JPH05107759A - 像製造方法 - Google Patents

像製造方法

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JPH05107759A
JPH05107759A JP8348092A JP8348092A JPH05107759A JP H05107759 A JPH05107759 A JP H05107759A JP 8348092 A JP8348092 A JP 8348092A JP 8348092 A JP8348092 A JP 8348092A JP H05107759 A JPH05107759 A JP H05107759A
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JP
Japan
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image
equal
carbon atoms
photopolymerizable composition
integer
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Application number
JP8348092A
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English (en)
Inventor
Herman Jozef Uytterhoeven
エルマン・ジヨゼフ・ユイテルオヴアン
Wolfgang Podszun
ヴオルフガング・ポドスツン
Michael Mueller
ミヒヤエル・ミユラー
Joan Triphon Vermeersch
ジヨアン・トリフオン・ヴエルメールシユ
Gilbert Johannes Voortmans
ジルベール・ジヨアンヌ・ヴオールトマン
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Agfa Gevaert NV
Original Assignee
Agfa Gevaert NV
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】高重合速度を有し、低転化率で固化を示す単量
体を含有する光重合性組成物を用い像を製造又は再製す
るための方法を提供する。 【構成】光重合性組成物を像に従って露光し、前記光重
合性組成物の非露光部分又は不充分に露光された部分を
加熱によって受容材料に転写する。本発明の方法はカラ
ー像の再製、平版印刷版もしくは静電印刷マスター等の
製造に適用できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は光重合による像の形成に関する。
特に本発明は像の多数コピーを作るための方法に関す
る。
【0002】化学放射線に対して情報に従って露光する
ことにより像を製造するため光重合性組成物を使用する
ことは良く知られている。光重合性組成物を用い像を形
成するための幾つかの方法が知られている。これらの全
ての方法が、光重合性組成物の露光部分と非露光部分の
間の性質における差異を導入することの原理に基づいて
いる、例えば溶解度、接着性、導電率、屈折率、粘着
性、透過性、混入した物質例えば染料等の拡散性の差異
に基づいている。かく作られた差異は続いて可視像及び
/又は印刷のためのマスター例えば平版印刷もしくは静
電印刷マスターを作るため現像工程において使用でき
る。
【0003】光重合性組成物の露光部分と非露光部分の
間の溶解性の差異はしばしば平版印刷版の製造のために
使用され、この場合親水性基体を光重合性組成物で被覆
し、続いて露光し、そして非露光部分又は不充分に露光
された部分を除去するため溶媒を用いて現像する。かか
る方法は例えばロンドン及びニューヨークの FocalPres
s 1978年発行、E. Brinckman、G. Delzenne 、A. P
oot 及びJ. Willems著、Unconventional imaging pro
cesses 第1版、33〜39頁に記載されている。
【0004】像を得るため粘着性における差異を使用す
ることは例えばUS−P3060024,308548
8及び3649268に記載されている。これらの米国
特許に記載された方法によれば、像に従って露光された
光重合性組成物は、露光部分においてその粘着性を失
い、一方非露光部分はそれらの粘着性を保持する。従っ
て非露光部分は像を可視化するため乾燥染料顔料で着色
できる。
【0005】例えばUS−P3245796及びEP−
A362827に記載された方法によれば、染料の拡散
性は光重合性組成物の露光部分で妨げられ、従って露光
に続く全体的な加熱中に非露光部域での染料物質が受容
体材料に拡散できる。US−P4587198に記載さ
れた同様の方法によれば、光重合性組成物は、光重合性
組成物を含有する層に隣接した層中に存在する昇華性染
料又は染料顔料に対して露光部分において不透過性にさ
れる。
【0006】US−P3060023に記載された方法
によれば、光重合性組成物の接着性が像に従った露光に
より変性される。像に従った露光後、非露光部分は、全
面加熱の工程中に、受容シートに粘着又は接着し、かく
して非露光部分の受容シートへの転写を可能にする。
【0007】前述した如く光重合は像を再製するための
種々の方法において使用できる。これらの方法の中で幾
つかは、生態学的利点に好都合でそれを与える像を作る
ため乾式現像工程を用いている。しかしながら殆どの光
重合性組成物の感度はかなり低く、従ってそれらは、例
えば像を再製するため近年広く用いられているレーザー
光源を用いて露光するのに使用するためには適していな
い。
【0008】本発明の目的は、高感度の光重合性組成物
を用いる便利でかつ生態学的方法で像を再製するための
方法を提供することにある。
【0009】本発明の別の目的は、高感度の光重合性組
成物を用いる好都合で生態学的方法で平版印刷版を製造
する方法を提供することにある。
【0010】本発明の別の目的は以下の説明から明らか
になるであろう。
【0011】本発明によれば、高重合速度でかつ低転化
率で固化を示す多官能性(メタ)アクリレート単量体を
含有する光重合性組成物を含む像形成材料による像再製
方法を提供する。
【0012】又本発明によれば、高重合速度及び低転化
率で固化を示す多官能性(メタ)アクリレートを含有す
る光重合性組成物を含む像形成材料により平版印刷版を
製造する方法も提供する。
【0013】本発明により使用する多官能性(メタ)ア
クリレート単量体は下記一般式(I)に相当する。
【0014】
【化9】
【0015】式中nは1〜3の整数を表わし、mはnが
1に等しいとき3〜6の整数に等しく、nが2〜3に等
しいとき2〜6に等しく、uは0又は1に等しい:
