JPH0727177U - ヒートシンク - Google Patents

ヒートシンク

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JPH0727177U
JPH0727177U JP6000693U JP6000693U JPH0727177U JP H0727177 U JPH0727177 U JP H0727177U JP 6000693 U JP6000693 U JP 6000693U JP 6000693 U JP6000693 U JP 6000693U JP H0727177 U JPH0727177 U JP H0727177U
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JP
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semiconductor laser
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eyelet
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hole
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JP6000693U
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English (en)
Inventor
瑞穂 高木
敏夫 板倉
Original Assignee
東洋発條工業株式会社
株式会社コズモ
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 レーザ素子より放出される熱を効率よく放散
できるヒートシンクを提供する。 【構成】 アイレット7の第1面7aから第2面7bへ
貫通する貫通孔9を開設し、レーザ素子装着面3bにレ
ーザ素子2の固着されたレーザ素子支持部材3を上記貫
通孔9へ気密状に挿着した。

Description

【考案の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】
本考案は、レーザダイオード等の半導体レーザ素子を支持すると共に、半導体 レーザ素子より発される熱を放散するヒートシンクに関する。
【0002】
【従来の技術】
CDやLD等のレーザピックアップ技術に用いられる半導体レーザ素子は、数 μm幅のストライプ電極を介して通電するために、発光ダイオード等の発光素子 に比して発熱量が著しく高くなってしまう。そして、素子の昇温化が激しい場合 には、半導体レーザ素子の劣化を招いてしまうため、半導体レーザ素子の支持機 能と放熱効果とを期せるヒートシンクに半導体レーザ素子を装着して用いるのが 一般的である。
【0003】 図6に示すのは、上記した従来のヒートシンク21を示すもので、半導体レー ザ素子22を支持する銅製の半導体レーザ素子支持部材23と、ガラス封着加工 により気密化された一対の気密端子としての第1リード端子24a,第2リード 端子24bを、鉄等よりなる平板状のアイレット25に設けたものとなっている 。なお、第1,第2リード端子24a,24bはワイヤボンディング等で半導体 レーザ素子と導通されていると共に、アイレット25にはグランド端子26が導 電性のろう材(銀ろう等)でろう付けされており、レーザ光源装置の一部が構成 される。
【0004】 上記のように構成されたヒートシンク21の半導体レーザ素子支持部材23配 設側に光透過窓を備える蓋部材(図示省略)を固着して、蓋部材の内部と外部と で気密性が保持されるようにする。なお、上記第1,第2リード端子24a,2 4bを挿通するためにアイレット25に穿設した第1端子通孔25aおよび第2 端子通孔25bとの気密を確保するためのガラス封着加工においては、980度 程度の加熱処理を行うことで、各リード端子24a,24bと絶縁ガラスとの間 およびアイレット25の各端子通孔25a,25bと絶縁ガラスとの間における 封着性を高めることができ、極めて高い気密性を得られるものとなる。
【0005】
【考案が解決しようとする課題】
