JPH0789041A - 印刷版の製版方法及び印刷用原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 乾式処理により、地汚れがなく高品質であ
り、安価かつ簡易な乾式処理によって印刷版が得られる
製版方法と印刷用原版、改良された耐刷力を有する印
刷版が得られる製版方法と印刷用原版を提供する。 【構成】 厚さ50μm以下の透明フィルム上に光硬化
性の感光性樹脂層を有する積層物の該感光性樹脂層側
を、アルミ支持体の表面粗さRaが0.1〜0.5μmの面に45
℃以上に加熱することなく重ねて画像露光を行い、80℃
以上で１kg／cm²以上の圧力を付与した後、両者を剥離
し、該アルミ支持体に残された未露光の感光性樹脂層を
後露光し硬化させる印刷版の作成方法。感光性樹脂層
の上に最低造膜温度が60℃以上のラテックス樹脂層を有
する上記の積層物の該ラテックス樹脂層を粗面化した
アルミ支持体に60℃以上に加熱せずに積層してなる印刷
用原版、及びこの印刷用原版を上記の方法で印刷版を
作成する方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、印刷版の製版方法及び
該製版方法に用いられる印刷用原版に関し、さらに詳し
くは、乾式処理によって印刷版を製造する方法及び該製
造方法に用いる印刷用原版に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、印刷版を作成するためには感光性
樹脂記録材料や銀塩感光材料が用いられ、画像様に露光
した後に液体を用いる処理が行なわれていた。すなわ
ち、感光性樹脂記録材料を用い、感光性樹脂層が露光に
より現像液に対する溶解性や浸透性が変化するという性
質を利用して現像液により非画像部の除去を行い、レリ
ーフ画像を形成する方法が用いられていた。また、銀塩
感光材料を用い、湿潤状態で親水性表面に画像状に親油
性の銀鏡を析出させて親油性画像を形成する方法が用い
られていた。これらの方法では液体による処理が必須で
あるが、液体処理には、廃液を生じ環境衛生上好ましく
ない問題、及び処理液の活性を常に一定に保つ必要があ
るため厳密な補充を必要とする問題がある。このような
問題を避けるため、液体を用いず乾式処理で印刷版を作
成する方法が提案されている。

【０００３】特開昭52-9501号公報には、砂目立てされ
たアルミ板上に感光性樹脂層及びカバーシートを設け、
画像露光後、未露光部の感光性樹脂層をカバーシートと
ともに取り除くことによりネガ型の印刷版を作成する方
法が提案されている。特開平3-184049号公報及び特開平
4-172351号公報には、画像露光した感光性樹脂層を砂目
立てされたアルミ板に重ねて未露光部のみを転写し、印
刷版を作成する方法が提案されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記特
開昭52-9501号公報記載の技術には、感光性樹脂層は塗
布又は加熱ラミネートにより砂目上に設けられるため、
砂目の細部に入り込んだ感光層を非画像部において完全
に除去することは困難であり、非画像部に汚れとなって
残り易く、また、画像のシャープネスが不充分であっ
た。特開平3-184049号公報又は特開平4-172351号公報の
方法には、非画像部のかぶりは発生しにくいが、画像露
光が支持体を通して行われるため、解像度が悪く、また
画像転写時に現像が行われるため、転写時に圧力、温度
等の精密なコントロールを必要とするという問題があっ
た。

【０００５】本発明の目的は、乾式処理により、地汚れ
がなく高品質な印刷版を製造する方法を提供することで
ある。また、本発明の他の目的は、安価な乾式処理によ
る印刷版の製造方法を提供することである。本発明のさ
らに他の目的は、簡易な乾式処理で製版可能な印刷版の
製造方法を提供することである。本発明のさらに他の目
的は、上記印刷版の製造方法に用いられる印刷用原版を
提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の構成は下記〜である。

【０００７】厚さ50μm以下の透明フィルム上に光硬
化性の感光性樹脂層を有する積層物の該感光性樹脂層側
を、表面粗さRa＝0.1〜0.5μmに粗面化されたアルミ支
持体に45℃以上に加熱することなく重ねた後、画像露光
を行い、80℃以上に熱せられた状態で１kg／m²以上の圧
力を該積層物と該アルミ支持体の間に与えた後又は同時
に該積層物を、未露光部の感光性樹脂層を該アルミ支持
体上に残して該アルミ支持体から剥離し、該アルミ支持
体に残された未露光部の感光性樹脂層を後露光し、硬化
させることを特徴とする印刷版の製版方法。

