JPH10153855A

JPH10153855A - 感光性転写材料及び製造方法

Info

Publication number: JPH10153855A
Application number: JP31360596A
Authority: JP
Inventors: Nobumasa Sasa; 信正左々; Takeo Akiyama; 健夫秋山; Tetsuya Taniguchi; 哲哉谷口
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1996-11-25
Filing date: 1996-11-25
Publication date: 1998-06-09

Abstract

(57)【要約】【課題】再現性（網点再現性、解像力）が向上し、地
汚れが防止されさらに擦り傷耐性に優れるカラープルー
フ及び耐刷力に優れる印刷版等の感光性転写材料及びそ
れらの製造方法の提供。【解決手段】感光性転写材料において、表面に光反
応性基を有した顔料を含有する感光性組成物を有するこ
と顔料及び顔料に対する脱着熱量と吸着熱量の比が
０．５以下である光反応性基を有する化合物を含有する
感光性組成物を有すること支持体上に光照射によって
粘着性が変化する感光層を設けた感光性転写材料におい
て、感光層が高分子の光トリガー剤を含有すること支
持体上に離型層及び光照射によって粘着性が変化する感
光層を設けた感光性転写材料において、離型層が高分子
の光トリガー剤を含有することを特徴とする感光性転写
材料及び感光性転写材料において、顔料及び顔料に対
する脱着熱量と吸着熱量の比が０．５以下である光反応
性基を有する化合物をあらかじめ接触処理した後、感光
性組成物に仕上げる感光性組成物を有することを特徴と
する感光性転写材料の製造方法により達成。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は感光性転写材料及び
製造方法に関し、詳しくは再現性が向上し、地汚れが防
止され、擦り傷耐性に優れるカラープルーフ及び耐刷力
に優れる印刷版及びそれらの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】特開平７−２５７００９号には支持体上
に下引層及び光照射によって粘着性が変化する感光層を
設けた感光性転写材料において、感光層及び下引層に光
重合層開始剤を含有する技術が開示され、また特開平３
−１８４０４９号には支持体上に光照射によって粘着性
が変化する感光層を設けた感光性転写材料において、感
光層に光重合開始剤を含有する技術が開示されている。

【０００３】しかし、いずれも再現性が不十分で、特に
露光時間が短い場合や転写温度が高い場合は、露光部の
光重合開始剤が一部被転写媒体の白色紙やアルミニウム
板に転移して、地汚れを発生し良好なカラープルーフや
印刷版を作成することができなかった。

【０００４】また、特開平３−１７４１５９号には支持
体上に離型層及び光照射によって粘着性が変化する感光
層を設けた感光性転写材料において、感光層に光重合開
始剤を含有する技術が開示されているが、上記と同様の
問題を有している。

【０００５】特開平６−１７５３６１号には支持体上に
光照射によって粘着性が変化する感光層を設けた感光性
転写材料において、感光層中の顔料に吸着する化合物が
開示されているが、この化合物は光反応性基は有してい
ない。また、この系では再現性は不十分であった。

【０００６】上記の技術はいずれも転写画像の物理強度
が不十分で、カラープルーフの場合は取り扱いによって
は引っ掻き傷が発生し、良好なカラープルーフが得られ
なかったり、印刷版の場合は耐刷力が不十分であり、こ
れらの問題の解決が望まれていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】上記のような問題に対
して、本発明の課題は、再現性（網点再現性、解像力）
が向上し、地汚れが防止され、さらに擦り傷耐性に優れ
るカラープルーフ及び耐刷力に優れる印刷版等の感光性
転写材料及びそれらの製造方法を提供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は下記
手段により達成される。

【０００９】表面に光反応性基を有した顔料を含有
する感光性組成物を有することを特徴とする感光性転写
材料。

【００１０】光反応性基を有する化合物の顔料に対
する脱着熱量と吸着熱量の比、脱着熱量／吸着熱量が
０．５〜０であることを特徴とする記載の感光性転写
材料。

【００１１】支持体上に光照射によって粘着性が変
化する感光層を設けた感光性転写材料において、感光層
が高分子の光トリガー剤を含有することを特徴とする感
光性転写材料。

【００１２】支持体上に離型層及び光照射によって
粘着性が変化する感光層を設けた感光性転写材料におい
て、離型層が高分子の光トリガー剤を含有することを特
徴とする感光性転写材料。

【００１３】顔料及び顔料に対する脱着熱量と吸着
熱量の比、脱着熱量／吸着熱量が０．５〜０である光反
応性基を有する化合物をあらかじめ接触処理した後、感
光性組成物に仕上げる感光性組成物を有することを特徴
とする感光性転写材料の製造方法。

【００１４】以下、本発明について具体的に説明する。

【００１５】本発明においては、上記、、の手段
により露光部に重合架橋反応が起こって、３次元化す
る。その際、系に分散している顔料表面の反応基が連続
層と強固な結合を生じ、未露光部との熱軟化物性差が大
きくなり再現性が向上する。

【００１６】また、露光部の光重合開始剤、顔料が熱転
写により、被転写媒体へ転写することもなくなり、地汚
れが防止される。

【００１７】さらに、転写画像（未露光部）は、転写
後、画像補強のため後露光されるが、上記と同様の理由
により、転写画像の物理的強度が強まり、擦り傷耐性、
耐刷力が向上するのである。

【００１８】また、上記の手段により光トリガー剤を
高分子にすることで、光トリガー剤が熱転写によって感
光層中から被転写媒体に移行しにくくなり、地汚れが防
止される。

【００１９】上記の手段により、光トリガー剤を高分
子にすることで光トリガー剤が離型層中でアンカー効果
を発揮し、露光部の感光層との強固な接着を生じ、再現
性が向上するのである。

【００２０】本発明に用いられる光照射によって粘着性
が変化する感光層を形成する組成物としては光重合性組
成物、光架橋性組成物、ジアゾ化合物等が挙げられる。
このうち光重合性組成物及び光架橋性組成物が好ましく
用いられる。

【００２１】好ましく用いられる光重合性組成物として
は以下のようなものが挙げられる。バインダー成分とし
ては熱可塑性で光重合成分との相溶性に優れたポリマー
が用いられる。例えばポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレ
フィン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル、エポキシ樹
脂、ポリウレタン樹脂、セルロース誘導体、ポリアミド
樹脂、ポリビニル−ブチラール樹脂、ポリビニルアセタ
ール樹脂、ポリビニルピロリドン、ゼラチン、ジアリル
フタレート樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル共重合
体、ポリ酢酸ビニル、バーサチック酸ビニル等が挙げら
れる。

【００２２】光重合性成分としては以下のようなエチレ
ン性不飽和化合物が用いられる。代表的な化合物として
は、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、エチ
レングリコールジアクリレート、ジエチレングリコール
ジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート等であり、これらのエチレン性
不飽和化合物を一種または二種以上用いることができ
る。

【００２３】このような光重合成分は、バインダー成分
１００重量部に対し、１０〜５００重量部、好ましくは
３０〜２００重量部の範囲で用いられる。

【００２４】また光重合開始剤としては従来公知のもの
を好適に用いることができる。

【００２５】具体例としてはベンゾフェノン，４，４−
ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン，４−メトキシ
−４−ジメチルアミノベンゾフェノン，２−エチルアン
トラキノン，フェナントラキノン，ベンゾイン，ベンゾ
インメチルエーテル等が挙げられる。また、好ましい熱
重合禁止剤としては、ｐ−メトキシフェノール，ハイド
ロキノン，ｔ−ブチルカテコール，ピロガロール，ピリ
ジン，アリールホスファイト等を適宜使用できる。

【００２６】光重合性組成物には必要に応じて感度を高
めるために増感助剤として例えば、ミヒラーズケトン，
４，４′−ビスジエチルアミノベンゾフェノンのような
アミン化合物が使用できる。

【００２７】感光層の膜厚は特に限定はなく、例えば
０．５μｍ程度あればよい。適正な塗布量は含有される
色剤（染料や顔料）によって異なるが、例えば０．５ｇ
／ｍ²〜３０ｇ／ｍ²が適当である。塗布に際しては、バ
ーコーター等を用いることができ、その他例えばスピン
コーターやこれに類似のコーターでもよく、任意であ
る。

【００２８】光架橋性組成物に用いられる好ましい光架
橋性化合物として下記一般式〔Ｉ〕で表されるジカルボ
ン酸単位と下記一般式〔II〕で表されるグリコール単位
及び下記一般式〔III〕で表されるグリコール単位とか
らなるポリエステルが挙げられる。

【００２９】

【化１】

【００３０】一般式〔Ｉ〕において、ｍは０又は１を表
し、ｍが０のときｌ及びｎは各々０又は１で、ｌとｎの
少なくとも一方は１であり、ｍが１のときｌ及びｎは各
々０であり、ｐは２又は３を表す。

