JPH07506808A - キラル・オキサゾリンによる高光学純度の2−アリール−プロピオン酸の立体選択的合成 - Google Patents

キラル・オキサゾリンによる高光学純度の2−アリール−プロピオン酸の立体選択的合成

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 キラル・オキサゾリンによる高光学純度の2−アリール−プロピオン酸の立体選 択的合成 本発明は、2−アリール−アルカン酸(2−aryL−alkanoic ac id)の光学的に純粋な鏡像異性体の立体特異的化学合成に関するものであり、 特に化学的高収量で、大量生産に適しており、分子ふるい(4,0人)の存在下 で光学的に高純度である生物学的活性を有する(S)−アリール−プロピオン酸 に関するものである。スタート物質は、対応するトリアルキルオルソアルコナー ト(trialkyl orthoalkonate)および(Is、2S)− (+)−2−アミノ−1−フェニル−1,3−ジオールから得た、適度に置換し た(48゜5s)−2−アルキル−4−アルコキシ−5−フェニル−2−オキサ ゾリンである。次の化学工程は、リチウム・ジイソプロピルアミドのようなリチ ウム含有強塩基との反応と、高光学純度(〉95%)の対応するS鏡像異性体の 大量生産を可能とするプロトン化を次に伴うアリルのハロゲン化物を含む。キラ ル・アミノアルコールは、分離が容易で高光学純度を有するか安価で触媒活性を 有する分子ふるいと同様に、再利用も可能である。
本発明は、立体特異的合成に関するものであり、大量生産に適する工程である。
光学活性2−アリール−アルカン酸(2−aryl−alkanoic aci d)、特に高化学収量で旋光とNMR技術による測定で95%光学純度の2−ア リール−プロピオン酸の生産を目的とする。立体特異的合成では、適切に置換し た(4S、 5S)−2−アルキル−4−アルコキシ−5−フェニル−2−オキ サゾリンを利用している。
これは対応するtrialkyl orthoalkonatesと(Is、  2S)−(+12−アミノ−1−フェニルプロパン−1,3−ジオールとの反応 により容易に得られる。この場合法にリチウム・ジイソプロピルアミド(LDA )のようなリチウム含有塩基とのリチェイション、およびその後の適切なハロゲ ン化アリールを通じてのアリール化、および次にプロトン化が必要である。S− 鏡像異性体の鏡像異性体的過剰率は、−20℃と一35℃間の低温で極性溶媒と 分子ふるい(4,0人)の使用により容易に得られる。
本化学工程により、分子ふるいと同様にキラルアミノ−アルコールの再利用の利 点もあり、高化学収量で高光学純度の2−アリール−プロピオン酸の生産が可能 である。R鏡像異性体は、(IS、 2S)−(+)一対掌体(antip。
de)の代わりに(IR,2R)−(−)−2−アミノ−1−フェニルプロパン −1,3−ジオールを使用して、同様のルートを通して得られる。
アリール酢酸とその2−メチル同族体、特に2−(R,S)−アリール−プロピ オン酸の医薬的側面については、5henの検討しているところである(She n T、Y、、 in: Wolff、M、F、(ed)、Burger’s  Medical Chemistry、4版、3部、Wiley、 Inter science、 New York、 pp 1205−1271)。多くの 臨床的研究が、疼痛と炎症に対するこの特殊な種類の化合物の効果を実証するた めに続けられている。
この種類のカルボン酸では、シクロオキシゲナーゼ経路に対して典型的ではない 作用と同様に、シクロオキシナーゼ経路に対して抑制的メカニズムをこの種の化 合物のカルボン酸で経るものがあることが示されている(例、Carty、Th 、、J、、ら。in: ^nnual Report in Medical  Chemistry(医療化学年報)、23巻、pp181−189゜1988 年; Academic Press)。2−アリル−プロピオン酸に対する、 立体選択的素因速度論は確立されており、またより活性的S異性体への低活性R 鏡像異性体の一方向性代謝キラル反転(Adams、 s、、ら、 1976年 J、 Phar+s、 Pharmacol、2B+ 256; Butt^、 J、、とCaldwell、J、C11n、Pharmac、、9,371.  1984年; Butt、A、J、、とCaldwell、J、。
J、Pharm、Pharmacol、、 35,693.1983年)も確立 されている。さらに新しい研究が明らかにするところでは、ラセミ・イブプロフ ェンの静脈注射はPGE2に加えてC5aala−argに対するウサギの皮膚 についての好中球依存性浮腫反応を抑制する。一方所見は、この2−アリル−プ ロピオン酸類誘導体の非シクロオキシナーゼ活性を示している(M、 Ramp artとT、J、lilliams、 Biochet、 Pharmakol 、35,581. 1986年)。
多くの研究が、疼痛と炎症に対する2−アリールプロピオン酸のこの種の効果を 実証するために続けられている。しかし、非ステロイド性抗炎症剤のいくつかの カルボン酸が、典型的なシクロオキサゲナーゼ経路抑制を越える作用のメカニズ ムを有するということを明らかにする研究もある。さらに、アスピリンの主要代 謝産物であるサルチル酸塩は、血小板活性化因子(PAF)により誘発されたラ ットの脚の浮腫を阻害する点で、有効であることが観察されている。またこれは 、他の非ステロイド性抗炎症剤により共有されない活性であると考えられている (R,S、Cordeiro、 P、M、5ilva、 M、A。
MartinsとB、B、Vorgaflig、Prostaglandin、 32,719. 1985年)。
従って、純粋S鏡像異性体は多くの理由で、その使用が治療に適すると考えられ る。例えば、i)ラセミ体についての生物学的活性S鏡像異性体投与量の減少、 ii)物質投与は、(R,S)−ラセミ混合物と比較して、かなり少ない。従っ て副作用は殆ど考えられない。1ii)薬物作用はさらに速い、何故なら受容器 がこの特異的鏡像異性体化合物に対する高い固有の親和性を有する鏡像特異的で あるからである。
従って、このS−(+)−鏡像異性体を経済的に魅力のある量で生産するために は、S鏡像異性体を工業的規模で生産できることが望ましい。この場合には立体 特異的化学合成による高光学純度(98%)を有する。光学的活性塩基である2 −aryl−alkanoic acidsの純粋鏡像異性体、特に2−アリー ル−プロピオン酸の獲得と離れて、(Biaschke、 G1. Angew  Chem、92.14−25.1980年)あるいは生化学的ラセミ分離を通 して(P、 LestiとP、Piccardi、 Eur、特許比IJEP  195.717.1986年; J、S、N1cholsonとJ。
G、 Tantum、米国特許4,209.638.1980年)、僅かの化学 立体選択的工程のみが発表されている。また酵素、特に豚肝臓由来のものがラセ ミ分離のために使用されている(Marshek、 1.J、とMiyano、  M、、1973年、Biochim。
Biophys、 Acta 316.363)。
さらに、光学的活性酸のリパーゼ−触媒生産がエステルの不斉加水分解を通して 準備可能であることがCambonとK11banov (B、Cambonと A、 M、 K11banov、^pp1. Biochem、およびBiot echnology、 9.255−258. 1984年)により報告されて いる。特異的に、Candida cylindracea由来のリパーゼがオ クチルR(+)を加水分解するが、5−(−)=2−クロロプロピオネートを加 水分解しないことが見いだされている。公表された下記の同様の方法も参照。
Marshek、 W、 J、とl1iyano、 M、 (1973年)、B iochim、Biophys、 Acta 316.363゜0ritani 、 T、とYamasita、 K、 (1974年)、Agric、 Bio l。
Chen+、38. 1965年 Yamaguchi、Y、、 0ritani、T、、 Tajima、 N、 、 l:on+atsu、A、とMoroe、 T、 (1976年)、J、A gric、Chet Soc、Japan 50.475゜ McGahren、We、J、、Sax、K、J、、Kunstmann、M、 P、 とEllestad、 G、 A、 (1977年)、J、Org、Ch ew、 42.1659゜MorL K−とAkao、 H,(1980年)、  Tetrahedron 36.91゜Iriuchijima、 S、とK eiyu、 A、 (1981年)、Agric、 Biol。
Che■、45. 1389゜ Kawai、 K、 、 I+muta、 M、とZiffer、 H,(19 81年)、Tetrahedron Lett、、22,2527゜Iriuc hijima、 S、とKojima、 T、 (1982年)、Agric、 Bi。
1、Chew、46,1153゜ Lavayre、J、、Verrier、J、とBaratti、 J、 (1 982年)。
Biotechnol、Bioeng、24,2175゜Iriuchijim a、 S、 、 Keiyu、 A、とKojima、 N、 (1982年) 。
^gric、Bio1.Chem、46,1593゜これらの方法の有用性と工 業的適応性は障害があり制限されている。その制限とは、エステルの加水分解に おいて、多くのリパーゼのうちほんの僅かのものしか立体特異性を示さないこと である。
これらの技術と人間光学の工程は、現在同様の障害を受けている。これらの工程 は、化学ラセミ体分離のための望ましい光学的立体異性体の回収率とラセミ化の ために、大量の原料を必要としており、また使用溶媒の再蒸留を必要としている 。そのために、これらの工程は非能率的である。最終的に、この工程が終了した 後に濾過液から得られる高光学純度の結晶性化合物は少量のものでしかない。そ こで、本発明は、これらの不要な諸段階を排除することにより、結果的に原料費 、製造、労力および設備を実質的に節約することとなる。
ラセミ体2−aryl−alkanoic acids、特に2−アリール−プ ロピオン酸また特に(R,S)−イブプロフェンの合成方法は、周知であり、い くつかの特許および次の科学文献において開示されている。例、Tanonak a、 T、 、ら、DE3523082 al、(1986年)、微生物を使用 、JP−PSEN 4O−7491(1965年)、47−18105、(19 72年); JP−OS 50−4040゜(1975年); DE 2404 159 (1974年); DE 1443429 (1968年)J、S、N 1cholsonIl!−3,S、^damsによる; DE 2614306  Bruzzese、 Tらによる、(1976年); DE 2605650  Gay、^、、による(1976年); DE 2545154 Heuss er、J、による(1976年)、およびDE 2404160 Kogure 、に、ら、による(1974年)。
意外にも、知られているところでは、2−aryl−alkanoic aci ds、特に2−アリール−プロピオン酸の立体特異的化学合成法は僅かしか知ら れていない。Piccoloら(J、Org、CheIll、50.3945− 3946. 1985年)は、塩化アルミニウムの存在下でのベンゼンあるいは イソブチルベンゼンの、(S)−メチル−2−(クロロスルフォニル)−オキシ あるいは2−(mesyloxy)propionateを使用したアルキル化 による立体特異的合成につき記述している。この場合、(S)−メチル−2−フ ェニル−プロピオネートを、高い化学的収量(50−80%)と攻撃炭素原子で の立体配置反転による旋光により測定した97%を越える優れた光学的収量で得 た。反応条件は、特許のいくつかで記載されているものでは酷似している(Jp n、 Kokai Tokkyo Koh。
