JPH07278327A - 高分子基材のグラフト化処理方法 - Google Patents
高分子基材のグラフト化処理方法Info
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- JPH07278327A JPH07278327A JP9289594A JP9289594A JPH07278327A JP H07278327 A JPH07278327 A JP H07278327A JP 9289594 A JP9289594 A JP 9289594A JP 9289594 A JP9289594 A JP 9289594A JP H07278327 A JPH07278327 A JP H07278327A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】放射線またはプラズマの照射により、ラジカル
重合性化合物を高分子基材にグラフト重合させるグラフ
ト化処理方法において、当該高分子基材が、当該高分子
物素材に結晶核剤を添加して成る高分子基材のグラフト
化処理方法。 【効果】グラフト化の反応効率を向上させることがで
き、グラフト化反応効率の向上から基材を劣化させるよ
うな放射線照射条件等をより厳しいものにする必要もな
く、グラフト化反応時間の短縮から生産効率を向上する
ことができる。
重合性化合物を高分子基材にグラフト重合させるグラフ
ト化処理方法において、当該高分子基材が、当該高分子
物素材に結晶核剤を添加して成る高分子基材のグラフト
化処理方法。 【効果】グラフト化の反応効率を向上させることがで
き、グラフト化反応効率の向上から基材を劣化させるよ
うな放射線照射条件等をより厳しいものにする必要もな
く、グラフト化反応時間の短縮から生産効率を向上する
ことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高分子基材のグラフト
化処理方法に関し、特に、ポリオレフイン系基材の表面
を放射線またはプラズマ照射グラフト重合法により改質
する場合の有利な改質技術に関する。
化処理方法に関し、特に、ポリオレフイン系基材の表面
を放射線またはプラズマ照射グラフト重合法により改質
する場合の有利な改質技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】ポリオレフイン系基材並びにその表面
（用途により孔内を含む）を改質した材料は、変性ポリ
オレフインとして接着性材料やそれを含む組成物の他に
具体的な用途例としてフィルター、各種分離膜、電池用
隔膜、各種吸水材等にも利用可能である。また、これら
改質材がフィルム形状である場合には、各種立体形状品
の表面に貼付する事による表面改質が可能である。
（用途により孔内を含む）を改質した材料は、変性ポリ
オレフインとして接着性材料やそれを含む組成物の他に
具体的な用途例としてフィルター、各種分離膜、電池用
隔膜、各種吸水材等にも利用可能である。また、これら
改質材がフィルム形状である場合には、各種立体形状品
の表面に貼付する事による表面改質が可能である。
【０００３】基材表面をグラフト法により改質するに、
一般に、大別すると、基材に放射線を照射し、その後
に、グラフトモノマーとグラフト反応させる所謂前照射
法と、基材とグラフトモノマーとを共存させてグラフト
反応と放射線照射とを同時に行う所謂同時照射法との二
つの方法がある。高分子基材特にポリオレフイン基材を
グラフト法により改質する場合、そのグラフト化率に影
響を及ぼす条件として、樹脂組成（樹脂の種類、結晶
性、添加物等）、放射線またはプラズマ照射条件（加速
電圧、照射線量、線量率、照射雰囲気等）、グラフト反
応条件（反応時間、反応温度、反応モノマーの種類並び
に濃度、反応触媒等）、後処理条件（アニール）等が挙
げられる。従来、当該高分子基材をグラフト法により改
質する場合、これら事項について、各種の提案がなされ
ているが、樹脂組成については、樹脂単独でなされてい
る場合が殆んどである。高いグラフト化率のものを得る
には、放射線またはプラズマ照射条件、あるいはグラフ
ト反応条件を厳しくすればよいが、基材の劣化を招いた
り、生産効率の低下（反応時間の延長、反応温度高、モ
ノマー量の増加等）につながり好ましいものではない。
一般に、大別すると、基材に放射線を照射し、その後
に、グラフトモノマーとグラフト反応させる所謂前照射
