JP4795728B2 - 光半導体素子用ステム及び光半導体装置 - Google Patents

光半導体素子用ステム及び光半導体装置 Download PDF

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Description

本発明は、光半導体素子用ステム及び光半導体装置に係り、さらに詳しくは、光通信装置や光ディスク装置などに適用される半導体レーザ素子などが実装される光半導体素子用ステム及びそれを使用した光半導体装置に関する。
従来、光半導体装置として、金属製のステムに半導体レーザ素子とその出力をモニタする受光素子が実装されたものがある。図1は従来の光半導体素子用ステムに光半導体素子が実装された光半導体装置の一例を示す斜視図である。図1に示すように、従来の光半導体素子用ステム100は、円形状のアイレット100aとその上に配置された放熱部100bとにより基本構成されている。
アイレット100aの周縁部には光透過窓110が天井壁に設けられた金属キャップ108が抵抗溶接されていて、この光透過窓110はガラス板で覆われている。そして、放熱部100bの側面には半導体レーザ素子104が実装されている。また、アイレット100a上の放熱部100bの近傍には底面に傾斜をもったへこみ部105が設けられており、その底部に受光素子106が傾斜した状態で実装されている。
このようにして金属キャップ108内に半導体レーザ素子104及び受光素子106が気密封止された状態で収容されて、それらの素子の信頼性が確保される。
また、アイレット100aには、その厚み方向に貫通する2つの絶縁体(ガラス)112a,112bが設けられている。その絶縁体112a,112bの中心部には半導体レーザ素子用リード114a及び受光素子用リード114bがそれぞれ挿設されており、これらのリード114a,114bはステム100に対して電気的に絶縁された状態になっている。また、共通(グランド)リード114cがアイレット100aに電気的に接続された状態で設けられている。
半導体レーザ素子104はワイヤ116aを介して半導体レーザ素子用リード114aと電気的に接続され、また受光素子106はワイヤ116bを介して受光素子用リード114bと電気的に接続されている。
従来の光半導体素子用ステムに光半導体素子が実装された光半導体装置は、このような構成になっていて、半導体レーザ素子104の光出射面104aから放出された光が光透過窓110を透過して外部に放出される。また、半導体レーザ素子104の光出射面104aと反対面104bから放出されたモニタ光を受光素子106が受光し、これに基づいて半導体レーザ素子104のレーザ出力が制御される。
ところで、上記したような放熱部100bが立設されたステム100は、鉄からなる一体構造で形成されることが多い。鉄は熱伝導性が十分とはいえないので、半導体レーザ素子104が実装される際に十分な放熱特性が得られない。このため、半導体レーザ素子104の温度変化によって、半導体レーザ素子104から放出される光の出力や波長が変動するなどの不具合が発生しやすい。
また、近年では、光半導体素子の耐酸化性などの信頼性が向上し、気密封止する必要がなくなりつつあることから、金属キャップ108の光透過窓110にガラスを設けないものもある。
以上のような光半導体素子を気密封止する必要がないという観点から、前述した従来技術の図1のステムにおいて、ステム全体を銅などの熱伝導性の高い金属から構成し、さらに金属キャップを省略した構造の同一金属一体型のキャップレスステムが開発されている(特許文献1及び2)。
また、特許文献3には、熱膨張係数差による変形を防止するため、リードフレームの幅広部に半導体素子を固定し、リードフレームの幅広部の両側面側において対称になるようにリードフレームの中央部に円筒形状の樹脂基体部をモールド成型で形成することが記載されている。
特開2004−6659号公報 特開2004−349320号公報 特開2002−368323号公報
