JPH0741359A - 静電チャック用セラミックス及びその製造用組成物 - Google Patents

静電チャック用セラミックス及びその製造用組成物

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JPH0741359A
JPH0741359A JP20838693A JP20838693A JPH0741359A JP H0741359 A JPH0741359 A JP H0741359A JP 20838693 A JP20838693 A JP 20838693A JP 20838693 A JP20838693 A JP 20838693A JP H0741359 A JPH0741359 A JP H0741359A
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JP
Japan
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electrostatic chuck
ceramics
volume resistivity
alumina
ceramic
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Application number
JP20838693A
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English (en)
Inventor
Naoaki Taga
直昭 多賀
Otojiro Kida
音次郎 木田
Nobuhiro Shinohara
伸広 篠原
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AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】静電チャック用材料として好適な体積固有抵
抗、機械的強度及び熱的な安定性を具備し、汚染の原因
となる成分を含まない材料を提供する。 【構成】10μm以下のアルミナと金属Siの粉末を原
料とする、アルミナを主成分とし、マトリックス中に金
属Siを0.175〜11.4重量%含み、かつ体積固
有抵抗が1010〜1013Ω・cmであるセラミックス焼
結体を使用する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体装置製造
プロセス等において、例えばドライエッチング装置やC
VD装置におけるウエハの冷却用ステージや、露光装置
のウエハの平面度矯正を行う試料ステージ等に使われる
静電チャック用セラミックス及びその製造用組成物に関
する。
【0002】
【従来の技術】最近の半導体装置の集積度の増大にとも
ない、半導体装置等の製造プロセスが高度化し、シリコ
ン等のウエハ(以下単にウエハという)の保持精度や、
保持温度に多くの制限が生じてきている。しかし、従来
からある機械的なチャック方法では、ウエハを冷却した
り平面度を矯正するなどの機能を付加できない。また、
真空チャックは真空中で使用できないために、利用でき
るプロセスに制約がある。
【0003】一方、静電力によってウエハを吸着する静
電チャックでは、ウエハと試料ステージの密着性を制御
することができ、真空中でも吸着力を維持できるため
に、この分野における静電チャックの優位性は明らかで
ある。
【0004】静電チャック用セラミックスとしては、例
えば特公昭60−59104にアルミナ、酸化チタン、
チタン酸バリウムの複合材料を溶射して形成したもの
が、また、特開平2−22166にはアルミナにアルカ
リ土類金属の酸化物と遷移金属の酸化物を組み合わせた
セラミックスが提案されている。
【0005】しかし、静電チャックに前述のような優位
性があっても、従来静電チャックの吸着力が十分に大き
くなかったため、あるいは安定して狭い範囲の体積固有
抵抗を再現できる材料が得られなかったため、期待され
た機能を発揮できなかったり、機械的、熱的な信頼性に
欠けていたりし、今のところ静電チャックはあまり普及
していない。
【0006】また、静電チャックを使用するうえで問題
になる吸着力の強さと応答特性は、使用される材料の体
積固有抵抗が小さいほどよく、吸着力が残留するなどの
問題も少ないが、体積固有抵抗が小さいと、被吸着物に
流れる電流量が大きくなる。この電流は、半導体装置の
製造工程で被吸着物である半導体素子に流入してその破
壊原因になるという問題がある。
【0007】このため静電チャック用として体積固有抵
抗がある程度大きく、吸着力を発揮できる体積固有抵抗