法と、基材とグラフトモノマーとを共存させてグラフト
反応と放射線照射とを同時に行う所謂同時照射法との二
つの方法がある。高分子基材特にポリオレフイン基材を
グラフト法により改質する場合、そのグラフト化率に影
響を及ぼす条件として、樹脂組成（樹脂の種類、結晶
性、添加物等）、放射線またはプラズマ照射条件（加速
電圧、照射線量、線量率、照射雰囲気等）、グラフト反
応条件（反応時間、反応温度、反応モノマーの種類並び
に濃度、反応触媒等）、後処理条件（アニール）等が挙
げられる。従来、当該高分子基材をグラフト法により改
質する場合、これら事項について、各種の提案がなされ
ているが、樹脂組成については、樹脂単独でなされてい
る場合が殆んどである。高いグラフト化率のものを得る
には、放射線またはプラズマ照射条件、あるいはグラフ
ト反応条件を厳しくすればよいが、基材の劣化を招いた
り、生産効率の低下（反応時間の延長、反応温度高、モ
ノマー量の増加等）につながり好ましいものではない。
【０００４】
【発明が解決しょうとする課題】本発明はかかる状況下
に鑑み、樹脂の組成面から、グラフト化の反応効率を向
上させることができ、グラフト化反応効率の向上から放
射線照射条件等をより厳しいものにする必要もなくな
り、グラフト化反応時間の短縮から生産効率を向上する
ことができる技術を提供することを目的としたものであ
る。
に鑑み、樹脂の組成面から、グラフト化の反応効率を向
上させることができ、グラフト化反応効率の向上から放
射線照射条件等をより厳しいものにする必要もなくな
り、グラフト化反応時間の短縮から生産効率を向上する
ことができる技術を提供することを目的としたものであ
る。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は、放射線または
プラズマの照射により、ラジカル重合性化合物を高分子
基材にグラフト重合させるグラフト化処理方法におい
て、当該高分子基材が、当該高分子物素材に結晶核剤を
添加して成ることを特徴とする高分子基材のグラフト化
処理方法に係るものである。
プラズマの照射により、ラジカル重合性化合物を高分子
基材にグラフト重合させるグラフト化処理方法におい
て、当該高分子基材が、当該高分子物素材に結晶核剤を
添加して成ることを特徴とする高分子基材のグラフト化
処理方法に係るものである。
【０００６】本発明に使用される高分子基材を構成する
高分子物素材としては、ポリプロピレン（以下、ＰＰと
いう場合もある）、ポリエチレン（以下、ＰＥという場
合もある）、プロピレン−エチレン共重合体、ポリブテ
ン、ポリメチルペンテン−１、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリスチレンなどの樹脂が挙げられる。就中、
ＰＰ、ＰＥ等のポリオレフイン樹脂特にポリプロピレン
樹脂からなるものが好ましい。ポリオレフイン樹脂は、
非極性で、その表面等を放射線グラフト法により改質し
ょうとする場合、その表面でグラフトモノマーがはじか
れてしまい、グラフト化率の向上につながらないことが
多いからである。当該ポリプロピレン樹脂としては、ホ
モポリプロピレンまたはプロピレンとエチレンもしくは
αーオレフイン例えば１ーブテン、１ーペンテン、１ー
ヘキセン、４ーメチルー１ーペンテン、１ーオクテン等
との共重合体があげられる。当該共重合体は、ランダム
共重合体でもブロック共重合体でもよい。当該ポリプロ
ピレン樹脂は、例えば三塩化チタン、四塩化チタン等の
遷移金属化合物触媒成分またはそれらを塩化マグネシウ
ム等のハロゲン化マグネシウムを主成分とする担体に担
持させてなる触媒成分とトリエチルアルミニウム、ジエ
チルアルミニウムクロリド等の有機アルミニウム化合物
とを組み合わせてなる触媒系を用いて調製される。当該
ポリプロピレン樹脂のメルトフローレイト（ＪＩＳＫ７
２１０、荷重２．１６ｋｇ、２３０℃、以下ＭＦＲとい
う）は、０．１〜１００ｇ／１０分のものが通常用いら
れる。
高分子物素材としては、ポリプロピレン（以下、ＰＰと
いう場合もある）、ポリエチレン（以下、ＰＥという場
合もある）、プロピレン−エチレン共重合体、ポリブテ
ン、ポリメチルペンテン−１、エチレン−酢酸ビニル共
重合体、ポリスチレンなどの樹脂が挙げられる。就中、
ＰＰ、ＰＥ等のポリオレフイン樹脂特にポリプロピレン
樹脂からなるものが好ましい。ポリオレフイン樹脂は、
非極性で、その表面等を放射線グラフト法により改質し