【０００８】厚さ50μm以下の透明フィルム上に光硬
化性の感光性樹脂層及び最低造膜温度が60℃以上のラテ
ックス樹脂層をこの順に有する積層物の該ラテックス樹
脂層側を、粗面化されたアルミ支持体に60℃以上に加熱
することなく重ねて形成したことを特徴とする印刷用原
版。

【０００９】厚さ50μm以下の透明フィルム上に光硬
化性の感光性樹脂層及び最低造膜温度が60℃以上のラテ
ックス樹脂層をこの順に有する積層物の該ラテックス樹
脂層側を、粗面化されたアルミ支持体に60℃以上に加熱
することなく重ねた後、画像露光を行い80℃以上に熱し
た後又は同時に該積層物を、未露光部の感光性樹脂層及
びラテックス層を該アルミ支持体上に残して該アルミ支
持体から剥離し、該アルミ支持体に残された未露光部の
感光性樹脂層を後露光し硬化させることを特徴とする印
刷版の製版方法。

【００１０】本発明は、感光層は砂目上に常温のラミネ
ートで設けられるため、剥離現像時に砂目中に感光層が
残存することなく、画像のゆがみもない。また、フィル
ム支持体として薄膜フィルムを使用することが可能なた
め、コスト負荷も小さい。また、非加熱ラミネートの場
合、被転写媒体である砂目アルミ板の表面が非常に重要
であることを本発明者は見いだし本発明をなし得たもの
である。

【００１１】以下、本発明について詳述する。

【００１２】本発明に用いられる透明フィルムとして
は、それが写真的性質に影響を与えず、寸度的に安定
で、記録に用いる光に対し透過性であれば任意の材料を
用いることができる。代表的な支持体としてはニトロセ
ルロースフィルム，トリアセチルセルロースフィルム，
ポリビニルアセタールフィルム，ポリスチレンフィル
ム，ポリエチレンテレフタレートフィルム，ポリカーボ
ネートフィルム，ポリα-オレフィン、例えばポリエチ
レン，ポリプロピレンフィルム及びその他の樹脂フィル
ムが挙げられる。これらの支持体の表面には感光層の塗
布性向上や感光層の接着性向上のため適当な下びき処理
を施すことが好ましい。さらにこれらの支持体の表面ま
たは裏面にはハレーション防止等の目的で染料や顔料を
含むハレーション防止層を設けてもよい。

【００１３】またこの透明フィルムの感光性樹脂層を設
ける側と反対側の面は記録材料のすべり性向上や露光時
の原稿との密着性向上等の目的により表面がマット化し
ていることが好ましい。

【００１４】透明フィルムの厚さは50μm以下である必
要がある。好ましくは４〜20μmである。４μmより薄い
フィルムを用いた場合は支持体の寸度が不安定となる。
20μmより厚い場合は画像露光時のフィルム中の拡散に
より画質が劣化する。

【００１５】本発明に用いられる光硬化性の感光性樹脂
層を形成する組成物としては光重合性組成物，光架橋性
組成物，ジアゾ化合物等が挙げられる。このうち光重合
性組成物及び光架橋性組成物が好ましく用いられる。

【００１６】好ましく用いられる光重合性組成物として
は以下のようなものが挙げられる。バインダー成分とし
ては熱可塑性で光重合成分との相溶性に優れたポリマー
が用いられる。例えばポリ塩化ビニル，塩素化ポリオレ
フィン，ポリ(メタ)アクリル酸エステル，エポキシ樹
脂，ポリウレタン樹脂，セルロース誘導体，ポリアミド
樹脂，ポリビニル-ブチラール樹脂，ポリビニルアセタ
ール樹脂，ポリビニルピロリドン，ゼラチン，ジアリル
フタレート樹脂，ブタジエン-アクリロニトリル共重合
体，ポリ酢酸ビニル，バーサチック酸ビニル等が挙げら
れる。

