の高反射率を得ることが難しいので、これの解決のた
めに沸点の高い溶媒を用いる方法が公開されている。こ
のような用途に適する溶媒としては、ＤＭＦ（ジメチル
ホルムアミド）、メチルセロソルブ（日本特開平２−１
３２６４９号公報、２−１３２６５６号公報）、４−ヒ
ドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン（日本特開平３
−２２４７９２号公報、４−１６７２３８号公報）等が
挙げられ、これらの沸点はそれぞれ１５３℃、１２４
℃、１６６℃で比較的高くて乾燥速度が遅いので、色素
のスピンコーティング時、記録層と反射層との界面が水
平に、つまりグルーブ部分の記録層がランド部分の記録
層に比べて相対的に厚く形成されることにより、光照射
時に散乱現象が小さく起こって高反射率の光ディスクを
得ることが容易になる。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな高沸点溶媒のうち、ＤＭＦは基板との表面張力差の
ためコーティング性が多少低下する問題点を有し、メチ
ルセロソルブは沸点が多少低くて水平状態の界面形成が
難しく、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン
は基板であるＰＣを一部溶解させてグルーブを損傷させ
るので記録特性が不良になる問題点を有する。特に、４
−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンは沸点がか
なり高い有機溶媒で、大変良好な記録層を形成するが、
一般に低分子量ＰＣでなった基板の表面を損傷させるこ
とにより、記録特性不良、ひいてはトラッキング不可と
いう極端な結果を奏することもある。特に、４−ヒドロ
キシ−４−メチル−２−ペンタノンのＰＣ溶解度はかな
り低くて、場合によってグルーブの一部のみを微細に損
傷させるので基板損傷有無を判断しにくく、ＣＤ−Ｒデ
ィスクの不良時、溶媒によるものであることを発見する
ことが大変難しい場合が多い。このように、４−ヒドロ
キシ−４−メチル−２−ペンタノンを溶媒として使用す
る時には不良原因の糾明を難しくする問題点を引き起こ
すので、これに対する効果的な対策が要求される。
うな高沸点溶媒のうち、ＤＭＦは基板との表面張力差の
ためコーティング性が多少低下する問題点を有し、メチ
ルセロソルブは沸点が多少低くて水平状態の界面形成が
難しく、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン
は基板であるＰＣを一部溶解させてグルーブを損傷させ
るので記録特性が不良になる問題点を有する。特に、４
−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノンは沸点がか
なり高い有機溶媒で、大変良好な記録層を形成するが、
一般に低分子量ＰＣでなった基板の表面を損傷させるこ
とにより、記録特性不良、ひいてはトラッキング不可と
いう極端な結果を奏することもある。特に、４−ヒドロ
キシ−４−メチル−２−ペンタノンのＰＣ溶解度はかな
り低くて、場合によってグルーブの一部のみを微細に損
傷させるので基板損傷有無を判断しにくく、ＣＤ−Ｒデ
ィスクの不良時、溶媒によるものであることを発見する
ことが大変難しい場合が多い。このように、４−ヒドロ
キシ−４−メチル−２−ペンタノンを溶媒として使用す
る時には不良原因の糾明を難しくする問題点を引き起こ
すので、これに対する効果的な対策が要求される。
【００１４】本発明はこのような問題点を解決しようと
するもので、光ディスクの製造時に問題となる適正溶媒
を選定して基板損傷がなく高反射率形成が可能である有
機光ディスクの製造方法を提供することをその目的とす
る。
するもので、光ディスクの製造時に問題となる適正溶媒
を選定して基板損傷がなく高反射率形成が可能である有
機光ディスクの製造方法を提供することをその目的とす
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明は有機色素の溶媒
として、記録層の形状を屈曲がない水平形態に形成させ
て反射率を向上させるために乾燥速度の遅い沸点１２０
℃以上の高沸点溶媒を主溶媒とし、主溶媒による基板の
損傷を防止するために、基板を損傷させない少量のアル
コールまたは飽和炭化水素を副溶媒として主溶媒に添加
し使用することにより、基板損傷のない高反射率の記録
特性が良好な有機光記録ディスクを製造する方法を提供
しようとするものである。
として、記録層の形状を屈曲がない水平形態に形成させ
て反射率を向上させるために乾燥速度の遅い沸点１２０
℃以上の高沸点溶媒を主溶媒とし、主溶媒による基板の
損傷を防止するために、基板を損傷させない少量のアル
コールまたは飽和炭化水素を副溶媒として主溶媒に添加
し使用することにより、基板損傷のない高反射率の記録
特性が良好な有機光記録ディスクを製造する方法を提供
しようとするものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明をより詳細に説明す
る。
る。
