JPH0782459B2 - 電子組立体への侵入防御装置 - Google Patents

電子組立体への侵入防御装置

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JPH0782459B2
JPH0782459B2 JP2240182A JP24018290A JPH0782459B2 JP H0782459 B2 JPH0782459 B2 JP H0782459B2 JP 2240182 A JP2240182 A JP 2240182A JP 24018290 A JP24018290 A JP 24018290A JP H0782459 B2 JPH0782459 B2 JP H0782459B2
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intrusion
circuit
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radiation
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グレン・ポール・ドーブル
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インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン
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Description

【発明の詳細な説明】 A.産業上の利用分野 本発明は、電子組立体への侵入の検知に関し、特に、メ
モリに記憶されたデータを読み出すために機械的又は化
学的手段による侵入の検知に関する。
B.従来の技術及び発明が解決しようとする課題 多くのコンピュータ適用業務において、コンピュータメ
モリの中身が、非合法的に又は無許可で引き出されたり
読み出されするのを防止することが強く望まれる。従
来、特定の暗号化システムを備えるとによって電気的に
情報の読み出しを防いでおり、その中のデータは、暗号
化形式で送られ、受け取られ、そして暗号翻訳キーを持
つ許可された者だけがデータを読み出すことができる。
許可されていない者によって読み出されないように機密
データを防御するのに有用な多くの異なる暗号化システ
ムが存在する。暗号化キーと他の機密データは、しばし
ばコンピュータ内部でIC（集積画路）メモリー部品に記
憶される。ソフトウェアの使用によって、記憶された情
報は、キーボード入力を使用して、メモリへの質問を企
てる許可されていない者から十分に保護される。しがし
ながら、許可されていない者であっても必要な技術と知
識を持っていれば、ソフトウェア制御を迂回し、直接に
コンピュータのハードウェアに侵入することができる。
そのような侵入に対する防御のシステムは、コンピュー
タの秘密領域への機械的侵入の企てを検知するいくつか
の型の検知手段を備えている。そして、そのような侵入
が検知されるとき、警報が鳴るか、及び／又は信号が回
路に送られ、その回路はデータを消去する。それによっ
てコンピュータメモリ部品内に記憶された情報が損なわ
れるのを防止する。種々のシステムが提案されている。
それはコンピュータ回路を取り巻くいくつかの型の電子
的又は電気的グリッドを備える。そして、この電気的グ
リッドが破壊されるとき、必要な信号が発生する。その
ような電子的検知のためのシステムは、米国特許第4446
475号及び第3594770号に示されている。しかしながら、
これらの型の装置はいくつかの欠点を有している。１つ
の欠点は、回路を破壊したり又は何らかの欺瞞策を講じ
たりすることなくメモリデバイスにアクセスできるよう
にするために、グリッドに非常に慎重な機械的操作が加
えられる可能性がある。さらに、これら装置のあるもの
は、電気的グリッドを支持する材料が、電気的グリッド
を迂回するようにされたアクセス領域を残すように化学
的に侵入攻撃され、これによりメモリ部品への物理的侵
入を可能にするような形の侵入を受けやすい。
さらに、温度を変えたり又はイオン化している放射線
（例えば、エックス線）を用いたりするその他のより手
の込んだ侵入は、消去コマンドが有効でなくなるほど非
持久メモリデバイスに影響を及ぼし、それによって電気
的保護の迂回を可能にする。
本発明は、化学的及び機械的な侵入攻撃を大いに妨害す
る外部からの侵入検知層を設けることによってこれらの
欠点を克服する。さらに、温度及びイオン化放射線によ