【００１７】光重合性成分としては以下のようなエチレ
ン性不飽和化合物が用いられる。代表的な化合物として
は、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート，エチレン
グリコールジアクリレート，ジエチレングリコーロジア
クリレート，1,6-ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレー
ト，トリメチロールプロパントリクリレート，ペンタエ
リスリトールトリアクリレート，ジペンタエリスリトー
ルトリアクリレート，ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート等であり、これらのエチレン性不飽和化合物
を一種または二種以上用いることができる。

【００１８】このような光重合成分はバインダー成分10
0重量部に対し、10〜500重量部、好ましくは30〜200重
量部の範囲で用いられる。

【００１９】また光重合開始剤としては従来公知のもの
を好適に用いることができる。

【００２０】具体例としてはベンゾフェノン，4,4-ビス
(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン，4-メトキシ-4-ジメ
チルアミノベンゾフェノン，2-エチルアントラキノン，
フェナントラキノン，ベンゾイン，ベンゾインメチルエ
ーテル等が挙げられる。また、好ましい熱重合禁止剤と
しては、p-メトキシフェノール，ハイドロキノン，t-ブ
チルカテコール，ピロガロール，ピリジン，アリールホ
スファイト等を適宜へ使用できる。

【００２１】光重合性組成物には必要に応じて感度を高
めるために増感助剤として例えば、ミヒラ-ズケトン，
4,4′-ビスジエチルアミノベンゾフェノンのようなアミ
ン化合物が使用できる。

【００２２】感光層の膜厚は特に限定はなく、例えば0.
5μm程度あればよい。適正な塗布量は含有される色剤
（染料や顔料）によって異なるが、例えば0.5ｇ／m²〜3
0ｇ／m²が適当である。塗布に際しては、バーコーター
等を用いることができ、その他例えばスピンコーターや
これに類似のコーターでもよく、任意である。

【００２３】光架橋性組成物に用いられる好ましい光架
橋性化合物として下記一般式〔Ｉ〕で表されるジカルボ
ン酸単位と下記一般式〔II〕で表されるグリコール単位
及び下記一般式〔III〕で表されるグリコール単位とか
らなるポリエステルが挙げられる。

【００２４】

【化１】

【００２５】一般式〔Ｉ〕において、ｍは０又は１を表
し、ｍが０のときｌ及びｎは各々０又は１で、ｌとｎの
少なくとも一方は１であり、ｍが１のときｌ及びｎは各
々０であり、ｐは２又は３を表す。

【００２６】

【化２】

【００２７】一般式〔II〕において、Ｒは炭素数２〜４
のアルキレン基を表し、ｒは２、３又は４を表す。

【００２８】

【化３】

【００２９】一般式〔III〕において、Ｒ¹及びＲ²は各
々水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ³
は水素添加されたベンゼン環を表す。

【００３０】前記一般式〔Ｉ〕で示されるジカルボン酸
単位としては、フェニレンジアクリル酸，p-カルボキシ
桂皮酸，ビス(p-カルボキシベンザル)シクロヘキサノ
ン，ビス(p-カルボキシベンザル)シクロペンタノン等よ
り誘導されるものが挙げられる。これらの中ではフェニ
レンジアクリル酸より誘導される単位がとくに好まし
い。

【００３１】また、一般式〔II〕で示されるグリコール
単位としてはジエチレングリコール，トリエチレングリ
コール，テトラエチレングリコール，ジプロピレングリ
コール，トリプロピレングリコール等から誘導されるも
のが挙げられる。

【００３２】一般式〔III〕で示されるグリコール単位
としては水素添加されたビスフェノールＦ、水素添加さ
れたビスフェノールＡ等から誘導されるものが挙げられ
る。水素添加の程度は高い方が好ましく、前記一般式
〔III〕においてＲ³がシクロヘキサン環であるものがと
くに好ましい。

【００３３】グリコール単位中に占める一般式〔II〕で
示されるグリコール単位の割合は好ましくは10〜90モル
％、より好ましくは30〜70モル％である。前記範囲より
多くなると耐薬品性が低下するし、逆に少なくなると感
度が低下する。

【００３４】感光性ポリエステルの平均分子量はとくに
制限されないが、5,000〜50,000が好ましく、とくに9,0
00〜20,000のものが好ましい。本発明でいう「平均分子
量」とは「重量平均分子量」を意味する。