【0016】Aはnが1に等しいとき3〜6価であり、
nが2又は3に等しいとき2〜6価である下記の種類の
有機基を表わす: (a) 一つ以上のエーテル、エステル又はアミド官能基で
中断されていてもよい5〜25個の炭素原子を含有する
炭化水素残基、
【0017】(b)
【化10】 1 は0〜3個の酸素原子及び2〜20個の炭素原子を
含有しうる直鎖又は分枝鎖脂肪族残基、6〜24個の炭
素原子を含有する芳香族残基、7〜28個の炭素原子を
含有する芳香族脂肪族残基又は6〜26個の炭素原子を
含有する環式脂肪族残基を表わし、R3 及びR4 はそれ
ぞれ独立に水素又はメチル基を表わし、A2 は5〜25
個の炭素原子を含有する炭化水素残基を表わし、oは0
〜5の整数を表わし、pはnが2又は3に等しいとき2
〜6の整数を表わし、nが1に等しいとき3〜6の整数
を表わす、
【0018】(c)
【化11】 1 ,A2 ,R3 ,R4 ,o及びpは前述したのと同意
義を有する、
【0019】(d)
【化12】 1 ,R3 ,R4 ,o及びpは前述したのと同意義を有
し、Gは−O−CO−NH−Y(−COO−)q −を表
わし、Yは2〜15個の炭素原子を含有し、エステル、
エーテル又はウレタン基を含有していてもよい2価(環
式)脂肪族残基を表わし、qは0又は1を表わす、Qは
3〜15個の炭素原子を含有脂、1〜3個の酸素架橋を
含有していてもよい直鎖又は分枝鎖炭化水素基を表わ
す。
【0020】XはO又はNR2 を表わす、L1 は少なく
とも2価であり、1〜3個の酸素原子を含有できる脂肪
族炭化水素残基を表わす、L2 は分枝鎖又は直鎖である
ことのできる1〜6個の炭素原子の低級アルキレン基を
表わす、R1 は水素又はメチル基を表わす、R2 は水素
又は1〜6個の炭素原子の低級アルキル基を表わす。
【0021】好ましく使用される一般式(I) の炭化水素
残基として下記残基の一つを含む:
【0022】
【化13】
【0023】
【化14】
【0024】
【化15】
【0025】
【化16】
【0026】式中R5 及びR6 はそれぞれ独立に水素又
は1〜6個の炭素原子の低級アルキル基を表わし、s及
びtはそれぞれ独立に1〜6の整数を表わし、脂肪族炭
化水素残基Ia,Ic及びIdは2〜6の自由原子価を
含有する。
【0027】本発明方法により使用するのに好適な単量
体の例を下表1に示す。
【0028】
【表1】
【0029】
【表2】
【0030】
【表3】
【0031】
【表4】
【0032】
【表5】
【0033】式1,2及び10の端数は、これらの式が
式中のエチレンオキサイド部分の異なる長さを有する化
合物の混合物を表わすことを示し、従って端数は前記エ
チレンオキサイド部分の平均を表わす。式14〜23は
構造異性体の混合物を表わし、異性体を分離することな
く本発明により使用できる。
【0034】一般式(I) に相当する単量体は高重合速度
を示し、かつ10%という低い転化率でさえも固化する
ことが見出された、従って露光部分と非露光部分間の迅
速差異形成(rapid differentiation)を可能にする。
一般式(I) に相当する単量体は知られており、ドイツ特
許出願3522005,3703080,364321
6,3703130,3703080,3917320
及び3743728に記載されている方法で製造でき
る。
【0035】光重合性組成物は、化学放射線の情報に従
った分布に対し露光し、前記化学放射線の情報に従った
分布に対応したパターン状に前記光重合性組成物を硬化
する。露光は例えば紫外放射線、カメラ露光、走査露
光、又はレーザー露光を用いる接触露光であることがで
きる。露光工程を実施するに当って使用する放射線源に
は例えば日光、白熱灯、水銀蒸気灯、ハロゲンランプ、
キセノンランプ、蛍光灯、光放出ダイーオード、レーザ
ー、電子線及びX線を含む。
【0036】本発明の好ましい実施態様によれば、一般
式(I) に相当する単量体は、像形成材料の支持体上に被
覆した熱可塑性重合体を含む熱可塑性層中に含有させ
る。像に従って露光した後熱可塑性層を加熱し、受容材
料と接触状態にする。前記加熱は、両材料を相互に接触
させる前又は接触中に像形成材料又は受容材料の何れか
又は両方に適用できる。
【0037】前記熱可塑性層は好ましくは40℃未満の
温度で固体であり、40℃〜250℃の温度で非露光部
分又は不充分に露光された部分において転写できる。
【0038】本発明により使用するのに好適な熱可塑性
重合体には下記のものを含む。:
【0039】(A) コポリエステル、例えばアルキレング
リコール例えば式HO(CH2VOH(vは2〜10
の整数である)のポリエチレングリコールと、(1) ヘキ
サヒドロテレフタル酸、セバチン酸及びテレフタル酸、
(2) イソフタル酸及びセバチン酸、(3) テレフタル酸及
びセバチン酸、(4) テレフタル酸及びイソフタル酸、及
び(5) 前記グリコールと(i) テレフタル酸、イソフタル
酸及びセバチン酸及び(ii)テレフタル酸、イソフタル
酸、セバチン酸及びアジピン酸から作ったコポリエステ
ルの混合物との反応生成物から作ったもの;
【0040】(B) ナイロン又はポリアミド、例えばN−
メトキシメチルポリヘキサメチレンアジパミド;
【0041】(C) ビニリデンクロライド共重合体、例え
ばビニリデンクロライド/アクリロニトリル;ビニリデ
ンクロライド/メチルアクリレート及びビニリデンクロ
ライド/ビニルアセテート共重合体;
【0042】(D) エチレン/ビニルアセテート共重合
体;
【0043】(E) セルロースエーテル、例えばメチルセ
ルロース、エチルセルロース及びベンジルセルロース;
【0044】(F) ポリエチレン;
【0045】(G) 合成ゴム、例えばブタジエン/アクリ
ロニトリル共重合体及びクロロ−2−ブタジエン−1,
3重合体;
【0046】(H) セルロースエステル例えばセルロース
アセテート、セルロースアセテートスクシネート及びセ
ルロースアセテートブチレート、セルロースナイトレー
ト;
【0047】(I) ポリビニルエステル例えばポリビニル
アセテート/アクリレート、ポリビニルアセテート/メ
タクリレート及びポリビニルアセテート;
【0048】(J) ポリアクリレート及びα−アルキルポ
リアクリレートエステル例えばポリメチルメタクリレー
ト及びポリビニルアセテート;
【0049】(K) 約4000〜1000000の平均分
子量を有するポリグリコールの高分子量ポリエチレンオ
キサイド;
【0050】(L) ポリビニルクロライド及び共重合体例
えばポリビニルクロライド/アセテート、ポリビニルク
ロライド/アセテート/アルコール;
【0051】(M) ポリビニルアセタール例えばポリビニ
ルブチラール、ポリビニルホルマール;
【0052】(N) ポリホルムアルデヒド;
【0053】(O) ポリウレタン及び共重合体;
