JPH0748341A - ２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸の製造法 - Google Patents
２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸の製造法Info
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- JPH0748341A JPH0748341A JP20834593A JP20834593A JPH0748341A JP H0748341 A JPH0748341 A JP H0748341A JP 20834593 A JP20834593 A JP 20834593A JP 20834593 A JP20834593 A JP 20834593A JP H0748341 A JPH0748341 A JP H0748341A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【構成】 下記〔反応式〕で示されるトシルクロリド
(1) を原料としてＰ−トリルスルフイン酸ナトリウム
(2) 、メチルＰ−トリルスルフオン(3) 、（３−クロル
−４−メチル−フエニル）−メチルスルフオン(4) を経
て２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸(5) を製
造する。 【効果】 除草剤として又は農薬の中間体として有用な
２−クロル−４−メチル安息香酸を安価に高純度、高収
率で製造できる。
(1) を原料としてＰ−トリルスルフイン酸ナトリウム
(2) 、メチルＰ−トリルスルフオン(3) 、（３−クロル
−４−メチル−フエニル）−メチルスルフオン(4) を経
て２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸(5) を製
造する。 【効果】 除草剤として又は農薬の中間体として有用な
２−クロル−４−メチル安息香酸を安価に高純度、高収
率で製造できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はトシルクロリド(1) を出
発物質とし、除草剤として有用な農薬の中間体である２
−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸(5) を目的物
質として水又は水系の溶媒を使用し、又は無溶媒で安価
にして環境に悪影響を与えることなく、安全、簡便に高
純度、高収率で製造する方法に関するものである。
発物質とし、除草剤として有用な農薬の中間体である２
−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸(5) を目的物
質として水又は水系の溶媒を使用し、又は無溶媒で安価
にして環境に悪影響を与えることなく、安全、簡便に高
純度、高収率で製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来２−クロル−４−メチルスルホニル
安息香酸(5) は下記〔反応式(II)〕に示すようにメチル
２−クロル−４−ニトロ安息香酸エステル(6) を出発原
料とする合成法（特開昭63−190871号）か、又は下記
〔反応式(III) 〕に示すように２−クロル−４−スルホ
安息香酸カリウム塩(9) を出発原料とする合成法（ＷＯ
90／06301 ）が存在していた。
安息香酸(5) は下記〔反応式(II)〕に示すようにメチル
２−クロル−４−ニトロ安息香酸エステル(6) を出発原
料とする合成法（特開昭63−190871号）か、又は下記
〔反応式(III) 〕に示すように２−クロル−４−スルホ
安息香酸カリウム塩(9) を出発原料とする合成法（ＷＯ
90／06301 ）が存在していた。
【０００３】
【０００４】
【反応式(III) 】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記〔反応式(II)〕で
示される従来の（特開昭63−190871号）の２−クロル−
４−メチルスルホニル安息香酸(5) の製造法は〔反応式
(II)〕から明らかなように出発原料として高価なメチル
２−クロル−４−ニトロ安息香酸エステル(6) を使用
し、更に１，２ジクロルエタン（ＥＤＣ）やトリス−
（３−７−ジオキサヘプチル）アミン（ＴＤＡ−１と略
称）を中間体合成の触媒として使用している。また従来
の〔反応式(III) 〕の（ＷＯ90／06301 ）の方法の場合
も出発原料である２−クロル−４−スルホ安息香酸カリ