ょうとする場合、その表面でグラフトモノマーがはじか
れてしまい、グラフト化率の向上につながらないことが
多いからである。当該ポリプロピレン樹脂としては、ホ
モポリプロピレンまたはプロピレンとエチレンもしくは
αーオレフイン例えば１ーブテン、１ーペンテン、１ー
ヘキセン、４ーメチルー１ーペンテン、１ーオクテン等
との共重合体があげられる。当該共重合体は、ランダム
共重合体でもブロック共重合体でもよい。当該ポリプロ
ピレン樹脂は、例えば三塩化チタン、四塩化チタン等の
遷移金属化合物触媒成分またはそれらを塩化マグネシウ
ム等のハロゲン化マグネシウムを主成分とする担体に担
持させてなる触媒成分とトリエチルアルミニウム、ジエ
チルアルミニウムクロリド等の有機アルミニウム化合物
とを組み合わせてなる触媒系を用いて調製される。当該
ポリプロピレン樹脂のメルトフローレイト（ＪＩＳＫ７
２１０、荷重２．１６ｋｇ、２３０℃、以下ＭＦＲとい
う）は、０．１〜１００ｇ／１０分のものが通常用いら
れる。
【０００７】本発明に使用される高分子基材を構成する
結晶核剤としては、安息香酸ナトリウム、１．２−ヒド
ロキシステアリン酸カリウム、コハク酸マグネシウム、
フタル酸マグネシウムなどカルボン酸のアルカリまたは
アルカリ土類金属塩、二もしくは三塩基カルボン酸のジ
またはトリエステル類、ベンゼンスルホン酸ナトリウム
等の芳香族スルホン酸化合物、フタロシアニンブル−等
のフタロシアニン系あるいはキナクリドン等の顔料、ソ
ルビトール系化合物、脂肪族、脂環式または芳香族の二
塩基酸系あるいはアミノ酸系ジアミド化合物、有機二塩
基酸である成分Ａと周期律表第ＩＩＡ族金属の酸化物、
水酸化物または塩である成分Ｂとからなるもの等が挙げ
られる。
結晶核剤としては、安息香酸ナトリウム、１．２−ヒド
ロキシステアリン酸カリウム、コハク酸マグネシウム、
フタル酸マグネシウムなどカルボン酸のアルカリまたは
アルカリ土類金属塩、二もしくは三塩基カルボン酸のジ
またはトリエステル類、ベンゼンスルホン酸ナトリウム
等の芳香族スルホン酸化合物、フタロシアニンブル−等
のフタロシアニン系あるいはキナクリドン等の顔料、ソ
ルビトール系化合物、脂肪族、脂環式または芳香族の二
塩基酸系あるいはアミノ酸系ジアミド化合物、有機二塩
基酸である成分Ａと周期律表第ＩＩＡ族金属の酸化物、
水酸化物または塩である成分Ｂとからなるもの等が挙げ
られる。
【０００８】ソルビトール系化合物の例としては、例え
ばジベンジリデンソルビトール、（１，３）２，４ージ
（ｐーメチルベンジリデン）ソルビトール、（１，３）
２，４ージ（ｐーエチルベンジリデン）ソルビトール、
（１，３）２，４ージ（ｐークロロベンジリデン）ソル
ビトール、（１，３）２，４ージ（ｐーメトキシベンジ
リデン）ソルビトールなどが挙げられる。
ばジベンジリデンソルビトール、（１，３）２，４ージ
（ｐーメチルベンジリデン）ソルビトール、（１，３）
２，４ージ（ｐーエチルベンジリデン）ソルビトール、
（１，３）２，４ージ（ｐークロロベンジリデン）ソル
ビトール、（１，３）２，４ージ（ｐーメトキシベンジ
リデン）ソルビトールなどが挙げられる。
【０００９】上記ジアミド系化合物の例としては、アジ
ピン酸ジアニリド、スペリン酸ジアニリド、Ｎ，Ｎ´−
ジシクロヘキシルテレフタルアミド、Ｎ，Ｎ´−ジシク
ロヘキシル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシアミ
ド、Ｎ，Ｎ´−ジシクロヘキシル−２，６−ナフタレン
ジカルボキシアミド、Ｎ，Ｎ´−ジシクロヘキシル−
４，４´−ビフェニルジカルボキシアミド、Ｎ，Ｎ´−
ビス（ｐ−メチルフェニル）ヘキサンジアミド、Ｎ，Ｎ
´−ビス（ｐ−エチルフェニル）ヘキサンジアミド、
Ｎ，Ｎ´−ビス（４−シクロヘキシルフェニル）ヘキサ
ンジアミド、ｐ−（Ｎ−シクロヘキサンカルボニルアミ
ノ）安息香酸シクロヘキシルアミド、δ−（Ｎ−ベンゾ
イルアミノ）−ｎ−吉草酸アニリド等が挙げられる。
ピン酸ジアニリド、スペリン酸ジアニリド、Ｎ，Ｎ´−
ジシクロヘキシルテレフタルアミド、Ｎ，Ｎ´−ジシク
ロヘキシル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシアミ
ド、Ｎ，Ｎ´−ジシクロヘキシル−２，６−ナフタレン
ジカルボキシアミド、Ｎ，Ｎ´−ジシクロヘキシル−
４，４´−ビフェニルジカルボキシアミド、Ｎ，Ｎ´−
ビス（ｐ−メチルフェニル）ヘキサンジアミド、Ｎ，Ｎ