【0054】(P) ポリカーボネート及び共重合体;
【0055】(Q) ポリスチレン及び共重合体例えばポリ
スチレン/アクリロニトリル、ポリスチレン/アクリロ
ニトリル/ブタジエン。
【0056】光重合性組成物の熱可塑性重合体構成成分
に、一定の望ましい特性を与えるため、例えばベース支
持体に対する接着性、転写時の受容体支持体に対する接
着性、摩耗性、化学不活性等を改良するため、非熱可塑
性重合体化合物を加えることができる。好適な非熱可塑
性重合体化合物にはポリビニルアルコール、セルロー
ス、無水ゼラチン、フエノール樹脂、及びメラミンホル
ムアルデヒド樹脂等を含む。所望ならば、光重合性層
は、本質的に光重合性材料の露光のために使用する波長
で透明である非混和性重合体又は非重合体有機又は無機
充填剤又は強化剤、例えば親有機性シリカ、ベントナイ
ト、シリカ、粉末ガラス、コロイドカーボン、及び各種
の染料及び顔料を、光重合性層の所望の性質を変化する
量で含有することもできる。充填剤は組成物の強度を改
良し、粘着を減じ、更に着色剤として有用である。
【0057】湿潤を改良し及び/又は熱可塑性層の接着
を調整する薬剤を加えることができる。好適な添加剤に
は例えばシリコーン、ケイ素含有重合体例えばポリ(ジ
メチルシロキサン)−ポリエーテル共重合体、ポリ(ジ
メチルシロキサン)−ポリエステル、ケイ素含有界面活
性剤、弗素含有共重合体及び弗素含有界面活性剤等があ
る。
【0058】一般式(I) に相当する単量体は他の重合性
エチレン性不飽和化合物と混合できる。本発明により使
用できる好適な重合性エチレン性不飽和化合物には例え
ばポリオールの不飽和エステル、特にα−メチレンカル
ボン酸のかかるエステル、例えばエチレンジアクリレー
ト、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、エチレン
ジメタクリレート、1,3−プロパンジオールジ(メ
タ)アクリレート、1,2,4−ブタントリオールトリ
(メタ)アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオー
ルジ(メタ)アクリレート、1,4−ベンゼンジオール
ジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
(メタ)アクリレート、1,5−ペンタンジオールジ
(メタ)アクリレート、分子量200〜500のポリエ
チレングリコールのビスアクリレートもしくはメタクリ
レート等:不飽和アミド、特にα−メチレンカルボン酸
のもの及び特にα,ω−ジアミンのもの及び酸素中断ω
−ジアミン例えばメチレンビス−アクリルアミド、メチ
レンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレン
ビス−アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス−
メタクリルアミド、ビス−(γ−メタクリルアミドプロ
ポキシ)エタン、β−メタクリルアミドエチルメタクリ
レート、N−(β−メタクリロイルオキシエチル)アク
リルアミド;ビニルエステル例えばジビニルスクシネー
ト、ジビニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニ
ルブタン−1,4−ジスルホネート;及び不飽和アルデ
ヒド例えばソルブアルデヒド(ヘキサンジエナール)が
ある。本発明により使用しうる他の重要な重合性エチレ
ン性不飽和化合物には、二つ以上の重合性官能基例えば
アクリレート化エポキサイド、ポリエステルアクリレー
ト、ウレタンアクリレート等を含有する重合体及び/又
はオリゴマーがある。
【0059】一般式(I) に相当する単量体及び加える前
述した如き任意成分共単量体の量は、個々の熱可塑性重
合体及び/又は他の使用する添加剤で変化する。
【0060】本発明により使用する光重合性組成物は少
なくとも一種の光開始剤も含有する。好ましく使用され
る光開始剤は、化学光線によって活性化でき、185℃
以下で熱的に不活性である重合開始剤である。かかる開
始剤の例には、共役6員炭素環式環中の環内炭素原子に
結合した二つの環内カルボニル基を有する化合物である
置換又は非置換多核キノンを含み、カルボニル基を含有
する環に縮合した少なくとも一つの芳香族炭素環式環が
ある。かかる開始剤には9,10−アンスラキノン、1
−クロロアンスラキノン、2−クロロアンスラキノン、
2−メチルアンスラキノン、2−t−ブチルアンスラキ
ノン、オクタメチルアンスラキノン、1,4−ナフトキ
ノン、9,10−フエナンスレンキノン、1,2−ベン
ズアンスラキノン、2,3−ジクロロナフトキノン、ア
ンスラキノン−α−スルホン酸のナトリウム塩、3−ク
ロロ−2−メチルアンスラキノン及び1,2,3,4−
テトラヒドロベンゼンアンスラセン−7,12−ジオン
を含む。、又有用である光開始剤はUS−P27608
63に記載されており、ジアセチル、ベンジル等の如き
ケトアルドニル化合物、ベンゾイン、ピバロンの如きα
−ケトアルドニルアルコール、アクロインエーテル例え
ばベンゾインメチル及びエチルエーテル等;α−炭化水
素置換芳香族アクロイン、例えばメチルベンゾイン、α
−アリルベンゾイン及びα−フエニルベンゾインを含
む。本発明により有用な更に別の光開始剤には、EP−
A362827及びUS−P3558309及びJ. of
Coatings Technology 59巻、751号(1987年
8月)、97〜106頁に Christian Deckerによる論
文「UV - Curing Chemistry : Past , Present , and
Future」に、G. A. Delzenneによる「Organic Photoche
micalimaging systems 」に、Arnost Reisterによる「P
hotoreactive Polymers」に記載されたものがある。
【0061】本発明によれば熱重合抑制剤も光重合性組
成物に加えることができる。本発明により使用するため
の抑制剤にはp−メトキシフエノール、ハイドロキノ
ン、アルキル及びアシル置換ハイドロキノン、及びキノ
ン、t−ブチルカテコール、ピロガロール、銅レジネー
ト、ナフチルアミン、β−ナフトール、塩化第一銅、
2,6−ジ−t−ブチル−p−クレゾール、フォトチア
ジン、ピリジン、ニトロベンゼン、及びジニトロベンゼ
ン、p−トルキノン及びクロラニルがある。
【0062】各種の染料、顔料、サーモグラフ化合物、
UV吸収剤、酸化防止剤及び着色形成成分を光重合性組
成物に加えて熱転写後種々の結果を与えることができ
る。しかしながらこれらの添加剤材料は好ましくは重合
反応を阻止又は露光波長での光の過度の量を吸収すべき
でない。
【0063】本発明において有用な染料の中には、フク
シン(C.I.42510)、オーラミンベース(C.
