JP4162363B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、薄い金属板をプレスで板金加工することにより形成したステムを有する半導体レーザ装置、とくにその放熱性を向上させた半導体レーザ装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体レーザー装置のステムは、例えば図10に示すように、ベース1、ベース1に取り付けたアウトリード4及び半導体レーザ発光素子等を実装するシリコンサブマウントの取り付部であるヒートシンク3からなっており、一般にベース1は例えば、1.2mm厚の直径5.6mmの鉄材からなる円盤をプレス金型にて鍛造して形成し、その際、円盤の周縁部を押し潰すか、或いは中央部を盛り上げるかのいずれかの方法でヒートシンク部3を形成している。またアウトリード4は絶縁性融着ガラス12によってベース1に固定されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の方法でステムを製造する場合には、以下に示すような問題があるため、その製造コストを下げるのは困難であった。即ち、
(1)鍛造用金型は厚手の金属板を使用し材料コストがかさむ上、厚手の金属板を鍛造するため、摩耗、破損しやすい。
(2)ステムのベースの側面寸法等は高い精度が要求されるため、鍛造による場合には、円盤周縁部の鍛造に加えその側面等の加工も必要となる。
(3)ベースとアウトリードとの接合は融点が1000°C程度の低融点ガラスによって行われているが、この温度は金の融点を越えているため、アウトリードの金メッキはベースに対し接合した後に行わなければならない。
従って、ベースは本来であれば例えばNiメッキで足りるにも拘らず、アウトリードに合わせて金メッキを施さざるを得ない。
さらに、光ピックアップへの装着時、放熱がそれほど問題にならない場合には、装着面縮小のためベースを(図面参照)縮小加工することがあるが、従来の鍛造により形成したベースは切削等によらなければ装着面積縮小ができず、プレスで打ち抜く等の簡易な方法が採れない等の問題がある。
このような課題を解決するため、例えば、ステムを備えた半導体レーザ装置において、ステムのベースを例えば0.1mm〜0.5mm程度の薄い金属板からプレス加工により形成することが考えられるが、従来のステムのベースが1.2mm程度の比較的厚い金属板から鍛造により打ち出し形成していたのと異なり、薄い金属板によると、ピックアップに対する当て付け時の強度が弱く、曲がり反り等の問題が新たに生じるほか、放熱特性に関しても十分とはいい難い場合がある。
また、近年の短波長の発光素子或いは高出力発光素子の出現等によって、より放熱性の高いステムが必要となっている。
【0004】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明は、ステムを備えた半導体レーザ装置において、前記ステムは、板金を折り曲げて形成した環状壁部を周縁に備えたベースを有し、該環状壁部内にヒートシンク部材を封止したことを特徴とする半導体レーザ装置である。
請求項2の発明は、請求項1に記載された半導体レーザ装置において、前記ヒートシンク部材は絶縁した銅材であることを特徴とする半導体レーザ装置である。
請求項3の発明は、ステムを備えた半導体レーザ装置において、前記ステムは、熱伝導性の異なる2種の金属をストライプ状に張り付けたクラッド材を折り曲げて形成した環状壁部を周縁に備えたベースを有し、少なくとも前記ベースに一体に形成されたレーザ発光素子の取付部が、前記異なる金属のうち熱伝導性の高い金属の部分で形成されるよう成型されたものであることを特徴とする半導体レーザ装置である。
請求項4の発明は、ベース、レーザ発光素子の取付部及び、アウトリードからなるステムを備えた半導体レーザ装置において、前記ベースは、金属板を折り曲げて形成した環状壁部を有し、前記レーザ発光素子の取付部は前記アウトリードの一部として形成されており、かつ、前記アウトリードは前記環状壁部内に封止された熱硬化性樹脂によって前記ベースに接合されていることを特徴とする半導体レーザ装置である。