´−ビス（ｐ−エチルフェニル）ヘキサンジアミド、
Ｎ，Ｎ´−ビス（４−シクロヘキシルフェニル）ヘキサ
ンジアミド、ｐ−（Ｎ−シクロヘキサンカルボニルアミ
ノ）安息香酸シクロヘキシルアミド、δ−（Ｎ−ベンゾ
イルアミノ）−ｎ−吉草酸アニリド等が挙げられる。
【００１０】上記成分Ａの有機二塩基酸としては、ピメ
リン酸、アゼライン酸、オルトフタル酸、テレフタル
酸、イソフタル酸等が挙げられる。成分Ｂは周期律表第
ＩＩＡ族金属例えばＭｇ，Ｃａ、Ｓｒ，Ｂａ等の金属の
酸化物、水酸化物または酸塩である。酸塩としては、無
機酸または有機酸の塩、例えば炭酸塩、ステアリン酸塩
等から選ばれる。
リン酸、アゼライン酸、オルトフタル酸、テレフタル
酸、イソフタル酸等が挙げられる。成分Ｂは周期律表第
ＩＩＡ族金属例えばＭｇ，Ｃａ、Ｓｒ，Ｂａ等の金属の
酸化物、水酸化物または酸塩である。酸塩としては、無
機酸または有機酸の塩、例えば炭酸塩、ステアリン酸塩
等から選ばれる。
【００１１】本発明における結晶核剤の添加量は、高分
子物素材１００重量部に対し、０．００５〜５重量部、
好ましくは０．０１〜１重量部、より好ましくは０．０
２〜０．５重量部である。０．００５重量部未満では、
グラフト化率の向上効果が不充分となり、０．０５重量
部を超えて添加してもグラフト化率をそれ以上向上させ
る効果は期待出来ず、また、経済的にも不利である。
子物素材１００重量部に対し、０．００５〜５重量部、
好ましくは０．０１〜１重量部、より好ましくは０．０
２〜０．５重量部である。０．００５重量部未満では、
グラフト化率の向上効果が不充分となり、０．０５重量
部を超えて添加してもグラフト化率をそれ以上向上させ
る効果は期待出来ず、また、経済的にも不利である。
【００１２】本発明に係る組成物には、本発明の効果を
阻害しない範囲内で、さらに、フェノール系酸化防止剤
やイオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤、紫外線吸収剤、
光安定剤、透明化核剤、無機充填剤、帯電防止剤、防曇
剤、アンチブロツキング剤、滑剤、顔料、染料等他の添
加剤を適宜必要に応じて添加してもよい。
阻害しない範囲内で、さらに、フェノール系酸化防止剤
やイオウ系酸化防止剤等の酸化防止剤、紫外線吸収剤、
光安定剤、透明化核剤、無機充填剤、帯電防止剤、防曇
剤、アンチブロツキング剤、滑剤、顔料、染料等他の添
加剤を適宜必要に応じて添加してもよい。
【００１３】本発明に使用される高分子基材の形態は、
粉体、顆粒、ペレット、フイルム、板、シート、中空糸
等の形態からなっていればよい。
粉体、顆粒、ペレット、フイルム、板、シート、中空糸
等の形態からなっていればよい。
【００１４】本発明に使用されるラジカル重合性化合物
の例としては、不飽和カルボン酸またはその誘導体が挙
げられる。不飽和カルボン酸またはその誘導体として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、
エンドービシクロ［２．２．１］ー５ーヘプテンー２，
３ージカルボン酸（エンディック酸）、フマール酸、テ
トラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロ
トン酸、イソクロトン酸等の不飽和モノあるいはジカル
ボン酸、またはその誘導体、例えば酸ハライド、アミ
ド、イミド、無水物、エステル等が挙げられる。誘導体
の具体例としては、塩化マレイニル、マレイミド、無水
マレイン酸、無水エンディック酸、アクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、無水シトラコン酸、マレイン酸モ
ノメチル、マレイン酸ジメチル等が挙げられる。また、
本発明ではラジカル重合反応性のオリゴマー、例えば、
重合性官能基を有するウレタン系オリゴマー、エーテル
系オリゴマー、エシテル系オリゴマー等をも使用するこ
とができる。
の例としては、不飽和カルボン酸またはその誘導体が挙
げられる。不飽和カルボン酸またはその誘導体として
は、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、
エンドービシクロ［２．２．１］ー５ーヘプテンー２，
３ージカルボン酸（エンディック酸）、フマール酸、テ
トラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロ
