JPH07270973A - グロー放電処理ポリエステル基板並びにそれを含むフィルムベース及び写真要素 - Google Patents

グロー放電処理ポリエステル基板並びにそれを含むフィルムベース及び写真要素

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JPH07270973A
JPH07270973A JP7034020A JP3402095A JPH07270973A JP H07270973 A JPH07270973 A JP H07270973A JP 7034020 A JP7034020 A JP 7034020A JP 3402095 A JP3402095 A JP 3402095A JP H07270973 A JPH07270973 A JP H07270973A
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マシュー グレース ジェレミー
Janglin Chen
チェン ジャングリン
Louis J Gerenser
ジョセフ ジェレンサー ルイス
David A Glocker
アップラー グロッカー デビッド
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Eastman Kodak Co
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、感光性塗布材料の接着性を増進す
るための適切な表面特性を有するポリエステルフィルム
ベースを提供することを目的とする。 【構成】 本発明のポリエステルフィルムベースは、ほ
ぼ５nm厚さの表面を有し、そのフィルム表面が約７．０
原子％〜約１５原子％の窒素を含み、前記窒素が約１：
１：２の比率でイミン、第２アミン及び第１アミンの形
で存在するものである。本発明のフィルムベースはま
た、その表面がヒドロキシル基、エーテル基、エポキシ
基、カルボニル基及びカルボキシル基から選ばれる少く
とも一員の形の酸素を含み、その酸素が原表面含有量よ
り約４〜１０原子％高いフィルムベースをも含む。この
ポリエステルフィルムベースは、ポリエチレンテレフタ
レート又はポリエチレンナフタレートのいずれかである
ことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、写真材料の製造に関す
る。さらに詳細には、本発明は、感光性塗布材料の接着
性を増進するために適切な表面特性を有するポリエステ
ル材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】大気圧で気体状放電を生じさせるコロナ
放電処理（ＣＤＴ）は、写真層の支持体ベース材料への
接着性又は相互の接着性を増進するために広く用いられ
ている。コロナ放電処理の使用例は、米国特許第４，３
９４，４４２号；第４，２２９，５２３号；第４，３６
３，８７２号；第４，２９２，０３２号；第４，６６
３，２６３号；第４，００９，０３７号、第４，０８
７，５７４号；第４，０５５，６８５号；第５，００
４，６６９号；第３，８７４，８７７号；第３，８６
０，４２７号；第３，６３０，７４２号；第３，６０
７，３４５号；第３，５３１，３１４号及び第３，４１
１，９０８号に見出される。しかしながら、コロナ放電
は比較的制御しにくい。これらのコロナ放電は周囲環境
で起ることが非常に多いので、相対湿度及び温度の変動
のために再現性のない結果をもたらすことがある。大気
圧でのコロナ放電処理の別の特徴は、払子コロナ（ｓｔ
ｒｅａｍｅｒ）、もしくは強力な局所化放電の存在であ
る。Ｘ線光電子分光分析法（ＸＰＳ）を用いることによ
り、われわれはＣＤＴ処理ポリマーの表面は処理の程度
で大きな空間上の差異があるとの知見を得た。この表面
の差異は、払子コロナの存在によるものと理論づけられ
ている。
【０００３】これらの課題を回避するために、減圧下で
起るグロー放電処理（ＧＤＴ）の使用が示唆されてい
る。ＧＤＴ放電は、ＣＤＴ放電よりはるかに多く拡散す
るのでこの処理は均一で再現性がある。このことのため
に、多くの用途にとって、ＧＤＴはＣＤＴと比べ、より
良好な処理となりうる。グロー放電は、広範囲の各種方
式において周知の接着性増進法である。例えば、米国特
許第３，２８８，６３８号は、金属の接着性増進のため
の不活性気体雰囲気中でのポリマーのＧＤＴ処理につい
て記載している。望ましい接着性が得られるのは、不活
性気体イオンと電子による表面への衝撃に寄因するもの
である。
【０００４】米国特許第３，８３７，８８６号は、二軸
延伸された粗面ポリスチレンへの、ゼラチン含有バイン
ダーの接着性を増進するためにＧＤＴを使用することに
ついて記載している。米国特許第３，８３７，８８６号
の発明者であるTatsuta 及びUenoは、先ず第一にポリス
チレン表面を粗面化することなしには、ＧＤＴは有効で