請求項5の発明は、請求項4記載の半導体レーザ装置において、前記環状壁部内にさらにヒートシンク部材を封止したことを特徴とする半導体レーザ装置である。
【0005】
【発明の実施の形態】
図1は本発明によるステムの第1の実施例を示すものであって、図1Aはその斜視図、図1Bはその断面図を示す。
図示のようにこのステムのベース1とレーザー発光素子等をシリコンサブマウントを介して取り付ける取付部(ヒートシンク)3は、薄い金属板、例えば0.1mm〜0.5mm程度の金属板から円盤状のブランクを打ち抜き、これに板金加工を施して形成したものであって、鍔状の周縁部1Aを残して中央部に曲げ加工を施して環状連続壁1A’を形成し、その環状壁部1A’の一部にそれと一体に形成された取付部(ヒートシンク)3が形成されている。
図中、6は金ワイヤーであって、アウトリード4と各端子を電気的に接続している。7はシリコンサブマウントであって、取付部(ヒートシンク)3の折り返し面3A(図2)に対して銀ペーストのような導電性ペーストで接合されている。8は発光素子であるLD(レーザーダイオード)、9は前記LDから発光されたレーザー光をモニターするための受光素子を示す。図示のように、LD8及び受光素子9はいずれも金ワイヤー6によってアウトリード4に電気的に接続されている。
【0006】
図2は本発明によるステムのベース1の成形工程を説明するための図である。図2Aは例えば鉄等の金属板のブランクを示す。図2Bはこのブランクに絞り加工を施して形成した灰皿またはハット状の、つまり鍔状部1Aとそれに続く環状壁部分1A’、及び環状壁部分1A’の上に平面を有する中間加工物を示す。図2Cはこのように形成した中間加工物の前記平面をヒートシンクである取付部(ヒートシンク)3となる部分3Aを残して打ち抜いた状態を示し、最後に、図2Dに示すように、前記取付部(ヒートシンク)3となる部分3Aを起立させ、断面L型の取付部(ヒートシンク)3を形成する。
以上の工程で形成したベース1の環状壁部分1A’によって囲まれる空間に3本のアウトリード4を配し、その状態で熱硬化性樹脂を充填して加熱し、前記アウトリード4をベース1に固着する(図1)。ここで、Gnd端子4Aはボンディング時に電気的導通を確保するため、図に示すように、前記取付部(ヒートシンク)3を貫通している。
【0007】
この実施例によれば、ベース1と前記アウトリード4との接合は従来の低融点ガラスによらず、熱硬化性樹脂によって行われておりかつ、前記樹脂の熱硬化を行ってもその温度は約200°C程度にすぎないから、前記樹脂を用いることによってアウトリード4に金メッキを施した後からベース1に接合することができる。
つまり、本実施形態によれば、ベース1とアウトリード4はそれぞれ別々にメッキを施すことができるため、ベース1はアウトリード4と同じ金メッキを施す必要がなく、例えばNiメッキを施すことができるという利点がある。また、ピックアップ装着面積の縮小が必要な場合であっても、ベース1をプレスで単に打ち抜くことにより簡単に切断することができる。
なお、DB(ダイボンディング)材には銀ペースト等の導電性ペーストを用い接着強度を確保する。
以上で説明した本発明の第1の実施形態のステムは、前記従来の問題を解決し得るものではあるが、ベース1の厚みが0.25〜0.3mm程度で従来品のもの(1.2mm程度)より薄いため、ピックアップに対する当て付け時の強度が弱く、曲がり反り等の問題が生じることがある。また、放熱特性に関しても十分とはいい難い。
【0008】
そこで、次にその点を改良した実施形態について説明する。
図3は、本発明の第2の実施形態を示すものである。
図中図1におけると同様の部分には同じ番号を付している。この実施形態の特徴は、本発明のステムのベース1の厚みが従来品よりも薄いことに対処するため、円盤状の金属ブランクの周縁部をほぼ直角に折り曲げて環状壁部1Aを形成し、その中央部を平面1Bとし、その平面から切り起こしたレーザー発光素子等の取付部(ヒートシンク)3を備えている。
