JPH08109159A - N−置換不飽和アミドの製造方法 - Google Patents

N−置換不飽和アミドの製造方法

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JPH08109159A
JPH08109159A JP27183394A JP27183394A JPH08109159A JP H08109159 A JPH08109159 A JP H08109159A JP 27183394 A JP27183394 A JP 27183394A JP 27183394 A JP27183394 A JP 27183394A JP H08109159 A JPH08109159 A JP H08109159A
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清文 高橋
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春夫 坂井
Tetsuro Nakahama
哲朗 中濱
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Abstract

(57)【要約】 【目的】不飽和ニトリルと第3級ブチルアルコールか
ら、副生物の生成を抑え、高純度のN-置換不飽和アミド
を高収率で得ることができる、工業的に有利なN-置換不
飽和アミドの製造方法を提供する。 【構成】不飽和ニトリルと5〜50重量%の範囲の水を
含む含水第3級ブチルアルコールとを強酸の存在下で反
応させて、N-置換不飽和アミドを得る。 【効果】副生物の少ない高純度のN-置換不飽和アミド
を、高収率で製造することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、不飽和ニトリル類と第
3級ブチルアルコールから、N-置換不飽和アミド類を製
造する方法に関するものである。N-置換不飽和アミド類
は、高分子改質剤、塗料、接着剤などの原材料あるいは
化粧品の添加剤などに用いられる。
【0002】
【従来の技術】従来、不飽和ニトリル類とアルコールと
を反応させてN-置換不飽和アミドを得る方法としては、
1) アルコールとアクリロニトリルとを酢酸溶媒中で濃
硫酸の存在下で反応させる方法(「ジャーナル・オブ・
ザ・アメリカン・ケミカル・ソサエティー」, 第73巻,
第9号, 4076頁(1951年))、 2) アクリロニトリルと
第3級ブチルアルコール及び強酸を低級飽和一価アルコ
ール類の存在下で反応させる方法(特公昭47-51329号公
報)、または 3) (メタ)アクリロニトリルを、硫酸の
作用下でカルボニウムイオンを生成しうるアルコールと
共に濃硫酸に添加して反応させる方法(特開昭58-38242
号公報)などが開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、これら従来の
方法はいずれも、アクリロニトリルとアルコールとを水
で希釈することなく濃硫酸中で反応させるものであっ
て、反応液が濃厚であるために反応温度の制御が困難で
あり、副反応により変性物あるいは重合物が生成して反
応液が黄色に着色し、高純度のN-置換不飽和アミドを得
るには精製処理が不可欠であるという難点がある。ま
た、アルコールとして融点が25.6℃である第3級ブチル
アルコールを用いる場合には、常温領域では第3級ブチ
ルアルコールは固−液混合体となって状態が安定せずそ
の取り扱いが困難であること、また、温度が低下する冬
期においては液状態を保たせるには保温設備が必要とな
ること、などの問題点があって、工業的製造方法として
は改良が望まれていた。
【0004】本発明の目的は、副生物の生成を抑えて、
高純度のN-置換不飽和アミドを高収率で得ることができ
る、工業的に有利なN-置換不飽和アミドの製造方法を提
供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記問題
点を改善して課題を解決するため鋭意検討し、不飽和ニ
トリル類と第3級ブチルアルコールとを強酸の存在下で
反応させてN-置換不飽和アミドを製造するにあたって、
含水第3級ブチルアルコールを用いることにより、第3
級ブチルアルコールの凝固点が低下するので低温度領域
でもその取り扱いが容易であり、更に、水で希釈した強
酸を用いることによって反応条件を温和にすることとな
って、変性物あるいは重合物など副生物の生成が少な
く、極めて容易な手段で、高収率で高純度のN-置換不飽
和アミドを製造することができることを見出し、本発明
を完成した。
【0006】本発明は、「下記一般式(1) で表される不
飽和ニトリルと第3級ブチルアルコールとを強酸の存在
下で反応させ、一般式(2) で表されるN-置換不飽和アミ
ドを製造するにあたり、含水第3級ブチルアルコールを
用いることを特徴とするN-置換不飽和アミドの製造方
法。 ( 上記一般式(1) および(2) において、R1 , R2 は水