5808045; Chem、Abstracts、1983年、98; 14 3138 k、 Jpn、 Kokai Tokkyo Koho 79792 46; CheIIl、 Abstracts。
1980年、 92,6253 f)これらの特許では、ラセミ体の試薬を使用 している。例えば、トルエン、イソブチルベンゼン、tetrali口e、アニ ソール、ナフタレン、2−メトキシ−ナフタレン等の他の芳香族基質に対する反 応のこのタイプの拡張については次の文献に記載されている。 つまり、 Jp n、Kokai Tokkyo Koho 7971932; Chew。
Abstracts 1979年、91.20125 b;Jpn、Kokai  Tokky。
Koho 78128327; Chem、Abstracts 1978年、 89. 23975 y; Jpn、 Kokai Tokkyo Koho  81145241; Chem、^bStracts 1982年、96. 6 8650 z; Jpn、Kokai Tokkyo Koho 781499 45; Chem、Abstracts 1979年、90.168303 h 。
Jpn、 Kokai Tokkyo Koho7844537; Chew、  Abstracts 1978年、89. 108693 h; Jpn、K okai Tokkyo 77131551;Chem、Abstracts  1978年、 88.104920h0最近の論文で、Piccoloら (J 、 Org、 Chem、 52. 10. 1987年)はR−(−)イブプ ロフェンに導(合成につき記述している、一方Tsuchihashiら(Eu r、Pat、Appl、EP 67.698. (1982年);Chem、A bstracts 98. 178945 y、(1983年))は、約75% の優れた収量と高光学純度(〉95%)を有するR−(−)イブプロフェン−メ チルエステルの立体特異的合成につき報告している。これに対してPiccol oら(J、Org、Chem、 32゜10、1987年)の場合はR−(−) イブプロフェンについてのみ光学純度は15%である。しかしなが呟 同著者等 は、75−78%の光学純度を有するS−(+)イブプロフェンの68%の化学 的収量につき報告しているのみである。1ayashiら(J、Org、Che m、48. 2195. 1983年; in: Asymmetric Re actions and Processes In Chemistry;  eds E、L。
ElielとS、0tsuka、AC3−SymAC3−5y Ser、198 5年、 1982年、177)は、キラル・ホスフィン・ニッケルとホスフィン −パラジウム複合体を触媒とした不斉グリニヤール交差結合を通じてS−(+) イブプロフェンの立体特異的合成につき述べている。アミノ酸を含む、上記金属 ホスフィン複合体の影響下で多種のハロゲン化アルケニルとの結合生産物の鏡像 異性体過剰率は、配位子に強く依存し、60−70%の範囲で、上限が94%と なる。大変有用な配位子がキシル2−アミノアルキルホスフィンにおいて発見さ れている。またこれにより、合理的化学的収量および高光学純度が得られる。さ らに、光学的活性な2−aryl−alkonatesは、5atoとMura i (Jpn、 Kokai Tokkyo Koho JP61.210,0 49 t 86,210,049. 1986年)によりフリーデル・クラフッ 合成を通してS−(+)イブプロフェン46%の収量で合成されている。Gio rdanoら(EP出願0158913.1985年)は、光学的活性2−ar yl−alkanoic acidsおよび、ケタール基に対する脂肪族炭素原 子のハロゲン化と薬理活性を有する2−aryl−alkanoicacids を生産するhaloketalsの転移によるその中間体の調製工程を報告して いる。2−アリール−プロピオン酸の立体化学的合成は、Robertsonら (EP出願0205215A2.1986年)により記述されている。彼らは2 −(R1)−アルカンを真菌類Cordyceps特にCordiceps m tlitarisのための炭素源として使用して、高光学純度の鏡像異性体S− (+)産生物を得ている。
抗炎症性2−アリール−プロピオン酸の合成方法モマた、Rieuら(J、P、 Rieu、A、Boucherle、H,Cousseeと廓Mouzin、  Tetrahedron Report No、205.4095−4131. 1986年)により報告中に列挙されている。しかしながら、この報告は、2− アリール−プロピオン酸の立体特異的化学合成の評価よりも主にラセミ体に関与 している。
さらに、精製S−あるいはR−鏡像異性体用2−アリール−プロピオン酸の立体 化学合成についての新規の報告が、La5senら(R,D、La5sen、E 、G、Corley、P、Davis。
P、 J、 Re]、derとE、J、J、Grabowski、J、Amer 、Chem、Soc、111゜7650、1989年)によるごく最近の論文に おいてと同様にKontakte (Darmstadt、 3.13−15.  1989年)において開示されている。
例えば、トリフェニルホスフィン(Ph3D)の存在下でのテトラカルボキシル 鉄酸ナトリウム(−n )(NatFe(Co)4)によるRあるいはS立体配 座の1−アリール−エタン−ハロゲン化物の直接変換のような、遷移金属複合体 に適用する触媒不斉反応が進歩し、これにより高鏡像体過剰率と経済的に充分な 収量を有するキラル化合物を合成することが可能となった(再調査の際の参照、 っまりOjima、1.、Lios、、N、、Barton、C,、Tetra hedron 1989年、45.6091)。ごく最近、プロキラル非対称ケ トンから望ましいキラル化合物を得るために、一定のキラル物質の化学量論的量 が非常に効果的に分子ふるいの存在下でキラル物質として適用可能であることが 実証されるようになった。
本発明は、立体特異的型である次の構造式を有する化合物あるいは薬学的に許容 可能なその塩の工程に関するものである。
そこにおいては、Arは単環、多環、あるいはオルト縮合多環式芳香族グループ で芳香環において上限で12ケの炭素を有している。またこの芳香環は次の(a )(b)から成る芳香環において置換されている場合と置換されていない場合と がある。
(a)塩基を含む第1族金属を有する反応性(4S、 5S)−2−アルキル− 4−アルコキシ−5−フェニルオキサゾリン。
ここにおいてフェニルオキサゾリンは構造式(下記)を有し、R′は低級アルキ ル、R”’は1−10ケの炭素原子を含むアルキル、 Phはフェニルあるいは 低級アルキルで置換したフェニル。
(b)Ar−Balを有する(a)の反応性産生物、ここでArは上記にて定義 されまたHatはハロゲン化物として定義。
キラル・オキサゾリンの使用のいくつかは、MeyersとMihelichが 要約している(A、 1. MeyersとE、 D、 Mihelich、^ ngew、chem、88321. 1976年; A、1.Meyers、D 、L、Temple、R,L、No1enとE、D、Mihelich、J、O rg、Chem、39,2778゜1974年: A、1.Meyers、 G 、Knauss、 K、Kamata、とM、 E、 Ford、J、^mer 、chem、soc、98.567、 1976年)。さらに、シントンとして のα−ヒドロキシ酸の鏡像異性体と同様にオキサゾリン類のホウ素エノラートを 通じての2.3−二置換カルボン酸、すなわちアルドール産生物の不斉炭素−炭 素結合形成反応における補助としてのキラル・オキサゾリン類の使用は、ご(最 近A、 1.1eyersにより、また再調査されている(A、 1. Mey ears :化学における不斉反応と工程における”キラル・オキサゾリン類を 通しての不斉炭素−炭素結合形成反応”、 edsE、L、Eliel、 S、 0tsuka、^C3−SympC3−5y 5eries 185.1982 年)。2−alkyl−alkanoic acidsに関する立体特異的化学 合成についての報告が、人、J、Meyers、 g、Knaussとに、Ka nnata、 J、Amer、chem、soc、、96,268. 1974 年; A、J、MeyersとG、 Knauss、 J、Amer、Chem 、Soc、96.6508.(1974年)によってなされた)。
現在まで、最低95%の鏡像異性体過剰率(誤りは別にして)の高光学純度のS あるいはR−鏡像異性体2−アリール・プロピオン酸の大量生産のだめのシント ンとしてのキラル・オキサゾリン類の潜在能力については、開示されていない。
本発明において開示されている鏡像異性体精製2−アリール−プロピオン酸生産 のためにキラル・オキサゾリン類を適用するこの特異的工程は、工業的大量生産 工程について魅力がある。原料の低コストである。つまり、(Is、 2S)− (+)−2−アミノ−1−フェニル−プロパン−1,3−ジオールが経済的に安 価であり、反応完了後の再利用が可能である。酸加水分解後のキラル・アミノ− アルコールの精製を必要としない(側面I参照)。鏡像異性体純粋第2アルコー ル生産用のアオキサジノン類に複合されるヒドロキシル化合物R’ ORの存在 下で、例えば2.2’−’ジヒドロキシー1,1°−ビナフチルのような個々の キラル還元剤の適用:この工程中で回復され、再利用可能な分子ふるいが存在す るために、反応器における開始反応時間;および溶媒が少量であること。さらに 、最も重要なことは、一度工程が確立されると、一つの反応器でその全生産が管 理可能である。そこで多目的装備は不要である。さらに、公知方法に比較して、 不斉合成のためにオキサゾリン類を適用することにより、高鏡像異性体選択性( 95−98%誤りは別として)の産生物を得る通常の化学量論的システムよりも 反応を速(進行させることが可能となる。
2−aryl−alkanoic−acids特に<S>−<÷)−鏡像異性体 に関する2−アリール−プロピオン酸のこの提案中の不斉合成には、補助剤の再 利用のための面倒な回復段階は不要である。これはキラル還元化合物あるいは錯 化合物である安価な(Is、 2S)−(+)−2−アミノ−1−フェニル−1 ,3−ジオールが光学的純度を損なうことなく遊離2−aryl−alkano ic−acidsとともに副産物として得られるためである。従って、この工程 の一つの重要な単純化は、それに応じて光学純度を損なうことなく他の反応産物 からの分離精製を回避することである。
ここで使用した低級アルキルは、単独あるいは組み合わせて使用する場合1−6 の炭素原子を含むアルキルを意味する。アルキル基は直鎖あるいは分備状の場合 があり、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、 第2級(sec)ブチル、第3級(tert)ブチル、ペンチル、アミル、ネオ ペンチル、ヘキシルおよび同類の基を含む。当該アルキル基は炭素原子l−4を 有するものが望ましい。
Ar基は単環、多環式あるいはオルト縮合多環式芳香族で14ケまでの環炭素原 子と総じ°1gまでの炭素原子を有する。Ar基は単環、2環あるいは多環式の 場合があり、置換されていない場合と低級アルキル、アリール、低級アリールア ルキル、水酸基、低級アルコキシルあるいはハロゲンのような基で置換されてい る場合がある。Ar基は6−10の環炭素原子を含んでいることが望ましい。A rの例としては、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチルおよびanthryl のような基がある。Ar基としては、フェニル、4−イソブチルフェニル、6− メトキシ、2−ナフチル、3−フェノキシフェニル、2°フルオロ−4−ジフェ ニル、4°−フルオロ−4−ジフェニル、5−クロロ−6−メドキシー2−ナフ チル、5−ブロモ−6−メドキシー2−ナフチル、4−クロロフェニル、4−ジ フロロメトキシフェニル、6−ヒドロキシ−2−ナフチルあるいは5−ブロモ− 6−ヒドロキシ−2−ナフチルが望ましい。
