JPH07272217A - Thin-film magnetic head - Google Patents

Thin-film magnetic head

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JPH07272217A
JPH07272217A JP8604094A JP8604094A JPH07272217A JP H07272217 A JPH07272217 A JP H07272217A JP 8604094 A JP8604094 A JP 8604094A JP 8604094 A JP8604094 A JP 8604094A JP H07272217 A JPH07272217 A JP H07272217A
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JP
Japan
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core
magnetic head
film magnetic
cores
conductor
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Application number
JP8604094A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideji Orihara
秀治 折原
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Victor Company of Japan Ltd
Original Assignee
Victor Company of Japan Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain a thin-film magnetic head of low-impedance noise. CONSTITUTION:This thin-film magnetic head is formed by successively laminating a lower core 4, an intermediate core 9 and an upper core 12 on a substrate 1 and spirally patterning and forming conductors 7 between the upper and lower cores 4 and 12 so as to pass part thereof. The conductors 7 formed in the outside regions between these upper and lower cores 4 and 12 is formed to a thickness larger than the thickness of the conductors 7 formed in the inside regions between the upper and lower cores 4 and 12, by which the impedance noise is lowered without increasing the number of turns even if there is restriction on the thickness between the upper and lower cores.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【0001】[0001]

【0002】[0002]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスク等の磁気
記録再生装置に使用されて好適な薄膜磁気ヘッドに関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thin film magnetic head suitable for use in a magnetic recording / reproducing apparatus such as a magnetic disk.

【0003】[0003]

【0002】[0002]

【0004】[0004]

【従来の技術】図12は、本出願人が先に提案した(特
開平4−89609号)ディスク状記録媒体に使用され
る磁気ヘッドの概略部分断面斜視図、図13はコア部と
コイルパタ−ンのみを示した図で、(A)は概略斜視
図、(B)は平面図、(C)は(B)のA−A´断面図
である。
2. Description of the Related Art FIG. 12 is a schematic partial cross-sectional perspective view of a magnetic head used for a disk-shaped recording medium proposed by the present applicant (Japanese Patent Laid-Open No. 4-89609), and FIG. 13 is a core portion and a coil pattern. FIG. 3A is a schematic perspective view, FIG. 3B is a plan view, and FIG. 3C is a cross-sectional view taken along the line AA ′ of FIG.

【0005】これらの図において、1は基板、2は絶縁
層、4は軟磁性材料から成る下コアである。5は絶縁層
で、この絶縁層5にはコイル導体7が巻回されて埋設さ
れている。9は中間コア、10,11は絶縁層、12は
上部コアである。
In these figures, 1 is a substrate, 2 is an insulating layer, and 4 is a lower core made of a soft magnetic material. Reference numeral 5 denotes an insulating layer, and the coil conductor 7 is wound and embedded in the insulating layer 5. Reference numeral 9 is an intermediate core, 10 and 11 are insulating layers, and 12 is an upper core.

【0006】[0006]

【0003】Gはギャップで、13は前記コイル導体7
に接続される導体であり、この導体13には連続してリ
−ド部14が形成されている。15はパッド部で、この
上面側に合金層16が設けられ、この合金層16にはリ
−ドワイヤ17が圧着されて、一つのヘッド素子が構成
されているものである。
G is a gap and 13 is the coil conductor 7.
And a lead portion 14 is continuously formed on the conductor 13. Reference numeral 15 denotes a pad portion, on the upper surface side of which an alloy layer 16 is provided, and a lead wire 17 is pressure-bonded to the alloy layer 16 to form one head element.

【0007】この様な構成のヘッドによれば、狭いトラ
ックや狭ピッチの記録再生に好適なヘッドが得られるも
のである。
According to the head having such a structure, a head suitable for recording / reproducing with a narrow track or a narrow pitch can be obtained.

【0008】[0008]

【0004】[0004]

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の構造
のものは、コイル導体の断面積が小さく、直流抵抗が大
きい。そのため、インピ−ダンスノイズが大きく、ま
た、記録時の通電によるコイルの発熱も大きく、コイル
周辺の部材が熱によって歪みやクラックの原因となって
信頼性に欠けるものであった。
However, in the structure described above, the cross sectional area of the coil conductor is small and the direct current resistance is large. Therefore, impedance noise is large, and the heat generated in the coil due to energization at the time of recording is large, and the members around the coil are distorted or cracked by heat, resulting in poor reliability.