トン酸、イソクロトン酸等の不飽和モノあるいはジカル
ボン酸、またはその誘導体、例えば酸ハライド、アミ
ド、イミド、無水物、エステル等が挙げられる。誘導体
の具体例としては、塩化マレイニル、マレイミド、無水
マレイン酸、無水エンディック酸、アクリル酸メチル、
メタクリル酸メチル、無水シトラコン酸、マレイン酸モ
ノメチル、マレイン酸ジメチル等が挙げられる。また、
本発明ではラジカル重合反応性のオリゴマー、例えば、
重合性官能基を有するウレタン系オリゴマー、エーテル
系オリゴマー、エシテル系オリゴマー等をも使用するこ
とができる。
【００１５】本発明のグラフト処理方法の一例は、例え
ば、高分子物素材に結晶核剤を添加して顆粒、ペレッ
ト、フイルム等の形態の高分子基材を成形し、得られた
ポリオレフィン基材等の高分子基材に放射線またはプラ
ズマを照射し、次いで、当該高分子基材をアクリル酸水
溶液などのグラフトモノマー反応溶液中に含浸させてグ
ラフト処理を行う。本発明でいう放射線とは、α線、γ
線、β線（電子線）、中性子線、Ｘ線などを意味する。
これら放射線のうちでは、取り扱いおよびグラフト効率
から電子線が好ましい。電子線の照射条件は、加速電圧
が１５０〜５０００ｋＶ、好ましくは２００〜５００ｋ
Ｖ、照射線量５〜５００ｋＧｙ、好ましくは５０〜２０
０ｋＧｙ程度が適当である。照射線量が５ｋＧｙ未満で
は、グラフトが充分に行われず、一方、５００ｋＧｙを
超えると、グラフト化率が向上せず、基材の劣化が激し
くなる。この照射は、通常空気雰囲気下、好ましくは不
活性ガス、例えば窒素、アルゴン等の雰囲気下で行われ
る。また、プラズマ照射は、低温プラズマ処理方法で行
われる。低温プラズマ方法は、高周波放電、マイクロ波
放電等で、低圧の酸化性ガス例えば酸素またはこれに窒
素、空気、アルゴン、ヘリウム等を混入したガスを励起
させ、活性ガスを発生させ、これを前記の基材に接触さ
せて行うことができる。その処理条件は、圧力が０．１
〜１０ｔｏｒｒ、処理時間が１５秒以上、好ましくは２
０〜４０秒である。
ば、高分子物素材に結晶核剤を添加して顆粒、ペレッ
ト、フイルム等の形態の高分子基材を成形し、得られた
ポリオレフィン基材等の高分子基材に放射線またはプラ
ズマを照射し、次いで、当該高分子基材をアクリル酸水
溶液などのグラフトモノマー反応溶液中に含浸させてグ
ラフト処理を行う。本発明でいう放射線とは、α線、γ
線、β線（電子線）、中性子線、Ｘ線などを意味する。
これら放射線のうちでは、取り扱いおよびグラフト効率
から電子線が好ましい。電子線の照射条件は、加速電圧
が１５０〜５０００ｋＶ、好ましくは２００〜５００ｋ
Ｖ、照射線量５〜５００ｋＧｙ、好ましくは５０〜２０
０ｋＧｙ程度が適当である。照射線量が５ｋＧｙ未満で
は、グラフトが充分に行われず、一方、５００ｋＧｙを
超えると、グラフト化率が向上せず、基材の劣化が激し
くなる。この照射は、通常空気雰囲気下、好ましくは不
活性ガス、例えば窒素、アルゴン等の雰囲気下で行われ
る。また、プラズマ照射は、低温プラズマ処理方法で行
われる。低温プラズマ方法は、高周波放電、マイクロ波
放電等で、低圧の酸化性ガス例えば酸素またはこれに窒
素、空気、アルゴン、ヘリウム等を混入したガスを励起
させ、活性ガスを発生させ、これを前記の基材に接触さ
せて行うことができる。その処理条件は、圧力が０．１
〜１０ｔｏｒｒ、処理時間が１５秒以上、好ましくは２
０〜４０秒である。
【００１６】本発明によれば、高分子基材の原料組成に
おいて、結晶核剤を添加することにより、多数の結晶核
（微結晶）が生成され、反応点も多くなり、また、モノ
マーの高分子基材への拡散速度も高くなるため、高いグ
ラフト化率のものを得ることが可能となり、これが反応
効率の向上につながる為、反応条件（特に、放射線また
はプラズマ照射条件）においてより厳しいものを求めら
れず、基材の劣化抑制につながっているものと考えられ
る。
おいて、結晶核剤を添加することにより、多数の結晶核
（微結晶）が生成され、反応点も多くなり、また、モノ
マーの高分子基材への拡散速度も高くなるため、高いグ
ラフト化率のものを得ることが可能となり、これが反応
効率の向上につながる為、反応条件（特に、放射線また
はプラズマ照射条件）においてより厳しいものを求めら
れず、基材の劣化抑制につながっているものと考えられ
る。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を実施例および比較例により詳