【００１７】ＣＤ−Ｒディスクを製造するに際して、基
板として、ウォッブルグルーブ（Wobble groove ）が形
成されているＰＣ、ＰＭＭＡまたはＡＰＯ基板上に記録
層として有機色素を形成し、その上に反射層としてＡｕ
を７００〜２，０００Åの厚さに形成する。このように
して形成されたＣＤ−Ｒディスクの記録層及び反射層の
保護のために反射層上にＵＶ硬化樹脂で５〜２０Ｍｍの
保護層を形成し、必要に応じて、最終的に保護層上に印
刷を実施することにより製造が完了される。このように
有機光記録ディスクを製造するに際して、最も核心とな
る記録層用色素としては前述したインドルニン系シアニ
ン色素を主に使用し、場合によって、このようなシアニ
ン色素の耐光性向上のためにクエンチャー（Quencher）
を一部添加して使用するか、ナトタロシアニン、フタロ
シアニン、クロコニウム系色素のうち、少なくとも一種
を単独でまたは二種以上を混合して記録層用色素として
使用することもある。このような色素の記録層形成方法
としては、湿式スピンコーティング方法が適切であり、
均一な記録層の形成のために１０〜５０ＲＰＭの低速で
２〜１０秒間色素溶液を基板上に均一に分散させた後、
所望の厚さ及び使用溶媒によって基板の回転速度を８０
０〜２，５００ＲＰＭに高めて、溶媒が完全に乾燥する
まで３０〜１２０秒間回転させて記録層を得る。この
際、必要によって一度に最終ＲＰＭに加速させることよ
りは３００〜６００ＲＰＭの中間段階を経てより均一な
記録層を得ることもできる。前記低速回転時、１０ＲＰ
Ｍ以下であると色素溶液が均一に分散されなく、５０Ｒ
ＰＭを越えると色素溶液が基板の外に遠心力により離脱
されるため、適正厚さの層を具現しにくい。また、高速
回転時、８００ＲＰＭ以下であると乾燥時間が長くかか
り、２５００ＲＰＭであると乾燥は速いが表面が滑らか
でない。
板として、ウォッブルグルーブ（Wobble groove ）が形
成されているＰＣ、ＰＭＭＡまたはＡＰＯ基板上に記録
層として有機色素を形成し、その上に反射層としてＡｕ
を７００〜２，０００Åの厚さに形成する。このように
して形成されたＣＤ−Ｒディスクの記録層及び反射層の
保護のために反射層上にＵＶ硬化樹脂で５〜２０Ｍｍの
保護層を形成し、必要に応じて、最終的に保護層上に印
刷を実施することにより製造が完了される。このように
有機光記録ディスクを製造するに際して、最も核心とな
る記録層用色素としては前述したインドルニン系シアニ
ン色素を主に使用し、場合によって、このようなシアニ
ン色素の耐光性向上のためにクエンチャー（Quencher）
を一部添加して使用するか、ナトタロシアニン、フタロ
シアニン、クロコニウム系色素のうち、少なくとも一種
を単独でまたは二種以上を混合して記録層用色素として
使用することもある。このような色素の記録層形成方法
としては、湿式スピンコーティング方法が適切であり、
均一な記録層の形成のために１０〜５０ＲＰＭの低速で
２〜１０秒間色素溶液を基板上に均一に分散させた後、
所望の厚さ及び使用溶媒によって基板の回転速度を８０
０〜２，５００ＲＰＭに高めて、溶媒が完全に乾燥する
まで３０〜１２０秒間回転させて記録層を得る。この
際、必要によって一度に最終ＲＰＭに加速させることよ
りは３００〜６００ＲＰＭの中間段階を経てより均一な
記録層を得ることもできる。前記低速回転時、１０ＲＰ
Ｍ以下であると色素溶液が均一に分散されなく、５０Ｒ
ＰＭを越えると色素溶液が基板の外に遠心力により離脱
されるため、適正厚さの層を具現しにくい。また、高速
回転時、８００ＲＰＭ以下であると乾燥時間が長くかか
り、２５００ＲＰＭであると乾燥は速いが表面が滑らか
でない。
【００１８】このように記録層を形成するに際して、記
録層と反射層との界面が均一に水平状態に形成されるよ
うに、できるだけ乾燥速度が遅い１２０℃以上の沸点を
有する高沸点溶媒である４−ヒドロキシ−４−メチル−
２−ペンタノン、ＤＭＦ、メチルセロソルブ等の２−エ
トキシエタノール、２−ブトキシエタノールを主溶媒と
して使用し、基板の溶解による損傷防止のために基板物
質であるＰＣ、ＰＭＭＡを溶解させない溶媒であるメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のア
ルコール及びｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプ
タン等の飽和炭化水素を選択して副溶媒として使用し、
主溶媒に対して容積比で0.５〜３０％添加して複合溶媒
を製造して使用する。この際、副溶媒として使用される
アルコールは炭素数１〜１０を有することが適切であ
り、ノーマルアルコール、イソアルコール等の全ての種
類のアルコールが使用でき、飽和炭化水素は炭素数５〜
１０のものを使用することが好ましい。一方、主溶媒と
副溶媒の混合比は容積比で９9.５〜７０：0.５〜３０の
範囲が適するが、副溶媒の量が0.５％以下である場合は
副溶媒添加効果を得ることが難しく、３０％以上である
場合は色素の溶解度が低下して、色素溶液塗布時に、色
素粒子が析出するか表面が不均一に形成されるかの問題
が発生するため適さない。このような複合溶媒を使用し