しかしながら、特許文献1及び2のステムでは、金属板に対して複雑なプレス加工を行ってアイレット上に放熱部が立設するステムを形成し、さらにアイレットに設けられた開口部にリードをガラス封止した状態で組み立てる必要があり、製造工程が煩雑となってコスト高となってしまう。
また、従来技術のステムでは、ステム上に立設する放熱部に位置合わせされて半導体レーザ素子が実装され、金属キャップを設ける場合は、金属キャップは半導体レーザ素子に対してある程度位置ずれして配置される。このため、図2及び図3に示すように、光モジュール(DVD装置などの光ピックアップなど)を構成する際に、筒状のアルミケース120の開口部122の中央部に半導体レーザ素子104を位置合わした状態でステム100を装着するには、金属キャップ108ではなくステム100の外周部をアルミケース120のガイド部124に装着する必要がある。このため、半導体レーザ素子104から放出される熱は放熱部100bからアイレット100aの外周部を経由してアルミケース120側に熱伝導するので、銅一体型のステムを採用しても必ずしも十分な放熱性が得られない場合が多い。
本発明は以上の課題を鑑みて創作されたものであり、十分な放熱性が得られると共に、低コストで製造できる光半導体素子用ステム及び光半導体装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明は光半導体素子用ステムに係り、基体部を構成する絶縁性アイレットと、前記絶縁性アイレットの上に立設され、平坦側面とその両端側の円弧状側面とから形成される外側側面と、該外側側面と反対側の、光半導体素子を実装するための実装側面とを備えた金属立体から構成される放熱部と、前記絶縁性アイレットの下側に延在して設けられたリードとを有し、前記放熱部の前記円弧状側面に開口部の側面が接触して前記絶縁性アイレットの上に搭載される金属ケースを備えることを特徴とする。
本発明の光半導体素子用ステムでは、絶縁性アイレットの上に放熱部が立設され、絶縁性アイレットの下側にリードが延在して設けられている。放熱部は外側側面とその反対側の光半導体素子が実装される実装側面とを備えた金属立体からなり、外側側面は円弧状側面を有している。
本発明の光半導体素子用ステムでは、光モジュールに組み込まれる際に、金属ケースの円形の開口部に放熱部の外側側面の円弧状側面が接触した状態で挿入されて実装される。このため、光モジュールに組み込まれる際に放熱部の実装側面の背面側に接触する金属ケースがヒートシンクの役割を果たすので、ステム自体の放熱性を考慮する必要がなく、十分な放熱性を確保することができる。しかも、放熱部からその下側のアイレットの外周を迂回して金属ケースに放熱する従来技術(図2及び図3)と違って、熱抵抗の最短距離で放熱が可能になり、従来技術よりも格段に放熱性を向上させることができる。
また、本発明の光半導体素子用ステムは、所要の開口部が設けられた絶縁性アイレット(プラスチック)の該開口部に、簡易なプレス加工で得られる放熱部、及びリードをはめ込んで固定することによって容易に製造することができ、従来技術よりも格段に低コスト化を図ることができる。
なお、特許文献3には、リードフレームの一部に樹脂をモールドしてステムを製造することが記載されているが、放熱性に関しては何ら考慮されておらず、放熱部の実装側面の背面に円弧状側面を有し、それを光ピックアップの金属ケースの開口部の側面に接触させて放熱する本発明の構成を示唆するものではない。
以上説明したように、本発明の光半導体素子用ステムは、十分な放熱性が得られると共に、低コストで容易に製造することができる。
以下、本発明の実施の形態について、添付の図面を参照して説明する。
(第1の実施の形態)
図4及び図5は本発明の第1実施形態の光半導体素子用ステムを示す斜視図である。図4に示すように、本実施形態の光半導体素子用ステム1は、基体部を構成する絶縁性アイレット10とその上側に立設する放熱部20と絶縁性アイレット10に設けられたリード30とにより基本構成されている。絶縁性アイレット10の材料としては、プラスチックなどが使用される。また、放熱部20の材料としては、銅(Cu)、銅(Cu)合金、又は鉄(Fe)などが使用され、高い放熱性を必要とする場合は熱伝導性の高いCuが好適に使用される。また、リード20の材料としては、鉄(Fe)、銅(Cu)、又はコバール(鉄(Fe)、ニッケル(Ni)及びコバルト(Co)からなる合金)などが使用される。
