JP3759064B2 - 光半導体装置及びその製造方法 - Google Patents

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は光半導体素子をパッケージングした光半導体装置に関し、特に組立工程を簡略化して生産性を高めた光半導体装置及びその製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
光半導体装置の代表的なものとしての半導体レーザ装置は、通常パッケージングしたレーザダイオードに対してリードを通して電流を供給してレーザ光を発光させ、パッケージの外部に向けて出射する構成である。このような半導体レーザ装置の汎用型の構成の一例を図21に示す。金属材を加工して上面にポスト202を一体に立設したステム201を形成し、かつステム201には絶縁材203を用いて複数本のリード204を貫通支持させている。そして、ダイボンディング工程によりポスト202にレーザダイオードLDをマウントし、またこれに相対するステム201の上面にフォトダイオードPDをマウントする。次いで、ワイヤボンディング工程によりレーザダイオードLD及びフォトダイオードPDを金属細線205を用いてステム201及びリード204に電気接続する。その上で、仮想線で示すように、前記ステム201の上面を覆うように開口窓を有する円筒状をしたキャップ206を被せ、その周縁部をステムに融着して半導体レーザ装置を組み立てている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
このような半導体レーザ装置では、ステムを金属材の切削加工、あるいは各部分を溶接加工し、さらにはリードをガラス等によって絶縁支持して形成しているため、ステム自体の製造工程が多く、また、複数の半導体レーザ装置を一括して加工、組立することが困難で、コスト低減及び寸法精度を向上する上での障害になっている。また、個別部品として形成したステムに対してレーザダイオードやフォトダイオードをマウントする工程が必要であるため、ステムの取り扱い、特にダイボンディング工程、ワイヤボンディング工程、キャップ溶着工程の各工程装置に対してステムをロード、アンロードし、さらに各工程装置においてステムを位置決めする等の処理が必要となり、そのために生産性が低く、コスト低減が一層困難なものとなる。また、ステムの位置決め精度が低いとダイボンディングやワイヤボンディング精度も低くなり、高品質の半導体レーザ装置を得ることが困難になる。
【0004】
このような問題に対し、特開2001−77262公報では、図22に示すように、ステムの製造工程を簡略化した技術(以下、第1の公知技術と称する)が提案されている。この第1の公知技術では金属板をプレス加工してステム301の外郭となる円筒部302及びフランジ部303と、円筒部302の上縁部の一部に設けた切片を曲げ起こしたマウント部304とを一体に形成し、この円筒部302内に樹脂等の絶縁材305を充填してステム301を形成するとともに、この絶縁材305によってリード306を貫通状態に支持させる。そして、前記マウント部304にサブマウント307を取着し、さらにその上にレーザダイオードLDとフォトダイオードPDをマウントし、これらレーザダイオードLDとフォトダイオードPDを金属細線308によってリード306にワイヤボンディングしたものである。この第1の公知技術によれば、ステムの製造が容易になるとともに寸法精度を向上する上で図21に示した技術に比較して有利である。しかしながら、レーザダイオードのダイボンディング工程やワイヤボンディング工程、さらにキャップ溶着工程については図21の技術と同様に個別部品に対する処理であるため、生産性やコスト低減の問題を改善するまでには至っていない。
【0005】
また、特開2001−68778公報にはリードフレームを利用した技術(以下、第2の公知技術と称する)が提案されている。この第2の公知技術では、一部の工程については明確ではないが、図23に示すように、図には表れないリードフレームで構成されるリード301に対して、これらを包含する状態で樹脂等により薄い箱型のパッケージ302を形成した上で、当該パッケージ302内に露呈されているリード301の一部にフォトダイオードPDを形成したサブマウント303を設けてレーザダイオードLDを搭載し、当該レーザダイオードLDやフォトダイオードPDとリード301の他のリードとを柔軟な配線304によって電気接続した構成である。この第2の公知技術では、リードフレームは金属板材をプレス加工等によって形成することが可能であるため製造が容易になるとともに寸法精度を向上する上で有利ではあるが、この場合にはパッケージの形状は第2の公知技術に記載のようなフラット型のパッケージに限られることになり、図20や図21に示した半導体レーザ装置や第1の公知技術のようないわゆるキャン型の半導体レーザ装置を形成することは困難になる。そのため、キャン型に比較して放熱性が低くなり品質上の問題が生じるとともに、既存のキャン型の半導体レーザ装置を用いる光学機器への適用が難しく、光学機器側での設計変更が必要になる等の新たな問題が生じることになる。
【0006】
本発明の目的は、以上のような問題を解消し、生産性の高い、かつ高品質な半導体レーザ装置等で代表される光半導体装置とその製造方法を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の光半導体装置は、平板状のフランジと、光半導体素子を搭載したアイランドと、光半導体素子に電気接続されるリードとが同一導電材料で形成され、アイランドとリードはフランジに対して垂直な同一平面上に延在され、フランジのアイランドが存在する側と反対側の全面にわたって絶縁性ベースが設けられていることを特徴とする。
【0008】
本発明の光半導体装置では、次の形態とすることが好ましい。
(A)絶縁性ベースはフランジの外形形状とほぼ同じ形状である。
(B)リードは絶縁性ベースを貫通した状態に支持され、アイランド側のインナー部において光半導体素子にワイヤボンディングされる。
(C)フランジは一側辺を切り欠いた円形、あるいは両側辺を切り欠いた円形の外形状とされる。
(D)フランジは絶縁性ベースの表面に露出される。