【００３１】

【化２】

【００３２】一般式〔II〕において、Ｒは炭素数２〜４
のアルキレン基を表し、ｒは２、３又は４を表す。

【００３３】

【化３】

【００３４】一般式〔III〕において、Ｒ¹及びＲ²は各
々水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｒ³
は水素添加されたベンゼン環を表す。

【００３５】前記一般式〔Ｉ〕で示されるジカルボン酸
単位としては、フェニレンジアクリル酸、ｐ−カルボキ
シ桂皮酸、ビス（ｐ−カルボキシベンザル）シクロヘキ
サノン、ビス（ｐ−カルボキシベンザル）シクロペンタ
ノン等より誘導されるものが挙げられる。これらの中で
はフェニレンジアクリル酸より誘導される単位がとくに
好ましい。

【００３６】また、一般式〔II〕で示されるグリコール
単位としてはジエチレングリコール、トリエチレングリ
コール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリ
コール、トリプロピレングリコール等から誘導されるも
のが挙げられる。

【００３７】一般式〔III〕で示されるグリコール単位
としては水素添加されたビスフェノールＦ、水素添加さ
れたビスフェノールＡ等から誘導されるものが挙げられ
る。水素添加の程度は高い方が好ましく、前記一般式
〔III〕においてＲ³がシクロヘキサン環であるものがと
くに好ましい。

【００３８】グリコール単位中に占める一般式〔II〕で
示されるグリコール単位の割合は好ましくは１０〜９０
モル％、より好ましくは３０〜７０モル％である。前記
範囲より多くなると耐薬品性が低下するし、逆に少なく
なると感度が低下する。

【００３９】感光性ポリエステルの平均分子量はとくに
制限されないが、５，０００〜５０，０００が好まし
く、とくに９，０００〜２０，０００のものが好まし
い。本発明でいう「平均分子量」とは「重量平均分子
量」を意味する。

【００４０】このような感光性ポリエステルは周知の方
法、例えば米国特許第３，６２２，３２０号に記載され
る方法に従って容易に製造できる。すなわち、前記一般
式〔Ｉ〕で示されるジカルボン酸単位を形成させるジカ
ルボン酸のエステルと前記一般式〔II〕及び〔III〕で
示されるグリコール単位を形成させるグリコール混合物
とを加熱溶解させ、チタン系、ゲルマニウム系触媒を添
加してエステル交換を行った後、徐々に減圧、昇温を行
い過剰のグリコールを留出させることにより製造する。
反応時間は一般に４時間程度であり、重合末期の温度は
２３０〜２４０℃、減圧は３ｍｍＨｇ程度になる。

【００４１】光架橋性組成物は、一般に前記感光性ポリ
マーを溶媒に溶解することによって製造される。好適な
溶媒はポリマーの分子量及び組成により異なるが、普
通、塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエタン、
トリクロロエチレン、クロルベンゼン、ジクロルベンゼ
ン、四塩化炭素等の塩素系溶剤；フルフリルアルコー
ル、テトラヒドロフルフリルアルコール、ベンジルアル
コール等のアルコール系溶剤；ジオキサン、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶剤；エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレ
ングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコー
ルモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエチ
レングリコールモノアルキルエーテル、ジエチレングリ
コールモノアルキルエーテル系溶剤；エチレングリコー
ルエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールエ
チルエーテルアセテート、酢酸エチル等のエステル系溶
剤；ジメチルフォルムアミド、メチルピロリドン、ニト
ロエタン、ニトロベンゼン等の含窒素化合物；メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ン、メチルシクロヘキサノン、４−メチル−４−メトキ
シ−２−ペンタノン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホ
キシド等のうちから適宜選択され使用される。

【００４２】光架橋性組成物は必要に応じ前記成分以外
に種々の成分を含んでいてもよく、例えば増感剤あるい
はフタロシアニン、酸化亜鉛等の顔料、ビクトリア・ピ
ュア・ブルーＢＯＨ、エチルバイオレット等の染料を含
有する。

【００４３】増感剤としてはこの分野で使用されている
ものがいずれも使用でき、例えばベンゾフェノン誘導
体、ベンズアンスロン誘導体、ナフトチアゾリン誘導
体、キノン類等の芳香族カルボニル化合物あるいは芳香
族ニトロ化合物等が使用される。

【００４４】ベンゾフェノン誘導体としてはミヒラーケ
トン、ジエチルアミノエチルベンゾフェノン等；ベンズ
アンスロン誘導体としてはベンズアンスロン、６，１１
−ジクロロベンズアンスロン、１１−クロロ−６−ヒド
ロキシベンズアンスロン、１−カルボエトキシ−２−ケ
ト−３−メチル−３−アザ−１，９−ベンズアンスロン
等；キノン類としては１，８−ジメトキシアントラキノ
ン、１，８−ジクロロアントラキノン、１，２−ベンズ
アントラキノン等；芳香族ニトロ化合物としては、５−
ニトロアセナフテン、２−ニトロフルオレン、２，７−
ジニトロフルオレン，１−ニトロナフタレン、１，５−
ジニトロナフタレン等のモノあるいはポリニトロ化合物
等；ナフトチアゾリン誘導体としては２−ジベンゾイル
メチレン−３−メチルナフトチアゾリン、２−ベンゾイ
ルメチレン−３−メチルナフトチアゾリン等が挙げられ
る。

【００４５】光架橋性組成物を常法に従って透明支持体
上に、ディップコート、コーティングロッド、スピナー
コート、スプレーコート等の周知の塗布方法で塗布すれ
ば感光層を形成させることができる。

【００４６】本発明の離型層として、透明支持体と感光
層との間には紙やアルミ支持体への転写性向上等の目的
で必要に応じ、中間層を設けることができる。この中間
層は熱可塑性樹脂からなり、加熱時に軟化する性質を有
するものである。中間層として、特開平４−１７２３５
１号公報に記載の熱軟化層を適用することができる。中
間層は、ポリオレフィン化合物からなる層であることが
好ましく、また、軟化点が−３０℃〜１５０℃である樹
脂からなることが好ましい。

【００４７】本発明のカラープルーフィングシートとし
てはアート紙等通常用いられるものを用いることができ
る。

【００４８】また、本発明の平版印刷版用版材として
は、アルミニウム板、あるいは樹脂層をアルミニウム等
の金属板で挟んだ三層板等の親水性表面を有する版材が
好適である。

【００４９】該版材は、砂目立て処理，珪酸ソーダ，弗
化ジルコニウム酸カリウム，燐酸塩等の水溶液への浸漬
処理、あるいは陽極酸化処理等の表面処理が施されてい
ることが好ましい。また米国特許第２７１Ｎ０６６号明
細書に記載されているように砂目立てしたのちに珪酸ナ
トリウム水溶液に浸漬処理されたアルミニウム板、特公
昭４７−５１２５号公報に記載されているようにアルミ
ニウム板を陽極酸化したのちに、アルカリ金属珪酸塩の
水溶液に浸漬処理するものも好適に使用される。

【００５０】上記アルミニウム層の表面の砂目立ては、
塩酸、硝酸、硫酸、リン酸等の電解液中における電解研
磨あるいはボール研磨、ブラシ研磨、プレス研磨、ホー
ニング研磨等の機械的研磨法により実施される。

【００５１】この中で電解研磨を用いる方法が、均一な
砂目を得ることが可能であり、好ましい。さらに、硝酸
浴中で電解研磨を行うことが緻密な砂目が得られ、後工
程での感光性樹脂層の転写性が良好となり好ましい。

【００５２】砂目の上記陽極酸化処理は、例えば、燐
酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の無機酸、もしくはシュウ
酸、スルファミン等の有機酸またはこれらの塩の水溶液
又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解溶
液中で、アルミニウム板を陽極として電流を流すことに
より実施される。陽極酸化により形成された酸化被膜の
量は５〜３０ｍｇ／ｄｍ²が好ましく、さらに熱水、珪
酸塩、燐酸塩、弗化ジリコン酸塩等による封孔処理を行
っていることが好ましい。

【００５３】また、米国特許第３，６５８，６６２号に
記載されているようなシリケート電着処理も有効であ
る。西独特許公開公報第１，６２１，４７８号に記載の
ポリビニルホスホン酸による処理も適当である。

【００５４】これらの親水化処理は、支持体の表面を親
水性とするために施される以外に、その上に転写されて
設けられる記録層との有害な反応を防ぐためや、記録層
との接着性の向上のために施されるものである。