細に説明する。なお、実施例および比較例における物性
値の測定方法は、次の通りである。 （１）結晶化度（％）；パーキンエルマー社製示査走査
型熱量計を用いて測定した基材の融解熱量より算出し
た。［なお、結晶化度１００％のポリプロピレンの融解
熱量は２０９ジュール／ｇである（Ｗｏｒｄｅｒｌｉｃ
ｈ，Ｂ：’Ｍａｃｒｏ−ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ’Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，Ｎｅｗ Ｙｏ
ｒｋ，ｖｏｌ １．１９７３］ （２）グラフト化率（ｗｔ％）：反応前後の重量変化量
より次式に基づき算出した。 グラフト化率（ｗｔ％）＝Ｗ2ーＷ1／Ｗ1 Ｘ１００ Ｗ1：反応前の重量（ｇ） Ｗ2：反応後の重量（ｇ） （３）引張破断強度：ＡＳＴＭＤ８８２に準拠（ＭＤ方
向で末処理に対する相対値）
細に説明する。なお、実施例および比較例における物性
値の測定方法は、次の通りである。 （１）結晶化度（％）；パーキンエルマー社製示査走査
型熱量計を用いて測定した基材の融解熱量より算出し
た。［なお、結晶化度１００％のポリプロピレンの融解
熱量は２０９ジュール／ｇである（Ｗｏｒｄｅｒｌｉｃ
ｈ，Ｂ：’Ｍａｃｒｏ−ｍｏｌｅｃｕｌａｒ Ｐｈｙｓ
ｉｃｓ’Ａｃａｄｅｍｉｃ Ｐｒｅｓｓ，Ｎｅｗ Ｙｏ
ｒｋ，ｖｏｌ １．１９７３］ （２）グラフト化率（ｗｔ％）：反応前後の重量変化量
より次式に基づき算出した。 グラフト化率（ｗｔ％）＝Ｗ2ーＷ1／Ｗ1 Ｘ１００ Ｗ1：反応前の重量（ｇ） Ｗ2：反応後の重量（ｇ） （３）引張破断強度：ＡＳＴＭＤ８８２に準拠（ＭＤ方
向で末処理に対する相対値）
【００１８】実施例１ ホモポリプロピレン（密度＝０．９１ｇ／ｃｍ3、ＭＦ
Ｒ＝１５ｇ／１０分）１００重量部に、シェル核剤ＮＡ
［大日本インキ化学工業社製］０．０４重量部と酸化防
止剤０．１０重量部を添加配合し、ヘンシェルミキサー
を用いてブレンドした後、５０ｍｍφ単軸押出機（Ｌ／
Ｄ＝２８）により押出温度２３０℃にて、混練し、次い
で、４０ｍｍφキャストフイルム成形機（Ｌ／Ｄ＝２
８）により押出温度２００℃にて、厚み５０μｍのキャ
ストフイルム（ＣＰＰフイルム）を成形した。得られた
ＣＰＰフイルムに、加速電圧２５０ｋＶ、照射線量５０
ｋＧｙで、電子線を照射後、アクリル酸水溶液中に浸漬
させ（窒素のバブリングを行った）、次の条件下で、グ
ラフト反応を行った。その結果を表１に示す。 グラフト反応条件； 反応温度：４５℃ 反応時間：１５分、３０分、４５分 モノマー水溶液：アクリル酸濃度１０ｖｏｌ％ 添加物：０．２５％モール塩
Ｒ＝１５ｇ／１０分）１００重量部に、シェル核剤ＮＡ
［大日本インキ化学工業社製］０．０４重量部と酸化防
止剤０．１０重量部を添加配合し、ヘンシェルミキサー
を用いてブレンドした後、５０ｍｍφ単軸押出機（Ｌ／
Ｄ＝２８）により押出温度２３０℃にて、混練し、次い
で、４０ｍｍφキャストフイルム成形機（Ｌ／Ｄ＝２
８）により押出温度２００℃にて、厚み５０μｍのキャ
ストフイルム（ＣＰＰフイルム）を成形した。得られた
ＣＰＰフイルムに、加速電圧２５０ｋＶ、照射線量５０
ｋＧｙで、電子線を照射後、アクリル酸水溶液中に浸漬
させ（窒素のバブリングを行った）、次の条件下で、グ
ラフト反応を行った。その結果を表１に示す。 グラフト反応条件； 反応温度：４５℃ 反応時間：１５分、３０分、４５分 モノマー水溶液：アクリル酸濃度１０ｖｏｌ％ 添加物：０．２５％モール塩
【００１９】実施例２ 実施例１において、シェル核剤に代え、（１，３）２，
４ージ（ｐーメチルベンジリデン）ソルビトール［商品
名：ゲルオールＭＤ 新日本理化社製］０．２０重量部
とした以外は、実施例１と同様にして、ＣＰＰフイルム
を成形し、グラフト反応を行った。その結果を表１に示
す。
４ージ（ｐーメチルベンジリデン）ソルビトール［商品
名：ゲルオールＭＤ 新日本理化社製］０．２０重量部
とした以外は、実施例１と同様にして、ＣＰＰフイルム
を成形し、グラフト反応を行った。その結果を表１に示
す。
【００２０】実施例３ 実施例１において、ホモポリプロピレンに代えて密度が
０．９１ｇ／ｃｍ3、ＭＦＲが１５ｇ／１０分、エチレ
ン含有量２．０ｗｔ％の結晶性プロピレンーエチレンラ
ンダムコポリマーとした以外は、実施例１と同様にし
て、ＣＰＰフイルムを成形し、グラフト反応を行った。
その結果を表１に示す。