(E)少なくともフランジ上に光半導体素子、リードのインナ部等を覆うように被せられ、かつ光半導体装置の光軸上に開口窓を有するキャップが接着される。
(F)キャップは金属あるいは樹脂からなる円筒容器状あるいは半円筒容器状に形成される。
(G)キャップの周囲にはフランジが露出状態に延在される。
(H)光半導体素子はレーザダイオード、発光ダイオード、フォトダイオードのいずれか又はこれらの組み合わせである。
【0009】
本発明の光半導体装置の製造方法は、フランジとアイランド及びリードが一体化されたリードフレームを用意し、前記アイランドに光半導体素子をダイボンディングする工程と、前記アイランドとリードが前記フランジに対して垂直な同一平面上に延在されるように曲げ加工する工程と、前記フランジの前記アイランドが存在する側と反対側の全面に絶縁性ベースを形成する工程と、前記リードとフランジとを前記リードフレームから切断分離する工程と、前記光半導体素子と前記リードとをワイヤボンディングする工程とを含むことを特徴とする。
【0010】
本発明の製造方法では、次の工程を含むことが好ましい。
(a)フランジに樹脂モールド法により樹脂製の絶縁性ベースを一体に形成する。
(b)アイランドに光半導体素子をダイボンディングした後に前記曲げ加工する。
(c)曲げ加工する工程の後にアイランドに光半導体素子をダイボンディングする。
(d)フランジ上にアイランド、リード等を覆うキャップを接着する工程を含んでいる。
(e)フランジをフレームの面に対して垂直な面方向に曲げ加工する。
(f)イランド及びリードをフレームの面に対して垂直な面方向に曲げ加工する。
(g)前記(e)の場合に、リードフレームの一部を切り欠いた開口を設け、当該開口に対して垂直な方向に曲げ形成されたフランジに対し、リードフレームの平面方向に沿った当該開口側からキャップを被せて接着を行う。
【0011】
本発明の光半導体装置の製造方法では、ダイボンディング工程、曲げ加工工程、絶縁性ベースの形成工程、切断工程、ワイヤボンディング工程、及びリード構体を個片に切断分離する工程をリードフレーム状態でのバッチ処理で行うことができる。これにより、製造の自動組立が可能になり、生産性の高い、かつ高品質な半導体レーザ装置の組立が実現可能になる。
【0012】
また、本発明の製造方法によって製造される本発明の光半導体装置は、パッケージがいわゆるキャン型に分類される構成であるため、既存のキャン型の半導体レーザ装置を用いる光学機器へそのまま適用することが可能になる。また、フランジ及びアイランドは一体に形成されているので光半導体素子で発生した熱をアイランドからフランジにまで伝達して高い放熱性を得ることができる。また、フランジとアイランドとが一体であることにより、フランジとアイランドにダイボンディングするレーザダイオードとの相対位置を高精度に管理し、光学機器の基準面に対してフランジの表面を当接した状態で当該半導体レーザ装置の実装を行うことで、光学機器の光源位置に対して半導体レーザ装置を高精度に位置設定することも可能になる。また、フランジの全面に絶縁性ベースが形成されるのでフランジの機械的な強度が確保される。さらに、アイランドとリードは平行であるので、既存のワイヤボンディング装置をそのまま利用することが可能である。
【0013】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の実施形態を図面を参照して説明する。図1は本発明を半導体レーザ装置に適用した実施形態の一部を破断した斜視図である。この半導体レーザ装置1は、所要の厚さのCu(銅)板をプレス加工により形成したリードフレームから切り離されたリード構体101を有しており、このリード構体101は、円周一部を切り欠いた円形に近い外形状のフランジ102と、前記フランジ102のほぼ中央部分に位置された矩形をしたアイランド103と、前記アイランド103の下辺から下方に伸びる1本のリード104及びアイランドの両側において下方に伸びる3本のリード105a〜105cを備えており、前記フランジ102は水平方向に向けられ、アイランド103及び各リード104,105a〜105cはほぼ垂直方向に向けられている。そして、前記フランジ102には下面に沿って一体に樹脂がモールド成形された円形板状の樹脂ベース110が形成され、この樹脂ベース110によって前記フランジ102の機械的な強度を保持するとともに、前記アイランド103及びリード104,105a〜105cをフランジ102に対して絶縁した状態で支持している。
【0014】
前記アイランド103には2つのレーザダイオードLD1,LD2及びフォトダイオードPDがダイボンディングによってマウントされるとともに、これらレーザダイオードLD1,LD2及びフォトダイオードPDは金属細線111によって前記リード105a〜105cとの間にワイヤボンディングされている。この実施形態では、アイランド103上には2つのレーザダイオードLD1,LD2を並んで搭載したフォトダイオードPDがマウントされている。各レーザダイオードLD1,LD2は発光するレーザ光の波長が異なるレーザダイオードであり、ここでは一方のレーザダイオードLD1からはCD用のレーザ光が出射され、他方のレーザダイオードLD2からはDVD用のレーザ光が出射されるコンパチブルな半導体レーザ装置として構成した例を示している。また、フォトダイオードPDは各レーザダイオードLD1,LD2で発光されたレーザ光を受光してモニタするためののものである。
【0015】
その上で前記フランジ102上には前記アイランド103及び各リード105a〜105cのインナー部を覆うように円筒容器状のキャップ120が被せられ、かつその周縁部において接着剤等によってフランジ102に接着されている。前記キャップ120の上面には前記レーザダイオードLD1,LD2から出射されるレーザ光を透過させるための開口窓121が開けられている。また、前記フランジ102に接着されたキャップ120の周囲一部には前記フランジ120の周縁部の上面が露出されており、当該半導体レーザ装置1を光学機器に実装する際の基準面として構成されている。
【0016】