【００３５】このような感光性ポリエステルは周知の方
法、例えば米国特許第3,622,320号に記載される方法に
従って容易に製造できる。すなわち、前記一般式〔Ｉ〕
で示されるジカルボン酸単位を形成させるジカルボン酸
のエステルと前記一般式〔II〕及び〔III〕で示される
グリコール単位を形成させるグリコール混合物とを加熱
溶解させ、チタン系，ゲルマニウム系触媒を添加してエ
ステル交換を行った後、徐々に減圧、昇温を行い過剰の
グリコールを留出させることにより製造する。反応時間
は一般に４時間程度であり、重合末期の温度は230〜240
℃、減圧は３mmHg程度になる。

【００３６】光架橋性組成物は、一般に前記感光性ポリ
マーを溶媒に溶解することによって製造される。好適な
溶媒はポリマーの分子量及び組成により異なるが、普
通、塩化メチレン，クロロホルム，トリクロロエタン，
トリクロロエチレン，クロルベンゼン，ジクロルベンゼ
ン，四塩化炭素等の塩素系溶剤；フルフリルアルコー
ル，テトラヒドロフルフリルアルコール，ベンジルアル
コール等のアルコール系溶剤；ジオキサン，テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノ
メチルエーテル，エチレングリコールモノエチルエーテ
ル，エチレングリコールモノプロピルエーテル，エチレ
ングリコールモノブチルエーテル，ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル，ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル，ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル，ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエチ
レングリコールモノアルキルエーテル，ジエチレングリ
コールモノアルキルエーテル系溶剤；エチレングリコー
ルエチルエーテルアセテート，ジエチレングリコールエ
チルエーテルアセテート，酢酸エチル等のエステル系溶
剤；ジメチルフォルムアミド，メチルピロリドン，ニト
ロエタン，ニトロベンゼン等の含窒素化合物；メチルエ
チルケトン，メチルイソブチルケトン，シクロヘキサン
ノン，メチルシクロヘキサノン，4-メチル-4-メトキシ-
2-ペンタノン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホキシド
等のうちから適宜選択され使用される。

【００３７】光架橋性組成物は必要に応じ前記成分以外
に種々の成分を含んでいてもよく、例えば増感剤あるい
はフタロシアニン、酸化亜鉛等の顔料、ビクトリア・ピ
ュア・ブルーBOH，エチルバイオレット等の染料を含有
する。

【００３８】増感剤としてはこの分野で使用されている
ものがいずれも使用でき、例えばベンゾフェノン誘導
体，ベンズアンスロン誘導体，ナフトチアゾリン誘導
体，キノン類等の芳香族カルボニル化合物あるいは芳香
族ニトロ化合物等が使用される。

【００３９】ベンゾフェノン誘導体としてはミヒラーケ
トン，ジエチルアミノエチルベンゾフェノン等；ベンズ
アンスロン誘導体としてはベンズアンスロン，6,11-ジ
クロロベンズアンスロン，11-クロロ-6-ヒドロキシベン
ズアンスロン，1-カルボエトキシ-2-ケト-3-メチル-3-
アザ-1,9-ベンズアンスロン等；キノン類としては1,8-
ジメトキシアントラキノン，1,8-ジクロロアントラキノ
ン，1,2-ベンズアントラキノン等；芳香族ニトロ化合物
としては、5-ニトロアセナフテン，2-ニトロフルオレ
ン，2,7-ジニトロフルオレン，1-ニトロナフタレン，1,
5-ジニトロナフタレン等のモノあるいはポリニトロ化合
物等；ナフトチアゾリン誘導体としては2-ジベンゾイル
メチレン-3-メチルナフトチアゾリン，2-ベンゾイルメ
チレン-3-メチルナフトチアゾリン等が挙げられる。

【００４０】光架橋性組成物を常法に従って透明フィル
ム上に、ディップコート，コーティングロッド，スピナ
ーコート，スプレーコート等の周知の塗布方法で塗布す
れば積層物を製造することができる。