この実施形態は前記環状壁部1A’を放熱フィンとしかつ、環状壁部の幅を調整して必要な放熱性を確保できるようにしている。
【0009】
図4はその製造工程を示すものであって、図4Aは金属ブランクを示す。図4Bは前記金属ブランクの周縁部を下方に折り曲げて折曲部を形成し中央部を平面とした中間加工物を示している。図4Cは、この中間加工物の中央平面部分にシリコンサブマウントを介して前記レーザ発光素子等を取り付ける取付部(ヒートシンク)3になる部分3Aを残して切り抜いた状態を示している。さらに、図4Dは、前記取付部(ヒートシンク)3になる部分3Aを起立させ断面L字型の前記取付部(ヒートシンク)3を形成する。
【0010】
この実施形態においては、ベース1の周縁を折曲して形成した環状側壁内部空間に熱硬化性樹脂を封止するものであるから、ベース1を薄い金属板で形成したにも拘らず強度を増大することができ、かつ、その部分をピックアップの装着時の当てつけ基準面とすることにより、曲げ、反り等が発生するおそれもない。
また、折曲部の幅Lを長くすることにより、放熱面積を増大させることができるから、前記第1の実施形態におけるようなLD動作時における放熱性の問題も解消することができる。
【0011】
図5は本発明によるステムの第3の実施例を示し、図5Aはその斜視図、図5Bは断面図を示す。
ステムのベース1は、図示のようにその周縁部が図5Aにおいて下方にほぼ直角に折り曲げた環状連続壁1A’を有し、その上面1Bの開口部の一側にはシリコンサブマウントを介してレーザ発光素子等を取り付ける取付部(ヒートシンク)3が一体に形成されている。ここで使用される金属板は、既に述べたように、例えば0.1mm〜0.5mm程度の鉄板である。
図中、6は金ワイヤーであって、アウトリード4と各端子を電気的に接続している。7はシリコンサブマウントであって、取付部(ヒートシンク)3の折り返し面に銀ペーストのような導電性ペーストで接合されている。8は発光素子であるLD(レーザーダイオード)、9は前記LDから発光されたレーザー光をモニターするための受光素子を示す。図示のように、LD8及び受光素子9はいずれも金ワイヤー6によってアウトリード4に電気的に接続されている。
このように構成されたステムは、ベース1外周縁を折り曲げ環状壁部1A’が形成されているため、ベース1を強化するとともにその環状壁部を放熱フィンとすることができ、環状壁部の幅を調整することにより、ベース1自体によっても必要な放熱性を確保することができる。
しかし、ステムの放熱性を一層高めるために、本実施形態では、図5Bに示すように、前記環状壁1A’によって囲まれた空間内に、銅材等の放熱用のヒートシンク用円盤5Aをアウトリード4と絶縁した状態で収容し、更にその下側空間に絶縁性の熱硬化性樹脂5Bを充填封着して、アウトリード4と共に前記ヒートシンク用円盤5Aを封止している。
この構成により、ステムの放熱性は前記連続壁の幅Lに加え、放熱ヒートシンク用銅盤の厚さMを調節することによって調節することができ、使用する半導体レーザ装置に最適な放熱性を容易に得ることができる。
【0012】
この実施形態のステムのベース1の製造工程は、図4に関連して説明した第2の実施例におけると同様である。即ち、図4Aは前記厚みを有する薄い鉄板から切り抜かれたブランクを示す。図4Bは前記ブランクの周縁をほぼ直角に折り曲げて得られた環状連続壁を有する椀状の中間加工物を示し、図4Cは、この中間加工物の中央平面部分について前記取付部(ヒートシンク)3になる部分3Aを残して切り抜いた状態を示している。さらに、図4Dは、前記取付部(ヒートシンク)3になる部分3Aに曲げ加工を施して起立させ断面L字型の取付部(ヒートシンク)3を形成する。
【0013】
次に、本発明における放熱性を高めたステムの第4の実施形態について説明する。この実施形態は図6Aに示すように、ステムのシリコンサブマウントを介してレーザ発光素子等を取り付ける取付部(ヒートシンク)3には放熱性の優れた銅材Cを用いかつ、熱伝導の少ないベース外周部はコスト削減を図るため及び、ステムの強度を確保するために鉄材Fを用いている。