望ましいPh基としては、トリル、フェネチルおよび特にフェニルがある。
ここで定義されたように、R゛は低級アルキルを意味し、1−4の炭素原子を含 有することが望まれる。特に、メチル、エチル、n−ブチルおよびイソブチルが 望ましい。
R°°′はここでは1−1Oの炭素原子を含むアルキル基を意味する。このアル キル基は直鎖の場合と分備状の場合があり、メチル、エチル、プロピル、イソプ ロピル、n−ブチル、イソブチル、第2級(sec)ブチル、第3級(tert )ブチル、ペンチル、ヘキシル、アミル、ネオペンチル、ヘプチル、オクチル、 ノニル、デシルおよび同類の基を含む。アルキル基には1−8の炭素原子が含ま れることが望ましい。特にR゛′にはメチル、エチル、n−ブチル、イソブチル あるいはn−オクチルが適するが、大型の低級アルキル基であり、イソブチルあ るいはオクチルのような4以上の炭素原子を含む基が特に望ましい。
さらに、R°゛°が直鎖であることが望まれる。
ハロゲン化物はフッ化物、臭化物、塩化物、あるいはヨウ化物を意味し、塩化物 と臭化物が望ましい。
第1族金属はアルカリ金属である。第1族金属の望ましい例としては、ナトリウ ム、カリウムおよび特にリチウムがある。
Bronsted−LowryiU! 職において定義されたように、塩基を含 有する第1族金属は塩基の第1族金属塩である。
前述の塩基の共役酸のpKaが15以上であることが望ましい。塩基を含む第1 族の例としては、リチウム低級アルキルアミド(例、リチウムイソプロピルアミ ド)、リチウム低級アルコキシド(例、リチウムメトキシド)、リチウムアセチ リド、リチウム水素化物、リチウム水酸化物、 lithium triary lmethide(例、 1ithiuo+ triphenylmethid e)およびその同類がある。この塩基共役酸のpKaが17以上であることが望 まれる。またリチウム2低級アルキルアミド(例、リチウムジイソプロピルアミ ド)がリチウム塩基として望ましい。
本工程の代表例は、計画Iに述べられている。そこでPh、 R゛、R゛゛、A rは上記のように定義される。
本発明の工程では、ここで定義したように2−アルキル−4−アルコキシ−5− フェニルオキサゾリンを利用している。特に、最終産物が独特の立体特異的型( キラル中心でRあるいはSのどちらか)になるため、このオキサゾリンがキラル であることが望まれる。
2−アルキル−4−アルコキシ−5−フェニルオキサゾリンは溶媒中でリチウム 含有塩基のような第1族金属塩有塩基と反応させる。この溶媒は本文下記で述べ るように非極性、弱極性、極性あるいはプロトン極性であり得る。溶媒は弱極性 であることが望ましく、最適な溶媒はTIIFである。また溶媒は無水であり、 反応が窒素あるいはアルゴン下のような空気の存在しない無水状態で進行するこ とが望まれる。効果的な温度での反応進行が可能であり、室温から一90℃の温 度での反応進行が望ましい。最適な反応温度は一75℃から一1θ℃である。
分子ふるいのような乾燥剤存在下での反応が望まれる。
分子ふるいについては2人−8人が望ましいが3−5人はさらに適しており、4 −5人特に4人が最適である。この段階により形成された産生物は計画1の■と して述べる。
■は次に、本発明の2−アリール−プロピオン酸を産生ずるために、ここで定義 したハロゲン化アリールと反応させる。溶媒中での反応の進行が可能であり、溶 媒は本文下記で定義されるように非極性、弱極性、極性あるいはプロトン極性で あり得る。溶媒は非極性あるいは弱極性が望ましく、最適な溶媒はCLC1*あ るいはTHFである。反応は効果的な温度で実施され、40℃から一40℃の温 度での反応が望ましく、−25℃から+25℃が適する。反応は硫酸マグネシウ ム、硫酸ナトリウムあるいは2人−8人の分子ふるいのような乾燥剤存在下で行 う。最適な分子ふるいは3−5人、特に4人である。さらに、反応は塩酸、硫酸 、硝酸およびその同類のような強酸の存在下で進行させることが望ましい。
本発明の副産物は構造式(下記構造式)の2−アミノル1−フェニルプロパン− 1,3−ジオールの立体異性体である。ここではphは上記で定義されたとおり である。
ph しかしながら、構造式mの化合物は構造式lのオキサゾリンを生産するために使 用可能である。さらに具体的には、計画Iに示すように構造式Iのオキサゾリン は、構造式■のジオールを構造式■の低級trialkylorthoalka noateと反応させることによりR”’Xの存在下で生産される。ここでR′ °°は本文上記で定義されており、Xはハロゲン化物のような脱離基を表す。R ”は低級アルキルを表し、Rは上記で定義された。本反応は上記で示したように 微極性あるいは極性溶媒中で進行しうる。塩化メチレン、L 2ジクロロエタン および同類のものが溶媒として適する。反応は室温から溶媒沸点までの温度で影 響を受ける可能性がある。
計画 l 2−(S)−ARYL−ALKANOICACIDS(7)立体化学的合成経路 本発明で使用可能な溶媒は、次の4タイプに分類できる。
非極性、陽イオンあるいは陰イオンの溶媒とはなり得ない。例、アルカン、ベン ゼン、CHzClz、CHCl5弱極性陽イオンの溶媒となり得る。例、エーテ ル、T)IF、 DME。
di−tri、 −tetra−glymes、ピリジン、脂肪族3級アミン極 性非プロトン性溶媒、陽イオンに対しては良い溶媒であるが、直接陰イオンの溶 媒とはなり得ない。例、ヘキサメチル・リン酸トリアミド、 (HMPT)、  DMSO,DMF、 Me*CO,CHsCN極プロトン性溶媒陰イオン(水素 結合)および陽イオンの両者の溶媒となり得る。例、■!0、 Nus、 CH sOH,CzH*OH。
(1)使用した溶媒、(ii)分子ふるい、(iii)温度および(iv)分子 ふるいの存在下での撹拌により化学収量(〉75%)が改善され、高光学純度( 〉95%)の最終産物を得ること、以上が明らかにされている。結合を受けると いう希望は持たずに、分子ふるいを使用した場合、特にCLCL、n−ヘキサン 、トルエンおよびベンゼンで立体選択的反応の光学生産性を改善させるようだ。
例えば、S−(+)−2−[4−イソブチルフェニル]−プロピオン酸あるいは S−(+)−2−[6−メドキシナフチル]プロピオン酸誘導体の場合、^r− Ralとの結合についての計画(I)に従う触媒反応は、分子ふるいを使用しな い場合、使用した場合の90%(誤りを認めて)と比較して、僅かに55−60 %の鏡像異性体過剰率の生産を見たのみであった(表1参照)。
分子ふるいにより、明らかにAr−Malによる配位子置換が容易になる。この 場合特に、HalJr、 C1からS型、またCI’12 C12、l−ルエン あるいはベンゼン、のような無極性溶媒、1ithio変換複合体変換体分化能 もまた支援する。
オキサゾリンのアルコキシ基は重要と考えられる。
好ましいアルコキシ基は内−ブチルオキシ基である。上述したように、誘導体A とBの間には平衡があるように見える。ごく最近のNMR結果が示唆するところ では、Aで認められている好ましくないcisoid干渉を防ぐ4゜0人分子ふ るいの存在下で平衡がトランス配置方向(B)に移動している。また、特に4. 0人の分子ふるいの存在下でBはさらに安定したものと考えられている。さらに 、ZSM(6−8,0人)型の分子ふるいを適用することで、化学的収量は4. 0人分子ふるいの存在下での85%から、6、0−8.0人のゼオライトを使用 した場合の50%に、かなりの減少の可能性がある。さらに、この反応はNaB HaあるいはNaAlBaにより実施可能であり、また鏡像異性体過剰率の喪失 および化学的収量の減少を伴わない。
表 ■ 分子ふるい4,0人存在下でキラル・オキサゾリンから得た光学活性の2−アリ ール−プロピオン酸□ ゛”°゛′ ”パ8゛°°1 キラル・オキサゾリンによる不斉の誘導のための詳細な機序的論理はM、 A、  Hoobler、 D、 E、 BergbreiterとM。
J、 Newrcomb、 J、^vaer、 Chem、 Soc、 100 .8182.1978年により公表されている。
表IIには、本発明に従って生成されたいくつかの化合物に関してのS−アリー ル−プロピオン酸の鏡像異性体過剰率と化学的収量につき列挙している。酢酸エ チル由来の物質の再結晶により光学純度の改善が可能である。あるいはS−(+ )−2−[4−イソブチルフェニル]プロピオン酸のような低融点を有して生成 された化合物の場合には、高い負圧度(−0,05mmHg)での蒸留により光 学純度の改善が可能である。この場合の不純物は鏡像異性体R型によるものでは なく、反応生成物由来の汚染によるものである。表IIの生成物の再結晶後、S −鏡像異性体の光学純度は、NMR法および旋光度により測定して98−99% である。
表 II キラル・オキサゾリンから得た 光学活性2−プロピオン酸 n れ ^+X yl@Id (%) I! l! ioIvanlさらに、R °°゛はイソブチル−あるいはn−オクチル基のような大型の基が望ましい。こ のような場合、この反応は鏡像異性体過剰を形成しやすく、リチウム含有塩基と の反応を0−20℃で進行させることが可能である。このように、例えば、R” ’−n−オクチル、および、^r=4−イソブチルフェニルあるいはAr= 6 −メドキシー2−ナフチルとの反応は、TRF中でLDAを伴い0℃もしくは2 0℃で、Ig/molを越えるオキサゾリンに対してMS4.0人の比率を有す る分子ふるいの存在下で、それぞれ実施可能である。またこの場合誤りを認める 場合での減少は全く認められなかった。両方の例で、反応は5分で完了している 。さらに、CHzCLt中の、Arが4−イソブチルフェニルあるいは6−メド キシー2−ナフチルでの^r−Halの付加は、計画口に従い一20℃から一3 0℃で行う代わりに、それぞれ0あるいは20℃で実施可能である。対応する2 −(S)−アリール−プロピオン酸の化学的収量(約85−90%)と光学純度 の点で何ら損失はない。
分子ふるいの存在によりまた、本工程が容易になりアリール・プロピオン酸の収 量が改善されるようである。分子ふるいを使用しない場合、触媒反応においては 表1によると、一般的に誤りを認めて僅かに50%の生成量であり、これに対し て分子ふるいを使用した場合誤りを認めて90%以上である。従って、分子ふる いによりて例えばLDAのような塩基を含むリチウムでのオキサゾリン転換のS −形成のための配位子交換を容易にするばかりでなく、S−アリール−プロピオ ン酸を生成するAr−Halとの適切な置換をも容易にする。
2−オキサゾリンの助けにより5−2−アリール−プロピオン酸を生産する他の 方法は、下記−殻構造式の非対称性ケトンを還元するためのキラル還元剤として LiAlH4あるいはNaAlH4の錯化合物および下記の構造式の2−アルキ ル(4S、 5S)−アルコキシ−5−フェニル−2−オキサゾリンを使用する ことである: ここで、Arとphは上記のように定義する。上記に示唆するように、Arは単 環、多環、あるいはオルト縮合多環芳香族で14までの環炭素原子および合計1 8までの炭素原子を有する。Ar基は、単環、二環あるいは多環であり、未置換 あるいは低級アルキル、アリール、低級アリールアルキル、水酸基、低級アルコ キシあるいはハロゲン等の基で置換されている場合もある。Arは6−1Oの環 炭素原子を含有することが望ましい。非置換后基の例としては、フェニル、α− ナフチル、β−ナフチルおよびanthrylである。特に望ましいAr基の例 、4−イソブチルフェニル 6−メドキシー2−ナフチル 3−フェノキシ−フェニル 2°−フルオロ−4−ジフェニル 4′−フルオロ−4−ジフェニル 5−クロロ−6−メドキシー2−ナフチル5−ブロモ−6−メドキシー2−ナフ チル4−クロロ−フェニル 2°、4°−ジフルオロ−4−ジフェニル6−ヒドロキシ−2−ナフチル 5−ブロモ−6−ヒドロキシ−2−ナフチル5−フルオロ−6−ヒドロキシ−2 −ナフチル5−フルオロ−6−メドキシー2−ナフチル2.2′−ジフルオロ− 4−ジフェニルPhはフェニル基あるいは低級アルキル基で置換したフェニル。