【００４１】本発明の感光性樹脂層には上記の他に特開
平4-172351号公報に記載の着色剤を含有させることがで
きる。

【００４２】請求項２又は３に係る発明の最低造膜温度
（ＭＦＴ）が60℃以上のラテックスとしては、アイオノ
マー樹脂，変性アイオノマー樹脂，低分子量ポリオレフ
ィン樹脂，ポリオレフィン酢酸ビニル共重合樹脂，熱可
塑性エラストマー等の水分散物が挙げられる。

【００４３】具体的な化合物としてはコーポレン2000
（アイオノマー樹脂ラテックス、旭ダウ製：ＭＦＴ65
℃）、ケミパールW-100（低分子量ポリオレフィンラテ
ックス、住友化学製：ＭＦＴ115℃）、ケミパールV-200
（ポリオレフィン酢酸ビニル共重合樹脂ラテックス、住
友化学製：ＭＦＴ90℃）ケミパールA-100（熱可塑性エ
ラストマーラテックス、住友化学製：ＭＦＴ85℃）等が
挙げられる。

【００４４】ＭＦＴが60℃以下のラテックスを用いると
感光層の転写の再に、一部造膜することにより剥離現像
の際に非画像部が完全に除去されず、解像力が低下す
る。

【００４５】請求項１〜３に係る発明において、積層物
を構成する透明フィルムと感光性樹脂層との間にはアル
ミ支持体への転写性向上等の目的で必要に応じ、熱軟化
層を設けることができる、この熱軟化層は熱可塑性樹脂
からなり、加熱時に軟化する性質を有するものである。
該熱軟化層として、特開平4-172351号公報に記載の熱軟
化層を適用することができる。熱軟化層は、ポリオレフ
ィン化合物からなる層であることが好ましく、軟化点が
−30℃〜150℃である樹脂からなることが好ましい。

【００４６】本発明に用いられるアルミ支持体について
説明する。本発明に用いられるアルミ支持体の基板とし
ては純アルミニウム板，アルミニウム合金あるいは表面
がアルミニウムまたはアルミニウム合金で被覆された他
の金属板，フィルム，紙等も用いることができる。

【００４７】これらの中でアルミニウム板あるいは樹脂
層をアルミニウムあるいはアルミニウム合金で挟んだ三
層板等の基板が好適である。

【００４８】本発明において、上記アルミニウム支持体
の表面はブラシ研磨法やボール研磨法のような機械的方
法や電解研磨のような電気化学的方法あるいは両者を組
み合わせ方法により砂目立てされる。

【００４９】電解研磨の場合は電解液として硝酸，塩
酸，硫酸あるいはこれらの混酸を用い、電解粗面化条件
としては0.1〜0.5mol／ｌ、好ましくは0.2〜0.4mol／ｌ
の硝酸を含有する浴中にアルミ支持体を浸漬し、20〜50
℃、好ましくは25〜45℃の温度、電流密度20〜200Ａ／d
m²で10秒〜３分程度であることが好ましい。

【００５０】この電解エッチングに先立ってボール研
磨，ブラシ研磨，液体ホーニング，バフ研磨ような機械
的な研磨を行うことも好ましい。

【００５１】電解研磨されたアルミ支持体は化学的に洗
浄化処理することが望ましい。これは表面残存物である
いわゆるスマットを表面から除去する作用を有するから
である。このような処理としては例えば特公昭48-28123
号公報に記載されているアルカリエッチング法や特開昭
53-12739号公報記載の硫酸デスマット法等の処理方法が
挙げられる。

【００５２】この電解研磨後、さらに陽極酸化処理を行
いアルミ支持体上に陽極酸化皮膜を形成することが好ま
しい。

【００５３】陽極酸化処理は、電解液として硫酸，クロ
ム酸，シュウ酸，リン酸，マロン酸等の一種または２種
以上を合計濃度10〜50％で含む水溶液を用い、これを電
解液としてアルミ支持体を陽極にして電解密度１〜10Ａ
／dm²で10秒〜２分電解することにより行うことができ
る。また他の米国特許1,412,768号明細書に記載されて
いる硫酸中で高電流密度で電解する方法もある。形成さ
れた陽極酸化量は１〜50mg／dm²が適当であり、好まし
くは５〜30mg／dm²である。