ウム塩(9) が高価であり、更に大過剰の塩化チオニルを
溶媒として、ジメチルフオルムアミト（ＤＭＦ）を触媒
として使用している。〔反応式(II),(III)〕の場合は共
に出発原料が高価につくほか、環境に対しても悪影響を
与えるという課題があつた。
示される従来の（特開昭63−190871号）の２−クロル−
４−メチルスルホニル安息香酸(5) の製造法は〔反応式
(II)〕から明らかなように出発原料として高価なメチル
２−クロル−４−ニトロ安息香酸エステル(6) を使用
し、更に１，２ジクロルエタン（ＥＤＣ）やトリス−
（３−７−ジオキサヘプチル）アミン（ＴＤＡ−１と略
称）を中間体合成の触媒として使用している。また従来
の〔反応式(III) 〕の（ＷＯ90／06301 ）の方法の場合
も出発原料である２−クロル−４−スルホ安息香酸カリ
ウム塩(9) が高価であり、更に大過剰の塩化チオニルを
溶媒として、ジメチルフオルムアミト（ＤＭＦ）を触媒
として使用している。〔反応式(II),(III)〕の場合は共
に出発原料が高価につくほか、環境に対しても悪影響を
与えるという課題があつた。
【０００６】本発明は従来から市販に存在する入手容易
なトシルクロリド(1) を出発原料として使用し、除草剤
として有用な農薬の中間体である前記２−クロル−４−
メチル安息香酸(5) を触媒や有機溶剤を使用することな
く、〔反応式(I) 〕に示すような中間生成物を経て安価
に高品質、高収率で製造することを目的とするものであ
る。
なトシルクロリド(1) を出発原料として使用し、除草剤
として有用な農薬の中間体である前記２−クロル−４−
メチル安息香酸(5) を触媒や有機溶剤を使用することな
く、〔反応式(I) 〕に示すような中間生成物を経て安価
に高品質、高収率で製造することを目的とするものであ
る。
【０００７】
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者等は上記の種々
な問題点を解決すべく鋭意研究した結果、遂に上記〔反
応式(I) 〕で示すような安価で入手容易なトシルクロリ
ド(1) を出発原料とし、中間生成物を経て最終目的物２
−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸(5)の新規な
製造法を確立するに至つた。
な問題点を解決すべく鋭意研究した結果、遂に上記〔反
応式(I) 〕で示すような安価で入手容易なトシルクロリ
ド(1) を出発原料とし、中間生成物を経て最終目的物２
−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸(5)の新規な
製造法を確立するに至つた。
【０００９】即ち、本発明は〔反応式(I) 〕で示すよう
にトシルクロリド(1) を出発原料としてそれをＮａ2 Ｓ
Ｏ3 及びＮａＨＣＯ3 によつてＰ−トリルスルフイン酸
ナトリウム(2) に導き、単離すること無くハロゲン化メ
チルを使用してメチルＰ−トリルスルフオン(3) を製造
する。ついで硫酸溶媒下で(3) の塩素化を行ない（３−
クロル−４−メチル−フエニル）−メチルスルフオン
(4) となし、それを硝酸酸化することによつて２−クロ
ル−４−メチルスルホニル安息香酸(5) を製造する方法
を提供するものである。
にトシルクロリド(1) を出発原料としてそれをＮａ2 Ｓ
Ｏ3 及びＮａＨＣＯ3 によつてＰ−トリルスルフイン酸
ナトリウム(2) に導き、単離すること無くハロゲン化メ
チルを使用してメチルＰ−トリルスルフオン(3) を製造
する。ついで硫酸溶媒下で(3) の塩素化を行ない（３−
クロル−４−メチル−フエニル）−メチルスルフオン
(4) となし、それを硝酸酸化することによつて２−クロ
ル−４−メチルスルホニル安息香酸(5) を製造する方法
を提供するものである。
【００１０】上記より明らかなように本発明は原料とし
て安価で一般的に使用されるトシルクロリド(1) を出発
原料に使用し、中間体としてＰ−トリスルフイン酸ナト
リウム(2) に導き、単離することなくそのままハロゲン
化メチルを添加してメチルＰ−トリルスルフオン(3) に
変化せしめ、更に、その後(3) を酸性溶液中で塩素化し
て（３−クロル−４−メチル−フエニル）−メチルスル
フオン(4) 生成せしめ、硝酸で酸化して２−クロル−４
−メチルスルホニル安息香酸(5) が得られる。
て安価で一般的に使用されるトシルクロリド(1) を出発
原料に使用し、中間体としてＰ−トリスルフイン酸ナト
リウム(2) に導き、単離することなくそのままハロゲン
化メチルを添加してメチルＰ−トリルスルフオン(3) に
変化せしめ、更に、その後(3) を酸性溶液中で塩素化し