例にはフェニル、トリル、キシリル、フェネチル等が含まれる。望ましいPh基 はフェニルである。
ここに定義したRは1−6炭素原子を含む低級アルキル基かPhである。望まし いR基はエチル、n−プロピル、ローブチルおよびフェニルである。
例となる方法を計画TIに示す。
非対称ケトンの還元を極性あるいは弱極性の溶媒中で実施する。望ましい溶媒は TRFである。有効に還元が起こる温度で反応を実施する。望ましくは一75℃ から0℃であるが一20℃から一60℃がさらに望ましい。
反応は、無水状態で窒素あるいはアルゴン下のような不活性雰囲気で実施される のが望ましい。さらに、分子ふるいのような乾燥剤の存在下での実施が望ましい 。
3.0人から8人の分子ふるいの使用が可能であるが、4−5人、特に4人が望 ましい。分子ふるいは効果的な量で使用しなければならない。つまり、ある種の 分子ふるいでは、loOumol−200umolのオキサゾリン複合体ニ対し て約0.5−10gの分子ふるいの率e 40umol−300umolのオキ サゾリン複合体に対して0.5g−Logの4人分子ふるいが望ましく、最終的 に、この比率は100−200 umolのキラル還元剤に対して約1−3gの 4.0人分子ふるいであることが特に望ましい。最終的に最適な比率は、150 u+++olのキラル還元剤に対して約1.5gの4.0人分子ふるいである。
上述の段階より生成された2−アリールメチル1−2−ヒドロキシ エタンから 、2−アリールプロピオン酸を多岐にわたる方法で生成可能である。計画IIに そのような経路の一つを実例としてあげる。
キラル炭素の立体配置の保持による、鏡像異性体カルビノール、RあるいはSの 立体特異的ハロゲン化は、塩化チオニルあるいは臭化チオニルのいずれか、ある いは塩化シアヌールにより高化学収量(殆ど計量的)および高光学純度で実施可 能である。多量のカルビノールを使用する場合、ハロゲン化は1.4ジオキサン 中で、無水で行うのが望ましい。また、無水ピリジンも使用可能である。鏡像異 性体カルビノールは、塩化チオニルの化学量論的な量を1時間かけて撹拌を続け ながら滴下して、1.4−ジオキサン中で20℃で通常溶解させる。塩化チオニ ルあるいは臭化チオニルの場合には、反応をさらに30分継続しなければならな い。R−あるいはS−鏡像異性体塩素が高度の負圧での蒸留を通して回収されな い場合、過剰の5OC1zあるいは5OBrxは、約5時間20℃で反応溶液を 通じて窒素の乾燥流を通すことにより取り除かれる。
典型的な鏡像異性体塩素の生成方法には、鏡像異性体カルビノールを塩化シアヌ ール粉末(lIlol)と共にカルビノールの沸点以上の10−20℃高温で、 あるいは塩基(0,5m0INaOCHaあるいはNa0Bu)の存在下での加 熱がある。添加後(ca、l −1,5h)反応混合物を冷却、濾過、高度の負 圧で蒸留する。本方法による結果が示すところでは、異性化もラセミ化も起こら なかった。
計画11 オキサゾリンによる適切なケトンの還元を通しての5−2−アリール−プロピオ ン酸の立体特異的合成リチウム−オキサロイン(Li−oxaloine)錯化 合物の”R”は、n−ブチル、n−プロピル、エチル、フェニル等のようなアル キル、アラルキルである。
Arは上記に定義。Arは、6−メドキシー2−ナフチル、−4−イソブチル− フェニル、−3−フェノキシ−フェニル、6−ヒドロキシ−2−ナフチル、5− プロモー6−ヒドロキシ−2−ナフチルであることが望ましい。
2−aryl−alkanoic acids特に2〜アリール−プロピオン酸 の、本発明により容易に生産されているl−アリール−ハロエタン由来である、 光学的高純度の鏡像異性体、RあるいはSを使用するもう一つの方法がある。
それはトリフェニルホスフィン(PhsP)の存在下でのテトラカルボニル鉄酸 ナトリウム(−11)(NazFe(Co)4)による1−アリール−ハロゲン 化物の直接変換、およびそれに引き続き、対応する酸へのイオジン(iodin e)−HzOでの酸化、あるいは光学的に純正なアミドの生産のための第2級ア ミンの存在下での酸化である。本製法の実例については計画IIに記載する。計 画IIIで、Arかのように記述されているが、ここに定義しているどのAr基 でも使用可能である。試薬NatFe(Co)4は、THFにおけるナトリウム ・アマルガム(NaHg)によるFe(CO)5の処置により調製可能である。
鏡像異性体純正l−アリール−ハロエタンのこの酸誘導体への変換についてのも う一つの方法には、COの存在下でのNazFe(Co)*の使用がある。1− アリール−1−ヒドロキシをCOの存在下でNatFe(Co)sと反応させ、 その後ここから調製された生成物を酸素あるいは次亜塩素酸ナトリウムと処理を した後加水分解する。この一連の中間体(IV)と酸素あるいは次亜塩素酸ナト リウムとの反応およびその後の加水分解により、光学的高純度で75−80%の 化学的収量の対応する鏡像異性体酸が生成される。1本反応計画の一実例を計画 IIに記載する。
テトラシアノ鉄酸ナトリウム(II)とホスフィン(Ph3P)あるいは−酸化 炭素との錯化合物の適用は、それぞれ2−alkyl−alkanoic ac idsの合成において特に有用である。これはこの高い核性度と、本システムの 反転反応の完成が容易であるためである。そこで本発明により得られたハロゲン 化物およびトシル酸塩(tosylate)は、典型的なSN2運動論、つまり 配位飽和陰イオンd8アルキル鉄(0)錯化合物を生成するための立体化学(反 転)により、Na2Fe(Co)aと反応する。本方法により、アルキルと酸ハ ロゲン化物からその誘導体を含むアルカン、アルデヒド、ケトンおよび立体−特 異的カルボン酸が得られる。
計画III 上記ケトンを高光学純度()97%)、非常に高い化学的収量(〉90%)で、 対応する鏡像異性体アルコールに還元する立体選択的方法が一度確立されると、 直接R−アルコールからS−カルボン酸を、あるいはR型ハロゲン(計画IV、  V)を通してNaCNおよびDMSOの存在下で効果的な温度での、対応する ニトリルの生成が可能となる。温度は40℃−50℃の範囲が望ましい。
続いて鏡像異性体S−ニトリルはそのアミドもしくは対応する酸を供給するため に加水分解が可能である。
S−酸が必要な場合、酸−触媒加水分解もまた良好に実施可能であるが、最適の 試薬は約6−8%の820gを含むNaOH溶液である。化学的収出は2−アリ ール−プロピオン酸の合成用のHMPTのような強非プロトン性極錯化溶媒の使 用により、あるいは第4アンモニウム塩としてのシアニド・イオンの錯化により 改善可能である。この工程には次のような優越性がある。それは縮合が連続工程 中で容易にモニター可能であるということで、例えば、EtJ”CN、あるいは C5Hs−Ctl*(Me)sN + CNとして、相間移動触媒作用を適用す るか、ジシクロ−ヘキサ−18−クラウン−6(dicyccro−hexan o−18−crown−6)のような結晶の使用による。
Et、N’ CNあるいはNa(K)CNによるS−鏡像異性体二トリルの生成 は、次の例による公知技術により実施可能である。つまり、J、 M、 Teu lonら、J、Med、Chem、21 (9)901、 (1978年)、  N、 Tokutake、 Chem、要約88.50512F、S。
Kothickiら、 Chem、要約 90. 1036526;H,Kob lerら。
Liebig’s Ann、Chem、1946年、(1978年);T、^+ uanoら。
Chem、要約、 13. 2611 p;N15san Chemical  Industries。
Ltd、 Chem、要約、 10190603e、(1984年)、 Nis saN15sanChe Industries、Ltd、Chem、要約、  1016855 h、J。
^、FoulkesとJ、Hutton、5ynth、Ca+Tunun、9  (7)、625(1979年)。しかしながら、これら陳述した方法はラセミ化 に誘導するのみである。
通常、2−aryl−alkanoic acids特にその2−アリル−プロ ピオン酸は殆ど水に解けない。したがって、反応の最終時点で、光学的活性の2 −アリール−プロピオン酸は容易に濾過等により分離可能である。しかしながら 、濾過、有機溶媒等からの結晶化を避けた場合、さらに精製するだめの適切な方 法は、低融点である2−アリール−プロピオン酸、つまり5−(0−イブプロフ ェンの高度の負圧での(−0,06mff1 Hg)蒸留である。さらに、米国 薬局方で要求される純度の医薬品は、濾過、気化あるいは高度の負圧での蒸留で 分離された生成物の酸−塩基処理により生産可能である。
さらに、下記の構造式の非対称ケトンの不斉還元を起こすもう一つの方法は、効 果的な作用温度で、計画Vlにより、2−アルキル−4−アルコキシ−8−フェ ニル−2=オキサゾリンの存在下で硼化水素(BHs)とテトラヒドロフラン( THF)の錯化合物見物を使用することである。温度は10−20℃の範囲であ ることが望ましい。収量は99.7%であり、この時の鏡像異性体過剰率は97 %である。
計画V11 本研究のさらに詳細については、次の特異的例と共に記載する。
実施例1 トランス−(4S、 5S12−エチル−4−ヒドロキシメチル−5=フェニル −2−オキサゾリン(1)の製造750 mlの1,2 ジクロロエタン中での 、130g(0,785mol)の(Is、2S)−(+) 2−アミノ−1− フェニルプロパン−1,3−ジオールおよび180g(0,102mol) ( 7) ) ’) L チルするいはthiopropanoateの混合物に対 して、継続的に撹拌しながら加えられ、次に5時間の還流の下に加熱する。室温 にまで冷却し、0℃で5分間放置して、175gの結晶状析出物を得る。生成物 をTHFあるいはTHF/エーテル(70/30 v/v)からの再結晶により 精製し、再結晶物質を活性炭処理後、濾過、濃縮し、−20’Cに冷却すること が可能である。ここで結晶物質が析出する。
実施例2 (4S、 5S)−2−エチル−4−メトキシメチル−5−フェニル−2−オキ サゾリン(II)の製造180gの■を20℃の無水THF21に溶解させる。
この溶液に水素化ナトリウム(110IIlol)ベンゼン溶液の懸濁液を、室 温で窒素下、4.0人分子ふるい存在下、撹拌しながら滴下する。水素の発生を 容積測定により管理する。
ベンゼン中NaHの添加完了後、混合物を1時間50℃に加熱しその後20℃に 冷却する。この溶液に臭化メチルあるいはヨウ化メチル(170g 、 1.3 mol)を加えたTHF150mlを、撹拌しながら2時間かけて漏斗を通じて 滴下する。この溶液をゆっくり31の冷水に注ぎ、その後エーテル抽出を行う。
混合エーテル抽出物を無水Na2SO4および分子ふるい(4,0人)で脱水し 、オイルに濃縮する。このオイルを減圧で蒸留し、90%の収量で沸点91℃1 0.2On+m tlgの生成物を得る。
実施例3 S−(÷)−2−[4−インブチルフェニル]プロピオン酸の製造 化合物11(155b、 0.71mol)のTHF(1,6L)溶液を窒素下 、ドライアイス・アセトン浴中で一75℃に冷却する。
