JP2003217820A - 高周波加熱装置 - Google Patents

高周波加熱装置

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JP2003217820A
JP2003217820A JP2002014916A JP2002014916A JP2003217820A JP 2003217820 A JP2003217820 A JP 2003217820A JP 2002014916 A JP2002014916 A JP 2002014916A JP 2002014916 A JP2002014916 A JP 2002014916A JP 2003217820 A JP2003217820 A JP 2003217820A
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JP
Japan
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frequency
heating
heated
frequency supply
chamber
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JP2002014916A
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English (en)
Inventor
Yasushi Iwabuchi
康司 岩渕
Tetsuo Kubota
哲男 窪田
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Hitachi Appliances Inc
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Hitachi Home Tech Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 被加熱物全体を均一に加熱する場合と特定の
部位の加熱を強くする場合とを適宜選択できる高周波加
熱装置を提供すること。 【解決手段】 加熱室2の底部に被加熱物1を載置する
被加熱物戴置板3を固着し、この被加熱物戴置板3の下
に高周波供給室4を設け、この高周波供給室4の底面2
aに導波管6と結合する結合穴7を備えた高周波加熱装
置において、底面2aに導波管6と結合する高周波供給
口12aを設けるとともに導波管6内に金属製で回転可
能な可動板12bと高周波供給口12aとから成るマイ
クロ波シャッタ12を設け、マグネトロン5からの高周
波エネルギーの大部分を高周波供給口12aを通して加
熱室2に放射する場合と、結合穴7を通して回転アンテ
ナ11から加熱室2に放射する場合とに切り替える。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は、食品等の被加熱物
を高周波加熱する際に、被加熱物全体を均一に加熱する
場合と、特定の部位の加熱を強くする場合とを適宜選択
できる高周波加熱装置の構成に関するものである。 【0002】 【従来の技術】従来の高周波加熱装置では、実開昭56
−104096号公報に開示されているように加熱室の
下部に被加熱物を載置する誘電体から成る被加熱物載置
板を固着し、この被加熱物載置板の下に高周波供給室を
設け、この高周波供給室の底面中央部に高周波エネルギ
ーを発生するマグネトロンを取り付けた導波管と結合す
る結合穴を設け、この結合穴の中心に中心導体を貫通さ
せ、この中心導体の下端を駆動部から突き出した誘電体
軸に連結し、もう一方の上端に一枚の導体長片と一枚の
導体短片とを有する平板状の金属製からなる回転アンテ
ナを設けていたものであった。 【0003】 【発明が解決しようとする課題】上記従来例では、被加
熱物全体を均一に加熱する場合と、特定の部位の加熱を
強くする場合とを適宜選択することは困難であった。 【0004】 【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明では、加熱室の底部に被加熱物を載置す
る誘電体から成る被加熱物戴置板を固着し、この被加熱
物戴置板の下に高周波供給室を設け、この高周波供給室
の底面の中央部に高周波エネルギーを発生するマグネト
ロンを取り付けた導波管と結合する結合穴を設け、この
結合穴の中心に中心導体を貫通させ、この中心導体の下
端にアンテナ駆動部から突き出した誘電体回転軸を連結
し、もう一方の上端に金属製の回転アンテナを取り付
け、この回転アンテナを回転自在とした高周波加熱装置
において、高周波供給室の底面に高周波供給室と導波管
とを結合する高周波供給口とを設けるとともに導波管内
に金属製で回転可能な可動板を設け、両者でマイクロ波
シャッタを構成し、このマイクロ波シャッタによりマグ
ネトロンからの高周波エネルギーの大部分を高周波供給
口を通して加熱室に放射する場合と、前記結合穴を通し
て回転アンテナから加熱室に放射する場合とに切り替え
るようにしたものである。 【0005】 【発明の実施の形態】本発明の一実施例を図1〜6によ
り説明する。 【0006】図1は本発明の一実施例を示す高周波加熱
装置の要部断面図で、1は被加熱物である。2は被加熱
物1を収納する加熱室である。3は誘電体から成り被加
熱物1を戴置する被加熱物戴置板である。この被加熱物
戴置板3は加熱室2の底部にシリコーン接着剤3a等に
