JPH0727343A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JPH0727343A
JPH0727343A JP17311093A JP17311093A JPH0727343A JP H0727343 A JPH0727343 A JP H0727343A JP 17311093 A JP17311093 A JP 17311093A JP 17311093 A JP17311093 A JP 17311093A JP H0727343 A JPH0727343 A JP H0727343A
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heating
heater
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frequency heating
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Toyoji Hatakawa
登世次 幡川
Hirobumi Yoshimura
博文 吉村
Yuji Hayakawa
雄二 早川
Takayuki Akashi
孝之 明石
Noriko Hashimoto
典子 橋本
Kayoko Kuraai
加代子 蔵合
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ヒーターと高周波加熱で解凍を行ない出来映
えの良い解凍加熱を行なうと共に安全性の高い高周波加
熱装置を提供する。 【構成】 ヒーター加熱に直接手に触れない構造とした
管状ヒーター11および12を用い、解凍時には、高周
波加熱シーケンスの中程に上記管状ヒーター11および
12をONする。 【効果】 均一度の高い解凍が出来ると共に、使用者が
誤って、やけどなどの心配がないので安全性が高い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は解凍機能を備えた、高周
波加熱装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、高周波加熱装置で、食品の解凍を
行なう場合、高周波発生装置を断続的に動作させたり、
段階的に高周波出力を下げる方法を取ったりしていた。
それは食品の解凍時に、食品の形状、或いは電波加熱ム
ラ等により、食品に解凍部分と未解凍部分が発生する
と、電波の吸収度合が解凍された部分の方が1桁〜2
桁、凍結部分より大きくなるため、更にそれが加速さ
れ、煮え部分と未解凍部分が発生するという不都合が生
じるために、それの改善のためである。又、従来例(特
開昭56−121472号公報)のように高周波加熱と
ヒーター加熱の交互加熱で、上記不都合を改善しようと
するものもあった。図3において、1は加熱室、2は前
記加熱室1内に高周波エネルギーを供給する高周波発生
装置、3はシーズヒータ、4はターンテーブルである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような構成においては、シーズヒーター3が、加熱室1
内に露出し、且つシーズヒーター3自身がさめにくい事
もあり、解凍加熱が終了し、食品を取り出そうとする時
に、高温部に触れる恐れがあった。
【0004】そこで本発明では、高周波加熱とヒーター
加熱をうまく使いながら、出来映えの良い解凍加熱を行
うと共に、安全性の高いヒーター構成と、工夫のこらし
た解凍加熱シーケンスとを搭載した高周波加熱装置を提
供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで本発明では、ヒー
ター加熱用のヒーターに立上りの速い、管状ヒーターを
用いると共に、管状ヒーターを加熱室後部で、且つ加熱
室外に設け、直接触れないようにすると共に、ヒーター
加熱を、解凍加熱シーケンスの中程に入れ、解凍加熱終
了時には、ヒーター近傍の温度を下げようとするもので
ある。
【0006】
【作用】本発明の高周波加熱装置は、食品が完全に凍っ
ている状態では、高出力の高周波加熱で、食品の内部ま
で、解凍を進め、食品の表面温度が0℃の近傍になる頃
に、低出力、或いは断続制御の高周波加熱に切り換える
と共に、食品の上部からヒーターで加熱し、食品表面全
体を解かし、局部的に電波が集中するのを防ぎ、均一解
凍を図るものである。
【0007】またヒーターに立上りの速い、管状ヒータ
ーを使用し、短時間で食品の表面を溶かし、直ちにヒー
ター加熱を停止すると共に、管状ヒーター自身を加熱室
後部、加熱室外に設け、加熱室上壁のパンチング部を通
じ、熱を輻射する構成であるから、解凍加熱終了時に食
品を取り出す際に、高温部に触れる恐れがなくなる。
【0008】
【実施例】以下本発明の一実施例における高周波加熱装
置について図面とともに説明する。
【0009】図1に示すように、5は加熱室、6は加熱
室5内に高周波エネルギーを供給する高周波発生装置
で、高周波発生装置6から出された電波は導波管7を通
じ、途中スタラーハネ8で攪拌を加えられながら、開口
9から加熱室5内に入れられる。10は低電波損失のも
ので構成される開口カバーである。11,12は夫々管
状ヒーターで、コイル状ヒーターを結晶化ガラス管、或
いは石英管でおおった構成のものである。前記管状ヒー
ター11,12を、夫々加熱室5の後方で且つ、加熱室
5外に設けると共に、金属性反射板13で覆い、又反射
板13の対向する部分の加熱室上壁部分はパンチング穴
14形状に構成する。15はターンテーブル、16,1
7は加熱室上壁に密着して設けられるマイカにヒーター