を有する静電チャック用材料、すなわち体積固有抵抗が
1011Ω・cmレベルにあり、機械的強度と熱的な安定
性があり、ウエハを汚したり、ウエハと反応しない新た
な材料の開発が待たれている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、1011Ω・
cmレベルの体積固有抵抗を再現性よく示す材料を、複
合されたセラミックスで実現し、静電チャック用材料に
要求される機械的強度と熱的な安定性を備え、使用され
る温度でウエハと反応しない静電チャック用セラミック
スを提供しようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は前述の課題を解
決すべくなされたものであり、本発明の静電チャック用
セラミックスは、アルミナを主成分とするマトリックス
中に金属シリコン(Si)を含む焼結体であり、体積固
有抵抗が1010〜1013Ω・cmであることを特徴とす
る。
【0010】ここにおいて、本発明は、導電性のセラミ
ックス成分であるSiと、絶縁性のセラミックス成分で
あるアルミナとを組み合わせた焼結体によって目的とす
る狭い範囲(1010〜1013Ω・cm)の体積固有抵抗
を再現性よく示し、かつ機械的強度と熱的な安定性があ
り、ウエハと反応しない静電チャック用セラミックスの
実現に成功したものである。
【0011】すなわち、この静電チャック用セラミック
スの体積固有抵抗を1010Ω・cm以上1013Ω・cm
以下に制御されていることにより、静電チャックに被吸
着物が吸着されたときに被吸着物に流れる電流量をMO
S−IC等の半導体素子が破壊しない程度に小さく抑え
ると同時に、静電チャックにある程度高い電圧を印加す
ることによって、強い吸着力を発現することができる。
【0012】本発明の静電チャック用セラミックス製造
用組成物は、上記静電チャック用セラミックスの製造用
原料となる組成物であり、Si粉末を0.175〜1
1.4重量%含み、残部が実質的にアルミナ粉末である
粉末の混合物からなり、両粉末の平均粒径がいずれも1
0μm以下であることを特徴とする。
【0013】この場合、Si粉末の含有量が0.175
重量%より少ないと、これから得られるセラミックス焼
結体の体積固有抵抗が1013Ω・cmより大きくなり、
強い吸着力を発現することができない。また、Siの含
有量が11.4重量%よりも多いと、体積固有抵抗が1
10Ω・cmより小さくなり、被吸着物を吸着するとき
に被吸着物に大きな電流が流れ、被吸着物を電気的に破
壊する恐れが増すため、半導体装置の製造プロセス等に
使用できなくなる。また、Siの含有量が11.4重量
%よりも多いと、得られるセラミックス焼結体の機械的
強度が低下し、静電チャック用部材としての信頼性が欠
如することとになる。
【0014】使用上十分な機械的強度を確保するため、
Si粉末の含有量は0.23〜6.09重量%とするの
が特に好ましい。また、各粉末の平均粒径が10μmよ
り大きいと、所望の体積固有抵抗が得難くなるととも
に、セラミックスの焼結が進みにくくなるため、強度不
足や強度のバラツキが増す問題が起き、摩耗により塵が
発生しやすくなる等好ましくない結果をもたらす。各粉
末の平均粒径は、より好ましくは5μm以下である。
【0015】本発明の静電チャック用セラミックスは、
優れた強度と耐摩耗性及び耐熱性を有する絶縁性材料で
あるアルミナセラミックス(体積固有抵抗抗は約1014
Ω・cm)に導電性を有する材料である金属Si(体積
固有抵抗は103 Ω・cmより小さい)を複合し、体積
固有抵抗を1010〜1013Ω・cmの適切な範囲に制御
したものであり、かつ静電チャック用セラミックスとし
て使用上十分な強度と耐摩耗性を備えた材料である。
【0016】この静電チャック用セラミックスを製造す
るには、平均粒径が10μm以下の粒子からなるSi粉
末を0.175〜11.4重量%と、残部の平均粒径1
0μm以下のアルミナ粒子の粉末を混合した組成物を出
発原料とし、常法によって成形後焼結すればよい。Si
粉末の混合量の範囲が広いので、その製造は容易であ
る。
【0017】静電チャック用セラミックスの原料粉末に
は、通常市販されている粉末が使用できる。しかし、S
i粉末の純度によって、Siの体積固有抵抗に顕著な変
動があり、結果的にSiを含んだ静電チャック用セラミ
ックスの体積固有抵抗に影響するため、Si粉末の純度
を把握、かつ管理する必要がある。
【0018】また、焼結体に所要の体積固有抵抗が得ら
れたとしても、半導体装置等の製造プロセス向けの静電
チャックに使用する場合、被吸着物を汚す恐れのある不
純物を多く含むことは好ましくない。したがって、原料