より固着している。 【0007】4は被加熱物載置板3の下に設けられてい
る高周波供給室である。5は高周波エネルギーを発生す
るマグネトロンである。6は導波管で、高周波供給室4
の底面2aに設けられ、マグネトロン5が取り付けられ
ている。7は底面2aの中央部に設けられ、高周波供給
室4と導波管6を結合する結合穴である。8は中心導体
で、結合穴7を貫通している。9は導波管6の下部に設
けられ、モータを内蔵したアンテナ駆動部である。10
はアンテナ駆動部9から突き出した誘電体回転軸であ
る。この誘電体回転軸10の上端は前記中心導体8の下
端と連結している。 【0008】11は高周波供給室4に設けられた金属製
の回転アンテナで、中心導体8の上端に取り付けられ回
転自在としている。 【0009】12aは前記結合穴7と同じ役割を果たし
底面2aに設けられ、導波管6と高周波供給室4とを結
合する高周波供給口である。12bは導波管6内に取り
付けられた金属製の可動板である。この可動板12bと
前記高周波供給口12aを総称してマイクロ波シャッタ
12と称する。 【0010】次に、一例として加熱を強くする必要があ
る被加熱物1aと加熱を弱くする必要がある被加熱物1
bの2つの被加熱物1を被加熱物載置板2に置かれて加
熱する場合について説明する。 【0011】図2及び図3は図1に示したマイクロ波シ
ャッタ12付近の点線枠P部の拡大図である。 【0012】図2は、マグネトロン5からの高周波エネ
ルギーの大部分を高周波供給室4の底面2aに開けた高
周波供給口12aを通して加熱室2に放射する場合のマ
イクロ波シャッタ12の状態を示す。図3は、マグネト
ロン5からの高周波エネルギーの大部分を、結合穴7を
通して回転アンテナ11により拡散され加熱室2に放射
する場合のマイクロ波シャッタ12の状態を示す。 【0013】可動板12bには可動板12bを約90度
回転させるための可動板回転軸12cに固着する可動板
固着部12bbを形成している。なお、可動板回転軸1
2cと連結し予め決められた角度だけ可動板12bを回
転させる駆動部は後記で説明する図6に図示されてい
る。 【0014】図3のように可動板12bがほぼ水平にな
って高周波供給口12aを閉じており、かつ高周波加熱
が行われているとき、可動板12bと高周波供給口12
aの端部の間で放電するのを防ぐために高周波供給口1
2aの端部には高周波損失が少ないフッ素樹脂のような
誘電体から成る端部放電防止カバー12dを設けてい
る。 【0015】また、図2のように可動板12bがほぼ垂
直になって高周波供給口12aを開くと共に導波管6の
短絡面となり、かつ、可動板12bの下端と導波管6の
下面が対向しているとき、可動板12bの下端と導波管
6の下面の間で放電するのを防ぐために高周波損失が少
ないフッ素樹脂のような誘電体から成る放電防止板12
eを可動板12bの下端と導波管6の下面の間に設けて
いる。 【0016】なお、端部放電防止カバー12d及び放電
防止板12eは図2及び図3の形状に限定されるもので
はなく、例えば可動板12b自体に適宜固着したり、あ
るいは可動板12b自体に誘電体の皮膜等を付けても放
電防止が可能である。 【0017】図4及び図5は図1に示した回転アンテナ
11を上部から見た平面図である。ここでは、回転アン
テナ11には複数の放射穴11s1から11s7までの
7個を設けているが、一例を示しただけで、形状や個数
は限定されるものではない。図4は、マイクロ波シャッ
タ12を形成する可動板12bが図2のようにほぼ垂直
になって高周波供給口12aが開いている状態である。
この場合は高周波供給口12aの真上に当たる放射穴1
1s3が対向しているような位置で回転アンテナ11を
止めておけば、高周波供給口12aから効率よく高周波
エネルギーが加熱室2内に放射され、高周波供給口12
aの真上にある被加熱物1aの加熱が強くなり、被加熱
物1bの加熱が弱くなる。 【0018】図5は、マイクロ波シャッタ12を形成す
る可動板12bが図3のようにほぼ水平になって高周波
供給口12aが閉じている状態を示している。この場合
は、高周波エネルギーは結合穴7から高周波供給室4に
放射されるため、高周波エネルギーは回転アンテナ11
にあたり、この回転アンテナ11から効率よく加熱室2
内に放射される。従って、回転アンテナ11が回転して
いれば、被加熱物1の全体を均一に加熱する場合に最適
である。 【0019】導波管6内に基本モードのTE10モード
の高周波を伝送し、加熱に使用する高周波の自由空間波
長をλとすれば、可動板12bと高周波供給口12aの
端部との隙間寸法Gはλ/20からλ/6程度のとき可
動板12bと高周波供給口12aの端部との間の放電を
防止でき、かつこの隙間は高周波に対してカットオフに
なるため高周波供給口12aを密閉した場合と大差ない
ように高周波エネルギーの通過を抑えることができる。 【0020】図6は、図1のA−A矢印方向から見たマ
イクロ波シャッタ12が図2の状態の場合における要部
断面図である。可動板回転軸12cは導波管6内を貫通
するため高周波損失の少ないセラミック、フッ素樹脂等
の誘電体で構成する。この可動板回転軸12cは連結部
13を介してシャッタ駆動部14に連結されている。可
動板12bは約90度回転させることができればよいの
で機械的な駆動機構は任意である。 【0021】また、導波管6の側面と可動板12aとの
隙間寸法Gは図5の場合と同様に選定すれば、マグネト