【００５５】また本発明において、前記親水性支持体の
上に必要によりカゼイン、ポリビニルアルコール、カル
ボキシメチルセルロース、エチルセルロース、フェノー
ル樹脂、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリアク
リル酸、ポリアミノ酸等から成る水溶性あるいはアルカ
リ可溶性の中間層を前記支持体との接着性向上やまたは
記録層の除去性向上あるいは印刷適性向上等の目的で設
けることができる。

【００５６】このようなアルミ版材の板厚としては０．
２ｍｍ〜０．５ｍｍが好ましい。さらに好ましい板厚と
しては０．２４ｍｍ〜０．３ｍｍの範囲が挙げられる。
０．２４ｍｍより薄い場合は大量枚数印刷時に版切れを
おこし易い。また０．３ｍｍを越えると、印刷用原板の
重量が重くなり取扱い上問題となる。

【００５７】本発明において感光層の上に保護層を形成
する。該保護層は、水溶性ポリマー又は水分散性ポリマ
ーラテックスを塗設して形成することができる。

【００５８】水溶性ポリマーとしては、ポリアクリル
酸、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ポリ
ヒドロキシエチルアクリレート、ポリビニルピロリドン
等のアクリル酸共重合体；ポリエチレンイミン、ジアク
リルジメチルアルミニウムクロライド、ポリビニルイミ
ダゾリン、ポリアルキルアミノエチルアクリレート等の
マレイン共重合体；またポリエチレングリコールポリオ
キシエチレン、ポリプロピレングリコール、エチレンジ
アミン、ヘキサエチレンジアミン、ポリウレタン樹脂、
ポリヒドロキシメチル尿素、ポリヒドロキシメチルメラ
ミン樹脂、さらに可溶性デンプン、ＣＭＣ（カルボキシ
メチルセルロース）、ヒドロキシエチルセルロース、グ
アーガム、トラガカントゴム、キサンタンガム、アルギ
ン酸ソーダ、ゼラチン、ＰＶＰＡ（ポリビニルホスフォ
ン酸）等の水溶性高分子が挙げられる。

【００５９】水分散性ポリマーラテックスとしては、水
中において、ビニルモノマーを乳化重合することにより
得られるものを用いることができる。具体的な一例を示
せば、ビニルモノマーを該ビニルモノマーに対して約
０．１〜２０重量％の乳化重合用分散剤（一般に界面活
性剤が用いられる。）と約２〜５０重量部の水を含む水
性媒体中で脱気窒素置換し、乳化させ、必要に応じて通
常の乳化重合において用いる添加剤（例えば分子量調節
剤、酸化防止剤等）を加え、最後に乳化重合用開始剤
（例えば過酸化水素、過硫酸カリウム等）を添加し常法
に従って乳化重合させビニル重合体の水性ポリマーラテ
ックスが得られる。上記モノマーとしては、ビニルモノ
マーであれば特に限定する必要はないが、水分散性ポリ
マーラテックスを合成する以下に示すモノマーでＢ群か
ら選ばれるモノマーが少なくとも５０モル％以上含有さ
れるものが好ましい。

【００６０】Ａ群モノマー；１つのビニル基を有する疎
水性不飽和ビニルモノマーでアクリル酸エステル類、メ
タクリルエステル類、ビニルエステル類、スチレン類、
オレフィン類等のモノマー類。

【００６１】Ｂ群モノマー；１つのビニル基を有する親
水性不飽和ビニルモノマーでアミノ基、カルボキシル
基、スルホン酸基、アミド基、水酸基等の官能基を有す
るモノマー類。

【００６２】Ｃ群モノマー；反応性架橋基（エポキシド
基、ヒドロキシメチルアミド基、アルコキシルメチルア
ミド基、アシロキシメチルアミド基、イソシアネート基
等）を持つモノマー類および２つ以上のビニル基を持つ
多官能性モノマー類。

【００６３】この他に、水分散性ポリマーラテックスと
しては、「合成樹脂エマルジョン」（１９７８年高分子
刊行会）に記載されているものも用いることができる。

【００６４】保護層の厚さは０．０１〜５μｍの範囲が
好ましい。

【００６５】保護層は、透明でかつ可撓性のあるフィル
ムが好ましく、例えば、ポリエステルフィルム例えばポ
リエチレンテレフタレートフィルムが活性光線を充分透
過しかつ熱にあまり伸縮しないので好ましい。

【００６６】次に平版印刷版の作成方法について説明す
る。まず、透明支持体側から感光層を画像露光し、保護
層を剥離し、未露光部の感光層を前記した平版印刷用版
材に転写する。上記画像露光は、感光層に対して硬化反
応を生じる光であれば特に制限はない。透過原稿を介し
て密着露光を行ってもよいし、レーザー光のような変調
可能な光源により線順次あるいは点順次走査露光を行っ
てもよい。上記転写は、加熱及び／又は加圧処理により
行うが、加熱処理は８０℃以上の温度を付与し１ｋｇ／
ｍ²以上の圧力のもとで行うことが好ましい。この加熱
及び／又は加圧処理と同時に又は後に透明支持体を剥離
する。好ましくは加熱及び加圧と平行して剥離を行う。
具体的には、加熱及び加圧されたローラ間に、透明支持
体の感光層側を平版印刷用版材に重ね合わせたものを通
過させながら透明支持体を出口側で剥離する。この剥離
の際に感光層の露光部は透明支持体と共に除去される
が、感光性樹脂層の未露光部は平版印刷用版材側に転写
される。画像転写の際に親水性層面を加湿することが好
ましい。さらに、平版印刷用版材に転写された未硬化の
感光性樹脂を活性光により再度露光して硬化させて印刷
版が得られる。

【００６７】カラープルーフの作成方法は、上記の平版
印刷版の作成方法に準ずることができる。

【００６８】カラープルーフィングシートに用いられる
透明支持体としては、それが写真的性質に影響を与え
ず、寸度的に安定で、記録に用いる光に対し透過性であ
れば任意の材料を用いることができる。代表的な支持体
としてはニトロセルロースフィルム，トリアセチルセル
ロースフィルム，ポリビニルアセタールフィルム，ポリ
スチレンフィルム，ポリエチレンテレフタレートフィル
ム，ポリカーボネートフィルム，ポリα−オレフィン、
例えばポリエチレン，ポリプロピレンフィルム及びその
他の樹脂フィルムが挙げられる。これらの支持体の表面
には感光層の塗布性向上や感光層の接着性向上のため適
当な下びき処理を施すことが好ましい。さらにこれらの
支持体の表面または裏面にはハレーション防止等の目的
で染料や顔料を含むハレーション防止層を設けてもよ
い。

【００６９】またこの透明支持体の感光性樹脂層を設け
る側と反対側の面は記録材料のすべり性向上や露光時の
原稿との密着性向上等の目的により表面がマット化して
いることが好ましい。

【００７０】透明支持体の厚さは１５０μｍ以下である
必要がある。好ましくは１０〜１００μｍである。４μ
ｍより薄い支持体を用いた場合は支持体の寸度が不安定
となる。１００μｍより厚い場合は画像露光時の支持体
中の中の拡散により画質が劣化する。次に、本発明の表
面に光反応性基を有した顔料について説明する。

【００７１】顔料表面に光反応性基を付与させるには種
々な方法がある。

【００７２】１．顔料表面の官能基（水酸基、アミノ基
等）と化学反応する（例えばエステル化反応）光反応性
基を有する化合物で顔料表面の官能基を化学修飾する。

【００７３】２．顔料表面の極性基（カチオン性基、ア
ニオン性基）と反対の極性基を有し、かつ光反応性基を
有する化合物を顔料と適当な溶媒中で混合させ塩を形成
させる。

【００７４】３．顔料表面の特性基（芳香環、酸素を含
む特性基等）に吸着する官能基を有し、かつ光反応性基
を有する化合物を顔料と適当な溶媒中で混合させ会合体
を形成させる。

【００７５】顔料表面の特性基、極性基は顔料自身が有
している基は勿論、顔料誘導体や分散助剤で化学修飾さ
せて顔料表面に導入してもよい。

【００７６】上記に用いられる顔料としては、特開平１
−２０５１４９号、特公昭５７−２５２５１号、同６１
−１１６６０号、同６３−３００５７号に記載されてい
る顔料及び松岡賢他；最新顔料分散技術、技術情報協
会、１９９３、Ｐ３８〜４１等の文献に記載の公知の化
合物を使用することができる。

【００７７】以下に、本発明に用いることができる種々
の顔料及び染料のうちの若干例を示す。アゾ系、フタロ
シアニン系、キナクリドン系、アントラキノン系、イン
ジゴ系及びメチン系などの有機顔料及び染料、或いは無
機顔料であり、これらの具体例のうちの若干例を以下に
記載する。