て（３−クロル−４−メチル−フエニル）−メチルスル
フオン(4) 生成せしめ、硝酸で酸化して２−クロル−４
−メチルスルホニル安息香酸(5) が得られる。
【００１１】本発明は原料として安価な(1) を使用する
ことができ経済的に有利であり、更に本発明の各製造工
程における溶媒は水又は水系であり、或は無溶媒であ
る。そのため本発明の後処理は著しく容易である。
ことができ経済的に有利であり、更に本発明の各製造工
程における溶媒は水又は水系であり、或は無溶媒であ
る。そのため本発明の後処理は著しく容易である。
【００１２】次に本発明の製造条件を更に詳細説明す
る。Ｐ−トリルスルフイン酸ナトリウム(2) の製造法は
常法により亜硫酸ナトリウムと無機塩基を水に溶解又は
懸濁させて、上記(1) を加えることによつて行なわれ
る。反応温度は６５〜７５℃が適当であり、反応時間は
１時間で充分である。亜硫酸ナトリウムは〔反応式(I)
〕の(1) に対して1.0 倍モル、無機塩基は2.0 倍モル
程度を使用する。無機塩基としては〔反応式(I) 〕では
炭酸水素ナトリウムを使用しているが、これのみに限定
されるものではない。
る。Ｐ−トリルスルフイン酸ナトリウム(2) の製造法は
常法により亜硫酸ナトリウムと無機塩基を水に溶解又は
懸濁させて、上記(1) を加えることによつて行なわれ
る。反応温度は６５〜７５℃が適当であり、反応時間は
１時間で充分である。亜硫酸ナトリウムは〔反応式(I)
〕の(1) に対して1.0 倍モル、無機塩基は2.0 倍モル
程度を使用する。無機塩基としては〔反応式(I) 〕では
炭酸水素ナトリウムを使用しているが、これのみに限定
されるものではない。
【００１３】〔反応式(I) 〕の(2) から(3) の製造は一
般的には、(2) を製造した後に冷却、単離し、メチル化
を行なうのであるが、より効率的、経済的な製造法とし
ては上記の方法によつて製造された(2) の反応液中にハ
ロゲン化メチルを添加することにより分離することなく
同一系内において製造することが可能である。(2) を製
造後反応液のＰＨの調整を行なう。ＰＨの調整に使用さ
れる酸は通常ＨＣｌを使用するが、勿論これに限定され
るものではない。使用量はＰＨや酸の種類によつて異な
り、ＰＨは6.0 〜7.0 に調整するのが好ましい。ＰＨ調
整後、ハロゲン化メチルを系内に添加する。この場合の
反応温度は５０〜９０℃。反応時間は反応温度により異
なるが２〜５時間である。添加されるハロゲ化メチルに
対し1.2〜1.6 倍モル、好ましくは1.2 〜1.4 倍モルで
ある。ハロゲン化メチル（ＣＨ2Ｘ）は臭化メチル、ヨ
ウ化メチル及び塩化メチルを挙げることができる。
般的には、(2) を製造した後に冷却、単離し、メチル化
を行なうのであるが、より効率的、経済的な製造法とし
ては上記の方法によつて製造された(2) の反応液中にハ
ロゲン化メチルを添加することにより分離することなく
同一系内において製造することが可能である。(2) を製
造後反応液のＰＨの調整を行なう。ＰＨの調整に使用さ
れる酸は通常ＨＣｌを使用するが、勿論これに限定され
るものではない。使用量はＰＨや酸の種類によつて異な
り、ＰＨは6.0 〜7.0 に調整するのが好ましい。ＰＨ調
整後、ハロゲン化メチルを系内に添加する。この場合の
反応温度は５０〜９０℃。反応時間は反応温度により異
なるが２〜５時間である。添加されるハロゲ化メチルに
対し1.2〜1.6 倍モル、好ましくは1.2 〜1.4 倍モルで
ある。ハロゲン化メチル（ＣＨ2Ｘ）は臭化メチル、ヨ
ウ化メチル及び塩化メチルを挙げることができる。
【００１４】(4) は(3) を硫酸に溶解し、塩素を吹き込
み製造する。この場合の反応温度は90〜180 ℃であり、
好適には100 〜130 ℃である。塩素の吹き込み量は(3)
に対し1.0 〜2.0 倍モルである。反応時間は反応温度及
び吹き込み量によつて異なるが４時間程度が好ましい。
Ｈ2 ＳＯ4 は９７％濃硫酸又は発煙硫酸が使用される。
硫酸の使用量は(3) に対して3.0 倍モルが適当である。
み製造する。この場合の反応温度は90〜180 ℃であり、
好適には100 〜130 ℃である。塩素の吹き込み量は(3)
に対し1.0 〜2.0 倍モルである。反応時間は反応温度及
び吹き込み量によつて異なるが４時間程度が好ましい。
Ｈ2 ＳＯ4 は９７％濃硫酸又は発煙硫酸が使用される。
硫酸の使用量は(3) に対して3.0 倍モルが適当である。
【００１５】(5) は(4) を180 ℃まで加熱、溶解し、Ｈ
ＮＯ3 添加による酸化により製造される。酸化反応後晶
析させることにより(5) を得ることができる。更に高純