次に、以上の構成の半導体レーザ装置1の製造方法について説明する。本発明では所定長さの短冊状をしたリードフレーム100に対して複数個の半導体レーザ装置をバッチ処理により製造することが可能であり、このリードフレーム100は、図2に示すように、Cu板をプレス加工、あるいはエッチング加工して形成されており、長さ方向に複数個のリード構体101を連ねて形成されている。ここでは複数個のリード構体のうち、2つのリード構体101のみを図示しており、各リード構体101は、矩形の枠状をしたフレーム100Aの内部に、外形状が円周一部を切り欠いた円形をしたフランジ102と、前記フランジ102の内部に位置された微小矩形のアイランド103と、前記アイランド103の下辺の一部からリードフレームの長手方向と垂直な方向に真直に延長されてそれぞれ逆L字型をした連結片106によって前記フランジに連結された1本の長いリード104と、前記アイランド103の両側辺から両側に突出された一対の連結片107によって前記アイランド103に連結され、前記長いリード104と平行に延長された3本の短いリード105a〜105cが形成されている。また、前記フランジ102は長手方向の両端部においてクランク状をした一対の連結片108によって前記フレーム100Aに連結されている。
【0017】
図3は前記リードフレーム100を利用して半導体レーザ装置を組み立てる製造装置のブロック構成図である。前記リードフレーム100を供給するローダ部S1と、供給されたリードフレーム100に対してレーザダイオードLD1,LD2及びフォトダイオードPDをマウントするダイボンディング部S2と、前記マウントが完了したリードフレーム100を曲げ加工する曲げ加工部S3と、曲げ加工されたリードフレーム100に樹脂をモールド成形する樹脂モールド部S4と、リードを連結していた連結片107を切断除去する切断部S5と、切断したリードと前記レーザダイオード及びフォトダイオードを金属細線で接続するワイヤボンディング部S6と、各リード構体101をリードフレーム100のフレーム100Aから切断分離して個々の個片に分離する個片分離部S7と、分離した個々のリード構体101に対してキャップ120を接着するキャップ接着部S8と、キャップを接着して組立が完成された半導体レーザ装置を取り出すアンローダ部S9とを備えている。
【0018】
図4〜図10は、図2に示したリードフレーム100を図3に示した組立装置により図1の半導体レーザ装置1を組み立てる第1の実施形態の製造方法を模式的に示す工程図である。先ず、ローダ部S1からダイボンディング部S2に供給されてきたリードフレーム100は、図4に平面図と正面図を示すように、各リード構体101の平面状態が保たれたままアイランド103にフォトダイオードPDをマウントする。この実施形態では、前記したようにフォトダイオードPDには予め2つのレーザダイオードLD1,LD2を並んで搭載している。このダイボンディングでは熱抵抗低減のためにハードソルダ系での金属接合によりマウントが行われる。
【0019】
次いで、ダイボンディング部S2から曲げ加工部S3に移動されたリードフレーム100は、図5に平面図と正面図を示すように、各リード構体101においてフランジ102を両側においてフレーム100Aに連結している連結片108を立面方向に捩じり曲げ加工を施し、フランジ102をフレーム100A面に対して90度の角度で曲げ起こす。したがって、アイランド103及びリード104,105a〜105cはフレーム100Aの面と同一平面上に保持されるが、フランジ102に対しては相対的に90度の角度方向に向けられることになる。
【0020】
次いで、曲げ加工部S3から樹脂モールド部S4に移動されたリードフレーム100は、樹脂モールド部S4に設けられた図外の成形用金型内にセットされ、図6に平面図と正面図を示すように、樹脂モールドが行われる。ここでは、成形用金型は一対の金型がフレーム100Aの面と平行な両方向からフレームと干渉しないように移動されてフランジ102を両面から挟持するようにセットが行われ、当該成形用金型のキャビティに樹脂が注入されて樹脂モールドが行われる。このとき、当該成形用金型はフランジ102の一方の面、すなわちアイランド103が存在する側と反対側の面側にのみにフランジ102の外形に沿った薄い円形のキャビティが形成されるため、モールド成形される樹脂ベース110はフランジ102の当該一方の面に沿って円形板状に形成される。これにより、フランジ102は樹脂ベース110と一体化されてその機械的な強度が高められる。また、同時にアイランド103及びリード104,105a〜105cは当該樹脂ベース110によってフランジ102と共に一体的に支持されることになり、特に3本のリード105a〜105cは樹脂ベース110の上面側にインナー部が突出した状態で、また各リード104,105a〜105cは樹脂ベース110の下面側にアウター部が突出した状態で支持されることになる。なお、フランジ102の他方の面は樹脂ベース110の片側に露出された状態とされる。
【0021】
次いで、リードフレーム100は樹脂モールド部S4から切断部S5に移動され、ここで図7に平面図を示すように、アイランド103の両側辺から左右に突出している連結片107のみを切断する。これにより、短い3本のリード105a〜105cはアイランド103から切り離され、それぞれ機械的、電気的に独立したものとなる。また、各リード105a〜105cはアイランド103から切り離されても樹脂ベース110によって支持されている状態は保たれる。また、長いリード104はアイランド103及びフランジ102と連結した状態に保たれている。
【0022】
次いで、リードフレーム100は切断部S5からワイヤボンディング部S6に移動され、ここで図8に平面図を示すように、アイランド103上のレーザダイオードLD1,LD2とフォトダイオードPDに対するワイヤボンディングを実行する。アイランド面、すなわちレーザダイオードLD1,LD2とフォトダイオードPDの電極面はフレーム100Aの面と平行であるため、既存のワイヤボンディング装置をそのまま利用することができる。これにより、レーザダイオードLD1,LD2とフォトダイオードPDを3本のリード105a〜105cの各インナー部に対してそれぞれ金属細線111によって電気接続する。
【0023】