Siの純度は、99.9%以上であることが好ましい。
純度の高いSiは、半導体の原料として流通していて、
入手は容易である。
【0019】これらの粉末原料は、必要に応じて純度を
落とさないように注意しながら粉砕し、いずれも平均粒
径10μm以下の粉末としているが、焼結性を高めて強
度の大きいセラミックスを得るため、特には平均粒径が
0.1〜2μmのものを使用するのが好ましい。
【0020】アルミナ粉末と導電性のSi粉末との混合
は、通常セラミックスの製造用に使用されている回転ボ
ールミルや振動ミル、アトリションミルが使用できる
他、懸濁液としておいて撹拌機で撹拌してもよい。ま
た、より均一に分散された細かい混合粉末を得るには、
特にアルコールなどの溶媒を用いる湿式の回転ボールミ
ルやアトリションミルを使用して混合するのが好まし
い。
【0021】アルミナの焼結助剤として、マグネシア
(MgO)等の微粉末を含有することが行われている
が、MgOを1000ppm程度含有していても静電チ
ャック用セラミックスとしての特性が劣化する等の支障
はない。
【0022】本発明の静電チャック用セラミックス製造
用組成物であるアルミナとSiの混合粉末を所望の形状
に成形するには、セラミックスの製造で通常行われてい
るプレス成形法、スリップキャスト成形法、射出成形法
などによる。ただし、射出成形法による成形体では、た
いてい多量の有機結合剤を含んでいるので、焼結に先立
って空気中500℃程度の温度まで長時間かけて昇温す
る脱脂処理を行う必要がある。
【0023】こうして得られた成形体の焼結は、導電性
のSi粉末が酸化されないように、あるいは窒化されて
体積固有抵抗が大きくなってしまわないように、窒素を
含まない非酸化性雰囲気中において行う。焼結手段はホ
ットプレスや無加圧焼結などによるが、複雑な形状を有
する焼結体を得るためには無加圧焼結法によるのが便利
である。
【0024】緻密なセラミックス焼結体を得るには、無
加圧焼結を行って90%以上の密度の焼結体とした後に
熱間静水圧焼結(HIP)を行うとよい。炉内を窒素を
含まない非酸化性の雰囲気とするためには、炉内にアル
ゴン、ヘリウム等のガスを導入し、無加圧焼結では焼結
温度を1200〜1400℃とし、この温度に1〜5時
間保持して焼結するのが好ましい。
【0025】
【実施例】以下本発明を実施例によって具体的に説明す
るが、実施例は本発明の一例であり、本発明をなんら限
定するものではない。
【0026】実施例1 平均粒径0.26μm、純度99.99%のアルミナ粉
末(住友化学工業社製AKP−50)に、平均粒径1〜
2μmで純度が99.9%以上のSi粉末を、表1に示
したように0.23重量%配合し、ナイロン製ポットと
ナイロン製ボールからなる振動ミルを使用し、エチルア
ルコールを媒体として湿式混合した。
【0027】得られたスラリーを約60℃に加温しつつ
減圧下で乾燥してアルコールを除いた乾燥物を解砕して
粉末状のセラミックス製造用組成物を得た。この組成物
を、金型プレスによって100kg/cm2 でプレス成
形し、寸法が70mm×120mm×10mmの予備成
形体とし、さらに2000kg/cm2 の圧力で静水圧
プレスして成形体とした。
【0028】次いでこの成形体を、アルゴンを導入して
非酸化性雰囲気とした電気炉中において1350℃で3
時間焼成し、緻密なアルミナとSiの複合セラミックス
焼結体を得た。
【0029】この焼結体の嵩比重をアルキメデス法にて
求め、次にこの焼結体から30mm×30mm×2mm
の試験片を5個切り出して3点曲げ強度の測定を行っ
た。
【0030】焼結体の体積固有抵抗は、外径20mm、
厚さ1mmの試料を3個切り出し、3端子法によって測
定した。
【0031】また、得られた静電チャック用セラミック
スを使用した静電チャックの吸着力の試験として、セラ
ミックス焼結体から外径2インチ、厚み400μmの円
板状の試験片を切り出し、各試験片の平面の平坦度を1
μm以下、面粗度(Ra )0.25μm以下に研磨し、
円板状の静電チャック用セラミックスとした。
【0032】また、別にアルミナ質の焼結体から外径2
インチ、厚み4mmの円盤を切り出し、この円盤を支持
台に使用した。円盤の支持台と前述の円板状の静電チャ
ック用セラミックスとの間に挟み込む形で、有機バイン
ダと混合された生シートの状態で外径2インチのタング
ステンの電極を熱圧着し、全体を焼成して一体化し、静
電チャックを形成した。
【0033】電極に、コバール(熱膨張率が小さい合
金)を銀ろう付けして端子とし、この静電チャックの上
(静電チャック用セラミックスの上)にSiウエハ(外
径2インチ、厚み0.5mm、p型、体積固有抵抗0.