度の(5) は更にアルカリ塩として水層に溶解し、未反応
の(4) を有機溶媒で抽出することによつて獲られる。
(5) の溶解に使用する無機塩基としては、通常水酸化ナ
トリウムが使用されるが、勿論これに限定されるもので
はなく、無機塩基の量は反応条件などにより異なり(5)
が溶解し、ＰＨが１３以上になるよう調整を行なう。
(5) の晶析に使用される酸は通常ＨＣｌが使用される
が、勿論これに限定されるものではない。
ＮＯ3 添加による酸化により製造される。酸化反応後晶
析させることにより(5) を得ることができる。更に高純
度の(5) は更にアルカリ塩として水層に溶解し、未反応
の(4) を有機溶媒で抽出することによつて獲られる。
(5) の溶解に使用する無機塩基としては、通常水酸化ナ
トリウムが使用されるが、勿論これに限定されるもので
はなく、無機塩基の量は反応条件などにより異なり(5)
が溶解し、ＰＨが１３以上になるよう調整を行なう。
(5) の晶析に使用される酸は通常ＨＣｌが使用される
が、勿論これに限定されるものではない。
【００１６】以下本発明を実施例によつて段階的に説明
するが本発明は実施例のみに限定されるべきものではな
い。
するが本発明は実施例のみに限定されるべきものではな
い。
【００１７】
【実施例１】ヨウ化メチルを使用したメチルＰ−トリル
スルフオン(3) の合成。撹拌付き500-l フラスコに水30
0ml 、亜硫酸ナトリウム31.6g （0.25モル）及び炭酸水
素ナトリウム42.0g を入れて７０℃に昇温した。ついで
トシルクロリド(1) 47.7g （0.25モル）を４５分かけて
導入し、Ｐ−トリルスルフイン酸ナトリウム(2) を得
た。(2) の製造終了後塩酸を用いてＰＨを6.8 に調整し
た。これにヨウ化メチル42.6g （0.3 モル）を６５℃で
１時間３０分かけて滴下した。滴下後更に７５℃で３時
間撹拌を行なつた。製造終了後ベンゼン50mlを用いて抽
出を行ない、39.2g の(3) を得た。収率92.1％、ガスク
ロマトグラフによる純度は98.8％であつた。
スルフオン(3) の合成。撹拌付き500-l フラスコに水30
0ml 、亜硫酸ナトリウム31.6g （0.25モル）及び炭酸水
素ナトリウム42.0g を入れて７０℃に昇温した。ついで
トシルクロリド(1) 47.7g （0.25モル）を４５分かけて
導入し、Ｐ−トリルスルフイン酸ナトリウム(2) を得
た。(2) の製造終了後塩酸を用いてＰＨを6.8 に調整し
た。これにヨウ化メチル42.6g （0.3 モル）を６５℃で
１時間３０分かけて滴下した。滴下後更に７５℃で３時
間撹拌を行なつた。製造終了後ベンゼン50mlを用いて抽
出を行ない、39.2g の(3) を得た。収率92.1％、ガスク
ロマトグラフによる純度は98.8％であつた。
【００１８】
【実施例２】臭化メチルを使用したメチルＰ−トリルス
ルフオン(3) の合成。撹拌機付き300ml フラスコに水15
0ml 、亜硫酸ナトリウム31.6g （0.25モル）及び炭酸水
素ナトリウム42.0g を入れ、７０℃に昇温した。その後
トシルクロリド(1) を47.7g （0.25モル）を１時間かけ
て導入し、Ｐ−トリルスルフイン酸ナトリウム(2) を得
た。(2) の製造終了後溶液をオ−トクレ−ブに移し溶液
を５℃以下に冷却した。その後37.5％臭化メチルのメタ
ノ−ル溶液88.3g （0.35モル）を加え６５℃で２時間反
応を行なつた。製造終了後、溶液を水200ml 中に投入し
て(3) を晶析させ、38.7g を得た。収率91.0％、ガスク
ロマトグラフによる純度は99.4％であつた。
ルフオン(3) の合成。撹拌機付き300ml フラスコに水15
0ml 、亜硫酸ナトリウム31.6g （0.25モル）及び炭酸水
素ナトリウム42.0g を入れ、７０℃に昇温した。その後
トシルクロリド(1) を47.7g （0.25モル）を１時間かけ
て導入し、Ｐ−トリルスルフイン酸ナトリウム(2) を得
た。(2) の製造終了後溶液をオ−トクレ−ブに移し溶液
を５℃以下に冷却した。その後37.5％臭化メチルのメタ
ノ−ル溶液88.3g （0.35モル）を加え６５℃で２時間反
応を行なつた。製造終了後、溶液を水200ml 中に投入し
て(3) を晶析させ、38.7g を得た。収率91.0％、ガスク
ロマトグラフによる純度は99.4％であつた。
【００１９】
【実施例３】（３−クロル−４−メチル−フエニル）−
メチルスルフオン(4) の合成。撹拌子を入れた１００ml
のフラスコに上記で得られたメチルＰ−トリルスルフオ
ン(3) を34.0g （0.2 モル）と９７％、硫酸70.7g （0.