【００５４】この中で電解浴として燐酸を用いることが
転写画像との接着性が良好で、好ましい。

【００５５】陽極酸化されたアルミ支持体は、更に米国
特許2,714,066号及び米国特許3,181,461号公報に記載さ
れているようなアルカリ金属シリケート、例えば珪酸ナ
トリウムの水溶液に浸漬することにより処理したり、米
国特許3,860,426号公報記載のように水溶性金属塩（例
えば酢酸亜鉛等）を含む親水性セルロース（例えばカル
ボキシメチルセルロース等）の下塗層を設けたり、米国
特許4,153,461号公報に記載されているようにポリビニ
ルホスホン酸で処理してもよい。

【００５６】請求項１に関わる発明では、用いられるア
ルミ支持体の表面粗さはRaで0.1〜0.5μmである。

【００５７】請求項１の発明の場合、従来のＰＳ版で施
されている現像液に含まれる珪酸塩による親水化処理が
ないため、Raが0.1μm未満の場合は印刷時の親水性が不
充分である。

【００５８】Raが0.5μmを越える場合は転写された感光
性樹脂層の接着性が部分的に十分でなく、画像露光後、
薄膜シートをアルミ支持体から除去する際に非露光部の
一部も同時に除去される場合があった。

【００５９】請求項２、請求項３に関わる発明における
好ましい実施態様によれば、用いられるアルミ支持体の
表面粗さはRaで0.1〜0.5μmである。

【００６０】さらにこれらの請求項１、請求項２、請求
項３の発明の好ましい実施態様によれば、得られたアル
ミ支持体の表面粗さはRmaxで１〜５μm、中心線から上
方３μmのところに中心線に平行に設けた切断線を越え
るピークカウントが実質的に０である。

【００６１】表面粗さRmax、Raとは表面粗さを例えば触
針式表面粗さ測定機で測定した際のドイツ規格DIN3768
に示される値である。

【００６２】又ピークカウントとは上記ドイツ規格で規
定されるものであって、表面粗さプロファイルＲにおい
て中心線から上方に平行に設定された切断線を越えたピ
ークの数である。

【００６３】本発明において上記ピークカウントが実質
的に０とは、支持体表面の無作為に選んだ10点以上にお
ける前記測定方法で測定されたピークカントの平均値が
0.49／mm以下であることをいう。

【００６４】このような砂目形状を採用することによ
り、特に転写性が向上し、解像性の向上も見られた。

【００６５】粗面化処理は、支持体の表面を親水性とす
るために施される以外に、その上に転写されて設けられ
る記録層との有害な反応を防ぐためや、記録層との接着
性の向上のために施されるものである。

【００６６】また本発明において、粗面化された支持体
の上に必要によりカゼイン，ポリビニルアルコール，カ
ルボキシメチルセルロース，エチルセルロース，フェノ
ール樹脂，スエチレン-無水マレイン酸共重合体，ポリ
アクリル酸，ポリアミノ酸等から成る水溶性あるいはア
ルカリ可溶性の中間層を前記支持体との接着性向上やま
たは記録層の除去性向上あるいは印刷適性向上等の目的
で設けることができる。

【００６７】このようなアルミ支持体の板厚としては0.
2mm〜0.5mmが好ましい。さらに好ましい板厚としては0.
24mm〜0.3mmの範囲が挙げられる。0.24mmより薄い場合
は大量枚数印刷時に版切れをおこし易い。また0.3mmを
越えると、印刷用原版の重量が重くなり取扱い上問題と
なる。

【００６８】本発明における粗面化されたアルミ支持体
は、粗面化された面の陽極酸化皮膜量が５〜30mg／dm²
であること、該面のRaの最大値が５μm以下であるこ
と、砂目立てが電解研磨で行われていること、電解研磨
が硝酸浴中で行われていること、砂目上に親水性高分子
層が設けられていることが好ましい。

【００６９】次に本発明の製版方法について説明する。

【００７０】まず、光硬化性の感光性樹脂層が設けられ
た透明フィルムの感光性樹脂層側とアルミ支持体の粗面
化された側を重ねて密着させる。この密着の際には実質
的に加熱を行わないことが本発明の特徴である。45℃以
下の温度で光硬化性樹脂層や熱軟化層に物性変化を与え
ない範囲の温度であれば加熱を加えても本発明の主旨に
は反しない。またこの際に必要に応じ加圧処理を行って
もよい。