て色素層を形成してからスパッタリングによるＡｕ反射
膜を形成し、理論的に反射率が飽和される適正厚さは７
００Å程度からであるが、位置による厚さ偏差等を考慮
して１，０００Å以上に形成することが好ましい。この
ように形成されたＣＤ−Ｒディスクの記録層及び反射層
の保護のために反射層上にＵＶ硬化樹脂を５〜２０μｍ
の厚さに塗布して保護層を形成し、保護層樹脂としては
一般にＣＤの保護層用として使用されるＵＶ硬化樹脂を
そのまま使用でき、最終的に保護層上に印刷を実施して
製造完了することになる。
録層と反射層との界面が均一に水平状態に形成されるよ
うに、できるだけ乾燥速度が遅い１２０℃以上の沸点を
有する高沸点溶媒である４−ヒドロキシ−４−メチル−
２−ペンタノン、ＤＭＦ、メチルセロソルブ等の２−エ
トキシエタノール、２−ブトキシエタノールを主溶媒と
して使用し、基板の溶解による損傷防止のために基板物
質であるＰＣ、ＰＭＭＡを溶解させない溶媒であるメタ
ノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のア
ルコール及びｎ−ヘキサン、シクロヘキサン、ｎ−ヘプ
タン等の飽和炭化水素を選択して副溶媒として使用し、
主溶媒に対して容積比で0.５〜３０％添加して複合溶媒
を製造して使用する。この際、副溶媒として使用される
アルコールは炭素数１〜１０を有することが適切であ
り、ノーマルアルコール、イソアルコール等の全ての種
類のアルコールが使用でき、飽和炭化水素は炭素数５〜
１０のものを使用することが好ましい。一方、主溶媒と
副溶媒の混合比は容積比で９9.５〜７０：0.５〜３０の
範囲が適するが、副溶媒の量が0.５％以下である場合は
副溶媒添加効果を得ることが難しく、３０％以上である
場合は色素の溶解度が低下して、色素溶液塗布時に、色
素粒子が析出するか表面が不均一に形成されるかの問題
が発生するため適さない。このような複合溶媒を使用し
て色素層を形成してからスパッタリングによるＡｕ反射
膜を形成し、理論的に反射率が飽和される適正厚さは７
００Å程度からであるが、位置による厚さ偏差等を考慮
して１，０００Å以上に形成することが好ましい。この
ように形成されたＣＤ−Ｒディスクの記録層及び反射層
の保護のために反射層上にＵＶ硬化樹脂を５〜２０μｍ
の厚さに塗布して保護層を形成し、保護層樹脂としては
一般にＣＤの保護層用として使用されるＵＶ硬化樹脂を
そのまま使用でき、最終的に保護層上に印刷を実施して
製造完了することになる。
【００１９】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明をより詳細に
説明する。
説明する。
【００２０】実施例１ 表面にウォッブルグルーブが形成されているＰＣ基板上
にインドルニンシアニン色素であるＮＫ−５２９（日本
感光色素社製品）3.２ｇを４−ヒドロキシ−４−メチル
−２−ペンタノン／メタノール（容積比８５／１５）の
複合溶媒１００mlに溶解した色素溶液をスピンコータを
用いて１０ＲＰＭで５秒間回転させた後、１，５００Ｒ
ＰＭで９０秒間回転させて塗布した後、充分に乾燥さ
せ、スパッターを用いてＡｕ反射膜を１，０００Åの厚
さに形成する。その上にＵＶ硬化樹脂ＥＸ−７０４（大
日本インクケミカル社製品）をスピンコータで２，５０
０ＲＰＭで塗布して１０μｍ程度の保護層を形成する。
このように製造したＣＤ−Ｒディスクをアペクス社の″
ＯＨＭＴ−５００″光ディスク評価装置を用いて反射
率、ＣＮＲ、ＢＥＲ等を測定して記録特性を評価し、こ
れを表１に表した。
にインドルニンシアニン色素であるＮＫ−５２９（日本
感光色素社製品）3.２ｇを４−ヒドロキシ−４−メチル
−２−ペンタノン／メタノール（容積比８５／１５）の
複合溶媒１００mlに溶解した色素溶液をスピンコータを
用いて１０ＲＰＭで５秒間回転させた後、１，５００Ｒ
ＰＭで９０秒間回転させて塗布した後、充分に乾燥さ
せ、スパッターを用いてＡｕ反射膜を１，０００Åの厚
さに形成する。その上にＵＶ硬化樹脂ＥＸ−７０４（大
日本インクケミカル社製品）をスピンコータで２，５０
０ＲＰＭで塗布して１０μｍ程度の保護層を形成する。
このように製造したＣＤ−Ｒディスクをアペクス社の″
ＯＨＭＴ−５００″光ディスク評価装置を用いて反射
率、ＣＮＲ、ＢＥＲ等を測定して記録特性を評価し、こ
れを表１に表した。
【００２１】実施例２ ＮＫ−３２１９（日本感光色素社製品）4.７ｇをメチル
セロソルブ／ブタノール（８５／１５）の複合溶媒１０
０mlに溶解した色素溶液を使用し、スピンコータで１０
ＲＰＭで１０秒間回転させてから２，０００ＲＰＭで６
０秒間回転させて塗布して記録層を製造したことを除き
実施例１と同様に製造した。
セロソルブ／ブタノール（８５／１５）の複合溶媒１０
０mlに溶解した色素溶液を使用し、スピンコータで１０
ＲＰＭで１０秒間回転させてから２，０００ＲＰＭで６
０秒間回転させて塗布して記録層を製造したことを除き
実施例１と同様に製造した。
【００２２】実施例３ ＮＫ−３２６７（日本感光色素社製品）0.４ｇをヒドロ
キシ−４−メチル−２−ペンタノン／エタノール（９０
