JPS6222218A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、Ｐ　ＣＭ（Ｐｕｌｓｅ　Ｃｏｄｅ　Ｍｏｄｕ
ｌａｔｉｏｎ）記録再生装置等に用いられる薄膜磁気ヘ
ッドに関し、特に、スパイラル多層型ｖｇｌ膜磁気ヘッ
ドにおけるコイル導体の改良に関する。

Ｃ発明の４既要〕 本発明は、下部磁性体上に複数層のコイル導体及び上部
磁性体が絶縁層を介して積層形成されてなる１１膜磁気
ヘツドにおいて、 上部コイル導体と下部コイル導体とが交差する部分の下
部コイル導体に各々短絡しない突出部を形成することに
より、 絶縁破壊や導体切れのない薄膜磁気ヘッドを得ようとす
るものである。

〔従来の技術〕

一般に、薄膜磁気ヘッドは、ヘッドを構成する下部磁性
体、コイル導体及び上部磁性体等がスパックリング等の
真空薄膜形成技術で形成されるため、量産性に優れ、か
つ特性の均一なヘッドが得られるとともに、フォトリソ
グラフィ技術でバターニングを行っているため、狭トラ
ンク、狭ギャップ等の微小寸法化が容易である。

このため、上記薄膜磁気ヘッドは、記録に関与するヘッ
ド磁界が急峻となり高記録密度の記録再生が可能であり
、高分解能の記録ができ、さらに小型化が可能である。

したがって、上記薄膜磁気ヘッドは上記真空薄膜形成技
術の進歩と相伴って実用化されており、例えば、コイル
導体がスパイラル状に巻線された、いわゆるスパイラル
型薄膜磁気ヘッドが実用化されている。

上記スパイラル型″ＴＲ膜磁気ヘッドは、一層のコイル
導体で多数の巻き線化を図ることができ、製造プロセス
が簡略化される等の利点を有している。

さらに、より高い起磁力を得るために、スパイラル状の
コイル導体を複数層形成した、いわゆるスパイラル多層
型薄膜磁気ヘッドが広く実用化されている。

上記スパイラル多層型薄膜磁気ヘッドは、第４図（Ａ）
及び第４図（Ｂ）に示すように、Ｍ　ｎ　−Ｚｎ系フェ
ライト等の磁性材料よりなる下部磁性体（５０）上に、
Ｓ　ｉ　Ｏを等よりなる第１絶縁膜（５１）を介してＣ
ｕ等の金属導体よりなる下部コイル導体（５２）が渦巻
状に数ターン形成され、また、この下部コイル導体（５
２）上に第２絶縁膜（５３）を介して上部コイル導体（
５４）が渦巻状に数ターン形成され、コンククト窓部（
５６）を介して上記下部コイル導体（５２）と上部コイ
ル導体（５４）とが電気的に接続されている。さらに、
上記上部コイル導体（５４）上に第３！ｉ＠縁膜（５５
）を介して、センダスト等よりなる上部磁性体（５７）
が形成されトラック幅を規制している。この上部磁性体
（５７）は下部磁性体（５０）の全面に亘って被着形成
した後、所望の形状となるようにパターンエツチングし
ている。

ところで、上述のスパイラル多層型薄膜磁気ヘッドにお
いては、その構造上、下部コイル導体（５・２）と上部
コイル導体（５４）とが交差する部分が必ず表れる。こ
の交差部分では下部コイル導体（５２）間間隙（通常２
０〜３０μｍ程度）に上部コイル導体（５４）が陥没形
成されるので、上部コイル導体（５４）に大きな段差を
生じてしまう。通常、この交差部分は、コイル導体（５
２）　、　（５４）のバック側（上部磁性体がエツチン
グで除去された部分）に形成される。

このような大きな段差が生嫉ると、これらコイル導体（
５２）、（５４）　、絶縁膜（５１）　、　（５３）　
、　（５５）及び上部磁性体（５７）が基板（５０）に
対して垂直方向よりスパッタリング等の手法を用いて形
成しているため、段差部に位置する上部コイル導体（５
４ａ）　、第３絶縁膜（５５ａ）及び上部磁性体（５７
）は、平坦部に位置する上部コイル導体（５４ｂ）　、
　（５５ｂ）及び上部磁性体（５７）よりも薄く被着形
成される。