これを作製するには、図6Bに示すように、例えば、鉄ー銅ー鉄ー銅ー・・・の順でストライプ状に金属を交互に張り付けたクラッド材M1を用い、このクラッド材M1からなる円形のブランクBを打ち抜き、このブランクBの銅の部分Cが前記取付部(ヒートシンク)3に来るように板金加工を施す。その加工工程は図4について説明した第3の実施形態の場合と同様である。
【0014】
図7Aは本発明の第5の実施形態のステムをその真上から、つまり平面図で示している。前記第4の実施態様では鉄Fと銅Cを交互に張り付けたクラッド材M1を用いたが、この実施形態では、板の厚み方向、つまりその表裏面に銅材Cと鉄材Fとを重ね合わせて張り付けたクラッド材M2を用い(図7B)、このクラッド材M2からステム加工用のブランクを打ち抜き、既に図4について説明した方法によってステムを形成する。
この場合、ステムの板金加工において、ステムのベース1の表側に鉄材Fが来るようにブランクの周縁部をほぼ直角に折り曲げ、更にブランクの中央部をシリコンサブマウント取付部となる取付部(ヒートシンク)3を残して打ち抜き、最後に前記取付部(ヒートシンク)3を折り曲げて起立させる。
前記取付部(ヒートシンク)3を起立させることにより、クラッド材裏面の銅材Cが初めて表側に現れる。つまり、図7Aに示すように、シリコンサブマウントの取付面側は銅材Cとなり銅の優れた熱伝導性を活用することができる。他方、それ以外の部分は鉄材Fが表面に現れているから鉄材の持つ優れた強度特性を生かすことができる。
これにより、それぞれの材料の特性をうまく利用して強度的にも或いは放熱性の面からみても優れたステムを得ることができる。
【0015】
以上で説明した半導体レーザ装置のステムは、何れもLD取付部はベース1と一体に形成されているが、図8に示す第6の実施形態のステムでは、LD取付部は、アウトリード4(Gnd端子)と一体に形成されている(図8A)。ここで、アウトリードと一体に形成されの意味は、LD取付部とアウトリードが文字通り一体に形成されるもの、即ち、その一部として形成されているものをいい、溶接等の手段により接合されて一体となるものを含まない
前記アウトリード4は、屈曲して形成したベース1の環状壁1A’によって囲まれた空間内に充填した絶縁性の熱硬化性樹脂によりベース1に固定される(図8B)。
このようにして形成されたステムには、第2の実施形態と同様に、ベース外周縁を折り曲げ環状壁部1A’が形成されているため、ベース1自体によって必要な放熱性を確保することができる。
また、第3の実施形態と同様に、環状壁1A’によって囲まれた空間内に、銅材等の放熱用の例えば銅でできたヒートシンク用円盤8Aをアウトリード4と絶縁した状態で収容し、更にその下側空間に絶縁性の熱可硬化性樹脂8Bを充填封着して、アウトリード4と共に前記ヒートシンク用円盤を封止してもよい(図8C)。
図9は本発明によるステムのベース1の成形工程を説明するための図である。図9Aは例えば、鉄などの金属板のブランクを示す。図9Bはこのブランクの周縁部を下方に折り曲げて折曲部を形成しかつ中央を平面とした中間加工物を示している。図9Cは、この中間加工物の前記平面部分にリード挿入用の孔4Bを設けて形成したベース1を示す。
【0016】
【発明の効果】
請求項1乃至の発明に対応する効果; 薄い金属板に対し、打ち抜き、曲げ等比較的簡単なプレス加工を施すのみであるから金型の摩耗、破損が起こり難く、そのため安価にステムを形成することができ、ピックアップ装着面積の縮小が必要な場合であっても、ベースをプレスで単に打ち抜くことにより簡単に切断することができる。さらに、金属板を折り曲げて環状壁部を形成したため、内部空間中においてアウトリードを熱硬化性樹脂で封止することができると共に、金属板が薄いにも拘らずその強度を確保することができる。
請求項1、2の発明に対応する効果; ベース周縁に形成された環状壁部及びヒートシンク部材によって放熱性を確保することができると共に、環状壁部の幅及びヒートシンク部材の厚さを調節することによって、適用する半導体レーザ装置に応じてその放熱特性を最適にすることができる。