2Ω・cm)をのせ、このウエハをアースに接続した。
【0034】各静電チャックの電極に3kVの電圧を印
加して100秒経過した後に、このSiウエハが吸着さ
れている吸着力を測定した。この際、吸着力が400k
g/cm2 以上のときは優秀(◎)、吸着力が100k
g/cm2 以上400kg/cm2 未満のときは良好
(○)吸着力が20kg/cm2 以上100kg/cm
2 未満のときは可(△)、吸着力が20kg/cm2
満のときは不良(×)と評価した。
【0035】残留吸着力は、前記の静電チャックに3k
Vの電圧を印加した後、電圧印加を停止して上記静電チ
ャックの端子をアースしておき、1分後の接着力を測定
して残留吸着力が半減しなかった場合は不良(×)、半
減はしたが10%以上残った場合は可(△)、残留吸着
力が10〜3%の場合は良好(○)、3%未満の場合は
優秀(◎)と評価した。
【0036】実施例2〜6 表1に示したように、Siの含有量を0.23重量%、
1.77重量%、2.98重量%、6.09重量%及び
9.34重量%とした以外は、実施例1と同様の試験を
実施した。
【0037】比較例1〜3 表1に示したように、Siの含有量を0(ゼロ)重量
%、0.0.06重量%及び20重量%とした以外は、
実施例1と同様の試験を実施した。
【0038】
【表1】
【0039】得られたセラミックス焼結体について諸特
性の評価結果を表2にまとめて示した。
【0040】
【表2】
【0041】以上の試験結果から、本発明の組成物を用
いて製造されたアルミナとSiの複合されたセラミック
ス焼結体は、いずれも体積固有抵抗が1010〜1013Ω
・cmの範囲にはいり、静電チャックとして実用上好ま
しい特性を示した。
【0042】また、曲げ強度も35〜41kg/mm2
と比較的高いレベルにある焼結体が得られ、本発明のセ
ラミックスが静電チャック用の材料として好適であるこ
とが示された。
【0043】
【発明の効果】本発明による静電チャック用セラッミッ
クスは被吸着物を吸着する吸着力が十分に大きく、吸着
時に放電して被吸着物を破壊せず、十分な強度を備えて
いて破損の恐れがなく、重金属などの半導体素子を汚す
成分を含まないので、半導体装置等の製造プロセス用に
好適である。
【0044】また、セラミックスの主成分がアルミナで
あるため、通常使われている金属材料や高分子材料に比
べてヤング率が高く、化学的に安定であり、耐摩耗性に
優れていて塵を放出することがなく、耐久性と信頼性に
優れた静電チャックが得られ、露光装置で重要となる吸
着面の平坦度は、最高0.05μm、通常0.3μm以
下に加工することも可能である。
【0045】さらに、アルミナとSiの粉末は純度が良
好な市販品の入手が容易であり、この両成分を複合して
再現性よく1010〜1013Ω・cmの体積固有抵抗を示
す静電チャック用セラミックスが得られたことにより、
静電チャックを安定して製造、供給できることになっ
た。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】アルミナを主成分とするマトリックス中に
    金属Siを含む焼結体であり、体積固有抵抗が1010
    1013Ω・cmであることを特徴とする静電チャック用
    セラミックス。
  2. 【請求項2】焼結体中に金属Siを0.175〜11.
    4重量%含む請求項1に記載の静電チャック用セラミッ
    クス。
  3. 【請求項3】Si粉末を0.175〜11.4重量%含
    み、残部が実質的にアルミナ粉末である粉末の混合物で
    あり、両粉末の平均粒径がいずれも10μm以下である
    ことを特徴とする静電チャック用セラミックス製造用組
    成物。
JP20838693A 1993-07-30 1993-07-30 静電チャック用セラミックス及びその製造用組成物 Pending JPH0741359A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6909185B1 (en) 1998-12-07 2005-06-21 Hitachi, Ltd. Composite material including copper and cuprous oxide and application thereof
US6916559B2 (en) 1997-02-26 2005-07-12 Kyocera Corporation Ceramic material resistant to halogen plasma and member utilizing the same
JP2008004673A (ja) * 2006-06-21 2008-01-10 Tokyo Seimitsu Co Ltd プローバ用チャック
US7886550B2 (en) 2005-05-06 2011-02-15 Panasonic Corporation Refrigerating machine

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US7886550B2 (en) 2005-05-06 2011-02-15 Panasonic Corporation Refrigerating machine
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