／１０）の複合溶媒１００mlに溶解した色素溶液を使用
し、スピンコータで１０ＲＰＭで１０秒間回転させてか
ら１，７００ＲＰＭで９０秒間回転させて塗布して記録
層を製造したことを除き実施例１と同様に製造した。
キシ−４−メチル−２−ペンタノン／エタノール（９０
／１０）の複合溶媒１００mlに溶解した色素溶液を使用
し、スピンコータで１０ＲＰＭで１０秒間回転させてか
ら１，７００ＲＰＭで９０秒間回転させて塗布して記録
層を製造したことを除き実施例１と同様に製造した。
【００２３】実施例４ ＮＫ−３２９１ 3.２ｇとクエンチャーとしてＩＲＧ−
０２３（日本火薬社製品）1.５ｇをメチルセロソルブ／
ブタノール（９０／１０）の複合溶媒１００mlに溶解し
た色素溶液を使用し、スピンコータで１０ＲＰＭで１０
秒間回転させてから２，０００ＲＰＭで６０秒間回転さ
せて塗布して記録層を製造したことを除き実施例１と同
様に製造した。
０２３（日本火薬社製品）1.５ｇをメチルセロソルブ／
ブタノール（９０／１０）の複合溶媒１００mlに溶解し
た色素溶液を使用し、スピンコータで１０ＲＰＭで１０
秒間回転させてから２，０００ＲＰＭで６０秒間回転さ
せて塗布して記録層を製造したことを除き実施例１と同
様に製造した。
【００２４】比較例１ 色素溶液製造用溶媒としてメタノールを単独で使用した
ことを除き実施例１と同様に製造した。
ことを除き実施例１と同様に製造した。
【００２５】比較例２ 色素溶液製造用溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル
−２−ペンタノンを単独で使用したことを除き実施例２
と同様に製造した。
−２−ペンタノンを単独で使用したことを除き実施例２
と同様に製造した。
【００２６】比較例３ 色素溶液製造用溶媒としてメチルセロソルブ／ブタノー
ル（６８／３２）の複合溶媒を使用したことを除き実施
例２と同様に製造した。
ル（６８／３２）の複合溶媒を使用したことを除き実施
例２と同様に製造した。
【００２７】比較例４ 色素溶液製造用溶媒として４−ヒドロキシ−４−メチル
−２−ペンタノン／ＭＥＫ（９０／１０）の複合溶媒を
使用したことを除き実施例３と同様に製造した。
−２−ペンタノン／ＭＥＫ（９０／１０）の複合溶媒を
使用したことを除き実施例３と同様に製造した。
【００２８】比較例５ 色素溶液製造用溶媒としてクロロホルムを単独で使用し
たことを除き実施例４と同様に製造した。
たことを除き実施例４と同様に製造した。
【００２９】
【表１】
【００３０】複合溶媒を使用しなかった比較例は記録層
塗布状態が不良であるか基板一部が損傷されるので、複
合溶媒を使用した実施例に比べてディスク特性が低下す
ることがわかる。
塗布状態が不良であるか基板一部が損傷されるので、複
合溶媒を使用した実施例に比べてディスク特性が低下す
ることがわかる。
【００３１】
【発明の効果】有機光記録ディスクの製造に際し、適正
な有機色素溶媒を選定することにより、基板損傷がな
く、高反射率形成が可能な有機光記録ディスクを得るこ
とができる。
な有機色素溶媒を選定することにより、基板損傷がな
く、高反射率形成が可能な有機光記録ディスクを得るこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のディスクの要部を拡大した部分断面斜
視図である。
視図である。
【図２】従来のディスクの断面写真である。
【図３】本発明によるディスクの断面写真である。
Claims (4)
- 【請求項１】 有機色素を溶媒に溶解してから基板上に
スピンコーティングさせて記録層を収得する有機光記録
ディスクの製造方法において、前記溶媒として、１２０
℃以上の高沸点の有機溶媒を主溶媒とし、基板を損傷さ
せないアルコールまたは飽和炭化水素を副溶媒として混
合した複合溶媒を使用することを特徴とする有機光記録
ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 前記主溶媒として、ジメチルホルムアミ
ド、２−メトキシエタノール（メチルセロソルブ）、４
−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、２−エト
キシエタノール、２−ブトキシエタノールから１種以上
が選択され、前記副溶媒として、アルコールまたは飽和
炭化水素から１種以上が選択され、前記アルコールは炭
素数１〜１０を有するノーマルアルコール、イソアルコ
ールの全ての種類のアルコールが包含され、前記飽和炭
化水素は炭素数５〜１０のものから選択されることを特
徴とする請求項１記載の有機光記録ディスクの製造方
法。 - 【請求項３】 前記主溶媒は４−ヒドロキシ−４−メチ
ル−２−ペンタノンであり、前記副溶媒はアルコールで
あることを特徴とする請求項１または２記載の有機光記
録ディスクの製造方法。 - 【請求項４】 前記主溶媒と前記副溶媒の組成が容積比
で９9.５〜７０：0.５〜３０であることを特徴とする請