【００７８】（Ｃ．Ｉ．はカラーインデックスを意味す
る）レモンクロームイエローＭ３５（Ｃ．Ｉ．７７６０３）ミディアムクロームイエロー（Ｃ．Ｉ．７７６００）モリプデイトオレンジ（Ｃ．Ｉ．７７６０５）ミロリブルー６７１（Ｃ．Ｉ．７７５１０）セイカライトブルー（Ｃ．Ｉ．７４２００）セイカライトローズ（Ｃ．Ｉ．４５１６０：１）セイカライトマゼンタ（Ｃ．Ｉ．４５１７０：２）セイカライトブルー（Ｃ．Ｉ．４２５９５：２）セイカライトバイオレットＢ８００（Ｃ．Ｉ．４２５３５：２）セイカファーストレーキレッドＣＺＡ６６５（Ｃ．Ｉ．１５５８５：１）セイカファーストレッドＬＲ１１６（Ｃ．Ｉ．１５６３０：１）セイカファーストカーミン６Ｂ１４８８（Ｃ．Ｉ．１５８５０：１）セイカファーストレッド８０４０（Ｃ．Ｉ．１５８６５：１）セイカファーストイエロー１０ＧＨ（Ｃ．Ｉ．１１７１０）セイカファーストイエローＧＨ（Ｃ．Ｉ．１１６８０）セイカファーストイエロー２０１５（Ｃ．Ｉ．１１７４１）セイカファーストイエローＡ−３（Ｃ．Ｉ．１１７３７）セイカファーストイエロー２３００（Ｃ．Ｉ．２１０９０）セイカファーストイエロー２２００（Ｃ．Ｉ．２１０９５）セイカファーストイエロー２４００（Ｃ．Ｉ．２１１０５）セイカファーストイエロー２６００（Ｃ．Ｉ．２１１００）セイカファーストイエロー２５００（Ｃ．Ｉ．２１０９６）セイカファーストイエロー２７２０（Ｃ．Ｉ．２１１０８）セイカファーストオレンジ２９００（Ｃ．Ｉ．２１１６０）セイカファーストオレンジ９００（Ｃ．Ｉ．２１１１０）セイカファーストオレンジ３０４４（Ｃ．Ｉ．１２０７５）セイカファーストレッド９３０（Ｂ）（Ｃ．Ｉ．２１１２０）セイカファーストスカーレットＧｃｏｎｃ（Ｃ．Ｉ．１２３１５）セイカファーストカーミン３８４０（Ｃ．Ｉ．１２４９０）セイカファーストカーミン３８７０（Ｃ．Ｉ．１２４８５）セイカファーストルビンＲＫ−１（Ｃ．Ｉ．１２３１７）セイカファーストバイオレットＦＲ（Ｃ．Ｉ．１２３２２）クロモファインブルー４９２０（Ｃ．Ｉ．７４１６０）クロモファイングリーン２ＧＯ（Ｃ．Ｉ．７４２６０）クロモファインイエロー５９１０（Ｃ．Ｉ．２００３５）クロモファインオレンジ６７２６（Ｃ．Ｉ．ｎｏｔｌｉｓｔｅｄ．）クロモファインスカーレット６７５０（Ｃ．Ｉ．ｎｏｔｌｉｓｔｅｄ．）クロモファインレッド６８２０（Ｃ．Ｉ．４６５００）クロモファインバイオレット（Ｃ．Ｉ．５１３１９）以上大日本精化（株）製シムラーファーストイエロー８ＧＴＦ（Ｃ．Ｉ．２１１０５）シムラーファーストイエロー４１８６（Ｃ．Ｉ．１１７６７）シムラーファーストイエロー４１９３Ｇ（Ｃ．Ｉ．２１１００）シムラーファーストイエローＧＨＫ−Ｎ４（Ｃ．Ｉ．２１０９０）シムラーファーストイエローＧＴＦ２３０Ｔ（Ｃ．Ｉ．ｎｏｔｌｉｓｔｅｄ．）シムラーファーストイエローＲＦ（Ｃ．Ｉ．２１０９６）シムラーファーストイエロー４１８（Ｃ．Ｉ．２１１０８）ファーストゲンスーパーイエローＧＲＯ（Ｃ．Ｉ．５６２８０）シムラーファーストピラゾロンオレンジＧ（Ｃ．Ｉ．２１１１０）シムラーファーストオレンジＶ（Ｃ．Ｉ．２１１６０）シムラーファーストオレンジ４１８３Ｈ（Ｃ．Ｉ．１１７８０）シムラーレーキレッドＣｃｏｎｃ１３０（Ｃ．Ｉ．１５５８５：１）シムラーネオトールレッド２ＢＹ（Ｃ．Ｉ．１５５６５：１）シムラーレッド２ＢＳ（Ｃ．Ｉ．１５８６５：１）ファーストゲンスーパーレッド２Ｙ（Ｃ．Ｉ．７３９０５）ファーストゲンスーパーレッド７０８３Ｙ（Ｃ．Ｉ．４６５００）シムラーレッド３０１３（Ｃ．Ｉ．１５８６５：２）シムラープリリアントカーミン６Ｂ２４６（Ｃ．Ｉ．１５８５０：１）ファーストゲンスーパーマゼンタＲ（Ｃ．Ｉ．７３９１５）ファーストゲンスーパーバイオレットＲＮＳ（Ｃ．Ｉ．５１３１９）ファーストゲンスーパーブルー６０１６（Ｃ．Ｉ．６９８００）ファーストゲンブルーＢＳＦ−Ａ（Ｃ．Ｉ．７４１６０）ファーストゲンブルーＴＧＲ−Ｌ（Ｃ．Ｉ．７４１６０）ファーストゲングリーンＳ（Ｃ．Ｉ．７４２６０）ファーストゲングリーン２ＹＫ（Ｃ．Ｉ．７４２６５）以上大日本インキ（株）製オリエンタルイエローＧＴ（Ｃ．Ｉ．１１６８０）ビクトリアピュアブルー（Ｃ．Ｉ．４２５９５）リオノールレッド７Ｂ４４０１（Ｃ．Ｉ．１５８３０）リオノールレッド３９０１（Ｃ．Ｉ．１２１２０）リオノールレッドＦＢ５５００（Ｃ．Ｉ．１２４９０）リオノールレッドＦＢＫ（Ｃ．Ｉ．１２４９０）Ｎｏ．７１００リオノールイエロー（Ｃ．Ｉ．２１０９６）リオノールイエローＦＧＧ−３（Ｃ．Ｉ．２１１２７）リオノールイエローＮＢＲ（Ｃ．Ｉ．２１１０８）リオノールイエロー１８０６−Ｇ（Ｃ．Ｉ．２１１２７）リオノールレッド２ＢＫ（Ｃ．Ｉ．１５８６５：４）リオノールイエローＫ−５Ｇ（Ｃ．Ｉ．１３９６０）リオノールイエローＫ−２Ｒ（Ｃ．Ｉ．１３９５５）リオノールイエローＦＧＧ−３（Ｃ．Ｉ．２１１２７）リオノールブルー７２１０−Ｖ（Ｃ．Ｉ．７４１６０）リオノールブルーＳＭ（Ｃ．Ｉ．７４１６０）リオノールブルーＦＧ−７３３０（Ｃ．Ｉ．７４１６０）リオノールブルーＳＰＧ−８（Ｃ．Ｉ．７４１６０）リオノールブルーＥＳＰ−Ｓ（Ｃ．Ｉ．７４１６０）リオノールブルーＥＳ（Ｃ．Ｉ．７４１６０）リオノールグリーンＢ−２０１（Ｃ．Ｉ．７４２６０）リオノールグリーンＹ−１０１（Ｃ．Ｉ．７４２６０）リオノールグリーン６Ｙ−５０１（Ｃ．Ｉ．７４１６０）リオノゲンイエローＧ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．７０６００）リオノゲンイエロー３Ｇ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．ｎｏｔｌｉｓｔｅｄ．）リオノゲンイエローＲＸ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．６６２８０）リオノゲンオレンジＲ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．１１７８０）リオノゲンオレンジＧＲ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．７１１０５）リオノゲンブラウンＲ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．１２５１０）リオノゲンレッドＹ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．４６５００）リオノゲンレッド６Ｂ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．４６５００）リオノゲンレッドＧＤ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．５３９００）リオノゲンマゼンタＲ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．７３９１５）リオノゲンバイオレッドＲＬ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．５１３１９）リオノゲンブルーＲ−Ｆ（Ｃ．Ｉ．６９８００）リオノゲンブルーＲ３−Ｆ（Ｃ．Ｉ．６９８００）以上東洋インキ（株）製オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）カロチンブリリアントフラビン（Ｃ．Ｉ．ベーシック１３）ローダミン６ＧＣＰ（Ｃ．Ｉ．４５１６０）ローダミンＢ（Ｃ．Ｉ．４５１７０）サフラニンＯＫ７０：１００（Ｃ．Ｉ．５０２４０）エリオグラウシンＸ（Ｃ．Ｉ．４２０８０）ファーストブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）ベンジジンイエロー４Ｔ−５６４Ｄ（Ｃ．Ｉ．２１０９５）三菱カーボンブラックＭＡ−１０００三菱カーボンブラック＃３０、＃４０、＃５０溶媒としては、普通塩化メチレン、クロロホルム、トリ
クロロエタン、トリクロロエチレン、クロルベンゼン、
ジクロルベンゼン、四塩化炭素等の塩素系溶媒；フルフ
リルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、
ベンジルアルコール等のアルコール系溶媒；ジオキサ
ン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒；エチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエ
ーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエ
チレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリ
コールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ
プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル、
ジエチレングリコールモノアルキルエーテル系溶媒；エ
チレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレ
ングリコールエチルエーテルアセテート、酢酸エチル
（酸エチ）等のエステル系溶媒；ジメチルフォルムアミ
ド、メチルピロリドン、ニトロエタン、ニトロベンゼン
等の含窒素化合物；メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メ
チルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノ
ン、メチルシクロヘキサノン、４−メチル−４−メトキ
シ−２−ペンタノン等のケトン系溶媒；ジメチルスルホ
キシド等が挙げられ、これらのうちから１種或いは複数
種が適宜選択され使用される。