図4を下側からみた図5を含めて参照すると、絶縁性アイレット10には上面から下面まで貫通する第1開口部10a、第2開口部10b及び第3開口部10cが形成されている。そして、絶縁性アイレット10の第1開口部10aには放熱部20の下部が嵌合されて固定されている。また、絶縁性アイレット10の第2開口部10b及び第3開口部10cには第1リード30a及び第2リード30bがそれぞれ挿入されて固定されている。第1、第2リード30a,30bは、その上部が絶縁性アイレット10の上面から突出すると共に、絶縁性アイレット10の下側に延在して設けられている。さらに、絶縁性アイレット10の裏側の第1開口部10aに露出する放熱部20の面に第3リード30cが電気的に接続された状態で固定されている。
また、図5に示すように、絶縁性アイレット10には位置決め用の一対の三角形状の切り欠き部10xと、方向表示用の四角形状の切り欠き部10yとが設けられている。
さらに図4を上側からみた図6(平面図)を加えて参照すると、放熱部20は、外側側面Aとその反対側の光半導体素子が実装される実装側面Bとを有する金属立体からなり、放熱部20の両端部からそれぞれ突出する防御部20aを備えている。また、放熱部20は、外側側面Aの反対側に突出する実装部20bを備えており、実装部20bの露出する側面が実装側面Bとなっている。実装部20bはその上面が放熱部20の他の部分の上面よりも下がった位置に配置されている。
放熱部20の外側側面Aは、平坦側面A1とその両端側の円弧状側面A2とから構成され、平坦側面A1は円弧状側面A2を介して2つの防御部20aの外面にそれぞれ繋がっている。なお、防御部20aを省略した形態としてもよい。
放熱部20は、その外側側面Aの2つの円弧状側面A2を含んで構成される円(図6の破線で描かれた円)の中心部に半導体レーザ5が配置されるように設計されており、かつ半導体レーザ素子5が絶縁性アイレット10の中心部に配置されるように、絶縁性アイレット10に取り付けられている。
後に説明するように、図6の破線で描かれた円は、光モジュールの金属ケースの円形の開口部に対応し、放熱部20の2つの円弧状側面A2が金属ケースの開口部の側面に接触して実装される。放熱部20の外側側面Aの中央部を平坦側面A1とすることにより、実装前に横方向にして配置する際の安定性を確保することができる。
本実施形態の光半導体素子用ステム1を製造するには、まず、前述した第1〜第3開口部10a〜10cと切り欠き部10x、10yが設けられたプラスチックなどの絶縁性アイレット10を用意する。さらに、金属柱をプレス加工することにより前述したような構造の放熱部20を得る。次いで、絶縁性アイレット10の第1開口部10aに放熱部20の下部をはめ込んで固定する(圧入固定)。続いて、絶縁性アイレット10の裏側の第1開口部10aに露出する放熱部20の面に第3リード30cを溶接などで取り付ける。さらに、絶縁性アイレット10の第2、第3開口部10b、10cに第1、第2リード30a、30bをそれぞれはめ込んで貫通させた状態で固定する(圧入固定)。
なお、放熱部20、第1及び第2リード30a、30bを接着剤で絶縁性アイレット10の第1〜第3開口部10a〜10cにそれぞれ固定してもよい。また、放熱部20と第3リード30cが一体成形されたものを絶縁性アイレット10の第1開口部10aを貫通させてはめ込んで固定してもよい。
以上のように、本実施形態の光半導体素子用ステム1では、アイレット上に放熱部が立設された構造体を、放熱部20のみをプレス加工で形成し、放熱部20を絶縁性アイレット10の第1開口部10aにはめ込むことで容易に形成することができる。従って、従来技術と違ってアイレット上に放熱部が立設された一体型の構造体を複雑なプレス加工で製造する必要がなく、プレス加工の工程を簡易にすることができる。さらに、絶縁性アイレット10の第1〜第3開口部10a〜10cに放熱部20やリード30a、30bを圧入固定することで組み立てが概ね完了するので、従来技術のようなリードをアイレットの開口部にガラス封止して固定するなどの煩雑な製造工程が不要となる。このように、本実施形態の光半導体用ステム1は、従来技術よりも極めて低コストで製造することができる。