I.410003)、カルコシドグリーンS(C.I.
44000)、パラマゼンタ(C.I.42500)、
トリパロサン(C.I.42505)、ニューマゼンタ
(C.I.42520)、アシドバイオレットRRL
(C.I.42425)、レッドバイオレット5RS
(C.I.42960)、C.I.ソルベントブルー3
6(C.I.61551)、ナイルブルー2B(C.
I.51185)、ニューメチレンブルーGG(C.
I.51195)、C.I.ベーシックブルー20
(C.I.42585)、アイオダイングリーン(C.
I.42556)、ナイトグリーンB(C.I.424
15)、C.I.ダイレクトイエロー9(C.I.19
540)、C.I.アシッドイエロー17(C.I.1
8965)、C.I.アシッドイエロー29(C.I.
18900)、タートラジン(C.I.19140)、
スプラミンイエローG(C.I.19300)、バッフ
ァロブラック10B(C.I.27790)、ナフタレ
ンブラック12R(C.I.20350)、ファースト
ブラックL(C.I.51215)、及びエチルバイオ
レット(C.I.42600)がある。
【0064】好適な顔料にはTiO2 、コロイドカーボ
ン、グラファイト、リン粒子、セラミック、クレー、金
属粉末例えばアルミニウム、銅、磁性鉄及びブロンズ粉
末等を含む。顔料は感光性層中に又は隣接非感光性層中
に例えばハレイション防止層又は支持体と感光性層の間
の接着性を改良する層中に置くとき有用である。
【0065】有用なサーモグラフ添加剤、例えば3−シ
アノ−4,5−ジメチル−5−ヒドロキシ−3−ピロリ
ン−2−オン、及び活性剤、例えば酢酸銅はHolland 及
び Wayrynen の米国出願807761(1959年4月
21日出願)、及びUS−P2825494,2637
657,2665654,2663655,26636
56及び2663657に記載されている。
【0066】受容体材料中で、他のカラー形成成分と接
触状態にもたらしたとき又は熱を適用したとき着色化合
物を形成する好適なカラー形成成分には例えば下記のも
のがある:
【0067】(1) 有機及び無機成分:ジメチルグリオキ
シム及びニッケル塩;フエノールフタレン及び水酸化ナ
トリウム;澱粉/沃化カリウム及び酸化剤即ちパーオキ
サイド、フエノール及び鉄塩;チオアセトアミド及び酢
酸鉛、銀塩及び還元剤、例えばハイドロキノン。
【0068】(2) 無機成分:第二鉄塩及びチオシアン酸
カリウム;第一鉄塩及びフエリシアン化カリウム;銅及
び銀塩及びサルファイドイオン;酢酸ナトリウム及び硫
化ナトリウム。
【0069】(3) 有機成分:2,4−ジニトロフエニル
ヒドラジン及びアルデヒド又はケトン;ジアゾニウム塩
及びフエノール又はナフトール、例えばベンゼンジアゾ
ニウムクロライド及びβ−ナフトール;p−ジメチルア
ミノベンズアルデヒド及びp−ジエチルアミノアニリ
ン。
【0070】本発明により使用する像形成材料の好適な
支持体は、光重合性組成物の非露光部分又は不充分に露
光された部分を受容材料に転写するのに必要な加熱温度
で安定である支持体である。有用な支持体の例には例え
ばポリエステルフィルム支持体例えばポリエチレンテレ
フタレート、ガラス、木材、紙、ポリエチレン被覆紙、
セルロースエステル例えばセルロースアセテート、セル
ロースプロピオネート、セルロースブチレート、ポリカ
ーボネート、ポリビニルクロライド、ポリイミド、ポリ
プロピレン等がある。
【0071】像が転写される受容材料も処理温度で安定
でなければならない。使用する材料は像形成材料の支持
体に対する像の接着性によって決る。好適な受容材料に
は紙、カードボード、金属シート箔及びメッシュ例えば
アルミニム、銅、鋼、青銅等、ポリエチレン、ポリエス
テルフィルム支持体例えばポリエチレンテレフタレー
ト、不透明発泡もしくは顔料化ポリエステル、セルロー
スエステル、絹、木綿、ビスコースレーヨン布もしくは
スクリーン、ポリカーボネート、ポリビニルクロライ
ド、ポリプロピレン、ポリエチレン被覆紙を含む。
【0072】受容材料の表面は親水面であるとよく、そ
の層は、光重合性組成物を含有する層の非露光部分に対
して選択的に接着性を示すか、又はその表面上に転写さ
れる化合物と反応する化合物を含有し、かくして露光部
分及び非露光部分に相当する受容材料の表面で、色、親
水性度、導電性等に差を生ぜしめるようにする。
【0073】像形成材料及び受容材料は露光前に接触状
態にすることもでき、或いは一つの材料中に存在させる
こともできる。かかる材料はモノシート材料と称され、
その裏側又は前側の何れかが、光重合性組成物の露光の
ため使用する放射線に対して透明であることが必要であ
る。
【0074】本発明の特に好ましい実施態様において、
受容材料は親水性面を含有する。親水性面を有する受容
材料への光重合性組成物の非露光部分又は不充分に露光
された部分の転写はかくして油性又はグリース状インク
でプリントするため使用できる疎水性部分と親水性部分
の間の像に従った差異を生ぜしめる。疎水性部分は平版
印刷インクを受容でき、一方親水性部分は水で湿潤した
とき、インクを受容しない。インクを受容する部域は印
刷像部域を形成し、撥インク部域は背景部域を形成す
る。
【0075】光重合性組成物の非露光部分又は不充分に
露光された部分の受容材料への転写後、転写された像の
安定性を増強するため光及び/又は熱に対して転写され
た像を全面的に露光することが有利でありうる。かかる
方法は、転写された像を前述した如き印刷マスターとし