素原子またはCH3 基を表す。) 」を要旨とする。
【0007】本発明の方法が好適に用いられる不飽和ニ
トリルは、アクリロニトリル, メタアクリロニトリルま
たはクロトンニトリルのいずれかである。
【0008】本発明の方法において用いられる含水第3
級ブチルアルコールは、5〜50重量%、好ましくは、10
〜40重量%の範囲の水を含むものであることがよい。
【0009】また、本発明の方法において用いられる強
酸は、硫酸またはリン酸であり、好ましくは、濃度60〜
98重量%、更に好ましくは、65〜90重量%の範囲の硫酸
であることがよい。
【0010】以下、本発明について詳細に説明する。本
発明の方法は、不飽和ニトリル類と含水第3級ブチルア
ルコールとを強酸の存在下で反応させることからなる。
【0011】本発明の方法において、原料として用いら
れる不飽和ニトリル類は、下記一般式(1) で表されるも
のである。 上記一般式(1) において、R1 , R2 は水素原子または
CH3 基を表す。これらの不飽和ニトリル類は、具体的
には、アクリロニトリル(AN)、メタアクリロニトリル(M
AN) またはクロトンニトリル(CTN) が含まれ、特に制約
は無く、市販のものをそのまま用いることができる。
【0012】本発明の方法において用いられる含水第3
級ブチルアルコールは、その濃度が温度−5℃以下の低
温度領域でも凝固しない範囲であればよく、水分含有率
が5〜50重量%、好ましくは10〜40重量%の範囲である
ことがよい。水の含有率が5重量%未満であるときに
は、第3級ブチルアルコールの凝固点を低下させる効果
が小さく、常温領域では第3級ブチルアルコールは固−
液混合体となって状態が安定せず、また、低温領域では
凝固してその取り扱いが困難であるため、本発明の目的
を達成することができない。一方、水の含有率が50重量
%を超えるときには、反応液の希釈率が過大となって装
置効率が低下するので、工業的製造方法としては不利と
なる。
【0013】本発明の方法で得られるN-置換不飽和アミ
ドは、一般式(2) で表すことができる。 上記一般式(2) において、R1 , R2 は水素原子または
CH3 基を表す。具体的には、 N-tert-ブチルアクリル
アミド(TBAA)、 N-tert-ブチルメタアクリルアミド(TBM
AA) または N-tert-ブチルクロトンアミド(TBCA)であ
る。
【0014】本発明の方法において用いられる強酸は、
硫酸またはリン酸であり、硫酸が好ましい。これらの強
酸は、水で希釈しないで用いることができるが、本発明
の方法においては、水で希釈して用いることが好まし
く、酸濃度は、60〜98重量%、好ましくは65〜90重量%
の範囲であることがよい。
【0015】本発明の方法によってN-置換不飽和アミド
を製造するにあたり、不飽和ニトリルと含水第3級ブチ
ルアルコールおよび強酸の量比は、不飽和ニトリル1モ
ルに対して、第3級ブチルアルコール (純分) が 0.9〜
1.5 モル、好ましくは 1.0〜1.5 モルの範囲であること
がよく、また、強酸が 0.9〜2モル、好ましくは 1.0〜
1.8 モルの範囲であることがよい。
【0016】本発明の方法において、反応温度は0〜12
0 ℃、好ましくは10〜100 ℃の範囲であることがよい。
また、反応時間は10分〜10時間、好ましくは15分〜8時
間の範囲であることがよい。
【0017】本発明の方法においては、反応液中で不飽
和化合物の重合を防止するため、重合禁止剤を使用する
ことができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン,
p- メトキシフェノール, 2,6-ジターシャリーブチルカ
テコール, フェノチアジン, クペロン, 硫酸ヒドロキシ
ルアミン, 亜硝酸ナトリウム, 塩化銅, 硝酸銅などが使
用できる。
【0018】本発明の方法において、反応終了後の反応
液を、冷却後、大過剰の水と混合してN-置換不飽和アミ
ドの結晶を析出させ、分離して、目的物を単離すること
ができる。この際、反応液は強酸性であるため、中和す
るに要する量のアルカリを加えて、反応生成物を効率よ
く単離することができる。アルカリによる反応液の中和
処理は、反応液を水と混合する前でも後でも、あるいは
水との混合とアルカリによる中和の操作を同時に行うこ
ともできる。発生する中和熱の除去を考慮すると、反応
液と水とを混合した後にアルカリを加えるか、または、
アルカリを含む水と反応液とを混合することが好まし
い。
【0019】反応液の中和処理に用いられるアルカリと
しては、水酸化リチウム, 水酸化ナトリウム, 水酸化カ
リウム, 水酸化ルビジュウム, 水酸化セシウムなどのア
ルカリ金属の水酸化物、水酸化カルシウム, 水酸化バリ
ウムなどのアルカリ土類金属の水酸化物、またはアンモ
ニアが挙げられる。なお、アンモニアを用いる場合、特
に限定はしないが、実用上からアンモニア水が好まし
い。