【００７１】次に画像露光を行う。用いる光は光硬化性
樹脂層が感光性を有し、硬化反応を生じる光であれば特
に制限はない。透過原稿を介して密着露光を行ってもよ
いし、レーザー光のような変調可能な光源により線順次
あるいは点順次走査露光を行ってもよい。

【００７２】次に加熱，加圧処理を行う。この加熱処理
は80℃以上の温度を付与し、請求項１に係る発明では１
kg／cm²以上の圧力のもので行うことが必要である。80
℃未満の温度あるいは１kg／cm²未満の圧力では感光性
樹脂フィルムからアルミ支持体への転写が不十分であ
る。加熱処理の温度は好ましくは100〜160℃、加圧処理
の圧力は好ましくは２〜10kg／cm²である。

【００７３】この加熱加圧処理と同時あるいは後に透明
フィルムを剥離する。好ましくは加熱，加圧と平行で剥
離処理を行う。具体的には加熱加圧されたローラー間に
記録材料を通過させながら、透明フィルムを出口側で剥
離する。

【００７４】この剥離処理の際に光硬化性樹脂層の露光
部部分は透明フィルムとともに除去されるが、光硬化性
樹脂の未露光部分はアルミ支持体側に転写、残存する。
さらにアルミ支持体側に転写された未硬化の光硬化性樹
脂を硬化し、アルミ支持体との接着性を向上させるため
に全面露光を行う。

【００７５】

【実施例】次に本発明を実施例によりさらに具体的に説
明する。以下の実施例において「部」は「重量部」を意
味する。

【００７６】実施例１ 厚さ10μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性樹脂組成物を乾燥後の膜厚
が２μmとなるよう塗設した。

【００７７】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 これを中心線平均粗さ0.3μmになるよう電解研磨砂目立
てされたアルミ板に１kg／cm²の圧力をかけながら30℃
でラミネートした。次にこのアルミ板のポリエチレンテ
レフタレートフィルム側にポジの透過原稿を密着させ、
紫外光で原稿側より露光した。次にこのアルミ板を120
℃に加熱され、５kg／cm²に加圧されたローラー間を通
過させた。このアルミ板からポリエチレンテレフタレー
トフィルムを剥離したところ、露光された部分がフィル
ムと同時に剥離され、未露光部分がアルミ板上に残っ
た。アルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残った未
露光部を硬化させた。

【００７８】こうして得られた印刷版をハイデルベルグ
ＧＴＯ印刷機に掛け印刷したところ良好な印刷物が10万
枚以上得られた。

【００７９】実施例２ 厚さ10μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルムに下記組成の感光性組成物を乾燥後の膜厚が２
μmとなるよう塗設した。

【００８０】 スーパークロンCPE907LTA(塩素化ポリオレフィン、山陽国策パルプ製) 50部 TMPTA(トリメチロールプロパントリアクリート、新中村化学製) 100部 エチル-p-アミノベンゾエート 3部 DETX(ジエチルチオキサントン、チバガイギー製) 3部 カルナバワックス 33部 メチルエチルケトン 1000部 さらにこの上にコーポレンラテックスL-2000（40％水分
散液旭ダウ製、最低造膜温度65℃）を膜厚0.5μmになる
よう塗布した。

【００８１】これを中心線平均粗さRaが0.3μmになるよ
う電解研磨砂目立てされたアルミ板に１kg／m²の圧力を
かけながらラミネートした。次にこのアルミ板のポリエ
チレンテレフタレートフィルム側にポジの透過原稿を密
着させ、紫外光で原稿側より露光した。次にこのアルミ
板を80℃に加熱され、３kg／m²に加圧されたローラー間
を通過させた。このアルミ板からポリエチレンテレフタ
レートフィルムを剥離したところ、露光された部分がフ
ィルムと同時に剥離され、未露光部分がアルミ板上に残
った。アルミ板に対し紫外光で全面露光を行い、残った
未露光部を硬化させた。

【００８２】こうして得られた印刷版をハイデルベルグ
ＧＴＯ印刷機に掛け印刷したところ良好な印刷物が10万
枚以上得られた。

【００８３】実施例３ 厚さ15μmの下塗りされたポリエチレンテレフタレート
フィルム上に下記組成の熱軟化層を乾燥後の厚さが10μ
mとなるように押し出しラミネート法により形成した。