【００７９】光反応性基を有する化合物としては、下記
のごときアニオン性重合性化合物、カチオン性重合開始
剤、芳香環を有する重合性化合物、光架橋基を有する化
合物、アニオン性の光トリガー化合物が用いられる。

【００８０】アニオン性重合性化合物としては、アクリ
ル基又はメタクリル基を有し、かつカルボン酸基、スル
ホン酸基、ホスホン酸基を有するものが用いられ、この
ようなモノマー単位の具体例としては、下記に示す化合
物があげられる。

【００８１】

【化４】

【００８２】

【化５】

【００８３】上記のようなモノマーからなる成分は本発
明の光重合性組成物中に０．５〜５０重量％、特に２〜
３０重量％含有されることが好ましい。

【００８４】次に、カチオン性の重合開始剤としてはオ
ニウム塩及び鉄・アレーン錯体から選ばれるものが挙げ
られる。

【００８５】上記オニウム塩としては、下記一般式
〔１〕又は〔２〕で示される化合物が用いられる。

【００８６】

【化６】

【００８７】一般式〔１〕及び〔２〕において、Ａｒ¹
及びＡｒ²は同一でも相異していてもよく、置換又は無
置換のアリール基を示す。好ましい置換基は、アルキ
ル、ハロアルキル、シクロアルキル、アリール、アルコ
キシ、ニトロ、カルボキシ、アルコキシカルボニル、ヒ
ドロキシ、メルカプトの各基及びハロゲン原子であり、
更に好ましくは炭素数１〜８個のアルキル基、炭素数１
〜８個のアルコキシ基、ニトロ基及び塩素原子である。

【００８８】Ｒ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶は同一でも相異していて
もよく、それぞれ置換若しくは無置換のアルキル基又は
アリール基を示す。好ましくは炭素数６〜１４個のアリ
ール基及び炭素数１〜８個のアルキル基並びにそれらの
置換誘導体である。

【００８９】好ましい置換基としては、アリール基に対
しては炭素数１〜８個のアルコキシ、炭素数１〜８個の
アルキル、ニトロ、カルボキシ、ヒドロキシ基及びハロ
ゲン原子であり、アルキル基に対しては炭素数１〜８個
のアルコキシ、カルボキシ、アルコキシカルボニル基で
ある。

【００９０】またＲ⁴、Ｒ⁵及びＲ⁶のうちの２つ並びに
Ａｒ¹及びＡｒ²はそれぞれ単結合又は置換基を介して結
合してもよい。

【００９１】Ｘ^-はアニオン（対イオン）を示す。具体
例としては、ハロゲン原子アニオン、ＢＦ₄ ^-、ＢＣ
ｌ₄ ^-、ＺｒＣｌ₅ ^-、ＳｂＣｌ₆ ^-、ＦｅＣｌ₄ ^-、ＧａＣｌ
₄ ^-、ＧａＢｒ４^-、ＡｌＩ₄ ^-、ＡｌＣｌ₄ ^-、ＳｂＦ₆ ^-、
ＣＦ₃ＳＯ₃ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＢＰｈ₄ ^-、ナフタレン−１−ス
ルホン酸、アントラセン−１−スルホン酸等の縮合多核
芳香族スルホン酸アニオン、アントラキノンスルホン酸
アニオン、アントラセンスルホン酸アニオン、スルホン
酸基含有染料などが挙げられるがこれらに限定されるも
のではない。

【００９２】一般式〔１〕で表される化合物の具体例を
以下に示す。

【００９３】

【化７】

【００９４】

【化８】

【００９５】

【化９】

【００９６】

【化１０】

【００９７】また本発明に用いられる一般式〔２〕で示
される化合物の具体例を次に示す。

【００９８】

【化１１】

【００９９】

【化１２】

【０１００】また下記一般式〔３〕で表される化合物も
用いられる。

【０１０１】

【化１３】

【０１０２】式中、Ｒ₁は置換又は無置換のアルキル
基、アルケニル基、アリール基又はアラルキル基を表
し、Ｒ₃、Ｒ₄は、それぞれ同じか又は異なってもよく水
素原子、アルキル基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、カ
ルボキシル基、アルコキシカルボニル基又はハロゲン原
子を表す。

【０１０３】Ｒ₂はアルキレン基、オキサジアルキレン
基、又はチオジアルキレン基を表し、Ｘ^-はアニオンを
表す。

【０１０４】上記の一般式〔３〕に於いてＲ₁で表され
るアルキル基としては、直鎖又は分岐した炭素数１〜１
２までのアルキル基で例えばメチル、エチル、プロピ
ル、ｉ−イソプロピル、ブチル、ｉ−ブチル、Ｓｅｃ−
ブチル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、
ｉ−オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、
ドデシル基などが挙げられる。アルケニル基としては好
ましくは炭素数１２までのアルケニル基で、好ましくは
不飽和結合を１個だけ含むアルケニル基で（例えばアリ
ル基、２−ブテニル基など）、アリール基としては好ま
しくはフェニル基である。アラルキル基としては炭素数
１５までの（例えばベンジル基、ｐ−アミノベンジル
基、フェネチル基など）が挙げられる。上記のアルキル
基への好ましい置換基の例としてはアシル基（例えばベ
ンゾイル基）、アルコキシカルボニル基（例えばエトキ
シカルボニル基）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、
エトキシ基など）が挙げられる。

【０１０５】Ｒ₃、Ｒ₄のアルキル基としては、Ｒ₁と同
義で置換基を有してもよい炭素数１２までのアルキル基
が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数４までの
アルコキシ基で例えばメトキシ基、エトキシ基などが挙
げられる。アルコキシカルボニル基としては炭素数４ま
でのアルコキシ基で、例えばメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基などが挙げられる。ハロゲン原子と
しては例えば塩素または臭素原子などである。

【０１０６】Ｒ₂は２個のアクリジン核を結合する基
で、炭素数６〜１２の２価の基が好ましい。例えばアル
キレン基としてはヘキサメチレン、ドデカメチレンな
ど、或はブチレンオキサジアルキレン基、又はチオジア
ルキレン基などが挙げられる。

【０１０７】Ｘ^-で表されるアニオンとしては、ハロゲ
ン原子で例えばクロール、ブロムなど。過ハロゲン酸と
して例えばＣｌＯ₄ ^-、ＩＯ₄ ^-など、ヘキサフルオロリン
酸、テトラフルオロホウ酸などのハロゲン化ルイス酸或
はデカン酸及び安息香酸などの有機カルボン酸、フェニ
ルリン酸などの有機リン酸、メタンスルホン酸、クロロ
エタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼンスル
ホン酸、トルエンスルホン酸、メチレンスルホン酸、ア
ントラキノンスルホン酸、２−ヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン−５−スルホン酸、ヒドロキノンスル
ホン酸、４−アセチルベンゼンスルホン酸、ジメチル−
５−スルホイソフタレートなどの脂肪族並びに芳香族ス
ルホン酸、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベン
ゾフェノン、１，２，３−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、２，２′，４−トリヒドロキシベンゾフェノンなど
の水酸基含有芳香族化合物などが挙げられるが、これら
のカウンターアニオンに限定されるものではない。