て使用するとき特に好ましい。
【0076】親水性面を有する受容材料は例えばAlも
しくはZnの如き金属支持体、ポリエステルフィルム支
持体及び紙基体である。これらの支持体は、それ自体で
充分に親水性でないとき、初めに親水性層で被覆する。
特に好適な親水性層は、テトラアルキルオルソシリケー
ト例えばUS−P3971660に記載されている如く
TiO2 を含有するテトラメチルオルソシリケート又は
テトラエチルオルソシリケートで硬化したポリビニルア
ルコールの層である。
【0077】好ましくは使用される金属支持体はアルミ
ニウムである。本発明により使用するのに好適なアルミ
ニウム支持体は、純アルミニウム、アルミニウム含有率
が少なくとも95%であるアルミニウム合金から作った
アルミニウム箔である。有用な合金には例えば重量基準
で99.55%のAl、0.29%のFe、0.10%
のSi、0.004%のCu、0.002%のMn、
0.02%のTi及び0.03%のZnを含有するもの
がある。箔の厚さは通常約0.13〜約0.5mmの範
囲である。
【0078】平版オフセット印刷のためのアルミニウム
又はアルミニウム合金箔の製造は次の工程:研磨(gree
ining )、陽極酸化及び所望により箔の封止を含む。
【0079】箔の研磨及び陽極酸化は、本発明により高
品質プリントを作ることができる平版印刷版を得るため
に必要である。封止は必ずしも必要ない、しかし印刷結
合を更に改良できる。
【0080】アルミニウム面の研磨は任意の既知の方法
で機械的に又は電気分解的に行うことができる。研磨に
よって作られる粗さはμmで表わされる中心線平均値と
して測定され、好ましくは約0.2〜約1.5μmで変
化する。
【0081】アウミニウム箔の陽極酸化は電解質、例え
ばクロム酸、修酸、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウ
ム、及びそれらの混合物中で行うことができる。好まし
くは、アルミニウムの陽極酸化は、陽極酸化層の所望の
厚さに達するまで稀薄水性硫酸媒体中で行う。アルミニ
ウム箔は両側を陽極酸化してもよい。陽極酸化層の厚さ
は、顕微鏡写真カットを作ることによって最も正確に測
定される、しかし陽極酸化層を溶解し、溶解処理前及び
それに続いて板を秤量することによって同様に測定でき
る。良好な結果は約0.4〜約2.0μmの陽極酸化層
の厚さで得られる。像鮮鋭性そしてその結果として完成
印刷コピーの鮮鋭性を促進するため、陽極酸化層は例え
ば特開昭58−14797に記載されている如くハレイ
ション防止染料又は顔料で着色できる。かかる着色のた
め使用する染料又は顔料又は染料の組合せ又は顔料の組
合せは、それらがアリールジアゾスルホネートを含有す
る重合体を含む層でハレイションを防止又は減ずるよう
選択する。
【0082】陽極酸化工程後、陽極酸化面は封止すると
よい。陽極酸化によって形成される酸化アルミニウム層
の孔の封止はアルミニウム陽極酸化の当業者に知られて
いる技術である。この方法は例えば Belgisch - Nederl
ands tijdschrift voor Oppervlaktetechnieken van
materialen 24ste 、jaargang / januari 19
80、の表題「Sealing - kwaliteit en sealing -
controle van geanodiseerd Aluminiun 」に発表さ
れている。多孔性陽極酸化アルミニウム面の封止の別の
種類もある。有利な封止法は水和封止法であり、これに
よれば孔は水受容を介して閉塞もしくは部分的に閉塞さ
れ、水和された針状酸化アルミニウム(ベーマイト)が
形成される。アルミニウム箔の陽極酸化面は従って70
〜100℃の水で又は水蒸気で洗うことができる。熱封
止水は、封止効果を改良するため添加剤例えばニッケル
塩を含有できる。封止は又リン酸イオン又はシリケート
を含有する水性溶液での陽極酸化面の処理によって行う
こともできる。封止処理により、得られる印刷版で長い
印刷実施をすることができるよう陽極酸化層は実質的に
非孔性にされる。封止の結果として印刷版の非印刷部域
におけるかぶりの発生が実質的に避けられる。
【0083】アルミニウム箔の研磨、陽極酸化及び封止
は例えばUS−P3861917及びその中で引用され
ている文献に記載された如く行うことができる。
【0084】本発明の方法は静電印刷マスターを作るた
めにも使用できる。この実施態様によれば、本発明によ
り使用する像に従って露光された光重合組成物は導電性
面又は転写される化合物と反応する化合物を含有する面
を有する受容材料に転写され、導電率における像に従っ
た差異形成を作る。好ましくは導電性面を担持する受容
材料例えばアルミニウムの金属層を設けたポリエチレン
テレフタレート支持体を使用する。かかる材料に像に従
って露光された光重合性組成物の転写後、像形成材料中
に含有された光重合性組成物の露光部域に相当する転写
が生じなかった部分は導電性のまま残り、一方他の部分
は非導電性になる。かくして静電印刷マスターを得るこ
とができる。
【0085】受容材料は金属層例えば銅を設けた支持体
であることができる。かくして、像に従って転写された
光重合性組成物がレジストとして作用する続いての蝕刻
処理で印刷回路を作ることができる。
【0086】本発明の別の実施態様によればカラー像を
作ることができる、この態様によれば、本発明により使
用する光重合性組成物中に又はその下にそれぞれ黄、マ