【００８４】熱軟化層組成 ＥＶＡＦＬＥＸ P-1405（エチレン・酢酸ビニル共重合
樹脂，酢酸ビニル含有率14重量％、三井デュポンポリケ
ミカル社製） この上に下記組成の感光性樹脂組成物を乾燥後の厚さが
1.5μmになるように塗設した。

【００８５】 感光層組成 酢酸ビニル・バーサチック酸ビニル（80：20）共重合樹脂 50部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 100部 ジイソプロピルチオキサントン 12部 エチル-p-アミノベンゾエート 12部 シアニンブルー4920（シアン顔料：大日精化製） 5部 乳酸メチル 500部 こうして得られた積層物の感光性樹脂側を、ブラシ研磨
された後に硝酸浴中で電解研磨され、砂目粗さRa＝0.4
μm、Rmax＝４μmに砂目立てされた厚さ0.24mmのアルミ
板上の砂目立てされた側に密着させ、１kg／cm²に加圧
されたローラ間を通り圧着した。

【００８６】次にこのアルミ板のポリエチレンテレフタ
レートフィルム側のポジの透過原稿を密着させ、紫外光
で原稿側より露光した。

【００８７】次にこのアルミ板を100℃に加熱され、３k
g／cm²に加圧されたローラ間を通過させ、ローラの出口
側でポリエチレンテレフタレートフィルムを剥離したと
ころ、露光された部分がフィルムと同時に剥離され、未
露光部がアルミ板上に残った。このアルミ板に対し、紫
外光で全面露光を行い、残った未露光部を効果させた。

【００８８】こうして得られた印刷版をハイデルベルグ
ＧＴＯ印刷機に掛け印刷したところ、良好な印刷物が10
万枚以上得られた。

【００８９】

【発明の効果】請求項１〜３に係る発明によれは、下記
〜の効果が得られる乾式処理による印刷版の製版方
法及び印刷用原版が提供される。また、請求項２及び３
に係る発明によれば、さらに下記の効果が付加され
る。

【００９０】地汚れがなく高品質な印刷版が得られ
る。

【００９１】感光性樹脂層の支持体として従来より厚
さの薄いフィルムを使用できることによってコストを低
減し得る。

【００９２】画像転写時の条件を精密にコントロール
する必要性が低減し、簡易な処理が可能である。

【００９３】改良された耐刷力を有する印刷版が得ら
れる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 厚さ50μm以下の透明フィルム上に光硬
   化性の感光性樹脂層を有する積層物の該感光性樹脂層側
   を、表面粗さRa＝0.1〜0.5μmに粗面化されたアルミ支
   持体に45℃以上に加熱することなく重ねた後、画像露光
   を行い、80℃以上に熱せられた状態で１kg／cm²以上の
   圧力を該積層物と該アルミ支持体の間に与えた後又は同
   時に該積層物を、未露光部の感光性樹脂層を該アルミ支
   持体上に残して該アルミ支持体から剥離し、該アルミ支
   持体に残された未露光部の感光性樹脂層を後露光し、硬
   化させることを特徴とする印刷版の製版方法。
2. 【請求項２】 厚さ50μm以下の透明フィルム上に光硬
   化性の感光性樹脂層及び最低造膜温度が60℃以上のラテ
   ックス樹脂層をこの順に有する積層物の該ラテックス樹
   脂層側を、粗面化されたアルミ支持体に60℃以上に加熱
   することなく重ねて形成したことを特徴とする印刷用原
   版。
3. 【請求項３】 厚さ50μm以下の透明フィルム上に光硬
   化性の感光性樹脂層及び最低造膜温度が60℃以上のラテ
   ックス樹脂層をこの順に有する積層物の該ラテックス樹
   脂層側を、粗面化されたアルミ支持体に60℃以上に加熱
   することなく重ねた後、画像露光を行い80℃以上に熱し
   た後又は同時に該積層物を、未露光部の感光性樹脂層及
   びラテックス層を該アルミ支持体上に残して該アルミ支
   持体から剥離し、該アルミ支持体に残された未露光部の
   感光性樹脂層を後露光し硬化させることを特徴とする印
   刷版の製版方法。