次に,本実施形態の光半導体用ステム1に光半導体素子が実装された光半導体装置について説明する。図7に示すように、本実施形態の光半導体装置2では、図4の光半導体素子用ステム1の放熱部20の実装側面Bに金/すず系はんだなどのろう材(不図示)を介してサブマウント12が固着され、その上にろう材(不図示)を介して光出射面5aが上側になった状態で半導体レーザ素子5が固着される。サブマウント12は、高い放熱性を有し、かつ周辺材料の熱膨張係数の差による応力の発生を抑制できる材料からなり、例えば、窒化アルミニウム(AlN)やシリコン(Si)などが用いられる。
さらに、半導体レーザ素子5は、半導体レーザ素子用の第1リード30aにワイヤ14aを介して電気的に接続され、またグランド用の第2リード30bにワイヤ14bを介して電気的に接続されている。これらの第1、第2リード30a、30bの間に半導体レーザ素子5の駆動に必要な電圧が印加されると、半導体レーザ素子5の光出射面5aから上側にレーザ光が出射される。
なお、第1実施形態では、放熱部20に接続された第3リード30cは電気的に使用されないフローティングリードとなっている形態が例示されており、リード30の数は光半導体素子の種類や個数、又は光モジュールに実装する際の仕様に合わせて適宜調整すればよい。また、必ずしもサブマウント12を設ける必要はなく、半導体レーザ素子5を放熱部20の実装側面Bに直接実装してもよい。また、第2リード30bを使用する代わりに、半導体レーザ素子5をワイヤで放熱部20の実装側面Bに接続することによって第3リード30cをグランド用リードとしてもよい。
本実施形態では、半導体レーザ素子5として、気密封止して実装する必要がない仕様で設計されたものが使用される。つまり、大気に曝された状態で動作させても何ら不具合が発生しないような仕様で製造されたものである。このため、本実施形態の光半導体素子用ステム1には半導体レーザ素子5を気密封止するためのガラスキャップは設けられず、半導体レーザ素子5が大気に曝された状態で実装が完了する。
放熱部20の両端側に設けられた各防御部20aは、光半導体素子用ステム1自体のハンドリング性を容易にすると共に、光半導体素子用ステム1に半導体レーザ素子5が実装された後のハンドリング時に半導体レーザ素子5やワイヤ14a,14bに損傷を与えないようにするために設けられる。また、2つの防御部20aの間は開放されているので、半導体レーザ素子5を搭載する際、あるいは半導体レーザ素子5と第1、第2リード30a,30bとをワイヤで14a,14bで結線する際に、実装側面Bの前方向から搭載作業や結線作業を容易に行えるようになっている。
次に、本実施形態の光半導体装置2を光モジュール(DVD装置の光ピックアップなど)に実装する方法を説明する。図8には、図7の光半導体素子装置2が光モジュールを構成するための筒状の金属ケース7の開口部7aに挿入されて実装された様子が描かれている。なお、金属ケースは金属立体の中央部に円形の開口部が設けられた構成であるが、図8では金属ケース7は断面斜視図で描かれている。また、図9は光半導体素子装置2が金属ケース7の開口部7aに挿入された様子を側方からみた模式側面図、図10は同じく上側からみた平面図である。
図8〜図10に示すように、本実施形態の光半導体装置2は、放熱部20の外側側面Aの両側の2つの円弧状側面A2が金属ケース7の開口部7aの円周部の一部に対応して相互に接触するように金属ケース7に挿入されて実装される。このとき、金属ケース7の円形の開口部7aに放熱部20を挿入した状態で、その開口部7a中で光半導体装置2を回転させることにより、半導体レーザ素子5の光出射面5aの位置決めが行われる。このため、光半導体装置2の放熱部20の外側側面Aは、金属ケース7の開口部7a内で回転できるように円弧状の側面を所要箇所に備えた形状であればよい。