【０１０８】以下、一般式〔３〕の具体的化合物例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。

【０１０９】

【化１４】

【０１１０】本発明に係る上記の化合物は、一般的合成
法により容易に得られるもので、例えばアクリジン化合
物とハロゲン化メチル基を有する化合物（Ｒ−ＣＨ
₂Ｘ）を溶剤に溶解し還流下で反応させ、析出した化合
物を濾過し、本発明の化合物を得ることができる。又、
アニオンをハロゲンイオン以外のものに塩交換する場合
には、上記化合物の水溶液を、目的とするアニオンを含
有する水溶液に混合し、析出した化合物を濾過して得る
ことができる。

【０１１１】本発明の光反応性基を有する化合物として
用いられる四級窒素原子を有する光重合開始剤として
は、好ましくは下記一般式〔４〕で表されるものが用い
られる。

【０１１２】

【化１５】

【０１１３】一般式〔４〕において、Ｘ^-はアニオンを
表す。すなわちハロゲンイオン、硫酸イオン、リン酸イ
オン、スルホン酸イオン、酢酸イオン等である。Ｒ₁〜
Ｒ₄は同一であっても異種のものでもよく、各々水素原
子又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基（例え
ばメチル、プロピル、イソブチル、ペンチル、ヘキシ
ル、ヘプチル、デシルの各基）、アルキル基（例えばベ
ンジル、フェネチル、ナフチルメチルの各基）、アルカ
ール基（例えばトリル、キシリルの各基）もしくは複素
環基を表す。

【０１１４】本発明においては、特に上記一般式〔４〕
において、Ｒ₁及びＲ₄がいずれも芳香族環基又は複素環
基を有する基である化合物が好ましく用いられる。

【０１１５】上記の四級窒素原子を有する光重合開始剤
は一般的には以下の方法で合成される。すなわちアミノ
メチル基を有する化合物Ｒ₁−ＣＨ₂−Ｎ（Ｒ₂）（Ｒ₃）
とハロゲン化メチル基を有する化合物Ｒ₄−ＣＨ₂Ｘを溶
剤に溶解し、還流下反応させ、析出した化合物を濾過
し、化合物を得ることができる。また、アニオンをハロ
ゲンイオン以外のものに塩交換する場合は、上記化合物
の水溶液と目的とするアニオンを含有する化合物の水溶
液を混合し、析出した化合物を濾過して得る。

【０１１６】本発明に用いられる四級窒素原子を有する
光重合開始剤の例として具体的には以下のような化合物
が挙げられる。

【０１１７】

【化１６】

【０１１８】

【化１７】

【０１１９】

【化１８】

【０１２０】

【化１９】

【０１２１】また、光カチオン性色素も用いられる。カ
チオン性色素としてすでに知られたものが使用可能であ
る。このようなものとしては、アニオン性ラテックスの
カウンターカチオン基を有する色素で例えば≡Ｎ⁺を有
する色素が好ましい。これらのカチオン性色素について
は以下の各資料に記載されている。

【０１２２】「合成染料の化学」（小西、黒木著；槇
書房）「総説合成染料］（堀口著；三共出版）「感光色素」（尾形著；山海堂）「感光色素とその応用」（尾形著；河出書房）「写真色素概論」（木村著；工業図書）「シアニン色素合成の最近の進歩」（飛鋪著；有機合
成化学協会誌３２巻）「シアニン色素の使用並びに物性研究に関する最近の
進歩」（飛鋪著；日本写真学会）また、特開昭６２−１４３００４号、同６２−１５０２
４２号、同６４−１３１３９号に記載の色素を用いるこ
とができる。

【０１２３】本発明において、カチオン性色素は光重合
開始剤としての作用をするものであるが、他の光重合開
始剤との併用も可能である。

【０１２４】次に芳香環を有する重合性化合物としては
プロペニルエーテル基を有する化合物、例えば下記のよ
うな化合物が挙げられる。

【０１２５】

【化２０】

【０１２６】上記化合物の合成方法については、Ｊ．Ｐ
ｏｌｙ．Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．２
２，ｐｐ．２１０５〜２１２１（１９８４）、及び高分
子論文集，Ｖｏｌ．４３，Ｎｏ．１２，ｐｐ．９０１〜
９０４（Ｄｅｃ．，１９８６）を参照することができ
る。

【０１２７】本発明に用いる光架橋基を有するアニオン
性又はカチオン性化合物としては、例えば永松、乾著
「感光性高分子」講談社（１９７７）第１５５頁の表
６．１に記載の光架橋基を有し、かつ同分子内にアニオ
ン又はカチオン性基を有する化合物が挙げられる。具体
的には光架橋基を有するアニオン性化合物としては、以
下の化合物が挙げられる。

【０１２８】１−アジドナフタレン−４−スルホン酸、
４，４′−ジアジドスチルベン−２，２′−ジスルホン
酸、１，５−ジアジドナフタレン−３，７−ジスルホン
酸、ケイ皮酸、β−フリルアクリル酸、α−シアノケイ
皮酸、ｐ−アジドケイ皮酸、β−スチリルアクリル酸、
α−シアノ−β−スチリルアクリル酸、ｐ−フェニレン
ジアクリル酸、ｐ−（２−ベンゾイルビニル）−ケイ皮
酸、シンナミリデンビルビン酸、α−メチル−β−スチ
リルアクリル酸、α−フェニル−β−スチリルアクリル
酸、α−シアノ−β−フリルアクリル酸又はｐ−ジメチ
ルアミノケイ皮酸さらに上記化合物に対応するカルコゲ
ン、ベンジリデンアセトン、スチルバゾール、スチルベ
ン、α−フェニルマレイミド、クマリン、ピロン、アン
トラセン等も挙げることができる。

【０１２９】また、光架橋基を有するカチオン性化合物
としては、以下の化合物が挙げられる。

【０１３０】

【化２１】

【０１３１】アニオン性の光トリガー化合物としてはア
ニオン性ｏ−キノンジアジドが挙げられ、例えば、１，
２−ナフトキノンジアジド−５（及び／又は４及び／又
は６）−スルホニルクロライドが用いられる。

【０１３２】また、スルホニルクロライドをスルホン酸
ナトリウムに変更した化合物も用いられる。

【０１３３】高分子の光トリガー化合物として、下記資
料に記載の公知の化合物が使用される。

【０１３４】ａ．徳丸克巳；「増感剤」講談社、１９８
７ｂ．Ｔ．Ｉｉｚａｗａｅｔ．ａｌ；高分子論文集、４
０、４２５（１９８３）Ｐｏｌｉｍｅｒｊ．１６，３７１（１９８４）Ｍａｃｒｏｍｏｌ，Ｃｈｅｍ，１８４，２２９７（１９
８３）ｃ．Ｅ．Ｈ．Ｕｒｒｕｔｉ．Ｔ．Ｋｌｉｐ；Ｍａｃｒｏ
ｍｏｒｅｃｕｌｅｓ１７，５０（１９８４）ｄ．Ｌ．Ａｎｇｉｏｌｉｎｉｅｔ．ａｌ；Ｊ．Ａｐ
ｐ．Ｐｏｌｙｍ，Ｓｃｉ．５５，１４７７（１９９５）また、特公平２−４７７３８号の第３欄３３行から第１
３欄及び第１４欄の３１行に記載されたカチオン性ラテ
ックス重合体と従来公知の光重合開始剤（例えばフォト
ポリマー懇話会編：感光材料リストブック、ぶんしん出
版、１９９６、ｐ５５〜７２、ｐ７７〜８０、ｐ９５〜
１０４）にアニオン性基（例えばスルホン酸、カルボン
酸等）を公知の合成法によって導入した化合物が用いら
れる。

【０１３５】アニオン性の光トリガー化合物（光重合開
始剤）の例を以下に挙げる。

【０１３６】アントラキノン−２−スルホン酸又はソー
ダ塩アントラキノン−２−ジスルホン酸又はソーダ塩２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−ス
ルホン酸又はソーダ塩ベンゾフェノン−４−スルホン酸又はソーダ塩チオキサントン−２−スルホン酸又はソーダ塩フルオレセイン２，７−ジクロロフルオレセインエオシンＢエオシンＹローズベンガルまた、本発明に用いられるスルホン酸基、カルボン酸基
及びホスホン酸基から選ばれる少なくとも１つの基を有
するアニオン性ラテックス重合体におけるモノマー単位
としては、アクリル酸又はメタクリル基を有し、かつカ
ルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基を有するもの
が用いられ、このようなモノマー単位の具体例としては
以下の化合物が挙げられる。

【０１３７】

【化２２】

【０１３８】

【化２３】

【０１３９】上記のようなモノマーからなる成分は、本
発明の光架橋性感光性組成物中に５０〜１００重量％、
特に８０〜９７重量％含有されることが好ましい。

【０１４０】上記ラテックス重合体は、上記モノマーと
非アニオン性モノマーとしては、例えばアクリル酸、メ
タクリル酸のエステル、スチレン、アルキレン、エーテ
ル、酢酸ビニル、アクリロニトリル等が挙げられ、これ
らは、好ましくはジビニルベンゼン、ジメタクリレート
等の２個以上の官能基を有するモノマーにより架橋され
る。このような非アニオン性モノマーは本発明のアニオ
ン性ラテックス重合体中に５〜９５％含有され、またジ
ビニルベンゼン、ジメタクリレート等のモノマーはラテ
ックス重合体中に好ましくは０．１〜１０重量％含有さ
れる。