求項１記載の有機光記録ディスクの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019940025055A KR100285541B1 (en) | 1994-09-30 | 1994-09-30 | Method for manufacturing organic optical cd-recordable disc |
| KR94-25055 | 1994-09-30 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08115538A true JPH08115538A (ja) | 1996-05-07 |
| JP2926072B2 JP2926072B2 (ja) | 1999-07-28 |
Family
ID=19394154
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7249182A Expired - Lifetime JP2926072B2 (ja) | 1994-09-30 | 1995-09-27 | 有機光記録ディスクの製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2926072B2 (ja) |
| KR (1) | KR100285541B1 (ja) |
| CN (1) | CN1079564C (ja) |
| DE (1) | DE19536073A1 (ja) |
| NL (1) | NL1001288C2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5959960A (en) * | 1996-09-27 | 1999-09-28 | Eastman Kodak Company | Method of providing a range of conformalities for optical recording layers |
| JP2004536693A (ja) * | 2001-04-19 | 2004-12-09 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | スピンコート媒体 |
| CN100356469C (zh) * | 2002-11-28 | 2007-12-19 | 富士胶片株式会社 | 光记录介质及其制造方法 |
| US10424743B2 (en) | 2015-05-21 | 2019-09-24 | The University Of Hong Kong | Solution-processable donor-acceptor compounds containing boron(III) moieties for the fabrication of optical reflectors and organic memory devices and their preparation thereof |
Citations (4)
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|---|---|---|---|---|
| JPH0274679A (ja) * | 1988-03-01 | 1990-03-14 | Hoechst Celanese Corp | ポリカーボネート含有基体の被覆方法 |
| JPH0332882A (ja) * | 1988-08-19 | 1991-02-13 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体の製造装置 |
| JPH03224792A (ja) * | 1989-03-03 | 1991-10-03 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
| JPH04167238A (ja) * | 1990-10-30 | 1992-06-15 | Victor Co Of Japan Ltd | 光学的情報記録媒体及びその製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5114165A (en) * | 1974-07-25 | 1976-02-04 | Yutaka Kozai Kogyo Kk | Shikakukeikokanno seizohoho |
| JPS6020309B2 (ja) * | 1980-11-10 | 1985-05-21 | 東光株式会社 | 巻線機のトラバ−ス機構 |
| US5182186A (en) * | 1987-09-29 | 1993-01-26 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Optical information recording medium |
| JP2657579B2 (ja) * | 1990-04-19 | 1997-09-24 | 富士写真フイルム株式会社 | 光情報記録媒体 |
| US5274623A (en) * | 1990-07-19 | 1993-12-28 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Information recording medium having high modulation degree |