またこのとき、金属ケース7の開口部7aの下側外周部には、光半導体装置2の絶縁性アイレット10の周縁部に嵌合するガイド部7bが設けられており、金属ケース7のガイド部7bに光半導体装置2のアイレット10の周縁部を突き当てることによって、半導体レーザ素子5の光出射面5aの高さ方向の位置決めが行われる。
光モジュールの金属ケース7は、銅やアルミニウムなどの熱伝導性の高い材料よりなるため、放熱部20の2つの円弧状側面A2が密着する金属ケース7がヒートシンクの役割を果たして十分な放熱性が得られる。このように、本実施形態の光半導体装置2では、絶縁性アイレット10を使用して光半導体装置2自体の金属部分の体積が減少するとしても実質的に放熱性が低下することはなく、光半導体装置2自体の放熱性を考慮する必要がなくなる。
しかも、従来技術(図2及び図3)では、半導体レーザ素子が実装された放熱部からその下側のアイレットの外周を迂回して金属ケースに放熱している。これに対して、本実施形態では、放熱部20の実装側面Bの背面から金属ケース7に直接放熱するので、熱抵抗の最短距離で放熱が可能になり、従来技術よりも格段に放熱性を向上させることができる。
さらなる高い放熱性を必要とする場合は、図11に示される第1変形例の光半導体装置2aのように、放熱部20の外側側面Aを半円柱状にして金属ケース7の開口部7aの側面と放熱部20の外側側面Aとが接触する面積を大きくするようにしてもよい。図11の光半導体装置2aにおいて、放熱部20の外側側面Aの形状以外は図7と同一であるので、同一要素には同一符号を付してその説明を省略する。
また、図12に示す第2の変形例の光半導体装置2bのように、図4の光半導体用ステム1において、放熱部20の外側側面Aと反対側に突出する実装部20bを省略して平坦な実装側面Bにサブマウント12を介して半導体レーザ素子5を実装するようにしてもよい。
(第2の実施の形態)
図13は本発明の第2実施形態の光半導体装置を示す斜視図である。第2実施形態は、本実施形態の光半導体素子用ステムに半導体レーザ素子の他にその出力をモニタする受光素子が実装された形態である。第2実施形態では、第1実施形態と同一要素には同一符号を付してその詳しい説明を省略する。
図13に示すように、第2実施形態の光半導体装置2cでは、放熱部20の実装部20bの実装側面Bに設けられたサブマウント14の上に半導体レーザ素子5が実装され、さらにその下のサブマウント14の上に半導体レーザ素子5の光出力をモニタするための受光素子6が実装されている。第2実施形態では、第1リード30aが半導体レーザ素子用のリードとなり、第2リード30bが受光素子用のリードとなり、放熱部20に接続された第3リード30cが共通グランドリードとなる。
そして、半導体レーザ素子5は、ワイヤ14aを介して第1リード30aに電気接続されると共に、ワイヤ14bで放熱部20の実装側面Bに電気接続されることで放熱部20を介して共通グランドリードである第3リード30cに電気接続される。また、受光素子6は、ワイヤ14cを介して受光素子用の第2リード30bに電気的に接続されると共に、ワイヤ14dで放熱部20の実装側面Bに電気接続されることで放熱部20を介して共通グランドリードである第3リード30cに電気接続される。
第2実施形態の光半導体装置2cはこのような構成になっており、半導体レーザ素子5の光出射面5aから上側にレーザ光が出射される。また、半導体レーザ素子5の光出射面5aと反対面5bから放出されるモニタ光を受光素子6が受光し、これに基づいて半導体レーザ素子5のレーザ出力が制御される。
第2実施形態においても、第1実施形態の変形例のステムを適用してもよい。第2実施形態は第1実施形態と同様な効果を奏する。