しかしながら、ヒートシンクの放熱機能は主にアイレットのサイズ(直径や厚 み)や形状(表面積の大小)等に左右されるため、従来のヒートシンクで同じレ ーザ素子支持部材を用いた場合、アイレットのサイズ等によって対応可能な半導 体レーザ素子の出力がある程度限定されていた。特に近来は、小型化の要請から 、アイレットの径が同じであっても高出力の半導体レーザ素子に対応することが 要求されているが、上記した従来のヒートシンクでは良好な放熱性能を期し難く 、高出力の半導体レーザ素子に対応させることができない。すなわち、半導体レ ーザ素子が装着される半導体レーザ素子支持部材は銅製であることから熱伝導性 に優れている(20℃において300〜350程度)ものの、該半導体レーザ素 子支持部材がろう付けされるアイレットは鉄製であることから熱伝導率が低く( 20℃において40〜50程度)、半導体レーザ素子支持部材からアイレットへ の熱移動およびアイレットから外気への熱移動が不良となって、ヒートシンク自 体の放熱特性は必ずしも高くないのである。なお、レーザ素子支持部材の形状を 改良することにより(例えば扇状台形等にして)、同サイズのアイレットを使用 しながらも高出力の半導体レーザ素子に対応させる場合もあるが、レーザ素子支 持部材の形状変更のみで放熱性能の大幅な向上を図ることは困難である。
【0006】 このようなことから、熱伝導性の良好な銅を用いてアイレットを形成したり、 アイレットと半導体レーザ素子支持部材を一体成型すること等も考えられるが、 銅に対してはガラス封着加工を施すことができないので、気密端子の形成方法が 問題となる。
【0007】 そこで、本考案は、従来通りのガラス封着加工による気密端子を備えながらも 、アイレットのサイズ等を変更することなく放熱性能を高め得るヒートシンクの 提供を目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】
本考案は上記課題を解決するためになされたもので、半導体レーザ素子を支持 する半導体レーザ素子支持部材(3)と、ガラス封着加工により気密化された気 密端子(例えば、第1リードピン4の端子部4a、第2リードピン5の端子部5 a)とを、平板状のアイレット(7)に設けてなるヒートシンク(1)において 、アイレットの一方の平坦面(例えば第1面7a)から他方の平坦面(例えば第 2面7b)へ貫通する貫通孔(9)をアイレットに設け、銅製の半導体レーザ素 子支持部材を上記アイレットの貫通孔へ気密状に挿着するものとした。
【0009】
【作用】
熱伝導性の良好な銅製の半導体レーザ素子支持部材をアイレットの貫通孔に挿 着することで、半導体レーザ素子から発された熱の一部は、アイレットの一方の 平坦面から他方の平坦面側へ、半導体レーザ素子支持部材を介して移動し、半導 体レーザ素子支持部材から放散される。また、半導体レーザ素子から発された熱 の一部は半導体レーザ素子支持部材からアイレットへ移動し、アイレットの表面 から放散される。
【0010】
【実施例】
次に、本考案に係るヒートシンクの一実施例を添付図面に基づいて詳細に説明 する。
【0011】 図1に示すのは、本考案に係るヒートシンク1の斜視図であり、半導体レーザ 素子2を支持する銅製の半導体レーザ素子支持部材3と、例えばコバール線より なる第1リードピン4,第2リードピン5およびグランドピン6を、鉄よりなる 平板状のアイレット7に設けたものとしてある。なお、第1,第2リードピン4 ,5には、夫々一方の端部(図1においては上端部)をプレス成型加工した端子 部4a,5aを形成してあり、これら端子部4a,5aと半導体レーザ素子2と をワイヤボンディングにより接続するものとしてある。また、平板状のアイレッ トには、一方の平坦面たる第1面7a(図1においては上面)から他方の平坦面 たる第2面7bに貫通する第1リードピン挿通孔8a,第2リードピン挿通孔8 bと、半導体レーザ素子支持部材3を挿着するための貫通孔9を、各々穿設して ある。
【0012】 上記第1,第2リードピン挿通孔8a,8bは、各リードピン4,5とアイレ ットとのアイソレーションが確保できる程度の口径に設定してあり、第1,第2 リードピン4,5を第1,第2リードピン挿通孔8a,8bへ挿通した状態に絶 縁ガラス10,10を介して保持する。なお、アイレット7の第1面7aと第2 面7bとを貫通する第1,第2リードピン挿通孔8a,8bは、第1,第2リー ドピン4,5を挿通させた状態で極めて高い気密性を得るために、第1,第2リ ードピン挿通孔の内周面と第1,第2リードピン4,5の外周面に対する封着性 の良好なガラス封着加工を施すものとしてある。