750m1の無水THFに加えたジイソプロピルアミン98m1と2.3Mブチ ルリチウム(メチルリチウム)300011に由来する0、8molのリチウム ・ジイソプロピルアミド溶液を調製し、これを4.0人分子ふるい存在下で連続 撹拌しながら、IIの無水TFIF溶液中に加える。−75℃で30分間撹拌を 続け、300 mlのTHF (無水)に加えた237゜6g(1,95mo1 )の4−isobutylphenyliode(臭化物)を10分かけて添加 する。その結果生じた無色の溶液をこの温度で1時間撹拌し、続いて温度を20 ℃に上げる。反応混合物を飽和塩化ナトリウム水溶液31に注ぎ、敷部のpet roletherあるいはエーテルで抽出し、NazSOiあるいは分子ふるい (4,0人)により脱水にする。さらに0.1mm Hgの負圧で蒸留し、90 %の収率で2−(1−メチル−4−イソブチルフェニル)−4メトキシ−メチル −5−フェニル−2−オキサゾリンを得る。[cr ]”−40,5°(CHC Is中C10、1) IR(7イ/Lム) 1671CIO−’、NMR(CD C13中、TMS)δ7.33(s、5H) 、5.33(dSJ=7H2、I H) 、4.33−3.93(9、IH) 、3.80−3.33(m 、 2 H) 、3.43(31) 、2.87−2.33(m 、 LH)および2. 00−0.68(++ 、 12H)。
オキサゾリン(170g)を1.5M硫酸2.Olに溶解させ、3時間あるいは 溶液が均一になるまで加熱して還流する。加熱後溶液を20℃まで冷却し、Et zOかpetroletherで抽出するかあるいは、溶液を0℃に保ちながら NaHCO3添加のもと水で希釈する。これはオイルの形成を避けるためである 。生じた沈殿物は中和されるまで冷水で洗う。同様に濾液がpH1,oを示すま でである。収集した沈殿物は高度の負圧での蒸留に付する。液体S−(+)−イ ブプロア 工:/を120°−90℃テ2 is Hg(0,06−2mm H g)で蒸留し、S−(÷)−イブプロフェン91.2g(90%)を得る。NM R(CDC1,)、so、91、(dSJ=7H16H) 1.50(dS J =8Hz、3H)、 1.84(nonet、IH)、 2.96; (brd 、27H7,2H)、3.72(g、 1[T)、7.01−7.32(A^’  BB’、4H)、9.78(br、 5lH)。[α]”+5a°(95%、 EtOH); 融点(!1. p、 )51−52℃; (IS、2S)−(÷ )−2−アミノ−1−フェニルプロパン−1,3−ジオールを3部の酢酸エチル を添加することによりメタノール(1,5部)からの再結晶が可能であり、その 後0℃に冷却する。この精製物質の+s、 p、は112℃、[11! ]”  26.6 ’ (MeO)I 中 CIo、0)である。
実施例 4 (4S、 5S)−2−エチル−4−ブトキシメチル−5−フェニル−2−オキ サゾリンの製造 トランス−(4S、 5S)−2−エチル−4−ヒドロキシメチル−5−フェニ ル−2−オキサゾリン(100g)を20℃(15℃)で無水TtlF(CHt Clz)750mlに溶解させる。5gの分子ふるい(4,0人)を無水窒素下 で撹拌しながら加える。溶液の撹拌を継続しながら、滴下漏斗によりベンゼン( CLClg)中あるいはシクロヘキサン中水素化ナトリウム(61,5mol) の懸濁液を滴下する。NaHの添加終了を監視するために、水素の発生を容量測 定により管理することが可能である。この混合物(撹拌下)を1時間まで(2〇 −30分)50℃に加熱し、その後20℃に冷却する。最終的に、loomlの THFi:n−臭化ブチル(160g 、 1.3mol)を加えた溶液を、1 時間かけて滴下漏斗により滴下する。
この溶液をゆっくり11の氷/水に注ぎ、エーテルあるいはpetroLeth erで抽出する。さらに、混合抽出物を無水Na25Onにより脱水し、無色の オイルに濃縮した。
このオイルを減圧で蒸留し80%の収量で生成物を得ることが可能である。融点 (m、 p、 )115−120℃(0,3mn Hg)。
実施例 5 S−(+)−2−[4−イソブチルフェニルコプロビオン酸の製造 化合物(4S、 5S)−2−エチル−4−ブトキシメチル−5−フ二二ルー2 −オキサゾリン溶液(実施例4)を、窒素下無水TBF (100gL 014 5+eol)1.01に溶解させる。その後、冷アセトン浴槽中で一20℃に冷 却する。0.55molリチウム・ジイソプロピルアミド溶液を無水TBF 5 00+alに加えて作成した溶液を分子ふるい(4,0人) 5gの存在下、撹 拌しながら滴下漏斗を通して滴下する。−20℃で30分間撹拌を続けた後、無 水THF 150Illに加えた4−イソブチルフェニルプロミド153.3g (1,26mol)を10分間かけて加える。得られた無色の溶液を一20℃で 20分間撹拌した後、20分以内に温度を約20℃まで上昇させる。
この反応混合物を飽和NaC1水溶液21に注ぎpetroetherで抽出し 、NaxSOaにより脱水する。続いて、0.5 mmHzオキサゾリン(10 0g)を1.5M硫酸1.01に溶解させ、還流下2時間あるいは溶液が均一に なるまで加熱する。
溶液の加熱後室温まで冷却すると、飛散性沈殿物が得られる。この沈殿物はEt *Oかpetroletherで抽出するかあるいは、生成物であるS−(+) −イブプロフェンのオイル化を避けるために、溶液全体を0℃に保ちなからNa HCOs添加の下さらに冷水(0℃)で希釈する。pHを1.0に保ちながらの 希釈する場合もある。収集した析出物はEtzOlpetrolether 、 アセトンなど種々ノ溶媒S−(÷)−イブプロフェンを得る。
(Is、 2S) −(4)−2−amino−1−phenylpropat e−1,3−dioneは、実施例3で述べたように上澄みからの回収が可能で ある。
実施例 6 S−(÷)−(6−ノドキシ−2〜ナフチル)−プロピオン酸の製造 トランス−(4S、 5S12−エチル−4−メトキシ−メチル−5−フェニル −2−オキサゾリン溶液(100g 、 0.45mol)を窒素下無水TBF 750mlに加えて調製し、アイス・アセトン浴槽中で一1O℃に冷却する。リ チウムジイソプロピルアミド0.6011+olを無水THF250mlに加え て作成した溶液を分子ふるい(4,0人) 3g 存在下、撹拌しながら滴下漏 斗を通して滴下する。−10℃で30分間撹拌を継続し、無水THF300++ +1に溶解した6−メドキシー2−プロモーナフタレン(315g 、 1.2 5mol)を10分間かけて滴下する。得られた溶液はハロゲン化ナフチル添加 後、−10℃で30分間放置し、その後20分以内に20℃に上昇させる。反応 混合物を飽和NaCL水溶液11に注ぎ、petroletherで抽出後Na zSOaにより脱水する(全操作を20−25℃で行う)。
さらに複合混合物を0℃に冷却し、オキサゾリンの微細結晶を得る。
(100g)を1.5Mの硫酸500n+1に溶解させ、還流下1時間溶液が均 一になるまで加熱する。加熱段階後、この溶液を室温まで冷却する。通常この段 階で微細結晶状沈殿物が析出するが、これは容易に濾過による分離が可能であり 、冷水(0−5℃)次にNaHCOi飽和溶液(0−5℃)さらに冷水を作用さ せる。化学的収量は85%、光学純度は97%である。
融点152−153℃の原料の再結晶により、融点154℃のS−(÷)−ナプ ロキセンの結晶状試料を得る(lit 融点152−154℃、[α125 + 65.0℃(1,08CHCII)、NMR(CHClm); 1.6(D、  311. CI−CHm); 3.92(S 、 38.0CHs) 、3.8 8(gSTH,CH)および?−7.9 (m 、 6H,芳香族)。
(Is、 2S)−(+12−アミノ−1−フェニルプロパン−1,3−ジオー ルは実施例3で述べたように上澄みからの回収が可能である。
実施例7 S−(+)−2−(5−ブロモ−6−メトキシ)−2−ナフチル−プロピオン酸 の製造 トランス−(4S、 5S)−2−エチル−4−メトキシメチル−5−フェニル −2−オキサゾリン溶液(50g、 0.25mol)を窒素上無水THF 3 50m1(あるいは1.4ジオキサン)に加えて溶液を調製し、ドライアイス/ アセトン浴槽で20℃に冷却する。0.55wol リチウム・ジイソプロピル アミドを無水TEF100++1に加えて調製した溶液を、分子ふるい(4,0 人)3.0g存在下撹拌しながら、滴下漏斗を通して滴下する。0℃で30分間 撹拌を継続し、無水THF200mlに溶解した5−ブロモ−6−メドキシー2 −クロロ−ナフタレン(168g、 0.67mol)を10分間かけて滴下漏 斗を通して滴下する。得られた溶液はハロゲン化ナフチル添加後30分間θ℃に 保つ。その後、温度を30分以内に420℃に上昇させる。この反応混合物を飽 和NaC1水溶液llに注ぎ、petroletherにより抽出しNa2SO 4により脱水する(全操作を20−25℃で行う)。さらに複合混合物を0−5 ℃に冷却するとオキサゾリンの飛散性析出物1.511硫酸水溶液250m1に 溶解させ、溶液が均一化されるまで1時間、還流下で加熱する。加熱段階後、こ の溶液を室温まで冷却すると、微細結晶状沈殿物が析出する。この沈殿物は濾過 による分離が可能であり、冷水(0−5℃)で洗浄後、NaHCOs飽和溶液さ らに最終的に冷水で洗浄する。化学的収量80%、光学純度97−98%、実施 例 8 S−(+)−フェニルプロピオン酸の製造(43,5S)−2−エチル−4−ブ トキシメチル−5−フェニル−2−オキサゾリン溶液(実施例4を参照)100 gを無水THF1.5Lに加えて溶液を調製し、ドライアイス/アセトン浴槽中 で精製窒素存在下−30℃に冷却する。ジイソプロピルアミン95m1と、2. 4Mブチルリチウムあるいはメチルリチウム205m1を無水THF600ml に加えた溶液を反応させて調製した0、 75molのリチウムジイソプロピル アミン溶液を、 4.0人の分子ふるい2.5g存在下、撹拌しながらオキサゾ リン溶液に滴下して加える。−50℃で約30分間撹拌を継続し、フェニルプロ ミドあるいはフェニルイオジン(1,80mo1)340gをT)IF(無水) 200111に加えた溶液を10分間かけて加える。得られた無色の溶液を撹拌 しながら45分以内に20℃に下げる。この混合物をNaC1飽和溶液11に注 ぎ、敷部のpetroletherで抽出し、1apse、により脱水する。そ の後、減圧下で蒸留し20%の収量でオキサゾリンを得る。
硫酸1.01に溶解し、溶液が均一になるまで還流下1.5時間加熱する。加熱 段階終了後、この透明溶液を室温まで冷却すると、通常、飛散性沈殿物が析出す る。収集した沈殿物はEt*Oあるいはアセトンに溶解可能であり、さらに、溶 液全体を0℃に保ちながら冷水(0℃)での洗浄が可能である。メタノール溶液 からの再結晶が可能であり、S−(+)−フェニルプロピオン酸を得る(化学実 施例 9 訃(÷)−2−(2−フルオロ−4−ビフェニル)プロピオン酸の製造 トランス−(4S、 5S)−2−エチル−メトキシ−メチル−5〜フェニル− Z−オキサゾリン溶液(50g、 0.25mol)を無水N2下で、無水TH F200mlに加えて溶液を調製し、ドライアイス/アセトン浴槽中で一20℃ に冷却する。0.55molのリチウム・ジイソプロピルアミドを無水THF1 00mlに加えた溶液を、分子ふるい(4,0人)3gの存在下、撹拌しながら 滴下漏斗を通して滴下する。0℃で30分間撹拌を続け、無水THF100ml に溶解した2−フロロ−1−クロロ−4−ビフェニル(372gS1.8mol )を10分かけて滴下漏斗を通して滴下する。結果として得た溶液を/%ロゲン 化ビフェニル添加後30分間0℃に維持する。その後30分以内に温度を20℃ に上昇させる。反応混合物をNaC1飽和溶液11に注ぎ、petroieth erで抽出しNa2SO4により脱水する(全操作を20−25℃で行う)。継 続して得た抽出物を0−5℃に冷却し、オキサゾリンの沈殿物%、融点m、p、  87℃。
ビフェニル−オキサゾリン(20g)を1.5M 硫酸水溶液150m1に溶解 させ、還流上溶液が均一になるまで60分間加熱する。加熱段階終了後、この溶 液を20℃に冷却すると、微細結晶状沈殿物が析出する。この沈殿物を濾過によ り分離し、数回冷水(0−5℃)で洗浄後、酢酸エチルより再結晶する。化学的 収量75%、光学純度98%、実施例1O 3−(+)−2−(SH−[1l−benzopyrano[2,3b]pyr idin−7−Y)Propionic Ac1dの製造 (4S、 5S)−2エチル−4ブトキシメチル−5−フェニル−2−オキサゾ リン−溶液を窒素下、無水THF 500ml(100g。