6 モル）を加え、130 ℃に昇温した。その温度で塩素ガ
ス28,4g （0.2 モル）を４時間かけて吹き込み（３−ク
ロル−４−フエニル）−メチルスルフオン(4) 37.8g を
得た。収率92.3％、ガスクロマトグラフによる純度は9
7.1％であつた。
メチルスルフオン(4) の合成。撹拌子を入れた１００ml
のフラスコに上記で得られたメチルＰ−トリルスルフオ
ン(3) を34.0g （0.2 モル）と９７％、硫酸70.7g （0.
6 モル）を加え、130 ℃に昇温した。その温度で塩素ガ
ス28,4g （0.2 モル）を４時間かけて吹き込み（３−ク
ロル−４−フエニル）−メチルスルフオン(4) 37.8g を
得た。収率92.3％、ガスクロマトグラフによる純度は9
7.1％であつた。
【００２０】
【実施例４】２−クロル−４−メチルスルホニル安息香
酸(5) の合成。撹拌子を入れた５０mlのフラスコに実施
例３で得られた(4) 14.6g （71ｍモル）を加え、185 ℃
に昇温して溶解した、６１％硝酸37.2g （0.36モル）を
180 ℃を維持するように滴下した。副生する水を留去し
て、内温の低下を防いだ。製造後８％水酸化ナトリウム
水溶液180g、ジエチルエ−テル５０mlを加えて、(5) を
水層に、未反応の(4) を有機層に抽出した。(5) は３６
％ＨＣｌを使用して中和して12.0g を得た。収率72.0
％、ガスクロマトグラフによる純度は99.0％であつた。
酸(5) の合成。撹拌子を入れた５０mlのフラスコに実施
例３で得られた(4) 14.6g （71ｍモル）を加え、185 ℃
に昇温して溶解した、６１％硝酸37.2g （0.36モル）を
180 ℃を維持するように滴下した。副生する水を留去し
て、内温の低下を防いだ。製造後８％水酸化ナトリウム
水溶液180g、ジエチルエ−テル５０mlを加えて、(5) を
水層に、未反応の(4) を有機層に抽出した。(5) は３６
％ＨＣｌを使用して中和して12.0g を得た。収率72.0
％、ガスクロマトグラフによる純度は99.0％であつた。
【００２０】
【発明の効果】本発明の効果を纏めると下記の通りであ
る。本発明によつて農薬製造時の中間体である〔反応式
(I) 〕の(5) を安価な(1) を使用することによつて経済
的に製造することができた。更に(1) から(3) の製造工
程においては(2) を取出す操作を省略することによつて
試薬のロスを無くすることに成功した。また(4) 及び
(5) の合成工程においては溶媒を殆ど使用しないため効
率よく製造することができ、本発明によつて〔反応式
(I) 〕(1) より(5)を高純度、高収率で製造することに
成功した。
る。本発明によつて農薬製造時の中間体である〔反応式
(I) 〕の(5) を安価な(1) を使用することによつて経済
的に製造することができた。更に(1) から(3) の製造工
程においては(2) を取出す操作を省略することによつて
試薬のロスを無くすることに成功した。また(4) 及び
(5) の合成工程においては溶媒を殆ど使用しないため効
率よく製造することができ、本発明によつて〔反応式
(I) 〕(1) より(5)を高純度、高収率で製造することに
成功した。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成６年２月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記〔反応式（Ｉ
Ｉ）〕で示される従来の（特開昭６３−１９０８７１
号）の２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸
（５）の製造法は〔反応式（ＩＩ）〕から明らかなよう
に出発原料として高価なメチル２−クロル−４−ニトロ
安息香酸エステル（６）を使用し、更に１，２ジクロル
エタン（ＥＤＣ）やトリス−（３−７−ジオキサヘプチ
ル）アミン（ＴＤＡ−１と略称）を中間体合成の触媒と
して使用している。また従来の〔反応式（ＩＩＩ）〕の
（ＷＯ９０／０６３０１）の方法の場合も出発原料であ
る２−クロル−４−スルホ安息香酸カリウム塩（９）が
高価であり、更に大過剰の塩化チオニルを溶媒として、
ジメチルフオルムアミド（ＤＭＦ）を触媒として使用し
ている。〔反応式（ＩＩ），（ＩＩＩ）〕の場合は共に
出発原料が高価につくほか、環境に対しても悪影響を与
えるという課題があつた。
Ｉ）〕で示される従来の（特開昭６３−１９０８７１
号）の２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸
（５）の製造法は〔反応式（ＩＩ）〕から明らかなよう
に出発原料として高価なメチル２−クロル−４−ニトロ
安息香酸エステル（６）を使用し、更に１，２ジクロル
エタン（ＥＤＣ）やトリス−（３−７−ジオキサヘプチ
ル）アミン（ＴＤＡ−１と略称）を中間体合成の触媒と
して使用している。また従来の〔反応式（ＩＩＩ）〕の
（ＷＯ９０／０６３０１）の方法の場合も出発原料であ
る２−クロル−４−スルホ安息香酸カリウム塩（９）が