【0013】 一方、第1面7aから第2面7bへ貫通する貫通孔9は、半導体レーザ素子支 持部材3を嵌合させ得る所要形状の孔としてあり、半導体レーザ素子支持部材3 を貫通孔9へ圧入すると共に、半導体レーザ素子支持部材3と貫通孔9とを気密 状にする。
【0014】 本実施例においては、上記半導体レーザ素子支持部材3を断面円形状の銅線に よって形成するものとしてあり、例えばニッケルメッキで表面処理したアイレッ ト7に上記銅線の径と略々等しい貫通孔9を穿設し、ニッケルメッキの表面処理 を少なくとも挿着部3aの周面に施した銅線(例えば、ニッケルメッキで予め表 面処理してある銅線を用いても良い。)を上記貫通孔9へ圧入した後、銅線を所 定の長さにカットし、アイレット7の第1面7aより延出している銅線をプレス 成型することで例えば相対向する二つの平坦面を形成し、これら平坦面の一方を 半導体レーザ素子装着面3bとするのである。なお、半導体レーザ素子支持部材 3の形状は本実施例に限定されるものではなく、半導体レーザ素子装着面3bを 備えるものであれば良い。例えば、断面が多角形状の長尺材をアイレット7の貫 通孔9へ圧入するものとすれば、半導体レーザ素子装着面3bを別行程として形 成する必要がない。但し、本実施例の如く丸銅線を用いれば、銅線の線径と貫通 孔の口径との寸法精度を高くできるので、銅線等の圧入後に著しく大きな間隙が 生ずることを効果的に防止できる。
【0015】 また、本実施例においては、半導体レーザ素子支持部材3と貫通孔9とを気密 状にするために、銅線の挿着部3aに施すニッケルメッキにリン等を混入させる ことで、メッキ部分の溶融点をガラス封着加工に必要な加熱処理温度程度まで低 下させるようにしてある。斯くすれば、第1,第2リードピン4,5と第1,第 2リードピン挿通孔8a,8bとの間にガラス封着加工を施すための加熱処理温 度で、ニッケルメッキと銅がろう状となり、半導体レーザ素子支持部材3と貫通 孔9との間を良好に封着するので、高い気密性を得ることができる。なお、半導 体レーザ素子支持部材3と貫通孔9とを気密状にするのは本実施例の方法に限定 されるものではなく、例えば貫通孔9と半導体レーザ素子支持部材3との間に銀 ろう等を流し込んで封着するようにしても良い。
【0016】 以上説明したように、本考案に係るヒートシンク1によれば、熱伝導性の良好 な銅製の半導体レーザ素子支持部材3をアイレット7の貫通孔9に挿着するもの としたので、半導体レーザ素子装着面3bに装着された半導体レーザ素子2から 発された熱は、半導体レーザ素子支持部材3を介してアイレット7の第1面7a から第2面7bへ移動し、半導体レーザ素子支持部材3の下部端面たる放熱面3 cから放散されたり、半導体レーザ素子支持部材3の挿着部3aからアイレット 7へ移動し、アイレット7の外表面から放散されることとなる。従って、鉄製の アイレットに銀ろう付けで固着された銅製の半導体レーザ素子支持部材からアイ レットを介して放熱する従来のヒートシンクよりも放熱特性を著しく向上させる ことが可能となり、アイレットのサイズ(直径等)を変えることなく放熱量の多 い高出力半導体レーザ素子にも十分対応できるヒートシンクとなる。特に、図面 に示す実施例の如く、半導体レーザ素子支持部材3の挿着部3aとアイレット7 との接触面積を、従来のヒートシンクにおける半導体レーザ素子支持部材とアイ レットとの接触面積よりも十分に大ならしめた場合には、半導体レーザ素子支持 部材3からアイレット7へ移動して放散される熱量のみを単純に比較しただけで も、本考案に係るヒートシンク1の放熱性が従来のヒートシンクよりも十分に向 上していることが理解できる。
【0017】 しかも、アイレット7は従来通りの鉄製でよいことから、ガラス封着加工によ って、第1,第2リードピン4,5と第1,第2リードピン挿通孔とを気密化で きるので、ヒートシンクの製造を従来よりも困難にすることがない点でも、実用 的価値は大である。なお、本実施例の如くリン等を混入させて溶融点を低下させ たニッケルメッキを半導体レーザ素子支持部材3の挿着部3aに施すものとすれ ば、ガラス封着加工の工程のみで半導体レーザ素子支持部材3と貫通孔9との気 密化も期せるので、一層利便性の高いものとなる。
【0018】 なお、本実施例におけるグランドピン6は、一端部に円盤状の固着部6aを形 成してあり、該固着部6aを半導体レーザ素子支持部材3の放熱面3cにろう付 けするものとした。斯くすれば、電気抵抗の低い銅製の半導体レーザ素子支持部 材3へ直接グランドピン6が導通することにより、ジュール熱の発生を若干抑え ることが可能となり、僅かながら昇温化の抑制に寄与できる。また、アイレット 7の第1面7a側よりも第2面7b側が大きくなるような形状に半導体レーザ素 子支持部材3を形成しておけば、放熱面3cの有効面積が広くなるので、半導体 レーザ素子支持部材3からの放熱性能を一層高めることができる。