0、45mol)に溶解し、氷−アセトン浴槽中で一20℃に冷却する。0.5 5molのリチウム ジイソプロピルアミドを無水THF500amlに加え、 これを分子ふるい(4,0人)存在下、撹拌しながら適切な漏斗を通して滴下す る。−1O℃で30分間撹拌を継続し、無水THF100+alに加えた1、0 50101の[2,3−b]−7−ブロモ−ピリジンを15分かけて加える。
生じた黄色の溶液を20分間継続撹拌した後、温度を20分以内に約20℃まで に上昇させる。反応混合物を飽和食塩水11に注ぎ、1,4ジオキサンで抽出後 Na1SO*により脱水する。その後、減圧の下蒸留し、82%の収率でオオキ サジノン(50g)を1.01の1.0M硫酸に溶解し、この溶液が均質になる まで11/2時間還流下で加熱する。
加熱段階終了後、溶液を室温まで冷却すると通常飛散性の沈殿物が析出する。こ の沈殿物をEtzOあるいは1゜4−ジオキサンで抽出するかあるいは、油性の 微小エマルジョンの形成を避けるため溶液全体を0℃に保ちながら、NaflC Ox 15g(11につき)を添加のもと、さらに冷水(0℃)で洗う。収集し た沈殿物は1.4−ジオキサンがらの再結晶が可能であり、平均85g(82% )のS−(+)−プロパ実施例11 S−(+ )−2−[2−フルオロ−4−ビフェニル−]プロピオン酸の製造 (4S、 5S)−S−(+)−2−エチル−4−ブトキシメチル−5−フ工二 )Li−2−オキサゾ’) ン(100g)あるイハ(4S、 5S)−2−メ チル−4−メトキシ−5−フェニル−2−オキサゾリン(100g)を窒素下、 無水THF700+alに溶解し、氷−アセトン浴槽中で一20℃に冷却する。
無水THF 250m1に0.55molのリチウム ジイソプロピルアミドを 加えた溶液を5gの4゜0人分子ふるい存在下、撹拌を継続しながら、滴下漏斗 を通して滴下する。−20℃で30分間撹拌を続け、無水THF100mlに溶 解した2−ブロモ−2−フルオロ−4−ビフェニル(206g、 1.On+o l)を20分かけて加える。得られた溶液は反応が完了するまで約20分間、− 20℃で撹拌を続ける。
その後、温度を20分以内に室温にまで上昇させる。この反応混合物をNaC1 飽和水溶液11に注ぎ、petroletherで抽出後、Na*SOaにより 脱水する。続く減圧下での蒸留により、収率90%でオキサゾリンを得る。
流下で2時間、溶液が透明になるまで加熱する。その後、溶液を室温にまで冷却 すると、沈殿物が析出する。この沈殿物はEtzO、アセトンあるいはpetr oletherで抽出可能である。抽出物から冷水(0℃)による沈殿析出を継 続した後、濾過により分離し、冷水で数回洗う。沈殿物はメタノールからの再結 晶が可能であり、光学純度97%、化学的収量78%の生成物を得る。
実施例12 R−(+)−1−(4−イソブチルフェニル)ヒドロキシエタンの製造 (4S、 5S)−2−エチル−4−ヒドロキシメチル−5−フェニル−2−オ キサゾリン10gを一20℃で無水THF(0,05mol)100mlに溶解 する。分子ふるい(4,0人)1g存在下で撹拌を続ケナカラ、0.57当量c 7) LiAIH* 50m1を温度を一20℃に保ち、10分かけて滴下する 。重要な点は、溶液を充分に撹拌すること、および10分後、撹拌した溶液を= 60℃に冷却することである。滴下漏斗を通して窒素下−60℃で、無水THF  10n+1に溶解した10.0g(5ma+ol)の1−(4−[n−メチル プロピル]−フェニル)エタノンを、温度を一60℃に保ち撹拌しながら30分 かけて滴下する。
このケトン添加後、懸濁液から透明な無色の溶液が得られる。これは分子ふるい く4.0人)存在下で撹拌しながら、反応を完了するためにさらに30分放置さ れているものである。この混合物は温度を20℃に上昇させた後、水5.0ml により加水分解し、さらに塩酸で希釈する。この塩酸は後の再利用用のキラルオ キサゾリンを確保するために加える。
透明溶液をEtzOで抽出する。オキサゾリンは水相に残り、R−(+)−2− (4−イソブチルフェニル)−ヒドロキシ−エタンは有機相に移行する。エタノ ール抽出物を結合させ、濃縮し、減圧で蒸留(0,1mmHg、沸点80℃)す ることにより、透明無色でかなり粘性の強い液体(11゜5g、収量94%)を 得る。この粘液には、HPLC法による測定および、赤外線周波数範囲でカルボ ニルの不存在が確認されることにより、未還元のケトンは含まれていない。光学 純度は、MTPA誘導体への変換およびNMRスペクトルにより測定され、その 値は98%(ee)である。オキサゾリン抽出物の中和により、収量80%で沸 点90.5℃10.2 mmHgの再生キラル(4S、 5S)−24チル−4 −メトキシメチル−5−フェニル−2−オキサゾリンを得る。融点68゜フェニ ル−2−オキサゾリンはメトキシメチル化合物より、70%の回収率で得られた 。
実施例13 対応するR−(+)−ヒドロキシ−エタンからのS−(÷)−2−[4−イソブ チルフェニル] プロピオン酸の製造 R−(−)−1−[4−イソブチルフェニルツーヒドロキシエタン(56mmo 1)10gを、分子ふるい4.0人存在下、20℃で撹拌しながら1.4ジオキ サン20m1に溶解させる。5.0m1SOC1* (1160mmol)を、 1.4−ジオキサン5mlを含む■倉010m1に溶解し、温度を20℃に保ち 撹拌しながら10分間かけて滴下する。1時間後反応は完了し、塩化チオニルを 、溶液にN!気泡を通過させ気化により回収する。溶液は、MgあるいはHg( 00C−C1lIs)!とのメタル化のために直ちに使用されるため、5−(− )−1−[4−イソブチルフェニル]−クロロエタンを分離する必要はない。5 −(−)−1−(−)−[4−イソブチルフェニル]−クロロエタンl1gを含 むこの溶液に、Mg 1.40g(0,055M)をビオジン1odine存在 下O℃で加える。10−30分経過後激しい反応が開始される。そのため、Wu rtz合成およびビラジカル産生を避けるために時折冷却を必要とする場合があ る。撹拌継続下で、 ′二酸化炭素が0−5℃で反応の中を通過する反応の終了 時点で、溶液は淡黄色から淡褐色に変化する。撹拌継続下で、無水CO2を溶液 中に通過させる場合、高化学的収率で光学的に純粋なS−(+)−イブプロフェ ンを得るために不可欠な方法であるが、S−(+)−1−[4−イソブチルフェ ニル]クロロエタン(あるいは5OBrz使用の場合ブロモエタン)に由来する グリニヤール化合物をEt*OあるいはTBF(あるいはベンゼン、トルエン) で希釈する。
S−グリニヤール化合物およびS−カルボン酸生成物へ連続的にCowを添加す ることより継続的な無水1.4ジオキサンの添加が必要となる。これは、S−カ ルボン酸が発現し、溶媒を飽和するためである。20分後反応は完了し、反応物 は固形残留物より分離し高度の減圧での蒸留に移行させる。溶液を濃縮した後1 20°−98℃、2mmFIg(0,06−206−2l11での蒸留により、 S−(+)−イブプロフェン9.30g(80%)を得る。NMR(CDC12 ) S 0191(d、J・7H,6H)、1、50(d、 J=8■z、 3 H)、1.84(nonet、 11)、2.96(brd、 27H7゜2H )、3.72(g、 IH)7.01−7.32(A人’ BB’ 、 4H) 、9.78(br、 5lH)。
実施例14 S−(+)−イブプロフェンは次の方法で調製される。すなわち、EtOH25 m1に加えたLogのR−(+)−1−[4−イソブチルフェニル]−りロロエ タン(50,5mo1)と2.95g(60mmol)シアン化ナトリウムを含 む水5mlをこのシアン化物の滴下により反応させる。
この混合物を1時間還流し20℃に冷却する。析出した水酸化ナトリウムを濾過 により分離し、水とEtOflを含む上澄みから脱水した後、S−(+)−1− [4−イソブチルフェニル]−エチルシアニドを含有する残りの液体よりEtO Hを蒸留する。(化学的収率88%)。このS−(+)−シアニドを15m1  EtOHと、9g(0,45+*ol)の塩化ナトリウムおよび10%(W/W )HxOtを含む水3hlに溶解する。その後、還流下で1時間加熱する。室温 に冷却後、反応混合物を溶液が透明になるまで水100+olで希釈する。この 溶液を0℃に冷却し、引き続き希塩酸10hlを加えると、小結晶のS−(+) −イブプロフェンが析出する。このS−(+)−イブプロフェン結晶を集め、希 塩酸で洗浄後CaCL !により脱実施例15 S−(+)−,2−(5−ブロモ−6−メドキシー2−ナフチル−)プロピオン 酸の製造 実施例13に記述したように4,0人分子ふるい存在下での、対応するケトンの (4S、 5S)−2−エチル−4−メトキシメチル−5−フェニル−2−オキ サゾリン−LiAIH4錯化合物による還元の結果、はとんど定量的化学的収率 で光学的に純粋なR−2(5−ブロモ−6−メドキシー2−ナフチル)−ヒドロ キシエタン(97%)を得る。相当するカルボン酸への酸化に続き、ニトリルを 経る工程により光学的に純粋なS−(+)−2−(5−ブロモ−6−メドキシー 2−ナフチル)プロピオン酸生成物が化学的収量75%で得られる。融点実施例 16 Borohydride存在下でのR−(+)−1−(4−イソブチルフェニル )−ヒドロキシエタンの製造 (4S、 5s)−2−エチル−4−ヒドロキシメチル−5−フェニル−2−オ キサゾリン10gを無水T)IF(0,05mmol)100mlに0℃で溶解 させる。ポランのTHF溶液(100ml、 200mmol)を窒素下で、分 子ふるい(4,0人、Ig)の存在下で効果的に撹拌しながら、30分かけて加 える。添加終了後、反応混合物を20−25℃でさらに30分撹拌する。窒素環 境のもと20℃で、すでに無水THF20mlに溶解させた1−(4−[2−メ チルプロピル]フェニル)−エタノンを、分子ふるい(4,0人)存在下で温度 を20℃に保ち、撹拌を継続しながら30分間かけて滴下漏斗を通して滴下する 。非対称ケトンとの反応後、このオキサゾリン−有機ポラン錯化合物を10m1 のメタノールで処理し、その後反応混合物を30℃に保ちながら、3Mの水酸化 ナトリウム20.0mlで処理する。さらに1時間この反応混合物を撹拌し、冷 却後エーテル抽出(3x 100m1)を行う。抽出物を冷水(2×50m1) と食塩水(3ml)により連続して洗った後、硫酸マグネシウムで脱水する。有 機層を注意深く分別し、キラル・アルコールを得る。沸点20.5℃10.2n +in Hg、収メチルー5−フェニルー2−オキサゾリンの回収率は75%で あった。
実施例17 対応するR−(+)−1−(4−イソブチルフェニル)−ヒドロキシ−エタンか らのS−(+)−2−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸の製造 無水ピリジン中でSOClgを反応させることにより、R−(+)−2−(4− イソブチルフェニル)−ヒドロキシ−エタンから生成したR−(+)−1−(4 −イソブチルフェニル)−クロロエタン(50,5mmol)Logを25m1  EtOHと15m1の水に溶解させ、2.95g(60mol)シアン化ナト リウムと反応させる。
そして、撹拌の継続下、塩化物溶液を滴下しなからHzo 10m1に溶解させ る。この混合物を1時間還流した後20℃に温度を下げる。析出した塩化ナトリ ウムを濾過により分離し、水とEtOHを含む上澄みから脱水した後、残液から EtOHを蒸留する。残液はS−(+)−1−[4−イソブチルフェニル]−エ チルシアニドを含む。(化学的収量88%)。この5−(0−シアニドを15m 1 EtOHと、9g (0,45mol)水酸化ナトリウムおよび10%(W /W)nzozを含有する30m1の水に溶解させ、1時間還流下で加熱する。