したがって、上記上部磁性体（５７）のパターンエツチ
ングにおいて、段差部に位置する上部磁性体（５７ａ）
は、平坦部に位置する上部磁性体（５７ｂ）に較ベエソ
チングに要する時間が短い。このため、平坦部に位置す
る上部磁性体（５７ｂ）のエツチングが完了した時点で
は、段差部に位置する第３絶縁ｔｌｉ（５５ａ）　　も
オーバーエツチングされてしまい絶縁破壊を生じる虞れ
がある。場合によりては、段差部に位置する上部コイル
導体（５４ａ）　　もエツチングされ導体切れを生じる
という問題がある。

〔発明が解決しようとする問題点〕

このように、スパイラル多層型の薄膜磁気ヘッドにあっ
ては、上部磁性体のパターンエツチング時に、絶縁破壊
あるいは上部コイル導体の導体切れが生じるという問題
があった。

そこで、本発明は上述の実情に鑑みて提案されたもので
あって、上部磁性体をパターンエツチングしても絶縁破
壊や導体切れを生じることのない薄膜磁気ヘッドを提供
することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明の薄膜磁気ヘッドは
、下部磁性体上に複数層のコイル導体及び上部磁性体が
絶縁層を介して積層形成されてなる薄膜磁気ヘッドにお
いて、上部コイル導体と下部コイル導体とが交差する部
分の下部コイル導体に各々短絡しない突出部を形成した
ことを特徴とするものである。

〔作用〕

このように、上部コイル導体と下部コイル導体とが交差
する部分において、下部コイル導体間に亘って設けられ
る上部コイル導体の延在方向に、上記下部コイル導体の
突出部が形成されてなるので、この交差部分での上部コ
イル導体の段差を小さく抑えることができる。したがっ
て、上記交差部分上に形成された上部磁性体をエツチン
グで取り除いても、絶縁膜や上部コイル導体までエツチ
ングされることはない。

〔実施例〕

以下、本発明を適用した薄膜磁気ヘッドの一実施例につ
いて図面を参照しながら説明する。

本発明の薄膜磁気ヘッドにおいては、第１図（Ａ：及び
第１図（Ｂ）に示すように、下部磁性体（１）の一平面
上には、フロントギャップ部やバックギャップ部を除い
てＳｉＯ□等よりなる第１絶縁層（２）が形成されてい
る。

上記下部磁性体（１）としては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライ
トやＮｉ−Ｚｎ系フェライト等の強磁性酸化物基板、ま
たは、セラミック等の非磁性基板上にＦｅ−Ｎｉ系合金
（パーマロイ）やＦｅ−ＡＪ−Ｓｉ系合金（センダスト
）等の強磁性金属材料を積層した複合基板、あるいは上
記強磁性酸化物基板上にパーマロイやセンダスト等の強
磁性金属材料を積層した複合基板、等が使用される。

また、上記第１絶縁層（２）上には、ＣｕまたはＡＩＬ
等の金属導体よりなる下部コイル導体（３）が所定の間
隔をもって渦巻状（本実施例では４ターン）に形成され
ている。

ここで本発明においては、上記下部コイル導体（３）は
、第２図に示すように、後述の上部コイル導体と交差す
る部分（本実施例では２カ所）において、下部コイル導
体（３）のパターンエツチング時に、下部コイル導体（
３）の突出部（３ａ）　、　（３ｂ）が、下部コイル導
体（３）間に亘って設けられる上部コイル導体の延在す
る方向に残存するように形成されている。

なお、上記突出部（３ａ）　、　（３ｂ）は導通するこ
となく所定の間隔を有して形成されることはいうまでも
なく、この間隔ｌは数μｍ程度（本実施例では４μｍ）
に形成される。

さらに、上記下部コイル導体（３）を被覆するように第
２絶縁層（４）が被着形成され、この第２絶縁層（４）
上には、上記下部コイル導体（３）と同一の巻回方向を
有し、上記第２絶縁層（４）のコンタクト窓部（５）を
介して上記下部コイル導体（３）と電気的に接続される
渦巻状（本実施例では３ターン）の上部コイル導体（６
）が形成されている。また、この上部コイル導体（６）
上には、後述の上部磁性体（８）との絶縁を図るために
第３絶縁層（７）が形成されている。すなわち、本実施
例のコイル導体の巻線構造はスパイラル２Ｎ重ね７クー
ン構造となる。