請求項の発明に対応する効果; 熱伝導特性の優れた材料を不必要な部分に用いることを大幅に制限することができるから、コストを下げつつ放熱性の優れた半導体レーザ装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の半導体レーザ装置のステムの第1の実施形態のステムを示し、図1Aはその斜視図、1Bは断面図を示す。
【図2】 第1の実施形態のステムのベースの製造工程を説明する図である

【図3】 本発明の第2の実施形態のステムを示す斜視図である。
【図4】 第2の実施形態のステムのベースの製造工程を説明する斜視図である。
【図5】 本発明の半導体レーザ装置の第3の実施形態のステムを示すものであって、図5Aはその斜視図、5Bは断面図を示す。
【図6】 本発明の半導体レーザ装置の第4の実施形態のステムの斜視図及びステムのベース用素材の平面図を示す。
【図7】 本発明の半導体レーザ装置の第5の実施形態のステムの平面図及びステムのベース用素材の断面図を示す。
【図8】 本発明の半導体レーザ装置の第6の実施形態のステムを示し、図8Aはその斜視図、図8B、図8Cは断面図を示す。
【図9】 第6の実施形態のステムのベースの製造工程を説明する斜視図である。
【図10】 従来の半導体レーザ装置のステムの断面図を示す。
【符号の説明】
1・・・ベース、 2・・・環状壁部分、
3・・・取付部(ヒートシンク)、 4・・・アウトリード、
6・・・金ワイヤー、 7・・・コンサブマウント、
8・・・LD(レーザーダイオード) 9・・・受光素子。

Claims (5)

  1. ステムを備えた半導体レーザ装置において、前記ステムは、板金を折り曲げて形成した環状壁部を周縁に備えたベースを有し、該環状壁部内にヒートシンク部材を封止したことを特徴とする半導体レーザ装置。
  2. 請求項1に記載された半導体レーザ装置において、
    前記ヒートシンク部材は絶縁した銅材であることを特徴とする半導体レーザ装置。
  3. ステムを備えた半導体レーザ装置において、前記ステムは、熱伝導性の異なる2種の金属をストライプ状に張り付けたクラッド材を折り曲げて形成した環状壁部を周縁に備えたベースを有し、少なくとも前記ベースに一体に形成されたレーザ発光素子の取付部が、前記異なる金属のうち熱伝導性の高い金属の部分で形成されるよう成型されたものであることを特徴とする半導体レーザ装置。
  4. ベース、レーザ発光素子の取付部及び、アウトリードからなるステムを備えた半導体レーザ装置において、
    前記ベースは、金属板を折り曲げて形成した環状壁部を有し、前記レーザ発光素子の取付部は前記アウトリードの一部として形成されており、かつ、前記アウトリードは前記環状壁部内に封止された熱硬化性樹脂によって前記ベースに接合されていることを特徴とする半導体レーザ装置。
  5. 請求項4記載の半導体レーザ装置において、前記環状壁部内にさらにヒートシンク部材を封止したことを特徴とする半導体レーザ装置。
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JP4165760B2 (ja) * 2005-01-11 2008-10-15 ローム株式会社 半導体レーザ装置およびその製造方法
JP2007048937A (ja) * 2005-08-10 2007-02-22 Rohm Co Ltd 半導体レーザおよびその製法
JP2007053252A (ja) * 2005-08-18 2007-03-01 Shinko Electric Ind Co Ltd 光半導体素子用パッケージ及びその製造方法
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JP2014225608A (ja) * 2013-05-17 2014-12-04 スタンレー電気株式会社 発光装置
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