図1は従来技術の光半導体素子用ステムに光半導体素子が実装されて構成される光半導体装置の一例を示す斜視図である。 図2は従来技術の光半導体装置が光ピックアップを構成する筒状のアルミケースに実装された様子を示す斜視図である。 図3は図2の構造体を裏側からみた斜視図である。 図4は本発明の第1実施形態の光半導体素子用ステムを示す斜視図である。 図5は図4の光半導体用ステムを下側からみた斜視図である。 図6は図4の光半導体素子用ステムを上側からみた平面図である。 図7は本発明の第1実施形態の光半導体素子用ステムに半導体レーザ素子が実装されて構成される光半導体装置を示す斜視図である。 図8は図7の光半導体装置が光モジュールを構成する金属ケースに挿入された様子を示す斜視図である。 図9は図7の光半導体装置が光モジュールを構成する金属ケースに挿入された様子を側方からみた模式的な側面図である。 図10は図7の光半導体装置が光モジュールを構成する金属ケースに挿入された様子を上側からみた平面図である。 図11は本発明の第1実施形態の第1変形例の光半導体装置を示す断面図である。 図12は本発明の第1実施形態の第2変形例の光半導体装置を示す断面図である。 図13は本発明の第2実施形態の光半導体装置を示す断面図である。
符号の説明
1…光半導体素子用ステム、2,2a,2b,2c…光半導体装置、5…半導体レーザ素子、5a…光出射面、6…受光素子、7…金属ケース、7a…開口部、7b…ガイド部、10…絶縁性アイレット、10a…第1開口部、10b…第2開口部、10c…第3開口部、10x、10y…切り欠き部、12…サブマウント、14a〜14d…ワイヤ、20…放熱部、20a…防御部、20b…実装部、30…リード、30a…第1リード、30b…第2リード、30c…第3リード、A…外側側面、A1…平坦側面、A2…円弧状側面、B…実装側面。

Claims (13)

  1. 基体部を構成する絶縁性アイレットと、
    前記絶縁性アイレットの上に立設され、平坦側面とその両端側の円弧状側面とから形成される外側側面と、該外側側面と反対側の、光半導体素子を実装するための実装側面とを備えた金属立体から構成される放熱部と
    前記絶縁性アイレットの下側に延在して設けられたリードとを有し、
    前記放熱部の前記円弧状側面に開口部の側面が接触して前記絶縁性アイレットの上に搭載される金属ケースを備えることを特徴とする光半導体素子用ステム。
  2. 基体部を構成する絶縁性アイレットと、
    前記絶縁性アイレットの上に立設され、半円柱状の外側側面と、該外側側面と反対側の、光半導体素子を実装するための実装側面とを備えた金属立体から構成される放熱部と
    前記絶縁性アイレットの下側に延在して設けられたリードとを有し、
    前記放熱部の前記半円柱状の外側側面に開口部の側面が接触して前記絶縁性アイレットの上に搭載される金属ケースを備えることを特徴とする光半導体素子用ステム。
  3. 前記放熱部には、前記実装側面の幅方向の両端部に、該実装側面から突出する防御部がそれぞれ設けられていることを特徴とする請求項1又は2に記載の光半導体素子用ステム。
  4. 前記金属ケースは、前記絶縁性アイレットの周縁部に嵌合するガイド部が設けられており、前記金属ケースの前記ガイド部を前記絶縁性アイレットの前記周縁部に突き当てて、前記絶縁性アイレットを取り囲むように搭載されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の光半導体素子用ステム。
  5. 前記絶縁性アイレットには前記放熱部及び前記リードに対応部する開口部がそれぞれ設けられており、前記放熱部はその下部が前記開口部にはめ込まれて固定されており、前記リードは前記開口部を貫通してはめ込まれて固定されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の光半導体素子用ステム。
  6. 前記放熱部の円弧状側面を含んで構成される円の中心部に、前記光半導体素子が実装されるように前記放熱部が構成されていることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか一項に記載の光半導体素子用ステム。
  7. 前記絶縁性アイレットの裏側の前記開口部に露出する前記放熱部の面にリードがさらに設けられていることを特徴とする請求項5に記載の光半導体素子用ステム。
  8. 前記放熱部の前記実装側面に実装される前記光半導体素子は、気密封止して実装する必要がない半導体レーザ素子であり、前記光半導体素子用ステムには前記半導体レーザ素子を気密封止するキャップを設けないことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の光半導体素子用ステム。