る侵入を検知するための内部回路が設けられる。
不正侵入を防止するための低温検知の使用は、米国特許
第4593384号に開示されている。さらに、情報を防護す
るための温度反応性テバイスは、米国特許第3851602号
に開示されている。イオン化放射線の効果を制限する手
段の使用は、米国特許第4413327号及び第4639826号に開
示されている。しかしながら、これらの特許のいづれ
も、いかなる安全防御手段も示唆しておらず、又機密情
報を得るために非持久メモリデバイスに侵入する目的で
加えられる非常に高いレベルの放射線に反応して情報を
消去する如何なる手段も示唆していない。
C.課題を解決するための手段 本発明の一側面をとらえると、電子組立体への機械的又
は化学的侵入に対して防御するための侵入障壁が設けら
れる。侵入障壁は、電子組立体を取り囲む遮蔽材料を含
んでいる。遮蔽材料は、その上に細い導線を形成してお
り、この導線は少なくとも１本の導線又は導線セグメン
トの抵抗特性を乱すことなしに機械的にアクセスするこ
とを制限するようなパターンをなして互いに近接して配
置される。これらの線は固化したマトリックス中に分散
された導電性粒子材料から形成されており、これは遮蔽
基板から除去されるとその機械的一体性を失うようなも
のである。電気供給及び信号検知手段が設けられ、これ
は導電回線に信号を送るため及び導電回線の抵抗の所与
の変化に反応して出力信号を発生させて、導電回線の抵
抗が、化学的又は機械的に攻撃された結果変化すると
き、信号が発生するようになっている。この信号によ
り、メモリ部品の情報を消去するようにすることができ
る。
本発明の別な側面をとらえると、放射線が所与の強度を
上回って検知されるとき、信号を発生させるように放射
線検知手段が設けられ、そして、放射線がある時間にわ
たって消去を阻止するのに十分な量に達する前に、その
信号は、メモリ部品に納められた情報を消去させるため
に利用される。
さらに別の側面において、本発明は、所期の値よりも低
い温度に反応する電気信号を発生させる温度感応手段を
含んでいる。そして、その信号は、消去が企てられた後
でさえも、メモリ部品の温度が相当数の記憶場所に情報
を保存させるのに十分低い温度に達する前に、メモリ部
品に蓄積された情報を消去させるために用いられる。
D.実施例 第１図は、破線10で示されているメッセージ暗号化機構
の概念的略図である。暗号化されるべき明文メッセージ
は暗号手段12に与えられ、この暗号手段はキーストア14
を経由して明文メッセージを暗号化し、暗号化されたメ
ッセージを与える。暗号化手段12と同様、キーストア14
中の暗号化キーは、調べることができないように防御さ
れなければならない。その理由は、許可されていない者
がこれらのキー及び暗号化方法にアクセスしたならば、
明文メッセージが暗号化されたデータから引き出され、
見境なく悪用されることがあるからである。第２図の概
念的ブロック線図は、キーストア14内に蓄積された暗号
化キーの許可されていない検分を検知し、そして防止す
るようにした本発明の概要を示している。本発明の目的
に沿って、暗号化キーが非持久メモリ16内に保持され
る。非持久メモリ16は、電源スイッチ18によって決定さ
れたバツテリ又はシステム電源のいづれかによって電力
供給される。メモリに対する電力は、センサ回路Ｓ、Ｔ
及びＸによって作動される検知論理NANDゲート22を経由
して電源ゲート20及び短絡トランジスタ21によって制御
される（もちろん、希望するならば、より多くのセンサ
入力データを使用できる）。センサー回路Ｓは、機械的
又は化学的侵入を検知する。センサ回路Ｔは、温度推移
を検知する。センサ回路Ｘは、放射線の照射線量を検知
する。従来周知のように、論理NANDゲート22は、全ての
入力が“オン”又は“高”であるならば、通常“低”又
は“オフ”状態にある。しかしなから何れかの入力が
“低・になるならば、NANDゲート出力22は“高”状態に
なってそれに取り付けられた他の部品に信号を送る。NA
NDゲート出力からのそのような信号は、電源ゲート20に
より非持久メモリ16を電源から切断させ、短絡トランジ
スタ21によりメモリの電源ピンを接地電位に短絡させて
メモリを迅速に消去する。したがって、侵入を示す或る
所定条件が生じた結果としてセンサ入力の１つが“高”
から“低”に変わるならば、NANDゲート22は、“オン”
になり、そして非持久メモリ16からのデータは迅速に消
去される。これらの特定の検知回路の各々については後
述する。
第３図に示すように、回路カート24が設けられ、これは