次いで、リードフレーム100は個片分離部S7に移動され、ここで図9に示すように、リードフレーム100のフレーム100Aから各リード構体101を切り離す。この切り離しに際しては、フランジ102の両側の連結片108において切離しを行う。この切り離しによりリードフレーム100の各フレーム100Aにおいてそれぞれのリード構体101が個片に分離される。
【0024】
しかる後、分離された個片の各リード構体101はキャップ接着部S8にそれぞれ移動され、図10に示すように、フランジ102の上面側に前記アイランド103及びリード105a〜105cのインナ部を覆うようにキャップ120、ここでは金属あるいは樹脂からなる円筒容器状をしたキャップを被せ、当該キャップ120の開口周縁部においてフランジ102の上面に接着する。なお、フランジ102が存在しない箇所では樹脂ベース110の上面に接着する。キャップ120は図1に示したように上面に開口窓121が設けられており、この開口窓121を通して前記アイランド103上のレーザダイオードLD1,LD2から出射した光を外部に射出することが可能とされている。また、キャップ120の外径寸法はフランジ102の径寸法よりも若干短くされているため、キャップ120の開口縁の周囲にはフランジ102の金属面が露出された状態とされる。これにより、図1に示した半導体レーザ装置1が完成され、その後、アンローダ部S9から搬出する。
【0025】
以上のように、本実施形態の半導体レーザ装置の製造方法では、ダイボンディング工程、曲げ工程、モールド樹脂工程、切断工程、ワイヤボンディング工程、及びリード構体を個片に切断分離するまでの工程まではリードフレーム状態での処理が可能である。そして、リード構体を個片に切断分離した後のキャップ接着工程についてのみこれまでと同様な個別部品に対する処理を行えばよい。そのため、複数のリード構体に対してリードフレーム単位でのバッチ処理ないしは連続処理が可能となり、しかもリードフレームの位置決め穴を利用しての搬送、位置決めが可能となる。これにより、組立の自動化が可能になり、生産性の高い、かつ高品質な半導体レーザ装置の組立が実現可能になる。
【0026】
また、このような高生産性、高品質が得られる一方で、組立られる半導体レーザ装置はパッケージがいわゆるキャン型に分類される構成であるため、既存のキャン型の半導体レーザ装置を用いる光学機器へそのまま適用することが可能である。また、この場合、フランジ及びアイランドはリードフレームに一体に形成されて単に曲げ形成されている構成であるため、レーザダイオードで発生した熱をアイランドからリード及び連結片を介してフランジにまで伝達し、さらにキャップを通して放熱することが可能となり、高い放熱性を得ることができる。また、フランジとアイランドとが一体であることにより、フランジとアイランドにマウントするレーザダイオードとの相対位置を高精度に管理することも可能であり、光学機器の基準面に対してフランジの表面を当接した状態で当該半導体レーザ装置の実装を行うことで、光学機器の光源位置に対して半導体レーザ装置を高精度に位置設定することも可能になる。
【0027】
図11は本発明の第2の実施形態の製造方法を工程順に示す図である。なお、以降の実施形態において第1の実施形態と等価な部分には同一符号を付してある。この実施形態では同図(a)に示すように、リードフレーム100−1のフレーム100Aはリードフレームの長手方向に沿う一辺、特にフランジ102に対してアイランド103が配置される側の一辺が除去され、この領域に開口部100aが形成されているものを使用する。そして、このリードフレーム100−1に対し、図12に示すように、前記第1の実施形態での組立装置と同様な組立装置を用いて組み立てを行う。ただし、この実施形態ではワイヤボンディング部S6の直後にキャップ接着部S8が配置され、このキャップ接着部S8の直後に個片分離部S7が配置された構成となっている。すなわち、リードフレーム100−1を供給するローダ部S1と、供給されたリードフレームに対してレーザダイオード及びフォトダイオードをマウントするダイボンディング部S2と、前記マウントが完了したリードフレームを曲げ加工する曲げ加工部S3と、曲げ加工されたリードフレームに樹脂をモールド成形する樹脂モールド部S4と、リードを連結していた連結片を切断除去する切断部S5と、切断したリードと前記レーザダイオード及びフォトダイオードを金属細線で接続するワイヤボンディング部S6と、リードフレーム上の各リード構体に対してキャップを接着するキャップ接着部S8と、リード構体をリードフレームのフレームから切断分離して個々の個片に分離する個片分離部S7と、個片に分離された半導体レーザ装置を取り出すアンローダ部S9とを備えている。
【0028】
そして、図11(b)に示すように、ローダ部S1から供給されてきたリードフレーム100−1に対してダイボンディング部S2においてアイランド103にレーザダイオードLD1,LD2を搭載したフォトダイオードPDをマウントし、次いで、曲げ加工部S3においてフランジ102を立面方向に捩じり曲げ加工して、フランジ102をフレーム100Aの面に対して90度の角度で曲げ起こし、その上で樹脂モールド部S4において樹脂モールドを行ない、フランジ102の当該一方の面に沿って円形板状をした樹脂ベース110を形成する。さらに、切断部S5においてアイランド103の両側辺から左右に突出している連結片107のみを切断し、各リード105a〜105cをアイランド103から切り離し、続いて、ワイヤボンディング部S6においてアイランド103上のレーザダイオードLD1,LD2とフォトダイオードPDに対するワイヤボンディングを実行する。この工程は第1の実施形態の図5〜図8に示したと同様である。
【0029】
しかる後、リードフレーム100−1は第1の実施形態における個片分離部S7を経ることなくキャップ接着部S8に移動され、図11(c)に示すように、フランジ102の上面側に円筒容器状をした金属製のキャップ120を被せ、当該キャップ120を開口周縁部においてフランジ102の上面に接着する。このとき、リードフレームのフレーム100Aは一辺側に開口100aが確保されているため、この開口100aを通してキャップ120をフランジ102の上面側に移動し、かつ当接させることが可能になる。そして、以降の図示は省略するが、キャップ120をフランジ102に固定した後、リードフレーム100−1を個片分離部S7に移動し、ここでフランジ102の両側の連結片108を切断し、リード構体101をフレーム100Aから切断分離することにより個別化された図1に示した半導体レーザ装置1と同じが完成され、その後、アンローダ部S9から搬出する。