【0010】[0010]

【0005】これを解決するためには、コイルの巻数を
減らしたり、コイルの断面積を増やしたりして、コイル
の発熱及びインピ−ダンスノイズを低減すれば良いが、
コイルの巻数を減らすと、再生出力が減り、記録電流も
増やさなければならない。
To solve this, the number of turns of the coil may be reduced or the cross-sectional area of the coil may be increased to reduce heat generation and impedance noise of the coil.
When the number of turns of the coil is reduced, the reproduction output is reduced and the recording current must be increased.

【0011】[0011]

【0006】また、巻数を減らさずに一巻き当たりの水
平方向の幅を広げて断面積を増加させると、磁路長(前
部磁気ギャップ部と後部磁気ギャップ部との間隔)が長
くなり、磁気抵抗が増加して記録再生効率の低下を招く
ことになってしまう。
If the horizontal width per winding is increased and the cross-sectional area is increased without reducing the number of turns, the magnetic path length (the distance between the front magnetic gap portion and the rear magnetic gap portion) becomes longer, The magnetic resistance increases and the recording / reproducing efficiency lowers.

【0012】[0012]

【0007】また更に、中間コアの垂直方向への厚みを
増やすことも考えられるが、所望の周波数を得る等の事
情により、中間コアの厚みが制限されてしまう場合もあ
る。
Further, it is possible to increase the thickness of the intermediate core in the vertical direction, but the thickness of the intermediate core may be limited due to circumstances such as obtaining a desired frequency.

【0013】そこで、本発明は、このような問題を除去
して、インピ−ダンスノイズの少ない信頼性のある薄膜
磁気ヘッドを提供することにある。
Therefore, the present invention is to eliminate such problems and provide a reliable thin-film magnetic head with less impedance noise.

【0014】[0014]

【0008】[0008]

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】本発明の薄膜磁気ヘッド
は、上記課題を解決するために、以下の手段より構成さ
れるものである。
In order to solve the above-mentioned problems, the thin-film magnetic head of the present invention comprises the following means.

【0016】即ち、基板上に下コア及び上コアを順次積
層し、これらコア間に、その一部を通過させて、前記コ
ア間の外方に導電体の渦巻状のパタ−ンを形成して成る
薄膜磁気ヘッドにおいて、前記コア間の外方にパタ−ン
形成される前記導電体の厚さを、前記上下コア間を通過
する導電体の厚さより厚く形成したことを特徴とする薄
膜磁気ヘッド。
That is, a lower core and an upper core are sequentially laminated on a substrate, and a part of the core is passed between the cores to form a spiral pattern of a conductor outside the cores. In the thin film magnetic head, the thin film magnetic head is characterized in that the thickness of the conductor formed by patterning between the cores is made thicker than the thickness of the conductor passing between the upper and lower cores. head.

【0017】[0017]

【0009】[0009]

【0018】[0018]

【実施例】以下、図面を参照して、本発明の薄膜磁気ヘ
ッドの一実施例つき説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the thin film magnetic head of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0019】図1は、その実施例に係る薄膜磁気ヘッド
の概略部分断面斜視図、図2はコア部とコイルパタ−ン
のみを示した図で、(A)は概略斜視図、(B)は平面
図、(C)は(B)のA−A´断面図である。尚、従来
例と同一構成要素には同一符号を付して詳細な説明を省
略する。
FIG. 1 is a schematic partial sectional perspective view of a thin film magnetic head according to the embodiment, FIG. 2 is a diagram showing only a core portion and a coil pattern, (A) is a schematic perspective view, and (B) is a diagram. A plan view and (C) are cross-sectional views taken along the line A-A 'of (B). The same components as those of the conventional example are designated by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.

【0020】[0020]

【0010】これらの図において、1は基板、2は絶縁
層、4は軟磁性材料から成る下コアで、1〜9μm程度
の厚さで形成されている。そして、この下コア4の上面
の前後部にはほぼ同様の厚さで中間コア9,9が夫々設
けられ、これらの上面には絶縁層5,10を挟んで上部
コア12が形成されている。
In these figures, 1 is a substrate, 2 is an insulating layer, and 4 is a lower core made of a soft magnetic material, which is formed with a thickness of about 1 to 9 μm. Intermediate cores 9 and 9 having substantially the same thickness are provided on the front and rear portions of the upper surface of the lower core 4, and the upper core 12 is formed on the upper surfaces with the insulating layers 5 and 10 interposed therebetween. .