【0019】
【考案の効果】
以上説明したように、本考案に係るヒートシンクによれば、熱伝導性の良好な 銅製の半導体レーザ素子支持部材をアイレットの貫通孔に挿着するものとしたの で、半導体レーザ素子から発された熱は、アイレットの一方の平坦面から他方の 平坦面側へ、半導体レーザ素子支持部材を介して移動し、半導体レーザ素子支持 部材から放散されたり、半導体レーザ素子支持部材からアイレットへ移動して、 アイレットの外表面から放散されることとなる。従って、鉄製のアイレットの平 坦面にろう付けされた銅製の半導体レーザ素子支持部材からアイレットを介して 放熱する従来のヒートシンクよりも放熱特性を著しく向上させることが可能とな り、アイレットのサイズ等を変えることなく放熱量の多い高出力半導体レーザ素 子にも十分対応できるヒートシンクとなる。
【0020】 しかも、アイレットは従来通りの鉄製でよいことから、ガラス封着加工による 気密端子の形成が可能なので、ヒートシンクの製造を従来よりも困難にすること がない点でも、実用的価値は大である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本考案に係るヒートシンクの斜視図である。
【図2】ヒートシンクの正面図である。
【図3】ヒートシンクの平面図である。
【図4】図3のA−A断面図である。
【図5】図3のB−B断面図である。
【図6】従来のヒートシンクの斜視図である。
【符号の説明】
1 ヒートシンク 2 半導体レーザ素子 3 半導体レーザ素子支持部材 4 第1リードピン 4a 第1端子 5 第2リードピン 5a 第2端子 7 アイレット 7a 第1面 7b 第2面 9 貫通孔

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体レーザ素子を支持する半導体レー
    ザ素子支持部材と、ガラス封着加工により気密化された
    気密端子とを、平板状のアイレットに設けてなるヒート
    シンクにおいて、 アイレットの一方の平坦面から他方の平坦面へ貫通する
    貫通孔をアイレットに設け、銅製の半導体レーザ素子支
    持部材を上記アイレットの貫通孔へ気密状に挿着したこ
    とを特徴とするヒートシンク。
JP6000693U 1993-10-13 1993-10-13 ヒートシンク Pending JPH0727177U (ja)

Priority Applications (1)

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JP6000693U JPH0727177U (ja) 1993-10-13 1993-10-13 ヒートシンク

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JP6000693U JPH0727177U (ja) 1993-10-13 1993-10-13 ヒートシンク

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JPH0727177U true JPH0727177U (ja) 1995-05-19

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ID=13129578

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004179494A (ja) * 2002-11-28 2004-06-24 Mitsubishi Electric Corp 半導体レーザ装置
US10141107B2 (en) 2013-10-10 2018-11-27 Analog Devices, Inc. Miniature planar transformer

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03148190A (ja) * 1989-11-02 1991-06-24 Nec Eng Ltd 半導体レーザ送信パッケージ

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