高価であり、更に大過剰の塩化チオニルを溶媒として、
ジメチルフオルムアミド（ＤＭＦ）を触媒として使用し
ている。〔反応式（ＩＩ），（ＩＩＩ）〕の場合は共に
出発原料が高価につくほか、環境に対しても悪影響を与
えるという課題があつた。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１０】上記より明らかなように本発明は原料とし
て安価で一般的に使用されるトシルクロリド（１）を出
発原料に使用し、中間体としてＰ−トリルスルフイン酸
ナトリウム（２）に導き、単離することなくそのままハ
ロゲン化メチルを添加してメチルＰ−トリルスルフオン
（３）に変化せしめ、更に、その後（３）を酸性溶液中
で塩素化して（３−クロル−４−メチル−フエニル）−
メチルスルフオン（４）を生成せしめ、硝酸で酸化して
２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸（５）が得
られる。
て安価で一般的に使用されるトシルクロリド（１）を出
発原料に使用し、中間体としてＰ−トリルスルフイン酸
ナトリウム（２）に導き、単離することなくそのままハ
ロゲン化メチルを添加してメチルＰ−トリルスルフオン
（３）に変化せしめ、更に、その後（３）を酸性溶液中
で塩素化して（３−クロル−４−メチル−フエニル）−
メチルスルフオン（４）を生成せしめ、硝酸で酸化して
２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸（５）が得
られる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記〔反応式(I) 〕で示されるトシルク
ロリド(1) を出発原料とする２−クロル−４−メチルス
ルホニル安息香酸(5) を製造する方法。 【反応式(I) 】 - 【請求項２】 上記〔反応式(I) 〕で示されるトシルク
ロリド(1) をアルカリ塩の存在下Ｐ−トリルスルフイン
酸ナトリウム(2) を合成し、ついでハロゲン化メチル
（ＣＨ3 Ｘ，Ｘ＝Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ）を添加してメチルＰ
−トリルスルフオン(3) に導き、更に硫酸溶媒下で塩素
化を行い（３−クロル−４−メチル−フエニル）−メチ
ルスルフオン(4) として、硝酸酸化することによつて合
成する請求項１記載の２−クロル−４−メチルスルホニ
ル安息香酸(5) を製造する方法。
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|---|---|---|---|
| JP20834593A JP3522310B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | ２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸の製造法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0748341A true JPH0748341A (ja) | 1995-02-21 |
| JP3522310B2 JP3522310B2 (ja) | 2004-04-26 |
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ID=16554743
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| JP20834593A Expired - Lifetime JP3522310B2 (ja) | 1993-07-30 | 1993-07-30 | ２−クロル−４−メチルスルホニル安息香酸の製造法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3522310B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| CN102363604A (zh) * | 2011-09-28 | 2012-02-29 | 浙江嘉化能源化工股份有限公司 | 对甲砜基甲苯的工业化生产方法 |
| CN102627591A (zh) * | 2012-03-16 | 2012-08-08 | 苏州市罗森助剂有限公司 | 一种2-氯-4-甲砜基苯甲酸的制备方法 |
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1993
- 1993-07-30 JP JP20834593A patent/JP3522310B2/ja not_active Expired - Lifetime
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|---|---|---|---|---|
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