室温に冷却後、この反応混合物を溶液が透明になるまで水100a+1で希釈す る。溶液を0℃まで冷却し、引き続き希塩酸100m1を加える。その際、小結 晶としてS−(+)−イブプロフェンが析出する。S−(÷)−イブプロフェン 結晶を集め、希塩酸で洗いCaCl2により脱水する。化学的数チルフェニル] −ヒドロキシ−エタン(20℃で56mol)と反応させることにより、R−( ÷)−1−[4−イソブチルフェニル]−クロロエタンを得る。混合を続けなが ら 6.7g5OC12(4,1mlの液体5OCI!に相当)を加え20分間 還流する。
過剰のSOClgおよびピリジン(沸点116℃、760mm Hg)を残渣と した後、この塩化物を6mm Hg(沸点23.3℃)で蒸留した結果R−(÷ )−1−[4−イソブチルフェニル]−クロルエタン9.57gを得る(36. 6%)。
実施例18 10mlのR−(÷)−2−3イソブチルフェニル−クロルエタン(50,5m ol)を150m1のジメチルホルムアミド(DMF)(0゜033M)に、高 速で撹拌しながらN2流のもとで溶解させる。
20℃でナトリウムアマルガムおよびTHFとの鉄五カルボニルFe(Co)s の処置により生成したばかりの10.8gテトラカルボニル鉄■酸ナトリウムを 、混合を続けながら加える。この溶液を10℃まで冷却し、−酸化炭素流を溶液 中に通過させる。温度と溶媒(THFSDMF、 DMSO)によるが、通常反 応は1−2時間後に終了する。しかしながら、N!存在下で過剰の一酸化炭素が 溶液中から放出されるとき容易にモニター可能である。対応するS−(+)−2 −[イソブチルフェニル]ロビオン酸に対する酸化性離層は、塩酸ナトリウム( sodium hydrochloride)水溶液の添加とその後の反応温度 lO℃での0.1M塩酸の添加により達成される。プロトンの殆どが水溶液中で S−(÷)−イブプロフェンの沈殿析出のためにすなわち遊離酸の回収のために 使用されることより、充分な塩酸の添加を考慮しなければならない。
S−(+)−イブプロフェン由来の対応するアミドは、テトラカルボニル鉄■酸 ナトリウム(Na*Fe(CO4乃存在下で、−酸化炭素のかわりにトリフェニ ルホスフィン(Ph2P)を使用して調製可能である。10gのR−(÷)−2 −[4−イソブチルフェニル]−クロルエタンを20℃で10.8gのテトラカ ルボニル鉄■酸ナトリウム存在下、30m1ベンゼン中に拡散させる。13.4 g トリフェニルホスフィン(0,’0511Ilol)を無水ベンゼンに溶解 し、N!環境下20分かけて滴下する。この混合物を撹拌を続けながら3時間還 流する。反応混合物を1時間20℃で放置した後、メチル−ベンジルアミドによ り反応を停止させる。S−(+)−イブプロフェン−メチル−ベンジルアミドの 小結晶を濾過により分離し、THM/DMFから再結晶させる。さらに、光学純 度をHPLC法により分析する。IIPLC分析により、保持時間2.79分で S−2−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸に対応する98%シアテレオ マーの存在、および保持時間2.38分でR−7−(4−イソブチルフェニル) プロピオン酸に対応する2%ジアステレオマーの存在が示される。
対応するR−(+)−[4−イソブチルフェニル]−クロロエタンからの5−2 −カルボン酸生成における化学的収率は一酸化炭素存在下で95%に近く、光学 純度は95−98%である。
トリフェニルホスフィンが存在する場合、収量は90%である。
実施例19 非対称ケトンの還元を、LiAIHs−オキサゾリン錯化合物あるいはBHs− オキサゾリン錯化合物による還元を対応するキラルヒドロキシ化合物に適用して 数回実施する。表mと■に、ボランあるいはリチウム−アルミニウム、アルミニ ウムー水素化物存在下での(4S、 5S)−2−エチル−4−ヒドロキシメチ ル−4−フェニル−2−オキサゾリンによる還元を列挙する。
実施例20 トランス(4S、 5S)−2−エチル−4−ヒドロキシメチル−5−フェニル −2−オキサゾリンと錯化した(+)diisopin。
campheylboraneによる還元を通してのR−(÷)−2−(4−イ ソブチルフェニル)ヒドロキシエタンの製造THF(無水、20m1)にdii sopinocampheylborane (50amol)を加えた撹拌溶 液(懸濁液)に、THF(無水、30m1)に溶解した55g(50mmol) (4S、 5S)−2−エチル−4−ヒドロキシメチル−5−フェニル−2−オ キサゾリンを加える。
反応混合物を20℃で5時間撹拌する。 diisopinocampheyl boraneの固形部分は消失し、錯化合物の形成が完了する。この錯化合物溶 液に、無水THF(あるいはChClり 50m1に溶解した30.0g(40 mg+ol)の1−(4−[2−メチルプロピル]−フェニル)エタノンを、温 度を20℃に保ち、撹拌しながら30分間かけて滴下する。溶液を分子ふるい( 4,0人)2.0g存在下で撹拌している場合、対応するキラルアルコールの鏡 像異性体過剰率を約99%までに高めることが可能である。ケトンの添加後、懸 濁液より無色の溶液が得られる。このケトンは、反応の完了のために分子ふるい (4,0人)存在下でさらに30分間残留させていたものである。
混合物を50.0molの水で加水分解し、温度を25℃とした後塩酸で希釈す る。この塩酸は、後に使用するキラル・オキサゾリンを確保するために添加され ている。
透明溶液をEt*Oで抽出する。
実施例21 S−(+)−イブプロフェンの製造 10m1の[R−(+)−1−[4−イソブチル7 ニー/L/ ]−りOOエ タン(50,5Iol)を150m1のジメチルホルムアミド(DMF)(0, 033M)に急速な撹拌およびN2流下で溶解する。ナトリウムアマルガムとT HFによる20℃での鉄五カルボニルFe(Co)=の処理により新たに生成し たテトラカルボニ−ル鉄■酸ナトリウム10.8gを、撹拌し続けながら加える 。この溶液を10℃まで冷却し一酸化炭素流をこの溶液に通した。通常、温度お よび溶媒(TliF、 DMF、 DMSO)に依存するが、1−2時間後反応 は終了する。これは過剰な一酸化炭素がN!の存在下に溶液から放出する際に容 易にモニター可能である。対応するS−(÷)−2−[インブチルフェニル]プ ロピオン酸の酸化性離層は、10℃の反応温度を保ち、次亜塩素酸ナトリウム水 溶液を添加し引き続き0.1M塩酸を添加することにより達成される。充分な塩 酸を添加するために注意が必要である。というのは殆どのプロトンが遊離酸回収 のために水溶液中のS−(+)−イブプロフェン析出のために使用されるからで ある。
S−(+)−イブプロフェン由来の対応するアミドはテトラカルボニル鉄■酸ナ トリウム(NatFe(COa))の存在下で一酸化炭素の代わりにトリフェニ ル・ホスフィン(Ph3P)を使用することにより生成可能である。10gのR −(+)i−[4−イソブチルフェニル]−クロルエタンを20℃で10.8g のテトラカルボニル鉄■酸ナトリウムの存在下で30m1のベンゼンに拡散させ る。無水ベンゼンに溶かした13.4gのトリフェニルホスフィン(0,051 mol)を窒素環境下で20分間滴下し、混合物を3時間撹拌しながら潅流する 。反応混合物は20℃で1時間そのまま放置し、その後メチル−ベンジルアミド により反応を停止させる。S−(+)−イブプロフェンメチルベンジルアミドの 小結晶を濾過し、THF/DMFより再結晶し、HPLC法により光学純度を分 析する。HPLC分析法は、2.79分の保持時間で(S−2−(4−イソブチ ルフェニル)プロピオン酸に対応する98%のジアステレオ異性体の存在と、2 .38分の保持時間でR−2−(4−イソブチルフェニル)プロピオン酸に対応 する2%のジアステレオ異性体を示している。対応するR−(+)−[4−イソ ブチルフェニル]−クロルエタンからの5−2−カルボン酸生産の化学的収量は 、−酸化炭素の存在下で、光学純度95−98%でほぼ95%であり、トリフェ ニルホスフィンの存在下で90%である。
表m 恥、KmoonsL話1齋電、−oxa*二。lin@−complexcon f、%−・3 G−meLhoxy−2−naphLhyl−Co−Me Ln  0+、C1,/TIIF、 Et、OR97,27p−rn*thylph@ nyl−Co−Me τtlF’、Et、O,b@nzene R97,29m −cMoroph*nyl−Co−H@Et、OJ、4−dioxane R9 1i、5COw carbonyL 表■の記号説明は次の通り。
”ee”は鏡像異性体過剰率、およびconf、は立体配座、RあるいはS鏡像 異性体はCahn−Prelogルールによる。
ここで使用している「鏡像異性体過剰率、ee」は他法と比較して一方の鏡像異 性体の量の増加を意味する。
鏡像異性体過剰率(ee)表示の便利な方法として次の方程式が得られる。
ここでElは第二級アルコールの第一キラル型の量である。またE2は間−のア ルコールの第二キラル型の量である。立体選択性(ee)は、Daleら(J、  A、 Dale、 D、 C,DullとI’1. S、 i[osher、  J、 Org、 Chem、 34.2543.1969年)によるピリジン 中のR−(÷)−2−メトキシ−2−トリフルオロ−メチル−フェニル酢酸由来 の過剰な酸塩化物により得られたキラル・カルビノールの処置によるNMR法に より判定する。メチル−フェニルカルビノール由来のR,R−ジアステレオマー の0−メチルおよび2−メチル基の両者のシグナルは、R,S−ジアステレオマ ーよりも高い磁界で現れる。T 6.0装置によりピークは容易に分離される。
また相対的なピークの高さは異性体の構成の概略を良く表している。さらに、2 −CFx基および94. iMHzに対する+1p共鳴の適用が可能であり、ま た容易に記録される。
表■ BH,−オキサゾリン錯化合物による不斉ケトンの立体特異的還元 匍、KZTOHX BH,Om喝瓦口匡nco轄顧用扉%MI Ph−Co−M e ’r’Hr、丁alu@n@ R9733−Ph@noxy−Co−M@? )IF# Ol、C11I# ZyL*n@R9G5 5−bromo−6− dLph@nyl−CO−M@THr、 1,441oxan@、 KL、OR !7n 5−fluaro−6− 上記実施態様および実施例は現在の発明の範囲と精神を説明している。これらの 実施態様および実施例は、当業者に対し、他の実施態様および実施例を明らかに するものである。これらの他の実施態様は、本発明の予測の範囲内である。従っ て、本発明の範囲は添付の請求範囲により限定されるべきものである。
フロントページの続き (51) Int、C1,6識別記号 庁内整理番号//C07M 7:00 CO7B 53100 C7419−4H(81)指定国 EP(AT、BE、 CH,DE。
DK、ES、FR,GB、GR,IE、IT、LU、MC,NL、PT、SE) 、0A(BF、BJ、CF、CG、CI、CM、GA、GN、ML、MR,SN 、TD。
TG)、AT、AU、BB、BG、BR,CA、CH。
C3,DE、DK、ES、FI、GB、HU、JP、KP、KR,LK、LU、 MG、MN、MW、NL、N。
、NZ、PL、RO,RU、SD、SEI

Claims (57)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.下記一般式 ▲数式、化学式、表等があります▲ で表される薬学的に活性な化合物あるいは薬学的に許容可能なその塩の製造方法 であって、一般式中、Arが単環、多環あるいはオルト縮合多環式芳香族であり 、該芳香環に14までの炭素原子を有し、芳香環で未置換であるか置換されてい るかのいずれかであり、次の工程を含む製造方法。 (a)2−アルキル−4−アルコキシ−5−フェニル−2−オキサゾリンと第I 族金属含有塩基との反応。上記オキサゾリンは次の構造式を有する。 ▲数式、化学式、表等があります▲ ここで、R′は低級アルキルであり、 R′′′は1−10の炭素原子を有するアルキルであり、Phはフェニルあるい は低級アルキル置換フェニルである。 (b)(a)におけるその生成物とAr−Ha1との反応。この場合のArは上 記のように定義され、Halはハロゲン化物である。