【０１４１】上記ラテックスは、例えば特開昭５９−６
２０３号、同５９−５３５０５号、同６１−３６７４７
号、同６２−１０２２４０号等に記載の乳化重合法に準
じて合成することができる。

【０１４２】光反応基を有する化合物は以下の測定によ
り得られる脱着熱量と吸着熱量の比、脱着熱量／吸着熱
量が０．５以下のものが好ましい。

【０１４３】本発明における脱着熱量及び吸着熱量は溶
媒としてメチルエチルケトンを用い、顔料に対して１．
０％の光反応性基を有する化合物を用い、脱着熱量及び
吸着熱量（ｍｊ／ｇ）をＭｉｃｒｏｓｃａｌ社製フロー
マイクロカロリーメーターにより測定した。

【０１４４】

【実施例】以下、実施例により本発明の効果を例証す
る。

【０１４５】実施例１（請求項２、５対応）厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（三井デュポンポ
リケミカル社製ＥＶＡＦＬＥＸＰ−１４０５、酢酸ビニ
ル含有率１４％、ＶＩＣＡＴ軟化点６８℃）を厚さ２５
μｍになるよう押し出しラミネート法により離型層を形
成した。

【０１４６】この離型層上に乾燥膜厚３μｍになるよう
に下記組成の着色感光層用塗布液を塗設した。乾燥した
着色感光層上に厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレー
トフィルムをラミネートしてカバーシートを付与し、画
像形成材料とした。

【０１４７】〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．４部ハイドロキノン０．００１部リオノールレッド６ＢＦＧ４２１９Ｘ（東洋インキ（株）製）５部本発明の光反応性基２−（３−ジメチルアミノ−２− ヒドロキシプロポキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ− チオキサントン−９−オンメソクロライド（ＫＡＹＡＣＵＲＥＱＴＸ、日本化薬（株）製）０．３部メチルエチルケトン７８部尚、リオノールレッド６ＢＦＧ４２１９Ｘ５部とＫＡＹ
ＡＣＵＲＥＱＴＸ０．３部は上記液を調合する前に、メ
チルエチルケトン１００部中で超音波分散機を用いて十
分に混合処理して用いた。

【０１４８】この画像形成材料の透明支持体側とプレー
トコントロールウエッジ（ＰＣＷ、ＵＧＲＡ製）とを密
着し、ＵＶプリンター、ＨＭＷ−２０１ＫＢ（オーク製
作所（株）製）で画像様露光を与えた後、画像形成材料
とウエッジを剥離し、ファーストラミネーター・８ｂ−
７００特殊型（大成ラミネータ（株）製）を用いて、ア
ート紙とカバーシートを剥離した画像形成材料を密着さ
せ、圧力４ｋｇ／ｃｍ²、通過速度３５ｃｍ／ｍｉｎ、
ローラー表面温度８０℃の条件でローラー間のニップに
より転写したところ、地汚れがなく、良好な再現性を有
する転写画像がアート紙上に得られた。再現性その他の
結果はまとめて表１に記す。

【０１４９】実施例２（請求項２、５対応）以下の着色感光層溶液を用いた以外は、実施例１と同様
にして画像形成材料を作成した。

【０１５０】〈着色感光層溶液〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）６部ベンゾフェノン０．８部ハイドロキノン０．００１部リオノールブルーＦＧ７３３０（東洋インキ（株）製）５部ジ（Ｎ，Ｎ−ジメチル−１，３−プロパンジアミノスルホニル）銅フタロシアニン０．１５部本発明の光反応性基ジメチルアミノエチルメタクリレート１部メチルエチルケトン７８部尚、リオノールブルーＦＧ７３３０５部とジ（Ｎ，Ｎ−
ジメチル−１，３−プロパンジアミノスルホニル）銅フ
タロシアニン０．１５部は上記液を調合する前に、メチ
ルエチルケトン１００部中で超音波分散機を用いて十分
に混合処理し、その後ジメチルアミノエチルメタクリレ
ート１部を加えてさらに超音波分散機を用いて十分に混
合処理して用いた。

【０１５１】次いで、アルミニウム板を１０ｗｔ％水酸
化ナトリウム水溶液にて脱脂し、これを１．８％塩酸浴
中で２５℃、３０Ａ／ｄｍ²、３０秒の電流密度条件で
電解エッチングし、水洗後、３０％硫酸浴中で３０℃、
６．５Ａ／ｄｍ²の条件で３０秒間陽極酸化処理した。
次に１ｗｔ％メタケイ酸ナトリウム水溶液により、８５
℃、３０秒間封孔処理し、水洗乾燥して印刷版の支持体
である砂目立てアルミニウム板を作成した。

【０１５２】画像形成材料の透明支持体側とプレートコ
ントロールウエッジ（ＰＣＷ、ＵＧＲＡ製）とを密着
し、ＵＶプリンター、ＨＭＷ−２０１ＫＢ（オーク製作
所（株）製）で画像様露光を与えた後、画像形成材料と
ウエッジを剥離し、ファーストラミネーター・８ｂ−７
００特殊型（大成ラミネータ（株）製）を用いて、砂目
立てアルミニウム板とカバーシートを剥離した画像形成
材料を密着させ、圧力４ｋｇ／ｃｍ²、通過速度３５ｃ
ｍ／ｍｉｎ、ローラー表面温度８０℃の条件でローラー
間のニップにより転写したところ、地汚れがなく、良好
な再現性を有する転写画像がアルミニウム板上に得られ
た。再現性その他の結果はまとめて表１に記す。

【０１５３】実施例３（請求項１対応）〈光反応性基を有する顔料〉リオノールレッド６ＢＦＧ
４２１９Ｘ５部と以下に示す化合物Ａを０．１５部をメ
チルエチルケトン１００部中で超音波分散機を用いて十
分に混合処理した。次いで、この液を約４℃に冷却し、
本発明の光反応性基アクリル酸クロライド１部、メチル
エチルケトン１０部の溶液をゆっくりと滴下し、３時間
撹拌後、ろ過、乾燥して顔料表面にアクリロイル基が導
入された顔料粉体を得た。

【０１５４】

【化２４】

【０１５５】実施例１において以下の着色感光層溶液
（マゼンタ）を用いた以外は実施例１と同様に行い、表
１の結果を得た。

【０１５６】〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部光反応性基を有する顔料５．５部メチルエチルケトン７８部実施例４（請求項１対応）〈光反応性基を有する顔料〉リオノールレッド６ＢＦＧ
４２１９Ｘ５部と前記化合物Ａを０．１５部をメチルエ
チルケトン１００部中で超音波分散機を用いて十分に混
合処理した。次いで、この液にｏ−ナフトキノンジアジ
ド−４−スルホニルクロライド２部、メチルエチルケト
ン１０部の溶液をゆっくりと滴下し、３時間撹拌後、ろ
過、乾燥して顔料表面にアクリロイル基が導入された顔
料粉体を得た。

【０１５７】実施例１において以下の着色感光層溶液
（マゼンタ）を用いた以外は実施例１と同様に行い、表
１の結果を得た。

【０１５８】〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部光反応性基を有する顔料５．５部メチルエチルケトン７８部実施例５（請求項２対応）実施例１において以下の着色感光層溶液（マゼンタ）を
用いた以外は実施例１と同様に行い、表１の結果を得
た。

【０１５９】〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）６部ベンゾフェノン０．８部ハイドロキノン０．００１部リオノールレッド６ＢＦＧ４２１９Ｘ（東洋インキ（株）製）５部本発明の光反応性基ジメチルアミノエチルメタクリレート１部メチルエチルケトン７８部実施例６（請求項２、５対応）実施例１において以下の着色感光層溶液（マゼンタ）を
用いた以外は実施例１と同様に行い、表１の結果を得
た。

【０１６０】〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）６部ベンゾフェノン０．８部ハイドロキノン０．００１部リオノールレッド６ＢＦＧ４２１９Ｘ（東洋インキ（株）製）５部本発明の光反応性基ジメチルアミノエチルメタクリレート１部メチルエチルケトン７８部尚、リオノールレッド６ＢＦＧ４２１９Ｘ５部とジメチ
ルアミノエチルメタクリレート１部は上記液を調合する
前に、メチルエチルケトン１００部中で超音波分散機を
用いて十分に混合処理して用いた。