ゼンタ及びシアン染料又は染料顔料を含有する少なくと
も三つの像形成材料を、それぞれ像の青、緑及び赤色選
択を用いて像に従って露光する。所望によって黒染料又
は染料顔料を含有する第四の像形成材料を使用できる。
これらの像形成材料の各々は連続的に同じ受容材料例え
ば紙材料と接触させて加熱し、像の異なる色選択の各々
の転写を可能にする。像の異なる色部分の転写は原像の
忠実な再製を得るため整合状態で行わなければならない
ことは明らかである。
【0087】像は、非露光又は不充分に露光された部分
に粘着性を得、一方光重合によって露光部分は粘着性に
ならないために充分な温度に、最外層として本発明によ
り使用する光重合性組成物を含有する像に従って露光し
た像形成材料を加熱することによっても作ることができ
る。続く染料顔料例えばカーボンブラックでの散粉にお
いて、前記染料顔料が加熱された像形成材料の粘着性部
分に粘着することから像を現像できる。散粉した像形成
材料を室温に冷却後、散粉された部分を硬化するため像
形成材料を全面露光すると有利である。良好な品質及び
高コントラストの像を得ることができる。
【0088】本発明の前述した実施態様は本発明の最も
好ましい態様である、何故ならそれらは乾式現像を使用
することにより、好都合でかつ生態学的に有利性を提供
するからである。しかしながら、露光した光重合性組成
物は、非露光部分又は不充分に露光された部分中の感光
性層を溶解するのに好適な溶媒を用いて現像できること
も当業者には明らかであろう。かかる現像法に使用する
のに好適な溶媒には有機溶媒例えばクロロホルム、ジク
ロロエタン、ジクロロメタン、トルエン、ベンゼン等が
ある。この現像法においては、しばしば高度に毒性であ
る有機溶媒を使用しなければならないことから、この方
法は生態学的に不利であり、先に述べた本発明の実施態
様より都合が悪い。しかしながら、この方法は本発明の
方法が高重合速度を有し、迅速固化を示す光重合性組成
物の使用をするため、光重合性組成物を用いる既知の方
法よりもなお有利である。
【0089】下記実施例は本発明を説明するが、これに
限定するものではない。百分率は他に特記せぬ限り重量
による。
【0090】実施例 1 像形成材料の製造 表1に示す化合物の3.5%、104のスチレン単位と
53のアクリロニトリル単位を含有するコ(スチレン−
アクリロニトリル)共重合体の0.5%(この共重合体
はドイツ国、Ludwigshafen のBASF AGによって
商標LURAN378 Pで市販されている)、青染料
(C.I.61551)の0.25%、ポリシロキサン
ポリエーテル共重合体の0.02%(この共重合体はド
イツ国Essen のTH. GOLDSCHMIDT A
Gにより商標TEGOGLIDE 410で市販されて
いる)、ビスイミダゾールの3.5%、ミヒラーケトン
の0.1%及びメルカプトベンゾキサゾールの0.2%
のメチルエチルケトン中の溶液からなる有機光化学像形
成組成物で、ナイフコーターにより厚さ100μmを有
する下塗りしたポリエチレンテレフタレート支持体を被
覆した。混合物は湿潤状態で50μmの厚さを有する層
を形成するように被覆した。形成された層を乾燥した。
【0091】受容材料の製造 脱イオン水中2.5%のポリビニルアルコール及び2
1.5%のTiO2(平均粒度0.3〜0.5μm)を
含有する分散液418gに、攪拌しながら続けて水中5
%のポリビニルアルコール溶液220g、水中の加水分
解した22%テトラメチルオルソシリケート乳剤95
g、及び湿潤剤の10%溶液22gを加えた。次にこの
混合物に245mlの脱イオン水を加え、pHを4に調
整した。
【0092】形成された分散液を、ポリエステル支持体
(親水性接着剤層で被覆した)上に、55g/m2 の湿
潤被覆厚さに被覆し、30℃で乾燥した。
【0093】平版印刷版の製造 前述した像形成材料を試験ターゲットと接触させて置
き、それを通して紫外線に対して露光した。
【0094】各露光した像形成材料を次いで前述した如
く作った親水性受容材料と面対面接触させて置いた。
【0095】接触させた材料を約186℃の温度及び
0.63m/分の速度でロール積層装置中に通して搬送
した。次に各材料を剥離した。
【0096】かくして得られた印刷版は、普通に使用さ
れるインク及び湿し水を用いて通常のオフセット印刷機
で印刷するために使用できた。良好なコピーが得られ
た。
【0097】実施例 2 表1の化合物の濃度を変え(表2参照)、被覆組成物に
共単量体ヘキサンジオールジメタクリレート(HDD
M)、ペンタエリスリトールトリアクリレート(PET
RI)及びペンタエリスリトールテトラアクリレート
(PETRA)の一種以上を表2に示す濃度で加えた点
を変えたこと以外は前記実施例1に記載したのと同じ方
法で像形成材料を作った。
【0098】
【表6】
【0099】試料1〜40に相当する像形成材料を試験
ターゲットと接触させて置き、それを介して紫外放射線
に対して露光した。
【0100】次に各露光した像形成材料を実施例1に記
載した如く作った親水性受容材料と面対面接触に置い
た。
【0101】接触した材料を約186℃で、0.63m
/分の速度でロール積層装置を通して搬送した。普通に
使用されるインク及び湿し水と通常のオフセット印刷機
を用い、作った印刷版の各々で良好なコピーを得ること
ができた。
【0102】実施例 3 実施例1で使用したスチレンとアクリロニトリルの共重
合体をHERCULESから商品名HERCULES
A100として市場で入手しうるコ(スチレン−ビニル