  9. 前記絶縁性アイレットはプラスチックからなり、前記放熱部は銅からなることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか一項に記載の光半導体素子用ステム。
  10. 請求項1乃至9のいずれか一項に記載の光半導体素子用ステムと、
    光出射面が上側になって前記放熱部の実装側面に実装され、前記リードに電気的に接続された半導体レーザ素子とを有することを特徴とする光半導体装置。
  11. 前記リードは半導体レーザ素子用リードとグランドリードとを含み、前記半導体レーザ素子は、前記半導体レーザ素子用リード及び前記グランドリードにワイヤを介して電気的に接続されていることを特徴とする請求項10に記載の光半導体装置。
  12. 前記リードは、前記半導体レーザ素子用リード、受光素子用リード及び前記放熱部に電気接続されて固定された共通グランドリードより構成され、
    前記放熱部の実装側面の半導体レーザ素子の下側に実装されて、前記半導体レーザ素子の光出力をモニタする受光素子をさらに有し、
    前記半導体レーザ素子は、前記半導体レーザ素子用リード及び前記放熱部にワイヤで電気的に接続され、前記受光素子は、前記受光素子用リード及び前記放熱部にワイヤで電気的に接続されていることを特徴とする請求項10に記載の光半導体装置。
  13. 前記素子は、気密封止して実装する必要がないものであり、前記素子はキャップによって気密封止されていないことを特徴とする請求項10乃至12のいずれか一項に記載の光半導体装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2008047801A (ja) * 2006-08-21 2008-02-28 Pioneer Electronic Corp レーザ固定装置
JP2009016794A (ja) * 2007-06-05 2009-01-22 Mitsubishi Electric Corp キャップレスパッケージ及びその製造方法
CN104067463B (zh) * 2012-03-02 2017-03-08 松下知识产权经营株式会社 半导体发光装置
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0424978A (ja) * 1990-05-15 1992-01-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 光半導体素子
JP3869575B2 (ja) * 1999-03-02 2007-01-17 ローム株式会社 半導体レーザ
JP3915406B2 (ja) * 2000-12-27 2007-05-16 松下電器産業株式会社 半導体レーザステム
JP3607220B2 (ja) * 2001-06-06 2005-01-05 松下電器産業株式会社 半導体レーザ装置
JP2004006659A (ja) * 2002-03-25 2004-01-08 Sanyo Electric Co Ltd 半導体レーザ装置
JP2004349320A (ja) * 2003-05-20 2004-12-09 Shinko Electric Ind Co Ltd 光半導体素子用ステム及び光半導体装置
JP2005235319A (ja) * 2004-02-20 2005-09-02 Pioneer Electronic Corp 光ピックアップ装置
JP2005285234A (ja) * 2004-03-30 2005-10-13 Pioneer Electronic Corp 半導体レーザ回動調整装置および光ピックアップ装置
JP2006303384A (ja) * 2005-04-25 2006-11-02 Shinko Electric Ind Co Ltd 光半導体素子用ステム及び光半導体装置

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