【０１６１】実施例７（請求項３対応）厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂（三井デュポンポ
リケミカル社製ＥＶＡＦＬＥＸＰ−１４０５、酢酸ビニ
ル含有率１４％、ＶＩＣＡＴ軟化点６８℃）を厚さ２５
μｍになるよう押し出しラミネート法により離型層を形
成した。

【０１６２】この離型層上に乾燥膜厚３μｍになるよう
下記組成の着色感光層用塗布液を塗設した。乾燥した着
色感光層上に厚さ６μｍのポリエチレンテレフタレート
フィルムをラミネートしてカバーシートを付与し、画像
形成材料とした。

【０１６３】〈着色感光層溶液（イエロー）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部高分子重合開始剤１０．８部ハイドロキノン０．００１部リオノールイエローＦＧ３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬製）７部高分子重合開始剤１０．８部ハイドロキノン０．００１部リオノールレッド７ＢＦＧ４４１２（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（シアン）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部高分子重合開始剤１０．８部ハイドロキノン０．００１部リオノールブルーＦＧ７３３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（ブラック）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部高分子重合開始剤１０．８部ハイドロキノン０．００１部三菱カーボンＭＡ７（三菱化学（株）製）５部メチルエチルケトン７８部

【０１６４】

【化２５】

【０１６５】この画像形成材料の透明支持体側とプレー
トコントロールウエッジ（ＰＣＷ、ＵＧＲＡ製）とを密
着し、ＵＶプリンター、ＨＭＷ−２０１ＫＢ（オーク製
作所製）で画像様露光を与えた後、画像形成材料とウエ
ッジを剥離し、ファーストラミネーター・８ｂ−７００
特殊型（大成ラミネータ製）を用いて、アート紙とカバ
ーシートを剥離した画像形成材料を密着させ、圧力４ｋ
ｇ／ｃｍ²、通過速度３５ｃｍ／ｍｉｎ、ローラー表面
温度８０℃の条件でローラー間のニップにより転写した
ところ、４色とも地汚れがなく、良好な再現性を有する
転写画像がアート紙上に得られた。再現性その他の結果
は表１にまとめて記す。

【０１６６】実施例８（請求項３対応）実施例２において以下の着色感光層溶液を用いた以外は
実施例２と同様に行い、表１の結果を得た。

【０１６７】〈着色感光層溶液〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部高分子重合開始剤２０．８部１−［（２−アクリロイロキシ）エトキシカルボニル］チオキサントンとジエチルアミノエチルメタクリレートとｎ−ブチルアクリレートの共重合体（モル比は５０：２５：２５、分子量３万）ハイドロキノン０．００１部リオノールブルーＦＧ７３３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部実施例９（請求項４対応）下記組成の離型層用塗布液を厚さ７５μｍのポリエチレ
ンテレフタレートフィルム上に乾燥膜厚２５μｍになる
よう塗設し、離型層を形成した。

【０１６８】〈離型層用塗布液〉スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロックポリマーの３０％トルエン液（Ｇ１６５０、シェル化学（株）製）１００部高分子重合開始剤１１部この離型層上に実施例７と同様に着色感光層を塗設し画
像形成材料を作成、実施例７と同様にして評価したとこ
ろ表１に示す結果を得た。

【０１６９】比較例１（対実施例１、３、４、５、６）実施例１において以下の着色感光層溶液（マゼンタ）を
用いた以外は実施例１と同様に行い、表１の結果を得
た。

【０１７０】〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部リオノールレッド６ＢＦＧ４２１９Ｘ（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部比較例２（対実施例２）実施例２において以下の着色感光層溶液を用いた以外は
実施例２と同様に行い、表１の結果を得た。

【０１７１】〈着色感光層溶液〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製）ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．８部ハイドロキノン０．００１部リオノールブルーＦＧ７３３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部比較例３（対実施例７）実施例７において以下の着色感光層溶液を用いた以外は
実施例７と同様に行い、表１の結果を得た。

【０１７２】〈着色感光層溶液（イエロー）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部リオノールイエローＦＧ３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部リオノールレッド７ＢＦＧ４４１２（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（シアン）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部リオノールブルーＦＧ７３３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（ブラック）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部三菱カーボンＭＡ７（三菱化学（株）製）５部メチルエチルケトン７８部比較例４（対実施例８）実施例８において以下の着色感光層溶液を用いた以外は
実施例８と同様に行い、表１の結果を得た。

【０１７３】〈着色感光層溶液〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（ダイソーイソダップＭｎ４５０００（大阪曹達（株）製））ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部リオノールブルーＦＧ７３３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部比較例５（対実施例９）実施例９において以下の離型層塗布液および着色感光液
を用いた以外は実施例９と同様に行い、表１の結果を得
た。

【０１７４】〈離型層用塗布液〉スチレン−エチレン−ブタジエン−スチレンブロックポリマーの３０％トルエン液（Ｇ１６５０、シェル化学（株）製）１００部ベンゾフェノン１部〈着色感光層溶液（イエロー）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（大阪曹達ダイソーイソダップＭｎ４５０００）ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部リオノールイエローＦＧ３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（マゼンタ）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（大阪曹達ダイソーイソダップＭｎ４５０００）ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部リオノールレッド７ＢＦＧ４４１２（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（シアン）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（大阪曹達ダイソーイソダップＭｎ４５０００）ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部リオノールブルーＦＧ７３３０（東洋インキ（株）製）５部メチルエチルケトン７８部〈着色感光層溶液（ブラック）〉ジアリルイソフタレートプレポリマー２１部（大阪曹達ダイソーイソダップＭｎ４５０００）ＫＡＹＡＲＡＤＤＰＨＡ（日本化薬（株）製）７部ベンゾフェノン０．７部ハイドロキノン０．００１部三菱カーボンＭＡ７（三菱化学（株）製）５部メチルエチルケトン７８部上記のようにして得られた試料を下記評価方法で評価し
た。

【０１７５】〈評価方法〉（地汚れ） ○：なし △：目視で汚れがわかる ×：目視では明らかに汚れがわかり、反射濃度で数値測
定可能尚、実施例２、８（印刷版）の場合は印刷物の汚れを評
価（擦り傷）転写画像表面（画像露光と同じ強度で後露光
を行っている）を引っかき試験機でテストして、傷の付
き始める荷重ｇで評価した。即ち荷重が大きいほど傷が
付き難く、擦り傷耐性が良好であることを表す。

【０１７６】（耐刷力）以下の印刷条件で印刷した場合
の汚れが発生し始める印刷枚数で表し、数値が大きいほ
ど良好であることを表す（画像露光と同じ強度で後露光
を行っている）。

【０１７７】〈印刷条件〉印刷機：ハイデルＧＴＯ紙：上質紙インキ：東洋ハイプラス紅（東洋インキ社製）湿し水：ＳＥＵ−１（コニカ社製）５０倍希釈液印刷スピード：５０００枚／時（再現性）プレートコントロールウエッジの網点（１〜
９９％）がカラープルーフ及び印刷版上でどの程度再現
されているかを目視で判断した。再現性能は最小再現網
点〜最大再現網点として表示した。最高の再現性レベル
は１〜９９％である。

【０１７８】以上の結果を表１に示した。

【０１７９】

【表１】

【０１８０】表１の結果から、本発明による実施例はい
ずれも地汚れが少なく、擦り傷耐性も良好で耐刷力も良
いことが分かる。

【０１８１】

【発明の効果】本発明により、再現性（網点再現性、解
像力）が向上し、地汚れが防止されさらに擦り傷耐性に
優れるカラープルーフ及び耐刷力に優れる印刷版等の感
光性転写材料及びそれらの製造方法を提供することがで
きた。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＧ０３Ｆ 7/028 Ｇ０３Ｆ 7/028 7/11 ５０３ 7/11 ５０３

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】表面に光反応性基を有した顔料を含有す
る感光性組成物を有することを特徴とする感光性転写材
料。
【請求項２】光反応性基を有する化合物の顔料に対す
る脱着熱量と吸着熱量の比、脱着熱量／吸着熱量が０．
５〜０であることを特徴とする請求項１記載の感光性転
写材料。
【請求項３】支持体上に光照射によって粘着性が変化
する感光層を設けた感光性転写材料において、感光層が
高分子の光トリガー剤を含有することを特徴とする感光
性転写材料。
【請求項４】支持体上に離型層及び光照射によって粘
着性が変化する感光層を設けた感光性転写材料におい
て、離型層が高分子の光トリガー剤を含有することを特
徴とする感光性転写材料。
【請求項５】顔料及び顔料に対する脱着熱量と吸着熱
量の比、脱着熱量／吸着熱量が０．５〜０である光反応
性基を有する化合物をあらかじめ接触処理した後、仕上
げた感光性組成物を有することを特徴とする感光性転写
材料の製造方法。