【0030】
以上のように、第2の実施形態の半導体レーザ装置の製造方法では、ダイボンディング工程からキャップ接着工程及び個片分離工程までの全ての工程にわたってリードフレーム状態での処理が可能である。そのため、複数のリード構体に対するリードフレーム単位でのバッチ処理ないしは連続処理を全ての工程にわたって行うことができ、第1の実施形態に比較してさらに生産性の高い半導体レーザ装置の組立が実現可能になる。なお、製造された半導体レーザ装置は第1の実施形態の場合と同じであるので、既存のキャン型の半導体レーザ装置を用いる光学機器へそのまま適用することが可能である一方で、高い放熱性を得ることができ、光学機器の光源位置に対して半導体レーザ装置を高精度に位置設定することも可能になる。
【0031】
図13は本発明の第3の実施形態の製造方法を工程順に示す図である。この実施形態ではリードフレーム100−2は第1の実施形態のリードフレーム100とほぼ同じであるが、リード104についてはフレーム100Aから分離された構成のものを用いている。また、このリードフレーム100−2に対し、前記第2の実施形態での組立装置と同様な組立装置を用いて組み立てを行う。ただし、この実施形態では曲げ加工部S3においては、フランジ102を曲げ加工するのではなく、アイランド103及びリード104,105a〜105cをフレーム100Aに対して曲げ加工するように構成されている。
【0032】
すなわち、ローダ部S1から供給されてきた図13(a)に示すリードフレーム100−2に対して、図13(b)に示すように、ダイボンディング部S2においてアイランド103にレーザダイオードLD1,LD2を搭載したフォトダイオードPDをマウントし、次いで、曲げ加工部S3において連結片106を捩じり曲げ加工し、アイランド103及びリード105a〜105cをフランジ102及びフレーム100Aの面に対して90度の角度で曲げ起こす。しかる後、前記各実施形態と同様に、樹脂モールド部S4において樹脂モールドを行ない、フランジ102の当該一方の面に沿って円形板状をした樹脂ベース110を形成する。この樹脂モールドではフランジ102はフレーム100Aと同じ平面上にあるのでリードフレーム100−2の平面の上下方向から成形用金型を挟持させるようにして樹脂モールドを行うことができる。次いで、図13(c)に示すように、切断部S5においてアイランド103の両側辺から左右に突出している連結片107のみを切断し、各リード105a〜105cをアイランド103から切り離す。その上で、リードフレーム100−2はワイヤボンディング部S6においてアイランド103上のレーザダイオードLD1,LD2とフォトダイオードPDに対するワイヤボンディングを実行する。なお、このワイヤボンディングではリードフレーム100−2を立面方向に向けた状態で行うことになる。
【0033】
しかる後、リードフレーム100−2はキャップ接着部S8においてフランジ102の上面側にキャップ120を被せ、当該キャップ120を開口周縁部においてフランジ102の上面に接着する。このとき、フランジ102はフレーム100Aと同じ平面上にあるのでリードフレーム100−2を平面状態に保持して上側からキャップ120をフランジ102の上面側に移動し、かつ当接させることが可能になる。そして、キャップ120を固定した後、リードフレーム100−2を個片分離部S7に移動し、ここで図示は省略するがフランジ102の両側の連結片108を切断し、リード構体101をフレーム100Aから切断分離することにより個別化された図1に示した半導体レーザ装置が完成され、その後、アンローダ部S9から搬出する。
【0034】
以上のように、第3の実施形態の半導体レーザ装置の製造方法では、第2の実施形態と同様に、ダイボンディング工程からキャップ接着工程及び個片分離工程までの全ての工程にわたってリードフレーム状態での処理が可能であり、生産性の高い半導体レーザ装置の組立が実現可能になる。また、製造された半導体レーザ装置は第1及び第2の実施形態の場合と同じであるので、既存のキャン型の半導体レーザ装置を用いる光学機器へそのまま適用することが可能である一方で、高い放熱性を得ることができ、光学機器の光源位置に対して半導体レーザ装置を高精度に位置設定することも可能になる。
【0035】
図14は本発明の第4の実施形態の製造方法を工程順に示す図である。この実施形態は前記第1ないし第3の実施形態におけるダイボンディング工程を切断工程の後に行うようにしたものである。なお、製造装置のブロック構成については図3に示した装置の順序が入れ代わるのみであるので図示は省略する。ここで第1の実施形態のリードフレーム100に適用した場合を説明すると、ローダ部S1から供給されてきたリードフレーム100を曲げ加工部S3において図14(a)に示すように、フランジ102を立面方向に捩じり曲げ加工し、リードフレーム100のフレーム100Aの面に対して90度の角度で曲げ起こす。次いで、図14(b)に示すように、樹脂モールド部S4において樹脂モールドが行われ、フランジ102の当該一方の面に沿って円形板状をした樹脂ベース110が形成される。次いで、図14(c)に示すように、切断部S5においてアイランド103の両側辺から左右に突出している連結片107のみが切断され、各リード105a〜105cはアイランドから切り離される。次いで、図14(d)に示すように、ダイボンディング部S2においてアイランド103にレーザダイオードLD1,LD2を搭載しているフォトダイオードPDをダイボンディングする。以降の工程は第1の実施形態と同様であるので図示は省略するが、ワイヤボンディング部S6においてアイランド103上のレーザダイオードLD1,LD2とフォトダイオードPDに対するワイヤボンディングを実行する。
【0036】