| US5348841A (en) * | 1990-11-19 | 1994-09-20 | Industrial Technology Research Institute | Organic dye-in-polymer (DIP) medium for write-once-read-many (WORM) optical discs |
| US5375285A (en) * | 1991-12-26 | 1994-12-27 | Mitsui Toatsu Chemicals Inc. | Apparatus for cleaning cylindrical outer surface of a disk |
| DE69300515T2 (de) * | 1992-04-23 | 1996-05-09 | Eastman Kodak Co | Stabilisatoren fuer cyanin-ir-farbstoffe. |
| US5219823A (en) * | 1992-04-23 | 1993-06-15 | Eastman Kodak Company | Stabilizers for cyanine IR dyes in donor element for laser-induced thermal dye transfer |
| US5272047A (en) * | 1992-06-26 | 1993-12-21 | Eastman Kodak Company | Optical information recording medium using azo dyes |
| US5294471A (en) * | 1993-02-01 | 1994-03-15 | Eastman Kodak Company | Optical information recording medium using metallized formazan dyes |
| US5426015A (en) * | 1993-10-18 | 1995-06-20 | Eastman Kodak Company | Metallized azo dianion with two cationic dye counter ions for optical information recording medium |
-
1994
- 1994-09-30 KR KR1019940025055A patent/KR100285541B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1995
- 1995-09-26 NL NL1001288A patent/NL1001288C2/nl not_active IP Right Cessation
- 1995-09-27 JP JP7249182A patent/JP2926072B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-28 DE DE1995136073 patent/DE19536073A1/de not_active Withdrawn
- 1995-09-28 CN CN95117201A patent/CN1079564C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0274679A (ja) * | 1988-03-01 | 1990-03-14 | Hoechst Celanese Corp | ポリカーボネート含有基体の被覆方法 |
| JPH0332882A (ja) * | 1988-08-19 | 1991-02-13 | Hitachi Maxell Ltd | 光情報記録媒体の製造装置 |
| JPH03224792A (ja) * | 1989-03-03 | 1991-10-03 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
| JPH04167238A (ja) * | 1990-10-30 | 1992-06-15 | Victor Co Of Japan Ltd | 光学的情報記録媒体及びその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1079564C (zh) | 2002-02-20 |
| JP2926072B2 (ja) | 1999-07-28 |
| NL1001288A1 (nl) | 1996-04-01 |
| DE19536073A1 (de) | 1996-04-04 |
| KR100285541B1 (en) | 2001-01-04 |
| CN1142107A (zh) | 1997-02-05 |
| NL1001288C2 (nl) | 1999-01-12 |
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