JPH07272217A

JPH07272217A - 薄膜磁気ヘッド

Info

Publication number: JPH07272217A
Application number: JP8604094A
Authority: JP
Inventors: Hideji Orihara; 秀治折原
Original assignee: Victor Company of Japan Ltd
Current assignee: Victor Company of Japan Ltd
Priority date: 1994-03-31
Filing date: 1994-03-31
Publication date: 1995-10-20

Abstract

(57)【要約】【目的】低インピ−ダンスノイズの薄膜磁気ヘッドを
提供する。【構成】基板１上に下コア４、中間コア９及び上コア
１２を順次積層し、上下コア４，１２間に、その一部を
通過させるように導電体７を渦巻状にパタ−ン形成した
薄膜磁気ヘッドであり、前記上下コア４，１２間の外部
領域に形成される導電体７の厚さを、前記上下コア４，
１２間の内部領域に形成される導電体７の厚さより厚く
形成することによって、上下コア間の厚みに制約がある
場合にも、巻線数を増加させることなく、インピ−ダン
スノイズを下げることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【０００２】

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
記録再生装置に使用されて好適な薄膜磁気ヘッドに関す
る。

【０００３】

【０００２】

【０００４】

【従来の技術】図１２は、本出願人が先に提案した（特
開平４−８９６０９号）ディスク状記録媒体に使用され
る磁気ヘッドの概略部分断面斜視図、図１３はコア部と
コイルパタ−ンのみを示した図で、（Ａ）は概略斜視
図、（Ｂ）は平面図、（Ｃ）は（Ｂ）のＡ−Ａ´断面図
である。

【０００５】これらの図において、１は基板、２は絶縁
層、４は軟磁性材料から成る下コアである。５は絶縁層
で、この絶縁層５にはコイル導体７が巻回されて埋設さ
れている。９は中間コア、１０，１１は絶縁層、１２は
上部コアである。

【０００６】

【０００３】Ｇはギャップで、１３は前記コイル導体７
に接続される導体であり、この導体１３には連続してリ
−ド部１４が形成されている。１５はパッド部で、この
上面側に合金層１６が設けられ、この合金層１６にはリ
−ドワイヤ１７が圧着されて、一つのヘッド素子が構成
されているものである。

【０００７】この様な構成のヘッドによれば、狭いトラ
ックや狭ピッチの記録再生に好適なヘッドが得られるも
のである。

【０００８】

【０００４】

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の構造
のものは、コイル導体の断面積が小さく、直流抵抗が大
きい。そのため、インピ−ダンスノイズが大きく、ま
た、記録時の通電によるコイルの発熱も大きく、コイル
周辺の部材が熱によって歪みやクラックの原因となって
信頼性に欠けるものであった。

【００１０】

【０００５】これを解決するためには、コイルの巻数を
減らしたり、コイルの断面積を増やしたりして、コイル
の発熱及びインピ−ダンスノイズを低減すれば良いが、
コイルの巻数を減らすと、再生出力が減り、記録電流も
増やさなければならない。

【００１１】

【０００６】また、巻数を減らさずに一巻き当たりの水
平方向の幅を広げて断面積を増加させると、磁路長（前
部磁気ギャップ部と後部磁気ギャップ部との間隔）が長
くなり、磁気抵抗が増加して記録再生効率の低下を招く
ことになってしまう。

【００１２】

【０００７】また更に、中間コアの垂直方向への厚みを
増やすことも考えられるが、所望の周波数を得る等の事
情により、中間コアの厚みが制限されてしまう場合もあ
る。

【００１３】そこで、本発明は、このような問題を除去
して、インピ−ダンスノイズの少ない信頼性のある薄膜
磁気ヘッドを提供することにある。

【００１４】

【０００８】

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
は、上記課題を解決するために、以下の手段より構成さ
れるものである。

【００１６】即ち、基板上に下コア及び上コアを順次積
層し、これらコア間に、その一部を通過させて、前記コ
ア間の外方に導電体の渦巻状のパタ−ンを形成して成る
薄膜磁気ヘッドにおいて、前記コア間の外方にパタ−ン
形成される前記導電体の厚さを、前記上下コア間を通過
する導電体の厚さより厚く形成したことを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。