暗号化用の種々の部品、非持久メモリ16におけるキー記
憶、バッテリ及び暗号化機構10用の非持久メモリの防御
回路をカード上に備えている。非持久メモリ16以外の部
品は、全体的に符号26として示され、全て概念的に示さ
れている。これらの部品もバッテリを含んでいる。ここ
に示された特定の配置、数及び機能は本発明を何ら限定
するものではない。回路カード24の各側に配設されたも
のは、部品上に整合し、遮蔽部材の包装に適した形状又
は適当な制御面を備えている一対のプラスチックからな
る成形部品27及び28である。回路カード24がピンを採用
するならば、そのようなピンを受け取るための穴又はス
ロットが上記成形部品28に設けられる。パターン化され
たリード箔シート29は、非持久メモリー記憶部品16の両
側に放射線シールドを与えるようにプラスチック成形部
品27及び28上に配置される。上記鉛箔シート29は、放射
線センサーの位置に合うようにするために一部分30を切
り取っている。回路カード24、成形部品27及び28、鉛箔
シート29はすべて積み重ねられてその周りを包み込む遮
蔽部材31（第３図乃至第６図）を受け入れるようになっ
ている。この遮蔽部材31は回路カード24に対する許可さ
れない如何なる機械的又は化学的侵入の企てに対しても
障壁を形成することになる。
第４図乃至第６図に示すように、遮蔽部材31は、遮蔽導
電回線33の曲がりくねったパターンを持つマイラー（ポ
リエチレンテレフタレートについてのE.I.デュポン社の
商標）フィルム32のような強靱な可撓性基板で構成され
ている。上記導電回線33は、ポリビニル塩化物のような
有機マトリックス材料中に分散される銀及び炭素の粒子
等のような導電粒子34で構成されている。これらの導電
回線33は、従来のスクリーン印刷方法によってマイラー
膜上に付着され、相互に十分に近接し合っており、回路
カード24の機械的突き刺しによる検査を妨げる寸法を有
する。線幅0.25mm、厚み0.013mm、約0.5mmの中心間隔を
置くのが好ましい形状である。回線33上の薄いアクリル
膜35（第６図）は、水分及び大気汚染物のようなものか
ら回線33を保護する。第４図を参照すると、回線33は通
常のスクリーン印刷により折り返しパターンをなして基
板32上に付着されてほぼ等しい抵抗の２つの脚部又は部
分36、37を形成するようになっており、一方の脚36は電
気的接点38で終端し、他方の脚37は電気的接点39で終端
する。２つの脚36、37は共通の中央電気的接点40をを持
っている。２つの脚36、37は、ブリッジ回路における２
つの抵抗脚として作用する。
一対の側面フラップ41により遮蔽部材が形成されてい
て、これは回路カードの縁部を保護するように機能す
る。基板31に粘着性裏当て42を設けることも望ましく、
そして、第５図に示すように、遮蔽部材31は、重ねられ
た回路カード24、プラスチック形成部品27及び28、リー
ド条片の周りに部分的に巻き付けられる。電気的接点3
8、39及び40は、形成部品27の穴44を通して回路カード2
4上のそれぞれの端子43に接続される。これらの端子43
は、第10図に示された回路に接続するためのカード24上
の接点を概略的又は概念的に示したものである。次に、
遮蔽部材の残余の部分は、遮蔽接点を覆うために、周り
に完全に巻き付けられ、側面フラップ41は、第７図に示
されたように成形部品の側面上に折り畳まれる。この形
状は、成形部品・27、28に接着させるための粘着性剤42
付きの導電回線を持つ遮蔽物により完全に封入された部
品を有するカードを与える。次に、第７図に示された組
立体は、第８図及び第９図に示されるようにスチール容
器45内に置がれ、そして硬化された後は非常にかたく、
そしてもろくなる薄いエポキシ膜46により完全にカプセ
ル封止される。
容器45は、回路カード24の部品に或程度のEMIシールド
を与える。エポキシ材46は、遮蔽部材を作る材料よりも
かたく、よりもろく、より丈夫で耐久性を持つように選
ばれる。エポキシ材を機械的に取り除く試みは、エポキ
シ材が壊れるとき、回線33を破壊又は破裂させる種々の
破壊の態様をもたらすことになる。遮蔽部材へのエポキ
シ材46の接着は、下にある回線33を破壊することなく遮
蔽部材からエポキシを機械的に分離するのが非常に困難
となるようになっている。さらに、回線33へのエポキシ
46の接着強度は、基板32への回線33の接着強度よりも強
く、したがって、エポキシ材46及び遮蔽部材31を通して
非持久メモリ部品16に到達しようとする如何なる機械的
侵入の企てをもを妨げることになる。エポキシ材46は、