ここで、上記上部コイル導体（６）は、フロントギャッ
プ近傍部（後述の上部磁性体（８）が残存形成される部
分）においては、下部コイル導体（３）間間隙にこの間
隙を埋める如く形成されるので、これらコイル導体（３
）　、　（６）の表面が略平坦に形成され、この結果上
部磁性体（８）が略平坦に形成され、良好な磁気特性が
得られるようになっている。

一方、下部コイル導体（３）と上部コイル導体（６）と
が交差する部分の上部コイル導体（６）は、上記下部コ
イル導体（３）の突出部（３ａ）　、　（３ｂ）上を這
うように形成されることになるので、この交差部分での
上部コイル導体（６）や第３絶縁膜（７）等は、少ない
段差（緩やかなエツジ）で形成される。

さらにまた、上記第３絶縁層（７）等を被覆する如く下
部磁性体（１）の全面に亘ってセンダストやパーマロイ
等の強磁性金属材料をスパッタリング等の真空薄膜形成
技術により被着形成し、所定のトラック幅及び形状とな
るように、パターンエツチングを施し上部磁性体（８）
が形成されている。

したがって、上記コイル導体（３）　、　（６）に駆動
電流を供給することにより、下部磁性体（１）と上部磁
性体（８）との共働により磁気回路を構成し、記録・再
生を行うようになっている。

ここで、上記交差部分の上部磁性体（６）及び第３絶縁
Ｎ（７）等は、第３図に示すように、緩やかなエツジを
もって少ない段差で形成されているため、この交差部分
での上部磁性体（８）の膜厚も略均−に形成される。し
たがって、上述の上部磁性体（８）のパターンエツチン
グにおいて、上部磁性体（８）は均一にエツチングされ
るため、第３絶縁層（７）あるいは上部コイル導体（６
）をもエツチングされることはなくなり、絶縁破壊ある
いは導体切れが生じなくなる。

最後に、図示してないが、上記上部磁性体（８）等を覆
うように、Ｓ　ｔ　Ｏを等の保護膜を形成した後、ガラ
ス等の接着材を溶融充填し平坦化し、摩耗対策としてセ
ラミック等の非磁性材よりなる保護板を上記接着材に融
着接合し、さらに、所定の当り幅となるようにデプス近
傍部を切り欠いた後、所定のデプス長となるように切削
研磨してＴＲ膜磁気ヘッドを完成する。

なお、本実施例ではコイル導体を２層積層した薄膜磁気
ヘッドについて説明したが、本発明はスパイラル状のコ
イル導体を２層以上積層した薄膜磁気ヘッドに適用され
る。

また、本実施例では１チヤンネルの薄膜磁気ヘッドにつ
いて説明したが、複数の薄膜磁気ヘッド素子を有する、
いわゆるマルチチャンネルｆｉ膜磁気ヘッドにも適用さ
れる。

さらに、本発明は上述の実施例に限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱することなく、その他種々の構
造が取り得ることはいうまでもない。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明の薄膜磁気ヘ
ッドは、上部コイル導体と下部コイル４体が交差する部
分において、下部コイル導体間に亘って設けられる上部
コイル導体の延在方向に、下部コイル導体の突出部が形
成されてなるので、この交差部分での上部コイル導体が
少ない段差で、かつ緩やかなエツジを有して形成される
。

したがって、上記交差部分上に形成された上部磁性体を
エツチングしても絶縁層や上部コイル導体までもエツチ
ングされることはなくなり、この交差部分での絶縁破壊
あるいは導体切れが生じなくなり、良好な記録・再生が
可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図（Ａ）は本発明に係る薄膜磁気ヘッドの一例を示
す平面図、第１図（Ｂ）は第１図（Ａ）のａ−ａ線にお
ける断面図である。 第２図は下部コイル導体を示す平面図であり、第３図は
上部磁性体を形成したときの第１図ａ　−ａ線における
断面図である。 第４図（Ａ）は従来の薄膜磁気ヘッドを示す平面図、第
合図（Ｂ）は第合図（Ａ＞のｂ−ｂ線における断面図で
ある。 ｌ・・・・・・下部磁性体 ３・・・・・・下部コイル導体 ３ａ、３ｂ・・突出部 ６・・・・・・上部コイル導体 ８・・・・・・上部磁性体

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 下部磁性体上に複数層のコイル導体及び上部磁性体が絶
   縁層を介して積層形成されてなる薄膜磁気ヘッドにおい
   て、 上部コイル導体と下部コイル導体とが交差する部分の下
   部コイル導体に各々短絡しない突出部を形成したことを
   特徴とする薄膜磁気ヘッド。