【００１７】

【０００９】

【００１８】

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の薄膜磁気ヘ
ッドの一実施例つき説明する。

【００１９】図１は、その実施例に係る薄膜磁気ヘッド
の概略部分断面斜視図、図２はコア部とコイルパタ−ン
のみを示した図で、（Ａ）は概略斜視図、（Ｂ）は平面
図、（Ｃ）は（Ｂ）のＡ−Ａ´断面図である。尚、従来
例と同一構成要素には同一符号を付して詳細な説明を省
略する。

【００２０】

【００１０】これらの図において、１は基板、２は絶縁
層、４は軟磁性材料から成る下コアで、１〜９μｍ程度
の厚さで形成されている。そして、この下コア４の上面
の前後部にはほぼ同様の厚さで中間コア９，９が夫々設
けられ、これらの上面には絶縁層５，１０を挟んで上部
コア１２が形成されている。

【００２１】

【００１１】そして、７はコイル導体で、後部側の中間
コア９を巻回するように渦巻き状のパタ−ンが形成され
ている。このコイル導体７はコア間の領域では、絶縁層
５に埋設されるに充分な低い高さとされ、コア間の外部
領域では、その高さが異なり、絶縁層５から更に下側の
絶縁層２に達し、コア間の高さの略２倍となっている

【００２２】。

【００１２】１３はコイル導体７に接続される導体であ
り、絶縁層１０，１１を介してリ−ド部１４に連続して
いる。１５はパッド部で、この上面側に合金層１６が設
けられ、この合金層１６にはリ−ドワイヤ１７が圧着さ
れて、一つのヘッド素子が構成されているものである。

【００２３】

【００１３】次に、上述の構成による薄膜磁気ヘッドの
製造方法につき、図３乃至図１１を参照して説明する。
これらの図中、（Ａ）は概略断面図を示し、（Ｂ）は概
略部分平面図を示す。

【００２４】

【００１４】第１工程（図３）基板１にＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉを主成分とした軟磁性膜を形
成し、ホトリソ工程とイオンミリング等により下コア４
を形成する。尚、（Ｂ）図には繁雑さを避けるために基
板１の図示を省略してある。これ以降の各（Ｂ）図にお
いても同様に省略してある。

【００２５】

【００１５】第２工程（図４）ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、或いは、Ａｌ₂Ｏ₃等から成る絶
縁層２をスパッタや蒸着、イオンプレ−ティング等によ
り下コア４の厚みより厚く形成し、研磨工程等で表面を
平坦に形成する。

【００２６】

【００１６】第３工程（図５）絶縁層２に溝をホトリソ工程とエッチング工程等により
円形状に形成し、蒸着等によりＣｕ等の導体膜を溝中に
形成し、研磨により平坦にしてコイル導体７の下層側と
する。

【００２７】

【００１７】第４工程（図６）後部側の中間コア９が形成される部分を残して下コアの
上面に磁気ギャップＧとなるＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等から
成る非磁性層８を形成し、この上面に第１工程と同様に
してＦｅ，Ｃｏ，Ｎｉを主成分とする軟磁性膜の中間コ
ア９，９を所定の間隔で夫々形成する。

【００２８】そして、これらの中間コア９，９を残した
他の部分に絶縁層５を形成する。

【００２９】

【００１８】第５工程（図７）すでに下層側が形成されているコイル導体７に対応する
上面側と下コア４上の上面側とに渦巻き状の溝７ａをホ
トリソ工程とエッチング工程とにより形成する。特
に、この溝７ａは下コア４の上面位置では、下コア４の
上面に達しないように形成する。

【００３０】

【００１９】第６工程（図８）下層となるコイル導体７が形成されている溝７ａを、更
に、ホトリソ工程とエッチング工程とによりコイル導体
７に達するように形成し、第３工程と同様に溝７ａの全
域にＣｕ等の導体膜を形成する。