エポキシ及び遮蔽部材31を構成する材料が、両者とも類
似の溶剤又は試液による攻撃を受け、従って、エポキシ
材46を溶解しようとする企てが溶剤による回線33の化学
的攻撃をもたらして回線33に抵抗変化（これは回線33の
短絡又は断線となることさえある）を生じる可能性が非
常に高くなるように選ばれている。
接点38、39及び40は、第10図の回路線図に示すような回
路カード24上の端子44を介してセンサＳ用の回路に取り
付けられる。当該回路は、直列に接続された抵抗54、55
及び56、そして一対の演算増幅器57、58を含んでいる。
演算増幅器57の負入力と演算増幅器58の正入力は、回線
33の中央接点40に接続されている。回線33の接点38は、
電源スイッチ18を経由して装置電源又はバッテリに接続
されている。線33の接点39は接地されている。抵抗54、
55及び56は、装置電源又はバッテリと接地の間に直列接
続されている。抵抗54及び56は同じ値になるように選択
されている。抵抗54及び56の値との関係において選ばれ
る抵抗55の値は、遮蔽部材31の脚36及び37の抵抗の差に
上方及び下方の限界を与える。演算増幅器57の正入力
は、抵抗54及び55間に接続され、演算増幅器58の負入力
は、抵抗55及び56間に接続される。このような構成にお
いて、回線32の脚36及び37の抵抗が等しいとき、両増幅
器57及び58が作動する。しかしながら、脚36又は37のい
づれか一方の抵抗が、レジスタ55によって設定された限
界から十分に増加又は減少するならば、演算増幅器57及
び58の偏椅が変化するので、その一方又は他方が“オ
フ”に変わり、したがって、NANDゲート22への入力は
“高”から“低”に変化する。前述のように、このこと
は、NANDゲート22の出力を“低”から“高”に切り替
え、これにより電源ゲート20を“オフ”に変え、そして
短絡トランジスタ21を“オン”に切り替えて非持久メモ
リ16に記憶された情報を迅速に消去するのに必要な信号
を送る。脚36及び37の抵抗の変化は、企てられた侵入に
よって生じる何れかの脚の断線又は短絡に起因するもの
か、又は化学的攻撃若しくは他の手段によりもたらされ
る脚36又は37の抵抗のゆるやかな変化によるものである
ことがありうる。したがって、第10図に示された回路
は、侵入が完了し、非持久メモリを読み出し得る状態に
なる前にNANDゲート22に信号を送って、情報を消去させ
る信号を送ることによって企てられた機械的又は化学的
侵入に反応することになる。
前述のように、特別の予防策が採られないならば、メモ
リのデータを喪失させることなく遮蔽障壁をくぐり抜
け、又は障壁と妥協点を見い出し、或いはこれを迂回す
るような種々の特別の侵入がある。そのような侵入に
は、イオン化放射線の制御された照射、及び低温に対す
る制御された露呈が含まれる。第11図に示された回路
は、可視光線及びイオン化放射線のいづれも検知し、イ
オン化放射線が非持久メモリに永久的な影響を与え得る
状態になる前にメモリ16を消去する。第12図に示された
回路は、所定値を下回る温度の推移を検知し、低温が非
持久メモリに影響を及ぼす前に、メモリを消去する。可
視光線及びイオン化放射線に反応するセンサＸ用の回路
が第11図に示されている。この回路は、抵抗64と直列に
なっているダイオード63に一方の入力が接続された演算
増幅器62を含んでいる。この直列組み合わせは、演算増
幅器62の正入力に基準電圧を供給する。演算増幅器62の
負入力は、光ダーリントン対又は光トランジスタのよう
な感光性デバイス65と抵抗67の間に接続されている。電
源スイッチ18を経由して装置電源又はバッテリに接続さ
れ、又抵抗67を介して接地接続される。コンデンサ68及
び69と抵抗66及び70は、ノイズを取り除くために設けら
れている。感光性デバイスは、それが鉛箔シート29によ
って遮蔽されないように、又好ましくは非持久メモリチ
ップ16に対して企てられた照射が感光性デバイス65を放
射線に晒すように鉛箔シートのノッチ30の下で非持久メ
モリチップ16に近接して配置される。正常な動作におい
て、感光性デバイス65は、照射されないので不導電性を
有し、演算増幅器62は“オン”に偏椅される。しかしな
がら、感光性デバイスが、十分な量の放射線（イオン化
しているか又は可視スペクトル）を感知すると電流を生
じて演算増幅器62上の偏椅を変え、これをオフにする。
これは、NANDゲート22を“オン”に切り替え、電源ゲー
ト20及び短絡トランジスタ21に信号を送って、前述のよ