【0020】なお、得られた反応液に、水に易溶な低級
脂肪族アルコールを添加した後、水分散によって N- t-
ブチルアクリルアミドを晶析させる方法(特開平3-1937
50号公報)が開示されている。この方法で得られるN-置
換不飽和アミド結晶は、酸性であるので、用途によって
は使用する際にアルカリによる中和処理を要し、このと
き生成する無機塩類が不純物として結晶中に残留すると
いう難点がある。これに対して、反応液を大過剰の水と
混合してアルカリによる中和処理を行う本発明の方法で
は、アルカリ中和によって生成した無機塩類は水に溶解
して除去されるので、分離取得されたN-置換不飽和アミ
ド結晶は極めて高純度である。
【0021】なお、本発明の方法によって得られたN-置
換不飽和アミドは、必要により、水または有機溶媒を用
いる再結晶処理によって精製することができる。有機溶
媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノー
ルなどのアルコールを挙げることができる。これらの有
機溶媒は、単独で、または二種以上を混合して用いるこ
ともできる。好ましくは、これらの有機溶媒と水を混合
して使用する。
【0022】
【実施例】以下、実施例によって、本発明を具体的に説
明する。本発明は、本発明の要旨を超えない限り、これ
らの実施例に限定されるものではない。なお、以下、
「%」は重量%を意味する。
【0023】実施例1.反応容器に80%硫酸 470.8gを
仕込み、氷冷下撹拌しながら、アクリロニトリル 169.8
gと14%含水第3級ブチルアルコール 317.2gを、反応
温度が40℃を超えないように1時間かけて滴下し、滴下
終了後、40℃で更に4時間撹拌した。反応液を中和・晶
析槽に移し、水 957.7gと48%水酸化ナトリウム水溶液
656gを加えて中和した。析出した結晶を、遠心分離機
を用いて母液と分離し、少量の水で洗浄した後、乾燥し
て白色の N-tert-ブチルアクリルアミド結晶 385gを得
た(アクリロニトリル基準収率: 94.6%) 。
【0024】実施例2〜7.実施例1に準じて、表1に
示した条件により、各種の不飽和ニトリルと第3級ブチ
ルアルコールとを強酸の存在下で反応させ、N-置換不飽
和アミドを得た。反応結果を表1に示した。なお、生成
物には、いずれも着色は認められなかった。
【0025】
【表1】
【0026】比較例1.水を含まない第3級ブチルアル
コール 273gと濃硫酸 384gを用いたほかは、実施例1
に準じて反応・中和・晶析の処理を行ったところ、得ら
れた N-tert-ブチルアクリルアミド結晶は、黄色を呈し
ていた。
【発明の効果】本発明の方法によって、不飽和ニトリル
と第3級ブチルアルコールから、副生物の少ない高純度
のN-置換不飽和アミドを、高収率で製造することができ
る。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(1) で表される不飽和ニトリ
    ルと第3級ブチルアルコールとを強酸の存在下で反応さ
    せ、一般式(2) で表されるN-置換不飽和アミドを製造す
    るにあたり、含水第3級ブチルアルコールを用いること
    を特徴とするN-置換不飽和アミドの製造方法。 ( 上記一般式(1) および(2) において、R1 , R2 は水
    素原子またはCH3 基を表す。)
  2. 【請求項2】 不飽和ニトリルが、アクリロニトリル,
    メタアクリロニトリルまたはクロトンニトリルのいずれ
    かである請求項1記載のN-置換不飽和アミドの製造方
    法。
  3. 【請求項3】 含水第3級ブチルアルコールが、5〜5
    0重量%の範囲の水を含むものである請求項1記載のN-
    置換不飽和アミドの製造方法。
  4. 【請求項4】 含水第3級ブチルアルコールが、10〜
    40重量%の範囲の水を含むものである請求項1記載の
    N-置換不飽和アミドの製造方法。
  5. 【請求項5】 強酸が、硫酸またはリン酸である請求項
    1記載のN-置換不飽和アミドの製造方法。
  6. 【請求項6】 強酸が、濃度60〜98重量%の範囲の
    硫酸である請求項1記載のN-置換不飽和アミドの製造方
    法。
  7. 【請求項7】 強酸が、濃度65〜90重量%の範囲の
    硫酸である請求項1記載のN-置換不飽和アミドの製造方
    法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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EP1182191A1 (en) * 2000-08-10 2002-02-27 INTERNATIONAL FLAVORS & FRAGRANCES INC. Method for making amides
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