しかる後、リードフレーム100を個片分離部においてリード構体101を個片に切断分離した後、キャップ接着部S8においてフランジ102の上面側にキャップ120を被せ、当該キャップ120を開口周縁部においてフランジ102の上面に接着し、図1に示した半導体レーザ装置が完成される。完成された半導体レーザ装置は、その後アンローダ部S9から搬出する。
【0037】
以上のように、第4の実施形態の半導体レーザ装置の製造方法では、フランジを曲げ形成し、かつ樹脂ベースをモールド成形し、さらに連結部を切断した後に、アイランドにレーザダイオード及びフォトダイオードをダイボンディングしているので、前記第1ないし第3の実施形態のように、ダイボンディングした後に曲げ加工、切断を行うことがなく、レーザダイオードやフォトダイオードに対する工程途中でのダメージを防止することができ、製造歩留りを向上することができる。
【0038】
図15はリードフレームのリード構体の変形例を示す第5の実施形態を示す図である。この実施形態では、図15(a)に示すように、フランジ102、アイランド103の構成は前記各実施形態と同じであるが、アイランド103の両側から両方向に突出した逆L字型の連結片107によってアイランド103をフランジ102に連結するとともに、前記連結片107から4本のリード105a〜105dをほぼ平行に延長したものである。このリードフレームを用いた半導体レーザ装置の組み立て方法は第1の実施形態と同じあり、図15(b)のように、フランジ102を曲げ加工し、樹脂ベース110を形成した後、切断部S5において連結片107の切断を行うが、ここでは図15(c)示すように、前記連結片107はアイランド103を支持するために残しており、当該連結片107と前記各リード105a〜105dとの接続箇所において切断分離する構成がとられている。その後の工程も第1の実施形態と同様であり、図15(d)のように金属細線111をワイヤボンディングし、キャップ120を接着することにより半導体レーザ装置を完成する。この実施形態では、リードフレームにおける4本のリードを等間隔でかつ平行に延長配置することが可能であり、半導体レーザ装置を光学機器に実装する際の自由度を高めることが可能になる。
【0039】
図16はフォトダイオードをフランジの一部にマウントした第6の実施形態を示す図である。この実施形態では、図16(a)に示すように、ダイボンディング部S2においてアイランド103に2つのレーザダイオードLD1,LD2を並んでマウントする。この際レーザダイオードLD1,LD2の下には金属体からなるヒートシンクHを同時にマウントし、ハードソルダ系による金属接合により行う。次いで、曲げ加工部S3においてフランジ102を立面方向に捩じり曲げ加工し、フレーム100Aの面に対して90度の角度で曲げ起こし、さらに、樹脂モールド部S4において樹脂モールドを行ない、フランジ102の当該一方の面に沿って円形板状をした樹脂ベース110を形成する。次いで、図16(b)に示すように、切断部S5においてアイランド103の両側辺から左右に突出している連結片107を切断し、各リード105a〜105cをアイランド103から切り離す。次いで、図16(d)に示すように、フランジ102の一部、ここではアイランド103から延長されているリード104上にフォトダイオードPDをマウントする。このマウントではAgペースト等の導電性樹脂接着剤を用いる。なお、この際フォトダイオードPDの下に戻り光低減のため角度付の導電体を同時にマウントしてもよい。次いで、図16(d)に示すように、ワイヤボンディング部S6においてレーザダイオードLD1,LD2とフォトダイオードPDに対するワイヤボンディングを行って金属細線111を接続する。しかる後、図示は省略するが、リード構体を個片分離部において個片に切断分離し、さらにキャップ接着部S8においてフランジ102の上面側に円筒容器状をした金属製のキャップ120を被せ、当該キャップ120を開口周縁部においてフランジ102の上面に接着する。これにより、半導体レーザ装置が完成される。
【0040】
この第6の実施形態では、レーザダイオードとフォトダイオードを異なる手法でマウントすることが可能であり、したがって、前述のようにレーザダイオードをヒートシンクを介してマウントすることで放熱性を高めることができる一方で、フォトダイオードは同時にマウントした導電体によって戻り光を低減し受光効率を向上させることが可能になる。なお、この実施形態の場合、フォトダイオードのダイボンディングは連結片を切断する前工程において行ってもよい。
【0041】
図17及び図18は本発明を半導体受光装置に適用した参照例としての第7の実施形態を示す図である。この実施形態ではリードフレームのリード構体におけるアイランド及びリードの形状が前記各実施形態とは異なる他は基本的には同じである。すなわち、この実施形態では、図17(a)に示すように、アイランド103が比較的に大きな面積に形成されるとともにフランジ102と連続した状態で一体化されたリードフレーム100−3を用いており、図17(b)に示すように、ダイボンディング部S2においてアイランド103にフォトダイオードPDをマウントする。次いで、図17(c)に示すように、曲げ加工部S3においてアイランド103の両側において連結片107によりフランジ102に連結されているリード105e,105fを立面方向に捩じり曲げ加工し、リードフレーム100−3のフレーム100Aの面に対して90度の角度で曲げ起こす。
【0042】
次いで、図18(a)に平面図と正面図を示すように、樹脂モールド部S4において樹脂モールドを行ない、フランジ102の当該一方の面に沿って円形板状をした樹脂ベース110を形成する。次いで、切断部S5においてアイランド103の両側辺から左右に突出している連結片107の一方(同図では右側)を切断し、切断した側のリード105fをアイランドから切り離す。次いで、図18(b)に平面図と正面図を示すように、ワイヤボンディング部S6においてアイランド103上のフォトダイオードPDと切断した側のリード105fとを金属細線111で接続する。しかる後、図18(c)に平面図と正面図を示すように、リード構体を個片分離部S7において個片に切断分離し、さらにキャップ接着部S8においてフランジ102の上面側に円筒容器状をした金属製のキャップ120を被せ、当該キャップ120を開口周縁部においてフランジ102の上面に接着する。これにより、半導体受光装置が完成される。