０．９１ｇ／ｃｍ3、ＭＦＲが１５ｇ／１０分、エチレ
ン含有量２．０ｗｔ％の結晶性プロピレンーエチレンラ
ンダムコポリマーとした以外は、実施例１と同様にし
て、ＣＰＰフイルムを成形し、グラフト反応を行った。
その結果を表１に示す。
【００２１】比較例１ 実施例１において、シェル核剤を添加配合しなかった以
外は、実施例１と同様にして、ＣＰＰフイルムを得た
後、同様にグラフト反応を行い、その結果を表１に示
す。
外は、実施例１と同様にして、ＣＰＰフイルムを得た
後、同様にグラフト反応を行い、その結果を表１に示
す。
【００２２】比較例２ 実施例３において、シェル核剤を添加配合しなかった以
外は、実施例１と同様にして、ＣＰＰフイルムを得た
後、同様にグラフト反応を行った。その結果を表１に示
す。
外は、実施例１と同様にして、ＣＰＰフイルムを得た
後、同様にグラフト反応を行った。その結果を表１に示
す。
【００２３】実施例４ 実施例１において、電子線照射に代えて、マイクロ波プ
ラズマ装置（東芝製ＴＭＺ−２０３２型）にて、空気中
で１．０ｔｏｒｒ、出力１ｋｗで３０秒間のプラズマ処
理を行った。次いで、このフイルムを、次ぎのグラフト
反応条件で、実施例１と同様にしてグラフト処理した。
その結果を表２に示す。 グラフト反応条件； 反応温度：４５℃ 反応時間：６０分 モノマー水溶液：アクリル酸濃度４０ｖｏｌ％ 添加物：０．２５％モール塩
ラズマ装置（東芝製ＴＭＺ−２０３２型）にて、空気中
で１．０ｔｏｒｒ、出力１ｋｗで３０秒間のプラズマ処
理を行った。次いで、このフイルムを、次ぎのグラフト
反応条件で、実施例１と同様にしてグラフト処理した。
その結果を表２に示す。 グラフト反応条件； 反応温度：４５℃ 反応時間：６０分 モノマー水溶液：アクリル酸濃度４０ｖｏｌ％ 添加物：０．２５％モール塩
【００２４】比較例３ 実施例４において、シェル核剤を添加配合しなかった以
外は、実施例４と同様にしてＣＰＰフイルムを得た後、
同様にグラフト反応を行った。その結果を表２に示す。
外は、実施例４と同様にしてＣＰＰフイルムを得た後、
同様にグラフト反応を行った。その結果を表２に示す。
【００２５】実施例５〜７ 実施例１において、電子線の照射線量を表３に示すよう
に変化させ、グラフト反応時間を３０分とした以外は、
実施例１と同様にして、ＣＰＰフイルムのグラフト反応
を行った。その結果を表３に示す。
に変化させ、グラフト反応時間を３０分とした以外は、
実施例１と同様にして、ＣＰＰフイルムのグラフト反応
を行った。その結果を表３に示す。
【００２６】比較例４〜６ 実施例５〜７において、シェル核剤を添加配合しなかっ
た以外は、実施例５〜７と同様にしてＣＰＰフイルムの
グラフト反応を行った。その結果を表３に示す。
た以外は、実施例５〜７と同様にしてＣＰＰフイルムの
グラフト反応を行った。その結果を表３に示す。
【００２７】
【表１】
【００２８】
【表２】
【００２９】
【表３】
【００３０】表１〜３に示す結果から、本発明の実施例
によれば、結晶核剤を添加しない比較例に比して、グラ
フト化率が１．２〜２．０倍にも高くなり、グラフト化
反応時間の経過と共にグラフト化率の上昇が著しく、グ
ラフト化反応時間が短縮され、グラフト化の反応効率を
向上させ、生産効率を向上することができることが判
る。また、表３に示すように基材の強度劣化を小さくす
る低照射線量でグラフト化率をさせることができる。
によれば、結晶核剤を添加しない比較例に比して、グラ
フト化率が１．２〜２．０倍にも高くなり、グラフト化
反応時間の経過と共にグラフト化率の上昇が著しく、グ
ラフト化反応時間が短縮され、グラフト化の反応効率を
向上させ、生産効率を向上することができることが判
る。また、表３に示すように基材の強度劣化を小さくす
る低照射線量でグラフト化率をさせることができる。
【００３１】
【発明の効果】以上、本発明によれば、グラフト化の反
応効率を向上させることができ、グラフト化反応効率の
向上から基材を劣化させるような放射線照射条件等をよ
り厳しいものにする必要もなく、グラフト化反応時間の
短縮から生産効率を向上することができる。
応効率を向上させることができ、グラフト化反応効率の
向上から基材を劣化させるような放射線照射条件等をよ
り厳しいものにする必要もなく、グラフト化反応時間の
短縮から生産効率を向上することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】放射線またはプラズマの照射により、ラジ