トルエン−インデン)共重合体で置換したことのみを変
えて、実施例2の試料15と組成を有する像形成材料を
実施例1に記載した如くして作った。
【0103】像形成材料を試験ターゲットと接触させて
置き、それを通して紫外放射線に対して露光した。
【0104】次に各露光した像形成材料を、実施例1に
記載した如く作った親水性受容材料と面対面接触状態に
置いた。
【0105】接触した材料を約186℃で、0.63m
/分の速度でロール積層装置を通して搬送した。次に各
材料を剥離した。
【0106】かくして得られた印刷版は、普通に使用さ
れるインク及び湿し水を用いて通常のオフセット印刷機
で印刷するために使用できた。良好なコピーが得られ
た。
【0107】実施例 4 厚さ0.15mmを有するアルミニウム箔を、US−P
3861917の実施例1に記載された方法により研磨
し、陽極酸化し、封止した。研磨によって得られた中心
線平均値は0.5μmであった。かくして2.7g/m
2 の重量の陽極酸化層を有するアルミニウム支持体が得
られた。
【0108】実施例2の試料14に相当する像形成材料
を実施例2に記載した如く像に従って露光し、受容材料
としての前記アルミニウム支持体と面対面接触状態にお
いた。接触した材料を約186℃で、0.63m/分の
速度でロール積層装置を通して搬送した。次に各材料を
剥離した。前記受容材料上に良好な品質のポジ像が得ら
れた。
【0109】かくして得られた印刷版は、普通に使用さ
れるインク及び湿し水を用いて通常のオフセット印刷機
で印刷するために使用できた。良好なコピーが得られ
た。
【0110】実施例 5 実施例2の試料21に相当する像形成材料を実施例2に
記載した如く像に従って露光し、受容材料として紙支持
体(IDEAL BLANC BRILLIANT紙)
と面対面接触状態に置いた。接触した材料を約186℃
で、1.41m/分の速度でロール積層装置中を通して
搬送した。次に各材料を剥離した。前記受容材料上に良
好な品質のポジ像が得られた。
【0111】実施例 6 実施例2の試料19に相当する像形成材料を実施例2に
記載した如く像に従って露光し、受容材料として80g
/m2 の重量を有する紙支持体と面対面接触状態に置い
た。接触した材料を約186℃で、0.36m/分の速
度でロール積層装置中を通して搬送した。次に各材料を
剥離した。前記受容材料上に良好な品質のポジ像が得ら
れた。
【0112】実施例7 実施例2の試料19及び20に相当する像形成材料を、
実施例2に記載した如く像に従って露光し、それぞれを
受容材料としてのポリエチレン層及び接着性を改良する
ための層で両側を被覆した110g/m2 の重量を有す
る紙支持体と面対面接触状態に置いた。各々の接触した
材料を約186℃で、試料19に対しては1.02m/
分、試料20に対しては0.63m/分の速度でロール
積層装置中を通して搬送した。次に各材料を剥離した。
各紙支持体上に良好な品質のポジ像が得られた。
【0113】実施例 8 実施例2の試料18及び19に相当する像形成材料を、
実施例2に記載した如く像に従って露光し、それぞれ
を、受容材料としての接着剤層で被覆したポリエチレン
テレフタレート支持体と面対面接触状態に置いた。各接
触した材料を約186℃で、試料18に対しては1.4
1m/分、試料19に対しては1.02m/分の速度で
ロール積層装置中を通して搬送した。次に各材料を剥離
した。各受容材料上に良好な品質のポジ像が得られた。
【0114】実施例 9 実施例2の試料2及び6に相当する像形成材料を、実施
例2に記載した如く像に従って露光し、それぞれを、受
容材料としての、接着剤層で被覆し、蒸着アルミニウム
層を設けたポリエチレンテレフタレート支持体と面対面
接触状態に置いた。各接触した材料を約186℃で、
2.12m/分の速度でロール積層装置を通して搬送し
た。次に各材料を剥離した。各受容材料上に良好な品質
のポジ像が得られた。
【0115】実施例1に記載した如くして像形成材料を
作った、但し、表1に示した二種の化合物の混合物を使
用し、コ(スチレン−アクリロニトリル)重合体の濃度
を変えたことが異なる。各像形成材料を製造するため使
用した表1の化合物の濃度及びSAN重合体の濃度を下
表3に示す。
【0116】 表 3 表 1 の 化 合 物 試料No. No. (%) No. (%) SAN 41 18 1.5 1 1.5 0.5 42 18 1.5 5 1.5 0.5 43 18 1.5 11 1.5 0.5 44 18 2.0 11 1.0 0.5 45 18 2.5 11 0.5 0.5 46 24 1.5 11 1.5 0.5 47 24 1.5 5 1.5 0.5 48 18 1.5 11 1.5 - 49 18 2.0 11 2.0 - 50 18 3.3 11 1.7 -
【0117】試料41〜50に相当する像形成材料を試
験ターゲットと接触させて置き、それを介して紫外線に
対して露光した。
【0118】次いで露光した各像形成材料を、実施例1
に記載した如く作った親水性受容材料と面対面接触状態
に置いた。
【0119】接触した材料を約186℃で、1.54m
/分の速度でロール積層装置を通して搬送した。通常使
用されるインク及び湿し水及び通常のオフセット印刷機
を用い、かく作った印刷版の各々で良好なコピーを得る