ロン5からの高周波エネルギーは可動板12bによって
大部分反射され、結合穴7には直接伝送することはでき
ない。 【0022】このように、高周波エネルギーを導波管6
と高周波供給室4との間に結合する穴を2箇所設けマイ
クロ波シャッタ12を適宜可動させることにより被加熱
物1全体を均一に加熱する場合と、特定の部位の加熱を
強くする場合とを適宜選択することができ、仕上がり温
度が異なる被加熱物1の同時加熱が可能となる。 【0023】 【発明の効果】以上説明したように本発明によれは、加
熱室の底部に被加熱物を載置する誘電体から成る被加熱
物戴置板を固着し、この被加熱物戴置板の下に高周波供
給室を設け、この高周波供給室の底面の中央部に高周波
エネルギーを発生するマグネトロンを取り付けた導波管
と結合する結合穴を設け、この結合穴の中心に中心導体
を貫通させ、この中心導体の下端にアンテナ駆動部から
突き出した誘電体回転軸を連結し、もう一方の上端に金
属製の回転アンテナを取り付け、この回転アンテナを回
転自在とした高周波加熱装置において、高周波供給室の
底面に高周波供給室と導波管とを結合する高周波供給口
とを設けるとともに導波管内に金属製で回転可能な可動
板を設け、両者でマイクロ波シャッタを構成し、このマ
イクロ波シャッタによりマグネトロンからの高周波エネ
ルギーの大部分を高周波供給口を通して加熱室に放射す
る場合と、前記結合穴を通して回転アンテナから加熱室
に放射する場合とに切り替えることにより被加熱物全体
を均一に加熱する場合と、特定の部位の加熱を強くする
場合とを適宜選択することができ、仕上がり温度が異な
る被加熱物の同時加熱が可能となるなどの効果がある。
【図面の簡単な説明】 【図1】本発明の一実施例における高周波加熱装置の構
成を示す要部断面図である。 【図2】本発明の一実施例における高周波供給口を通し
て加熱室にマイクロ波エネルギーを放射する場合を示す
マイクロ波シャッタ部の図1における点線枠P部の拡大
図である。 【図3】本発明の一実施例における高周波エネルギーの
大部分を結合穴を通して回転アンテナから加熱室に放射
する場合を示すマイクロ波シャッタ部の図1における点
線枠P部の拡大図である。 【図4】図1に示した回転アンテナを上部から見た平面
図である。 【図5】図1に示した回転アンテナを上部から見た平面
図である。 【図6】図1のA−A部矢印方向から見たマイクロ波シ
ャッタが図2の場合における要部断面図である。 【符号の説明】 1・・・被加熱物 2・・・加熱室 2a・・底面 3・・・被加熱物載置板 4・・・高周波供給室 5・・・マグネトロン 6・・・導波管 7・・・結合穴 8・・・中心導体 9・・・アンテナ駆動部 10・・・誘電体回転軸 11・・・回転アンテナ 12・・・マイクロ波シャッタ 12a・・高周波供給口 12b・・可動板

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 加熱室(2)の底部に被加熱物(1)を
    載置する誘電体から成る被加熱物戴置板(3)を固着
    し、この被加熱物戴置板(3)の下に高周波供給室
    (4)を設け、この高周波供給室(4)の底面(2a)
    の中央部に高周波エネルギーを発生するマグネトロン
    (5)を取り付けた導波管(6)と結合する結合穴
    (7)を設け、この結合穴(7)の中心に中心導体
    (8)を貫通させ、この中心導体(8)の下端にアンテ
    ナ駆動部(9)から突き出した誘電体回転軸(10)を
    連結し、もう一方の上端に金属製の回転アンテナ(1
    1)を取り付け、この回転アンテナ(11)を回転自在
    とした高周波加熱装置において、高周波供給室(4)の
    底面(2a)に高周波供給室(4)と導波管(6)とを
    結合する高周波供給口(12a)とを設けるとともに導
    波管(6)内に金属製で回転可能な可動板(12b)を
    設け、両者でマイクロ波シャッタ(12)を構成し、こ
    のマイクロ波シャッタ(12)によりマグネトロン
    (5)からの高周波エネルギーの大部分を高周波供給口
    (12a)を通して加熱室(2)に放射する場合と、前
    記結合穴(7)を通して回転アンテナ(11)から加熱
    室(2)に放射する場合とに切り替えることを特徴とす
    る高周波加熱装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006351220A (ja) * 2005-06-13 2006-12-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 高周波加熱装置
JP2007048492A (ja) * 2005-08-08 2007-02-22 Hitachi Appliances Inc 高周波加熱装置
FR2985366A1 (fr) * 2011-12-30 2013-07-05 Thales Sa Generateur d'ondes hyperfrequences et procede de generation d'une onde hyperfrequence associe
CN110140424A (zh) * 2017-01-10 2019-08-16 松下电器产业株式会社 电磁场分布调整装置和微波加热装置

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