【0021】[0021]

【0011】そして、7はコイル導体で、後部側の中間
コア9を巻回するように渦巻き状のパタ−ンが形成され
ている。このコイル導体7はコア間の領域では、絶縁層
5に埋設されるに充分な低い高さとされ、コア間の外部
領域では、その高さが異なり、絶縁層5から更に下側の
絶縁層2に達し、コア間の高さの略2倍となっている
Reference numeral 7 is a coil conductor, and a spiral pattern is formed so as to wind the intermediate core 9 on the rear side. The coil conductor 7 has a height sufficiently low to be embedded in the insulating layer 5 in the region between the cores, and the height is different in the outer region between the cores, and the insulating layer 2 further below the insulating layer 5 has a different height. Has reached about twice the height between the cores.

【0022】。..

【0012】13はコイル導体7に接続される導体であ
り、絶縁層10,11を介してリ−ド部14に連続して
いる。15はパッド部で、この上面側に合金層16が設
けられ、この合金層16にはリ−ドワイヤ17が圧着さ
れて、一つのヘッド素子が構成されているものである。
A conductor 13 is connected to the coil conductor 7 and is continuous with the lead portion 14 via the insulating layers 10 and 11. Reference numeral 15 denotes a pad portion, on the upper surface side of which an alloy layer 16 is provided, and a lead wire 17 is pressure-bonded to the alloy layer 16 to form one head element.

【0023】[0023]

【0013】次に、上述の構成による薄膜磁気ヘッドの
製造方法につき、図3乃至図11を参照して説明する。
これらの図中、(A)は概略断面図を示し、(B)は概
略部分平面図を示す。
Next, a method of manufacturing the thin film magnetic head having the above structure will be described with reference to FIGS.
In these figures, (A) shows a schematic sectional view and (B) shows a schematic partial plan view.

【0024】[0024]

【0014】第1工程(図3) 基板1にFe,Co,Niを主成分とした軟磁性膜を形
成し、ホトリソ工程とイオンミリング等により下コア4
を形成する。尚、(B)図には繁雑さを避けるために基
板1の図示を省略してある。これ以降の各(B)図にお
いても同様に省略してある。
First step (FIG. 3) A soft magnetic film containing Fe, Co, and Ni as main components is formed on the substrate 1, and a lower core 4 is formed by a photolithography process and ion milling.
To form. In addition, in order to avoid complexity, the substrate 1 is not shown in FIG. It is also omitted in each of the subsequent drawings (B).

【0025】[0025]

【0015】第2工程(図4) SiO2 、TiO2 、或いは、Al2 3 等から成る絶
縁層2をスパッタや蒸着、イオンプレ−ティング等によ
り下コア4の厚みより厚く形成し、研磨工程等で表面を
平坦に形成する。
Second step (FIG. 4) An insulating layer 2 made of SiO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 or the like is formed to be thicker than the thickness of the lower core 4 by sputtering, vapor deposition, ion plating or the like, and a polishing step. Etc. to form a flat surface.

【0026】[0026]

【0016】第3工程(図5) 絶縁層2に溝をホトリソ工程とエッチング工程等により
円形状に形成し、蒸着等によりCu等の導体膜を溝中に
形成し、研磨により平坦にしてコイル導体7の下層側と
する。
Third step (FIG. 5) A groove is formed in the insulating layer 2 in a circular shape by a photolithography step, an etching step, etc., a conductor film of Cu or the like is formed in the groove by evaporation, etc., and is flattened by polishing to form a coil. The lower layer side of the conductor 7.

【0027】[0027]

【0017】第4工程(図6) 後部側の中間コア9が形成される部分を残して下コアの
上面に磁気ギャップGとなるSiO2 、TiO2 等から
成る非磁性層8を形成し、この上面に第1工程と同様に
してFe,Co,Niを主成分とする軟磁性膜の中間コ
ア9,9を所定の間隔で夫々形成する。
Fourth Step (FIG. 6) A non-magnetic layer 8 made of SiO 2 , TiO 2 or the like to form a magnetic gap G is formed on the upper surface of the lower core, leaving a portion where the intermediate core 9 on the rear side is formed, Similar to the first step, the intermediate cores 9, 9 of the soft magnetic film containing Fe, Co, and Ni as the main components are formed on the upper surface at predetermined intervals.

【0028】そして、これらの中間コア9,9を残した
他の部分に絶縁層5を形成する。
Then, the insulating layer 5 is formed on the other portions where the intermediate cores 9 and 9 are left.