うに非持久メモリ16に蓄積された情報を消去させる。
センサＴの回路か第12図に示されている。この回路は、
抵抗70とともに他に３つの抵抗72、74及び76がブリッジ
回路の４つの脚を与え、その回路は、演算増幅器78に接
続されている。抵抗70は、抵抗の負の温度係数（NTC）
を有する熱抵抗である。即ち、その抵抗は温度の減少に
伴ってを増大する。３つの抵抗72、74及び76の値は、動
作温度範囲内で演算増幅器78を通常“オン”に偏椅さ
せ、そして選ばれた温度で演算増幅器を“オフに偏椅さ
せるように選ばれる。抵抗76の値は、熱抵抗器70の温度
特性に基づいて決定される。したがって、通常の動作に
おいて、演算増幅器78は、通常“オン”に偏椅される
が、温度が選択された低い値以下、例えば０℃、又は−
20℃又は非持久メモリ16の温度依存保持特性に関係する
ある他の値以下に落ちるとき、演算増幅器78は、上述の
ように“オフ”に変り、非持久メモリ16に蓄積された情
報を迅速に消去させる信号をNANDゲートにより与える。
本発明の一実施例が示され、記載されてきたが、本発明
はこれに限定されるものではなく、本発明の範囲から逸
脱することなく種々の適応化及び変更を加えることがで
きる。
例えば、多数の事象のうちの１つにより侵入されている
ことが感知されるならば、NANDゲートは、メモリの消去
をもたらす論理的OR機能を行う他の論理回路と置換され
て良い。又侵入の他の証拠を検知するために追加のセン
サが使用されても良い。
E.発明の効果 本発明によれば、電子組立体への機械的又は化学的侵入
からメモリ内に蓄積されたデータが読み出されることを
防止することができ、例えば、所定の強度を超える放射
線を検知したとき、メモリ内に蓄積された機密情報を消
去することができるようにすることができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は、メッージ暗号機構装置の該略線図、第２図
は、暗号機構装置及び該装置の許可されていない検査を
検知し妨げる手段の概略線図、第３図は、種々のデバイ
ス及び部品を搭載した回路カードの分解斜視図であり、
可携性遮蔽薄膜を包むための形状を与えるためにカード
に整合するプラスチック成形部品を示しており、第４図
は、本発明に使用される可携性遮蔽部材の概略斜視図、
第５図は、回路カードに取りつけられた遮蔽鉛により部
分的に包まれた可摸性遮蔽部材を示している第３図の装
置の概略斜視図、第６図は、第５図の６−６線断面図、
第７図は、遮蔽部材が回路カード上で包まれる第５図に
類似した装置の概略斜視図、第８図は、エポキシ材中に
カプセル封止され、スチール容器内に収納された組立体
を示している第６図に類似した装置の概略斜視図、第９
図は、第８図の９−９線断面図、第10図は、遮蔽部材を
通して機械的又は化学的侵入を検知するために使用され
る回路の回路線図、第11図は、強い放射線の使用によっ
てデータを検知し、得るために用いられる回路の回路線
図、第12図は、低温により情報を検知し得るのを妨げる
ために用いられる回路の回路線図である。10……メッセ
ージ暗号化機構、12……暗号化手段、14……キースト
ア、16……非持久メモリ、21……短絡トランジスタ、22
……NANDゲート、24……回路カード、29……鉛箔シー
ト、31……遮蔽部材、33……導電回線、34……導電粒
子、46……エポキシ材。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−308950（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−85847（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−78250（ＪＰ，Ａ) 特開 昭63−237144（ＪＰ，Ａ)

Claims (21)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】電子部品を内蔵する電子組立体への外部か
    らの侵入を防御するための装置において、 上記電子組立体を取り囲む遮蔽手段であって該電子組立
    体を包み込む可撓性の一体構造の膜と、 該膜の上に形成された導電回線であって、有機マトリッ
    クス材料中に分散された導電性粒子から成り、該回線を
    損傷することなく該回線及び膜を突き通して機械的にに
    侵入することを不能ならしめる如き密度のパターンを有
    するものと、 上記導電回線の上から上記電子組立体を全体的にカプセ