【００３１】

【００２０】第７工程（図９）中間コア９，９を除いた部分にＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂或い
はＡｌ₂Ｏ₃等の絶縁層１０を形成する。

【００３２】

【００２１】第８工程（図１０）下コア４と対応する上面領域で、中間コア９，９及び絶
縁層１０上に、第１工程と同様にして上コア１２を形成
する。

【００３３】そして、この上コア１２を残して絶縁層１
１を形成する。

【００３４】

【００２２】第９工程（図１１）絶縁層１０，１１に、コンタクトホ−ルである導体１３
を埋め、この導体１３を介してコイル導体７と接続する
リ−ド部１４をＣｕ層としてエッチングにより所定形状
に形成する。

【００３５】その後、切断線Ｂ−Ｂ´より磁気ギャップ
Ｇが端部となるように切断して、図１に示すように、パ
ッド部１５、合金層１６及びリ−ドワイヤ１７を順次設
けて薄膜磁気ヘッドを完成する。

【００３６】

【００２３】このように、本実施例の薄膜磁気ヘッド
は、コイル導体７の高さ（厚さ）が、コア外部の領域で
は、コア内部の高さ（厚さ）に比べ、略２倍になってい
ることから、断面積も略２倍になり、この領域での抵抗
値が略１／２になる。

【００３７】そして、コイル導体７のコア内部に埋設さ
れる部分のコイル導体全体に対する割合は、１〜３割程
度であり、コイル導体７の埋設された部分の割合をコイ
ル導体全体の１／４とした場合には、そのコイル導体７
の抵抗値が、従来の約６０％となるものである。

【００３８】

【００２４】したがって、本実施例の薄膜磁気ヘッドに
よれば、特に、中間コアの厚みが制限される場合にも、
インピ−ダンスノイズの低い高信頼性の薄膜磁気ヘッド
を得ることができる。

【００３９】

【００２５】尚、本実施例では、絶縁層２側にコイル導
体７の高さを延ばすようにしたが、これとは逆に絶縁層
１０，１１側に延ばすようにしても良く、さらには、そ
れらの両側に高さを延ばして、抵抗値を小さくする構成
にしても良い。

【００４０】また、前述の実施例の磁気ヘッドは、コイ
ル導体７が一層の巻回パタ−ンとなっているが、二層の
巻回パタ−ンにも当然に適用でき、その場合には、一層
目のコイル導体７を下コア層側に設け、二層目のコイル
導体７を上コア層側に設けるようにすれば良い。

【００４１】

【００２６】

【００４２】

【発明の効果】本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、特
に、上下コア間の厚みに制約がある場合にも、巻線数を
増加させることなくインピ−ダンスノイズを下げること
ができ、高精度で、信頼性のおける薄膜磁気ヘッドを提
供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略
部分断面斜視図である。

【図２】コア部とコイルパタ−ンのみを示した図であ
る。

【図３】本発明の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの第１製
造工程を示す図である。

【図４】第２製造工程を示す図である。

【図５】第３製造工程を示す図である。

【図６】第４製造工程を示す図である。

【図７】第５製造工程を示す図である。

【図８】第６製造工程を示す図である。

【図９】第７製造工程を示す図である。

【図１０】第８製造工程を示す図である。

【図１１】第９製造工程を示す図である。

【図１２】従来の薄膜磁気ヘッドの概略部分断面斜視図
である。

【図１３】従来の薄膜磁気ヘッドにおけるコア部とコイ
ルパタ−ンのみを示した図である。

【符号の説明】

１基板２，５，１０，１１絶縁層４下コア７コイル導体９中間コア１２上部コア１４リ−ド部１６合金層１７リ−ドワイヤ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に下コア及び上コアを順次積層し、
これらコア間に、その一部を通過させて、前記コア間の
外方に導電体の渦巻状のパタ−ンを形成して成る薄膜磁
気ヘッドにおいて、前記コア間の外方にパタ−ン形成される前記導電体の厚
さを、前記上下コア間を通過する導電体の厚さより厚く
形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。