【0029】[0029]

【0018】第5工程(図7) すでに下層側が形成されているコイル導体7に対応する
上面側と下コア4上の上面側とに渦巻き状の溝7aをホ
トリソ工程とエッチング工程とにより形成する。 特
に、この溝7aは下コア4の上面位置では、下コア4の
上面に達しないように形成する。
Fifth Step (FIG. 7) A spiral groove 7a is formed on the upper surface side corresponding to the coil conductor 7 already formed on the lower layer side and the upper surface side on the lower core 4 by a photolithography process and an etching process. . Particularly, the groove 7a is formed so as not to reach the upper surface of the lower core 4 at the upper surface position of the lower core 4.

【0030】[0030]

【0019】第6工程(図8) 下層となるコイル導体7が形成されている溝7aを、更
に、ホトリソ工程とエッチング工程とによりコイル導体
7に達するように形成し、第3工程と同様に溝7aの全
域にCu等の導体膜を形成する。
Sixth Step (FIG. 8) A groove 7a in which the lower coil conductor 7 is formed is further formed so as to reach the coil conductor 7 by a photolithography process and an etching process, and the same as the third process. A conductor film such as Cu is formed on the entire area of the groove 7a.

【0031】[0031]

【0020】第7工程(図9) 中間コア9,9を除いた部分にSiO2 、TiO2 或い
はAl2 3 等の絶縁層10を形成する。
Seventh step (FIG. 9) An insulating layer 10 made of SiO 2 , TiO 2, Al 2 O 3 or the like is formed on the portion excluding the intermediate cores 9, 9.

【0032】[0032]

【0021】第8工程(図10) 下コア4と対応する上面領域で、中間コア9,9及び絶
縁層10上に、第1工程と同様にして上コア12を形成
する。
Eighth step (FIG. 10) An upper core 12 is formed on the intermediate cores 9 and 9 and the insulating layer 10 in the upper surface region corresponding to the lower core 4 in the same manner as in the first step.

【0033】そして、この上コア12を残して絶縁層1
1を形成する。
The insulating layer 1 is left with the upper core 12 left.
1 is formed.

【0034】[0034]

【0022】第9工程(図11) 絶縁層10,11に、コンタクトホ−ルである導体13
を埋め、この導体13を介してコイル導体7と接続する
リ−ド部14をCu層としてエッチングにより所定形状
に形成する。
Ninth step (FIG. 11) The insulating layers 10 and 11 are provided with a conductor 13 which is a contact hole.
And a lead portion 14 connected to the coil conductor 7 through the conductor 13 is formed as a Cu layer into a predetermined shape by etching.

【0035】その後、切断線B−B´より磁気ギャップ
Gが端部となるように切断して、図1に示すように、パ
ッド部15、合金層16及びリ−ドワイヤ17を順次設
けて薄膜磁気ヘッドを完成する。
Then, the magnetic gap G is cut from the cutting line B-B 'so that the end portion is formed, and as shown in FIG. 1, a pad portion 15, an alloy layer 16 and a lead wire 17 are sequentially provided to form a thin film. Complete the magnetic head.

【0036】[0036]

【0023】このように、本実施例の薄膜磁気ヘッド
は、コイル導体7の高さ(厚さ)が、コア外部の領域で
は、コア内部の高さ(厚さ)に比べ、略2倍になってい
ることから、断面積も略2倍になり、この領域での抵抗
値が略1/2になる。
As described above, in the thin-film magnetic head of this embodiment, the height (thickness) of the coil conductor 7 in the region outside the core is approximately twice as high as the height (thickness) inside the core. Therefore, the cross-sectional area is almost doubled, and the resistance value in this area is approximately halved.

【0037】そして、コイル導体7のコア内部に埋設さ
れる部分のコイル導体全体に対する割合は、1〜3割程
度であり、コイル導体7の埋設された部分の割合をコイ
ル導体全体の1/4とした場合には、そのコイル導体7
の抵抗値が、従来の約60%となるものである。
The ratio of the part of the coil conductor 7 embedded in the core to the whole coil conductor is about 10 to 30%, and the ratio of the part of the coil conductor 7 embedded is 1/4 of the entire coil conductor. If so, the coil conductor 7
The resistance value of is about 60% of the conventional value.