【0043】
この第7の実施形態による半導体受光装置においては、半導体レーザ装置と同様に生産性が向上でき、高品質が得られる優れた半導体受光装置として構成することが可能である。
【0044】
図19は本発明を小型半導体レーザ装置に適用した第8の実施形態である。図19(a)に示すように、リードフレーム100−4のリード構体は一部の形状、特にフランジ102の形状として両側辺が切り欠かれた円形の外形状とされている他は大略において第1の実施形態のリードフレームと同じである。しかる上で、図19(b)に示すように、アイランド103にフォトダイオードPDとレーザダイオードLD1,LD2をマウントした後、アイランド103とこれに連結片107を介して接続されているリード104,105a〜105cをフランジ102に対して90度曲げ加工する。続いて、フランジ102に樹脂ベース(図示せず)を形成した後、アイランド103とリード105a〜105cとを連結している連結片107を切断する。その後、図19(c)に示すように、フォトダイオードPD及びレーザダイオードLD1,LD2をリード105a〜105cに金属細線111でワイヤボンディングし、さらにここでは連結片108をフレーム100Aから切断して個片に分離した後、矩形をしたキャップ120Aを接着する。このとき、樹脂ベースの下面に突出されているリード104,105a〜105cを樹脂ベースの底面に沿って曲げ加工し、他の接地側のリード104と平行に向けてもよい。
【0045】
この第8の実施形態では、フランジの形状が両側辺において切り欠いているため、図19(c)のように図面の上下方向の寸法Dを低減することができ、前記した各実施形態に比較して幅寸法を低減することが可能となり、本半導体レーザ装置を実装する場合の取付筐体の高さに制限を受けることが少なくなる。また、各リードをフランジに沿って水平方向に曲げることで全体として薄型化を図ることができる。勿論、各リードを垂直方向に延長したままで構成することが可能であることは言うまでもない。
【0046】
ここで、前記各実施形態では、フランジ上に接着されるキャップは円筒状あるいは矩形の容器状に形成した例を示しているが、この形状に限定されるものではない。すなわち、前記各実施形態でのキャップは光半導体素子及びこれに接続される金属細線やリードを機械的な外力から保護するために設けられているものであるため、少なくとも光半導体素子をマウントした側にキャップを配設すればその目的を達成することが可能である。図20は前記第1の実施形態に適用した例であり、フォトダイオードPD、半導体レーザダイオードLD1,LD2を搭載したアイランド103の表面側においてのみ、これらの素子、アイランド103、金属細線111及び各リード105a〜104aのインナー部を覆うように半円筒状のキャップ120Bをフランジ102上に接着している。このようなキャップを用いることにより、第1の実施形態の製造方法においては、図8に示したワイヤボンディング工程の直後にリード構体101をフレーム100Aから個片に分離する前にフランジ102にキャップ120Bを接着することが可能になり、第2の実施形態の場合と同様に個片状態での製造工程を無くすことができ、製造の自動化を図る上で有効である。
【0047】
以上各実施形態について説明したが、本発明におけるリードフレームは、組立工程の途中でフランジ或いはアイランドとリードを90度曲げ加工することが必要であるため、この曲げ加工によっても曲げた部分がフレームから裂断されることがないようにある程度の強度を有する材料で用いることが必要である。前記実施形態ではCuを用いたが、その他に42アロイ、アルミニウム、アルミニウム合金等の他の金属材料を用いることも可能である。また、前記リードフレームの形状、特にフレーム内に形成されるリード構体を構成するフランジ、アイランド、リードの形状は前記各実施形態に限られるものではなく、また寸法についても要求される光半導体装置に対応して任意の形状、寸法に構成できるものであることは言うまでもない。
【0048】
また、前記各実施形態では上面に開口部を設けたキャップを用いた例を示しているが、当該開口部に集光レンズを配設して内部を封止した構造とすることも可能である。また、特にキャップを被せることがない光半導体装置として構成することも可能である。さらに、前記アイランドに搭載する光半導体素子については前記各実施形態の構成に限定されるものではない。
【0049】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光半導体装置は、パッケージがいわゆるキャン型に分類される構成であるため、既存のキャン型の半導体レーザ装置を用いる光学機器へそのまま適用することが可能になる。また、フランジ及びアイランド一体に形成されているので光半導体素子で発生した熱をアイランドからフランジにまで伝達して高い放熱性を得ることができる。また、フランジとアイランドとが一体であることにより、フランジとアイランドにダイボンディングするレーザダイオードとの相対位置を高精度に管理し、光学機器の基準面に対してフランジの表面を当接した状態で当該半導体レーザ装置の実装を行うことで、光学機器の光源位置に対して半導体レーザ装置を高精度に位置設定することも可能になる。また、フランジの全面に絶縁性ベースが形成されるのでフランジの機械的な強度が確保される。さらに、アイランドとリードは平行であるので、既存のワイヤボンディング装置をそのまま利用することが可能である。
【0050】
また、本発明の光半導体装置の製造方法では、ダイボンディング工程、曲げ加工工程、絶縁性ベースの形成工程、切断工程、ワイヤボンディング工程、及びリード構体を個片に切断分離する工程をリードフレーム状態でのバッチ処理で行うことができる。これにより、製造の自動組立が可能になり、生産性の高い、かつ高品質な半導体レーザ装置の組立が実現可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明にかかる半導体レーザ装置の第1の実施形態の一部を破断した斜視図である。
【図2】第1の実施形態で用いられるリードフレームの2つのフレームを示す図である。