カル重合性化合物を高分子基材にグラフト重合させるグ
ラフト化処理方法において、当該高分子基材が、当該高
分子物素材に結晶核剤を添加して成ることを特徴とする
高分子基材のグラフト化処理方法。 - 【請求項２】高分子基材が、ポリオレフイン樹脂に結晶
核剤を添加して成る、請求項１に記載の高分子基材のグ
ラフト化処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9289594A JPH07278327A (ja) | 1994-04-07 | 1994-04-07 | 高分子基材のグラフト化処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9289594A JPH07278327A (ja) | 1994-04-07 | 1994-04-07 | 高分子基材のグラフト化処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07278327A true JPH07278327A (ja) | 1995-10-24 |
Family
ID=14067205
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9289594A Pending JPH07278327A (ja) | 1994-04-07 | 1994-04-07 | 高分子基材のグラフト化処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07278327A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002121240A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-23 | Toppan Printing Co Ltd | 接着性をもつ生分解性樹脂組成物およびその製造方法 |
| WO2005063836A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Kayaku Akzo Corporation | 変性オレフィン系重合体の製造方法 |
| JP2021522388A (ja) * | 2018-04-27 | 2021-08-30 | 中国石油化工股▲ふん▼有限公司 | 極性モノマーグラフト化ポリプロピレン樹脂、およびその製造方法と応用 |
-
1994
- 1994-04-07 JP JP9289594A patent/JPH07278327A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002121240A (ja) * | 2000-10-11 | 2002-04-23 | Toppan Printing Co Ltd | 接着性をもつ生分解性樹脂組成物およびその製造方法 |
| WO2005063836A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2005-07-14 | Kayaku Akzo Corporation | 変性オレフィン系重合体の製造方法 |
| JPWO2005063836A1 (ja) * | 2003-12-26 | 2007-12-20 | 化薬アクゾ株式会社 | 変性オレフィン系重合体の製造方法 |
| JP4705474B2 (ja) * | 2003-12-26 | 2011-06-22 | 化薬アクゾ株式会社 | 変性オレフィン系重合体の製造方法 |
| JP2021522388A (ja) * | 2018-04-27 | 2021-08-30 | 中国石油化工股▲ふん▼有限公司 | 極性モノマーグラフト化ポリプロピレン樹脂、およびその製造方法と応用 |
| US11926687B2 (en) | 2018-04-27 | 2024-03-12 | China Petroleum & Chemical Corporation | Polar monomer grafted polypropylene resin, preparation method therefor and application thereof |
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