ことができた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03F 7/34 7124−2H (72)発明者 ヴオルフガング・ポドスツン ドイツ連邦共和国デイ 5000 ケルン、ロ ツゲンドルフシユトラーセ 55 (72)発明者 ミヒヤエル・ミユラー ドイツ連邦共和国デイ 5060 ベルギシ ユ、グラドバツハ 2、リヒヤルト、ツア ンダーシユトラーセ 34 (72)発明者 ジヨアン・トリフオン・ヴエルメールシユ ベルギー国ベ 9800 デアンズ、ケールン ラーン 12 (72)発明者 ジルベール・ジヨアンヌ・ヴオールトマン ベルギー国ベ 2340 ベールス、レーウヴ エリクストラート 9

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光重合性組成物を含有する像形成材料を
    化学放射線に対し情報に従って露光することを含む像を
    製造する方法において、前記光重合性組成物が下記一般
    式に相当する少なくとも一種の単量体を含有することを
    特徴とする像製造法。 【化1】 式中nは1〜3の整数を表わし、mはnが1に等しいと
    き3〜6の整数に等しく、nが2又は3に等しいとき2
    〜6の整数に等しく、uは0又は1に等しい;Aはnが
    1に等しいとき3〜6価であり、nが2又は3に等しい
    とき2〜6価である下記種類の有機基を表わす: (a) 一つ以上のエーテル、エステル又はアミド官能基で
    中断されていてもよい5〜25個の炭素原子を含有する
    炭化水素残基、 (b) 【化2】 (式中A1 は0〜3個の酸素原子及び2〜20個の炭素
    原子を含有しうる線状又は分枝鎖脂肪族残基、6〜24
    個の炭素原子を含有する芳香族残基、7〜28個の炭素
    原子を含有する芳香族脂肪族残基、又は6〜26個の炭
    素原子を含有する環式脂肪族残基を表わし、R3 及びR
    4 はそれぞれ独立に水素又はメチル基を表わし、A2
    5〜25個の炭素原子を含有する炭化水素基を表わし、 oは0〜5の整数を表わし、pはnが0又は3に等しい
    とき2〜6の整数を表わし、nが1に等しいとき3〜6
    の整数を表わす) (c) 【化3】 (式中A1 ,A2 ,R3 ,R4 ,o及びpは前述したの
    と同意義を有する) (d) 【化4】 (式中A1 ,R3 ,R4 ,o及びpは前述したのと同意
    義を有し、Gは−O−CO−NH−Y(−COO−)q
    −を表わし、 Yは2〜15個の炭素原子を含有し、エステル、エーテ
    ル又はウレタン基を含有していてもよい2価(環式)脂
    肪族残基を表わし、qは0又は1を表わし、 Qは1〜3個の酸素架橋を含有していてもよく、3〜1
    5個の炭素原子を含有する線状又は分枝鎖脂肪族炭化水
    素基を表わす)XはO又はNR2 を表わす:L1 は少な
    くとも2価であり、1〜3個の酸素原子を含有できる脂
    肪族炭化水素残基を表わす;L2 は分枝鎖又は直鎖であ
    ることのできる1〜6個の炭素原子を含有するアルキレ
    ン基を表わす;R1 は水素又はメチル基を表わす;R2
    は水素又は1〜6個の炭素原子の低級アルキル基を表わ
    す。
  2. 【請求項2】 前記一般式においてAが下記脂肪族残基
    の一つに相当することを特徴とする請求項1の方法。 【化5】 【化6】 【化7】 【化8】 式中R5 及びR6 はそれぞれ独立に水素又は1〜6個の
    炭素原子の低級アルキル基を表わし、s及びtはそれぞ
    れ独立に1〜6の整数を表わし、前記脂肪族残基Ia,
    Ic及びIdは、前記一般式のnが2又は3に等しいと
    き2〜6の自由原子価を含有し、前記一般式のnが1に
    等しいとき3〜6の自由原子価を含有する。
  3. 【請求項3】 前記像形成材料の前記情報に従った露光
    後、前記光重合性組成物の非露光部分もしくは不充分に
    露光された部分を、前記像形成材料及び受像材料が相互
    に接触している間に加熱によって受像材料に転写するこ
    とを特徴とする請求項1又は2の方法。
  4. 【請求項4】 前記受像材料が紙、ポリエステルフィル
    ム支持体、ポリエチレン被覆紙、アルミニウム支持体、
    ポリビニルクロライド支持体又はポリカーボネート支持
    体であることを特徴とする請求項3の方法。
  5. 【請求項5】 前記受容材料が親水性面を有し、かくし
    て転写後平版印刷版を形成することを特徴とする請求項
    3の方法。
  6. 【請求項6】 前記加熱を、像形成材料、受容材料又は
    両者の何れかに適用することを特徴とする請求項3〜5
    の何れか1項の方法。
  7. 【請求項7】 前記光重合性組成物が熱可塑性重合体を
    含有することを特徴とする請求項1〜6の何れか1項の
    方法。
  8. 【請求項8】 前記光重合性組成物が染料又は染料顔料
    を含有することを特徴とする請求項1〜7の何れか1項
    の方法。
  9. 【請求項9】 支持体上に、光重合性組成物及び熱可塑
    性重合体を含有する感光性層を含有する像形成材料にお
    いて、前記光重合性組成物が請求項1又は2に定義した
    少なくとも一種の単量体を含有することを特徴とする像
    形成材料。
  10. 【請求項10】 前記像形成材料が染料又は染料顔料も
    含有することを特徴とする請求項9の像形成材料。
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