巻線を巻いてなる上面状ヒーター、18,19は同構成
の下、面状ヒーターである。
【0010】20は加熱室5前面開口部を開閉自在にお
おうドアー、21は外箱である。以上のような構成にお
いて、ターンテーブル15に食品22を載せ、解凍する
場合、図2に示すように、先ず例えば600W程度の高
出力で、食品の表面温度が−2℃程度になるまで高周波
加熱を行ない、食品中心温度を一気に上げる。その後は
高周波出力を200〜300W程度に下げ、除々に加熱
し、食品表面温度が0℃に達する近辺で、断続制御に切
り換える。これは前述したように、解けた部分と凍った
部分では電波吸収度が極端に差があるために、高出力で
連続で高周波加熱を行なうと、煮え等が生じやすいから
である。又本発明ではこのタイミングで、断続或いは連
続でヒーター加熱を加え、食品の表面全体が解けるよう
に工夫している。表面全体が溶けると、電波が均一に吸
収されるからである。
【0011】又この作業も短時間に行なった方が効果が
あるので、本発明では、ヒーターを立上りの早い輻射型
の管状ヒーターで構成している。又、ヒーター加熱のタ
イミングを本発明ではステージ3の頭の部分に持って来
ているが、その理由のひとつが、解凍加熱当初ステージ
1からヒーター加熱で食品表面を解かしてしまうと、電
波が食品表面だけで、吸収されてしまい、食品中心まで
電波加熱が出来なくなるからである。又、もうひとつの
理由として、ステージ3の頭の部分で、短時間にヒータ
ー加熱を終えると、解凍終了までに時間TH-OFF が取れ
るので、食品を取り出す際にはヒーター周辺温度が下が
って、安全になるからである。
【0012】更に本発明では、ヒーター11,12を直
接加熱室5内に露出させないように、パンチング穴部1
4で覆う構成としている。又パンチング孔構成だと、表
面積が大きく、又熱容量も小さくなるので、短時間のう
ちに温度が下がる。又パンチング孔部14を加熱室後方
に設けているので、図1に示すように、手を加熱室5内
に挿入しても触れ易いのは、加熱室開口近傍で、その部
分は40℃程度の低温度であるため、安全上何ら問題は
ない。又本発明ではターンテーブルを設けているので、
ヒーター11,12を加熱室5後方に設けても、食品の
ヒーター加熱による加熱ムラは生じない。
【0013】又本発明では、電波の加熱ムラを解消する
ために、スタラーハネ8を導波管7内に設ける構成とし
ている。
【0014】
【発明の効果】以上のように請求項1,2の高周波加熱
装置においては、以下の効果が得られる。
【0015】(1)高周波加熱の段階的加熱方法とタイ
ミングの良い短時間のヒーター加熱の組合わせによる解
凍加熱シーケンスにより、均一度の高い、又中心部まで
しっかり解凍出来る高周波加熱装置が提供出来る。
【0016】(2)加熱室後方の加熱室外に管状ヒータ
ーを設け、且つ、管状ヒーターの加熱室側はパンチング
でおおう構成とし、更に、ヒーター加熱を解凍加熱シー
ケンスの中程に入れる工夫により、食品を出す際の安全
が確保出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例における高周波加熱装置の側
面断面図
【図2】本発明の一実施例における解凍加熱パターン図
と食品温度変化を表わす図
【図3】従来例を表す高周波加熱装置の側面断面図
【符号の説明】
5 加熱室 6 高周波発生装置 8 スタラーハネ 11、12 管状ヒーター 14 パンチング穴部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 明石 孝之 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 橋本 典子 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 蔵合 加代子 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】加熱室と、前記加熱室内に高周波エネルギ
    ーを供給する高周波発生装置と、前記加熱室上壁の外側
    に設けられた管状ヒーターと、前記管状ヒーターを覆う
    ように設けた金属性反射板と、前記反射板に対向する加
    熱室上壁部はパンチング孔形状とし、前記加熱室底部に
    はターンテーブルとを有し、上記加熱室上壁パンチング
    部を加熱室の後寄りに設けると共に、高周波加熱と前記
    管状ヒーターによるヒーター加熱とで、解凍調理を行な
    う構成の高周波加熱装置。
  2. 【請求項2】高周波加熱出力を少なくとも2段階以上、
    下げていく構成とすると共に、2段階目以降に、ヒータ
    ー加熱手段を加えて解凍調理を行なう構成の請求項1記
    載の高周波加熱装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011127824A (ja) * 2009-12-17 2011-06-30 Panasonic Corp 食品加熱調理方法
WO2019087419A1 (ja) * 2017-10-31 2019-05-09 シャープ株式会社 加熱調理器
WO2021020375A1 (ja) * 2019-07-31 2021-02-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 マイクロ波処理装置
JP2022018594A (ja) * 2020-07-16 2022-01-27 三菱電機株式会社 加熱調理器

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