【図3】第1の実施形態の製造装置のブロック構成図である。
【図4】第1の実施形態の製造方法の工程1の平面図と側面図である。
【図5】第1の実施形態の製造方法の工程2の平面図と側面図である。
【図6】第1の実施形態の製造方法の工程3の平面図と側面図である。
【図7】第1の実施形態の製造方法の工程4の平面図と側面図である。
【図8】第1の実施形態の製造方法の工程5の平面図と側面図である。
【図9】第1の実施形態の製造方法の工程6の平面図と側面図である。
【図10】第1の実施形態の製造方法の工程7の平面図と側面図である。
【図11】本発明の第2の実施形態を工程順に示す図である。
【図12】本発明の第2の実施形態の製造装置を示すブロック構成図である。
【図13】本発明の第3の実施形態を工程順に示す図である。
【図14】本発明の第4の実施形態を工程順に示す図である。
【図15】本発明の第5の実施形態を工程順に示す図である。
【図16】本発明の第6の実施形態を工程順に示す図である。
【図17】本発明の第7の実施形態の工程前半の平面図である。
【図18】本発明の第7の実施形態の工程後半の平面図と正面図である。
【図19】本発明の第8の実施形態を工程順に示す図である。
【図20】異なるキャップを接着した第1の実施形態の変形例の斜視図である。
【図21】従来の半導体レーザ装置の一例の斜視図である。
【図22】従来の異なる半導体レーザ装置の斜視図である。
【図23】従来の更に異なる半導体レーザ装置の斜視図である。
【符号の説明】
100,100−1〜100−3 リードフレーム
100A フレーム
101 リード構体
102 フランジ
103 アイランド
104 ,105a〜105f リード
106,107,108 連結片
110 樹脂ベース
111 金属細線
120 キャップ
121 開口窓
PD フォトダイオード
LD1,LD2 レーザダイオード

Claims (19)

  1. 平板状のフランジと、光半導体素子を搭載したアイランドと、前記光半導体素子に電気接続されるリードとが同一導電材料で形成され、前記アイランドとリードは前記フランジに対して垂直な同一平面上に延在され、前記フランジの前記アイランドが存在する側と反対側の全面にわたって絶縁性ベースが設けられていることを特徴とする光半導体装置。
  2. 前記絶縁性ベースは前記フランジの外形形状とほぼ同じ形状であることを特徴とする請求項1に記載の光半導体装置。
  3. 前記リードは前記絶縁性ベースを貫通した状態に支持され、前記アイランド側のインナー部において前記光半導体素子にワイヤボンディングされていることを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
  4. 前記フランジは一側辺を切り欠いた円形の外形状をしていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の光半導体装置。
  5. 前記フランジは両側辺を切り欠いた円形の外形状をしていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれかに記載の光半導体装置。
  6. 前記フランジは前記絶縁性ベースの表面に露出していることを特徴とする請求項1ないし5のいずれかに記載の光半導体装置。
  7. 少なくとも前記フランジ上に前記光半導体素子を覆うように被せられ、かつ前記光半導体装置の光軸上に開口窓を有するキャップが接着されていることを特徴とする請求項1ないし6のいずれかに記載の光半導体装置。
  8. 前記キャップは金属あるいは樹脂からなる円筒容器状に形成されていることを特徴とする請求項7に記載の光半導体装置。
  9. 前記キャップは金属あるいは樹脂からなる半円筒容器状に形成されていることを特徴とする請求項7に記載の光半導体装置。
  10. 前記キャップの周囲には前記フランジが露出状態に延在されていることを特徴とする請求項7ないし9のいずれかに記載の光半導体装置。
  11. 前記光半導体素子はレーザダイオード、発光ダイオード、フォトダイオードのいずれか又はこれらの組み合わせであることを特徴とする請求項1ないし10のいずれかに記載の光半導体装置。
  12. フランジとアイランド及びリードが一体化されたリードフレームを用意し、前記アイランドに光半導体素子をダイボンディングする工程と、前記アイランドとリードが前記フランジに対して垂直な同一平面上に延在されるように曲げ加工する工程と、前記フランジの前記アイランドが存在する側と反対側の全面に絶縁性ベースを形成する工程と、前記リードとフランジとを前記リードフレームから切断分離する工程と、前記光半導体素子と前記リードとをワイヤボンディングする工程とを含むことを特徴とする光半導体装置の製造方法。
  13. 前記フランジに樹脂モールド法により樹脂製の絶縁性ベースを形成することを特徴とする請求項12に記載の光半導体装置の製造方法。
  14. 前記アイランドに光半導体素子をダイボンディングした後に前記曲げ加工する工程を行うことを特徴とする請求項12又は13に記載の光半導体装置の製造方法。
  15. 前記曲げ加工する工程の後に前記アイランドに光半導体素子をダイボンディングすることを特徴とする請求項12又は13に記載の光半導体装置の製造方法。
  16. 前記フランジ上に前記アイランド、リード等を覆うキャップを接着する工程を含むことを特徴とする請求項12ないし15のいずれかに記載の光半導体装置の製造方法。
  17. 前記フランジを前記フレームの面に対して垂直な面方向に曲げ加工することを特徴とする請求項12ないし16のいずれかに記載の光半導体装置の製造方法。
  18. 前記アイランド及びリードを前記フレームの面に対して垂直な面方向に曲げ加工することを特徴とする請求項12ないし17のいずれかに記載の光半導体装置の製造方法。
  19. 前記リードフレームの一部を切り欠いた開口を設け、当該開口に対して垂直な方向に曲げ形成された前記フランジに対し、前記リードフレームの平面方向に沿った当該開口側からキャップを被せて接着を行うことを特徴とする請求項17に記載の光半導体装置の製造方法。
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