【0038】[0038]

【0024】したがって、本実施例の薄膜磁気ヘッドに
よれば、特に、中間コアの厚みが制限される場合にも、
インピ−ダンスノイズの低い高信頼性の薄膜磁気ヘッド
を得ることができる。
Therefore, according to the thin film magnetic head of the present embodiment, even when the thickness of the intermediate core is limited,
A highly reliable thin film magnetic head with low impedance noise can be obtained.

【0039】[0039]

【0025】尚、本実施例では、絶縁層2側にコイル導
体7の高さを延ばすようにしたが、これとは逆に絶縁層
10,11側に延ばすようにしても良く、さらには、そ
れらの両側に高さを延ばして、抵抗値を小さくする構成
にしても良い。
In this embodiment, the height of the coil conductor 7 is extended to the side of the insulating layer 2, but it may be extended to the side of the insulating layers 10 and 11 on the contrary. The resistance value may be reduced by extending the height on both sides thereof.

【0040】また、前述の実施例の磁気ヘッドは、コイ
ル導体7が一層の巻回パタ−ンとなっているが、二層の
巻回パタ−ンにも当然に適用でき、その場合には、一層
目のコイル導体7を下コア層側に設け、二層目のコイル
導体7を上コア層側に設けるようにすれば良い。
Further, in the magnetic head of the above-mentioned embodiment, the coil conductor 7 is a one-layer winding pattern, but it is naturally applicable to a two-layer winding pattern, and in that case. The coil conductor 7 of the first layer may be provided on the lower core layer side, and the coil conductor 7 of the second layer may be provided on the upper core layer side.

【0041】[0041]

【0026】[0026]

【0042】[0042]

【発明の効果】本発明の薄膜磁気ヘッドによれば、特
に、上下コア間の厚みに制約がある場合にも、巻線数を
増加させることなくインピ−ダンスノイズを下げること
ができ、高精度で、信頼性のおける薄膜磁気ヘッドを提
供できる。
According to the thin-film magnetic head of the present invention, impedance noise can be reduced without increasing the number of windings even when the thickness between the upper and lower cores is restricted, and high precision is achieved. Thus, a reliable thin film magnetic head can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る薄膜磁気ヘッドの概略
部分断面斜視図である。
FIG. 1 is a schematic partial cross-sectional perspective view of a thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention.

【図2】コア部とコイルパタ−ンのみを示した図であ
る。
FIG. 2 is a view showing only a core portion and a coil pattern.

【図3】本発明の実施例に係る薄膜磁気ヘッドの第1製
造工程を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a first manufacturing process of the thin film magnetic head according to the embodiment of the invention.

【図4】第2製造工程を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a second manufacturing process.

【図5】第3製造工程を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a third manufacturing process.

【図6】第4製造工程を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a fourth manufacturing process.

【図7】第5製造工程を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing a fifth manufacturing process.

【図8】第6製造工程を示す図である。FIG. 8 is a diagram showing a sixth manufacturing process.

【図9】第7製造工程を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a seventh manufacturing process.

【図10】第8製造工程を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing an eighth manufacturing process.

【図11】第9製造工程を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a ninth manufacturing process.

【図12】従来の薄膜磁気ヘッドの概略部分断面斜視図
である。
FIG. 12 is a schematic partial cross-sectional perspective view of a conventional thin film magnetic head.

【図13】従来の薄膜磁気ヘッドにおけるコア部とコイ
ルパタ−ンのみを示した図である。
FIG. 13 is a diagram showing only a core portion and a coil pattern in a conventional thin film magnetic head.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板 2,5,10,11 絶縁層 4 下コア 7 コイル導体 9 中間コア 12 上部コア 14 リ−ド部 16 合金層 17 リ−ドワイヤ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Substrate 2, 5, 10, 11 Insulating layer 4 Lower core 7 Coil conductor 9 Intermediate core 12 Upper core 14 Lead part 16 Alloy layer 17 Lead wire

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板上に下コア及び上コアを順次積層し、
これらコア間に、その一部を通過させて、前記コア間の
外方に導電体の渦巻状のパタ−ンを形成して成る薄膜磁
気ヘッドにおいて、 前記コア間の外方にパタ−ン形成される前記導電体の厚
さを、前記上下コア間を通過する導電体の厚さより厚く
形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
1. A lower core and an upper core are sequentially laminated on a substrate,
A thin film magnetic head formed by passing a part of these between the cores to form a spiral pattern of a conductor outside the cores, wherein a pattern is formed outside the cores. The thin-film magnetic head is characterized in that the thickness of the conductor to be formed is thicker than the thickness of the conductor passing between the upper and lower cores.
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