  2. 2.Arが未置換あるいは低級アルキル、低級アルコキシ、アリールオキシ(a ryloxy)、低級アリールオキシ、アリール、ヒドロキシあるいはハロゲン で置換されている請求の範囲第1項の製造方法。
  3. 3.Arが4−イソブチルフェニル、6−メトキシ−2−ナフチル、3−フェノ キシフェニル、2−フルオロ−4−ジフェニル、4′フルオロ−4−ジフェニル 、5−クロロ−6−メトキシ−2−ナフチル、5−ブロモ−6−メトキシ−2− ナフチル、4−クロロフェニル、4−ジフルオロメトキシフェニル、6−ヒドロ キシ−2−ナフチルあるいは5−ブロモ−6−ヒドロキシ−2−ナフチルである 請求の範囲第2項の製造方法。
  4. 4.第I族金属含有塩基がリチウム含有塩基であり、つまりリチウムジイソプロ ピルアミドである請求の範囲第1項の製造方法。
  5. 5.第I族金属含有塩基がリチウム含有塩基であり、つまりリチウムジイソプロ ピルアミドである請求の範囲第1項の製造方法。
  6. 6.R′が1−4炭素原子を含むアルキルである請求の範囲第1項の製造方法。
  7. 7.R′′′が1−8炭素原子を含むアルキルである請求の範囲第1項の製造方 法。
  8. 8.R′がメチル、エチル、n−ブチルあるいはイソブチルである請求の範囲第 6項の製造方法。
  9. 9.R′′′がメチル、エチル、n−ブチル、イソブチルあるいはn−オクチル である請求の範囲第7項の製造方法。
  10. 10.Phがフェニルである請求の範囲第1項の製造方法。
  11. 11.この場合分子ふるいの有効量が付加的に存在する。 請求の範囲第1項の製造方法。
  12. 12.分子ふるいが4Åの分子ふるいである請求の範囲第11項の製造方法。
  13. 13.形成化合物がイブプロフェンあるいはナプロキセンである請求の範囲第1 項の製造方法。
  14. 14.形成化合物がイブプロフェンあるいはナプロキセンである請求の範囲第1 1項の製造方法。
  15. 15.化合物を立体特異型で生成する請求の範囲第1項の製造方法。
  16. 16.化合物をS型で生成する請求の範囲第15項の製造方法。
  17. 17.2−アルキル−4−アルコキシ−5−フェニル オキサゾリンを、次の構 造式 ▲数式、化学式、表等があります▲ の低級アルキルオルト低級alkanoateと、2−アミノ−1 −フェニル−1,3−ジオールを構造式R′′′Xのハロゲン化アルキルの存在 下で反応させる(ここで、R′′は低級アルキルである。)請求の範囲第1項の 製造方法。
  18. 18.次の構造式 ▲数式、化学式、表等があります▲ の立体特異的型での薬学的活性化合物、あるいは薬学的に許容可能なその塩の調 製方法であって、ここでArは単環、多環あるいはオルト縮合多環式芳香族であ り、芳香環において14までの炭素を有し、また、芳香環内で未置換あるいは置 換されており、次の工程が含まれる調製方法。 (a)リチウム含有塩基と(4S,5S)−2−アルキル−4−アルコキシ−5 −フェニル−2−オキサゾリンの反応。ここで、該オキサゾリンは次の構造式 ▲数式、化学式、表等があります▲ を有する。ここで、 R′は低級アルキル、 R′′′は1−10の炭素原子を含むアルキル、Phはフェニルあるいは第I族 金属含有塩基を有する低級アルキルで置換したフェニルである。 (b)(a)における生成物とAr−Halとの反応。ここで、Arについては 既に定義された通りであり、Halはハロゲン化物である。
  19. 19.Arが未置換あるいは低級アルキル、低級アルコキシ、アリルオキシ(a ryloxy)、低級アリルオキシ、アリール、ヒドロキシあるいはハロゲンで の置換体である請求の範囲第18項の調製方法
  20. 20.Arが4−イソブチルフェニル、6−メトキシ−2−ナフチル、3−フェ ノキシフェニル、2−フルオロ−4−ジフェニル、2′,4′−ジフルオロ−4 −ジフェニル、5−フルオロ−6−ヒドロキシ−2−ナフチル、5−フルオロ− 6−メトキシ−2−ナフチル、2,2−ジフルオロ−4−ジフェニル、5−クロ ロ−6−メトキシ−2−ナフチル、5−ブロモ−6−メトキシ−2−ナフチル、 4−クロロフェニル、4−ジフルオロメトキシフェニル、6−ヒドロキシ−2− ナフチルあるいは5−ブロモ−6−ヒドロキシ−2−ナフチルである請求の範囲 第19項の調製方法。
  21. 21.リチウム含有塩基がリチウムジイソプロピルアミドである請求の範囲第1 8項の調製方法。
  22. 22.R′が1−4炭素を含有するアルキルである請求の範囲第18項の調製方 法。
  23. 23.R′′′が1−8炭素を含有するアルキルである請求の範囲第18項の調 製方法。
  24. 24.R′がメチル、エチル、n−ブチルあるいはイソブチルである請求の範囲 第22項の調製方法。
  25. 25.R′′′がメチル、エチル、n−ブチル、イソブチルあるいはn−オクチ ルである請求の範囲第23項の調製方法。
  26. 26.分子ふるいの有効量が付加的に存在する請求の範囲第18項の調製方法。
  27. 27.分子ふるいが4分子ふるいである請求の範囲第26項の調製方法。
  28. 28.形成された化合物がS−イブプロフェンあるいはS−ナプロキセンである 請求の範囲第18項の調製方法。
  29. 29.形成された化合物がS−イブプロフェンあるいはS−ナプロキセンである 請求の範囲第27項の調製方法。
  30. 30.2−アルキル−4−アルコキシ−5−フェニル オキサゾリンを、下記構 造式 ▲数式、化学式、表等があります▲ の低級アルキルオルト低級アルカン酸と(1S,2S)−(+)−2−アミノ− 1−フェニル−1,3−ジオールとを構造式R′′′Xのハロゲン化アルキルの 存在下で反応させることにより生成する(ここで、R′′は低級アルキルである 。)請求の範囲第18項の調製方法。
  31. 31.Phがフェニルである請求の範囲第15項の調製方法。
  32. 32.下記構造式 ▲数式、化学式、表等があります▲ の非対称アルコールの生成のための調製方法であって、次の工程を含む調製方法 。 (a)当該構造式のオキサゾリンと有効量の還元剤との反応。この場合の還元剤 はLiAlH4、NaAlH4、BH3およびテトラヒドロフランあるいはジイ ソピノカンフェニルボラン(diisopinocamphenylboran e)。 (b)(a)における生成物と有効量のAr−C−Meとの反応。 ここでArは未置換あるいは置換した単環、多環あるいはオルト縮合多環式芳香 族で、芳香環に14までの炭素原子を有するものであり、 Phは未置換フェニルあるいは低級アルキル置換フェニルであり、および、Rは アリール、低級アリールアルキルあるいは低級アルキルである。
  33. 33.Rがアリールあるいは低級アルキルである請求の範囲第32項の調製方法 。
  34. 34.Rがフェニル、n−ブチル、n−プロピルあるいはエチルである請求の範 囲第33項の調製方法。
  35. 35.Arが4−イソブチルフェニル、6−メトキシ−2−ナフチル、3−フェ ノキシフェニル、2′−フルオロ−4−ジフェニル、4′−フルオロ−4−ジフ ェニル、5−クロロ−6−メトキシ−2−ナフチル、5−ブロモ−6−メトキシ −2−ナフチル、4−クロロフェニル、4−ジフルオローメトキシ−フェニル、 6−ヒドロキシ−2−ナフチルおよび5−ブロモ−6−ヒドロキシ−2−ナフチ ルである請求の範囲第32項の調製方法。
  36. 36.還元剤がLiAlH4あるいはNaALH4である請求の範囲第32項の 調製方法。
  37. 37.−20℃から−60℃の温度範囲で反応が起こる請求の範囲第32項の調 製方法。
  38. 38.還元剤がジイソピノカムフェニルボラン(diisopinocamph enyl borane)である請求の範囲第32項の調製方法。
  39. 39.還元剤がBH3およびテトラヒドロフランである請求の範囲第32項の調 製方法。
  40. 40.Arが6−メトキシ−2−ナフチル、4−イソブチル フェニル、3−フ ェノキシ−フェニル、6−ヒドロキシ−2−ナフチルーあるいは5−ブロモ−6 −ヒドロキシ−2−ナフチルである請求の範囲第35項の調製方法。
  41. 41.形成された生成物が(R)−1−アリール−1−ヒドロキシエタンである 請求の範囲第32項の調製方法。
  42. 42.請求の範囲第41項に従い形成された(R)−1−アリール−1−ヒドロ キシエタンとハロゲン化試薬との反応、その生成物とシアン化物との反応、およ び過酸化水素の存在下での塩基による加水分解、あるいは酸による加水分解の工 程を含む(S)−2−アリールプロピオン酸の調製方法。
  43. 43.ハロゲン化剤が塩化シアヌリルである請求の範囲第42項の調製方法。
  44. 44.ハロゲン化剤がハロゲン化チオニルであり、ハロゲン化物が臭化物あるい は塩化物である請求の範囲第42項の調製方法。
  45. 45.ハロゲン化チオニルが塩化チオニルである請求の範囲第44項の調製方法 。
  46. 46.シアン化物がシアン化ナトリウムあるいはシアン化カリウムである請求の 範囲第42項の調製方法。
  47. 47.塩基が水酸化ナトリウムあるいは水酸化カリウムである請求の範囲第42 項の調製方法。
  48. 48.過酸化水素が過酸化水素10%溶液である請求の範囲第42項の調製方法 。
  49. 49.酸が塩酸、硫酸あるいは硝酸である請求の範囲第42項の調製方法。
  50. 50.一酸化炭素の存在下で、請求の範囲第49項に従って形成された(R)− 1−アリール−1−ヒドロキシ−エタンとNa2Fe(CO)4との反応、およ びその生成物と、酸化生成物産生に必要な酸化量の次亜塩素酸塩あるいは酸素と の反応、および酸化生成物の酸による加水分解の工程からなる(S)−2−アリ ールプロピオン酸の調製方法。
  51. 51.次亜塩素酸塩が次亜塩素酸ナトリウムあるいは次亜塩素酸カリウムである 請求の範囲第50項の調製方法。
  52. 52.次の工程を含む(S)−2−アリールプロピオン酸の調製方法。 (a)(R)−1−アリール−1−クロロ−エタンの生成のための、請求の範囲 第41項により生成した(R)−1−アリール−1−ヒドロキシエタンとハロゲ ン化剤との反応、(b)トリフェニルホスフィンの存在下での、(a)の生成物 とFe(CO4)との反応、および(c)(b)の生成物とI2および水との反 応。
  53. 53.Fe(CO)4がNa2Fe(CO)4あるいはK2Fe(CO)4とし て存在する請求の範囲第47項の調製方法。
  54. 54.次の工程を含む(S)−2−アリール−プロピオン酸の調製方法。 (a)(R)−1−アリール−1−クロロエタンの生成のための、請求の範囲第 41項により生成した(R)−1−アリール−1−ヒドロキシエタンとハロゲン 化剤との反応。 (b)(a)の生成物と、酸の存在下あるいはHg[CN2]2の存在下でのシ アン化物との反応。 (c)(b)の生成物と酸、あるいはHBF4の存在下での塩基との反応。 (d)(c)の生成物の酸による加水分解、あるいは過酸化水素の存在下での塩 基による生成物の加水分解。
  55. 55.請求の範囲第54項による工程においてこの場合シアン化物はシアン化ナ トリウムあるいはシアン化カリウムとして存在する。
  56. 56.請求の範囲第54項による工程においてこの場合酸は塩酸、硝酸あるいは 硫酸である。
  57. 57.塩基が水酸化カリウムあるいは水酸化ナトリウムである請求の範囲第54 項の調製方法。
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