    ル封じするカプセル封じ材料であって、前記導電回線に
    接着し、その接着力が前記膜に対する前記導電回線の接
    着よりも強く、前記膜よりも化学的により強い耐久性を
    持つ物質から選ばれたものと、 上記導電回線に入力信号を供給する電源手段と、 上記導電回線の抵抗の変化に反応する出力信号を発生さ
    せるための信号検知手段と、 を含む電子組立体への侵入防御装置。
  2. 【請求項２】上記電子組立体が非持久メモリ手段と、上
    記出力信号に反応して上記非持久メモリ手段に記憶され
    たテータを消去するための手段を内蔵する請求項（１）
    記載の電子組立体への侵入防御装置。
  3. 【請求項３】上記導電回線が複数の回線セグメントを含
    み、上記信号検知手段が２つの上記回線セグメント間の
    抵抗の変化を検知する請求項（２）記載の電子組立体へ
    の侵入防御装置。
  4. 【請求項４】上記導電回線が分圧器回路の一部を形成す
    る請求項（３）記載の電子組立体への侵入防御装置。
  5. 【請求項５】上記分圧器回路における上記回線セグメン
    トの抵抗の変化に反応して信号を発生させる手段を有す
    る請求項（４）記載の電子組立体への侵入防御装置。
  6. 【請求項６】上記信号が上記分圧器回路に接続された増
    幅器手段により発生させられる請求項（５）記載の電子
    組立体への侵入防御装置。
  7. 【請求項７】所定の温度値を下回る温度推移を検知する
    手段と上記温度推移の検知に反応して出力信号を発生さ
    せる手段を有する請求項（２）記載の電子組立体への侵
    入防御装置。
  8. 【請求項８】上記温度推移を検知する手段が上記温度推
    移に対する反応を制御する基準信号を与える手段を有す
    る第２回路手段を含んでいる請求項（７）記載の電子組
    立体への侵入防御装置。
  9. 【請求項９】所定の値を上回る放射線を検出して検出放
    射線に応答する出力信号を発生する手段を含んでいる請
    求項（８）記載の電子組立体への侵入防御装置。
  10. 【請求項１０】上記第２回路手段が温度の関数としてそ
    の出力が変化する温度感応性抵抗を有する請求項（８）
    記載の電子組立体への侵入防御装置。
  11. 【請求項１１】上記第２回路手段が基準ブリッジ回路で
    ある請求項（10）記載の電子組立体への侵入防御装置。
  12. 【請求項１２】上記出力信号が、上記第２回路手段と回
    路的に接続された増幅器により発生される請求項（10）
    記載の電子組立体への侵入防御装置。
  13. 【請求項１３】所与の値を上回る放射強度を検知する手
    段と、上記検知された放射線に反応して出力信号を発生
    する手段により特徴づけられる請求項（２）記載の電子
    組立体への侵入防御装置。
  14. 【請求項１４】上記放射線を検知する手段が、上記検知
    された放射線に応じてその特性を変化させる手段を有す
    る第３回路手段を含んでいる請求項（13）記載の電子組
    立体への侵入防御装置。
  15. 【請求項１５】上記特性を変化させる手段が、上記第３
    回路手段における感光性テバイスである請求項（14）記
    載の電子組立体への侵入防御装置。
  16. 【請求項１６】上記第３回路手段が、上記出力信号を与
    える演算増幅器を含んでいる請求項（15）記載の電子組
    立体への侵入防御装置。
  17. 【請求項１７】上記放射線検知手段により受け取られる
    放射線に比べて、上記非持久メモリにより受け取られる
    放射線を滅少させるために放射線シールド手段を備える
    請求項（13）記載の電子組立体への侵入防御装置。
  18. 【請求項１８】ゲート手段が、上記出力信号を発生させ
    るために設けられる請求項（２）記載の電子組立体への
    侵入防御装置。
  19. 【請求項１９】上記出力信号に反応して上記非持久メモ
    リへの電力供給を止めるスイッチ手段を含んでいる請求
    項（２）記載の電子組立体への侵入防御装置。
  20. 【請求項２０】上記出力信号に反応して上記非持久メモ
    リを短絡させるトランジスタ手段を有する請求項（19）
    記載の電子組立体への侵入防御装置。
  21. 【請求項２１】EMIシールドを与える手段を有する請求
    項（２）記載の電子組立体への侵入防御装置。
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