はないとの知見を得ている。彼らはまた、処理気体の選
択は重要ではないことも報告している。
【０００５】Dolezelek ら（米国特許第４，４５１，４
９７号）は、支持体へ直接写真乳剤を接着した場合の接
着性を増進するための、各種ポリエステル支持体の処理
について検討している。彼らは、その有効性を表面電荷
の減少に寄因するとし、処理に用いた気体に特に依存す
るものではないことを報告している。Ishigaki及びNaoi
（米国特許第４，９３３，２６７号）は、写真系の寸法
安定性の改良と関連づけてＧＤＴの使用を報告している
が、特定の処理気体を選んだ理由については述べていな
い。処理は残留空気中で行われることが暗に示されてい
る。それに続く特許（米国特許第４，９５４，４３０
号）においては、塩化ビニリデン含有コポリマーを塗布
する前にＧＤＴを使用することについて記載している
が、ここでも特定の処理気体を使用する利点については
何ら述べていない。
【０００６】Stroebel（ヨーロッパ特許出願第９２３０
３５５６．２号）は、大気圧で行われるＣＤＴは、処理
中に支持体温度を上昇させるならば、有効でありうるこ
とを教示している。しかし、周囲温度での窒素中ＧＤＴ
が有効であることを証明するものは全くない。したがっ
て、先行技術は、感光性塗布組成物の接着性を増進する
ためにポリエステル基板についてどんな表面状態が必要
であるかについては教示していない。
【０００７】最後に、米国特許出願第８８９，８２７号
（１９９２年６月１日出願）には、イオン選択性電極及
び製造方法（Ion Selective Electrode and Method of
Manufacture)が記載されている。この方法は、ポリマー
表面上に金属性銀を付着させるためにグロー放電を用い
る。この出願もまた、感光性塗布物のポリエステル基板
への接着性を増進するためにどんな表面状態が必要とさ
れるかについては教示していない。
【０００８】本発明は、写真層の接着性に有利な、支持
体の表面化学特性を明らかにするものである。ＧＤＴを
用いて適切な支持体を得るための処理条件を最適化す
る。最適化には、その中で処理を行う気体のタイプ、圧
力及びエネルギー密度が含まれる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、ほぼ５nm厚さ
の表面を有するポリエステル基板を含むフィルムベース
に向けられている。この表面は、約７原子％〜約１５原
子％の窒素を含み、この窒素は約１：１：２の比率でイ
ミン、第２アミン及び第１アミンの形で存在する。本発
明のフィルムベースは、ポリエチレンナフタレート又は
ポリエチレンテレフタレートのいずれかであることがで
きる。
【００１０】本発明はまた、ほぼ５nm厚さの表面を有す
るポリエステル基板から作成されるフィルムベースであ
って、前記表面が、ヒドロキシル基、エーテル基、エポ
キシ基、カルボニル基及びカルボキシル基から選ばれる
少くとも一員の形の酸素を含み、前記酸素が、原酸素含
有量（ＰＥＮについては２２％、ＰＥＴについては２
８．６％）より約４原子％〜約１０原子％高い量存在す
るフィルムベースをも包含する。前記ポリエステルはポ
リエチレンナフタレート又はポリエチレンテレフタレー
トのいずれかであることができる。
【００１１】本発明はまた、前記のフィルムベースであ
って、グロー放電処理により製造されるものも含む。
【００１２】
【実施態様】２種類のフィルムベース、すなわち、ポリ
エチレンナフタレート（ＰＥＮ）及びポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）について一連の統計学的に設定さ
れた実験を行った。これらの実験では、グロー放電処理
と関連する各種ファクターを制御しながら変動させ、そ
の結果得られる、乳剤層及び下塗り層の処理材料への接
着性を評価した。接着性測定は、接着テープを用いて乾
燥状態で、そして写真処理液及びラバーパット摩擦試験
機を用いて湿潤状態で行った。
【００１３】典型的な実験内容をＡ表に示す。この実験
では、アルゴン、酸素及び窒素の分圧を、ウエブスピー
ド及び放電電力と共に制御した。気体分圧は０〜５０ｍ
トールの範囲とし、ウエブスピードは５〜１０fpm まで
変動させ、そして陰極電力は１５〜１８０Ｗまで変動さ
せた。グロー放電陰極は、６０Hz、全波整流高電圧供給
を動力とした。ウエブ材料は５インチ（１２．７cm）幅
であり、ＧＤＴ工程に引き続いて写真乳剤層又は下塗り
層のいずれかを塗布した。
【００１４】
【表１】
【００１５】湿潤接着性試験又は乾燥接着性試験を実施
する前に、試料を９０°Ｆ（３２．２℃）、５０％相対
湿度で２４時間保持してコンディショニングを行った。
乾燥接着性テープ試験では、長さ７．５cm、幅２．５cm
のＳｃｏｔｃｈ（商標）＃６１０ Ｔｒａｎｓｐａｒｅ
ｎｔ Ｔａｐｅ細片を、ほぼ６．３cm2 であると測定さ
れた乳剤断面上全体にしっかりと押圧した。この乳剤に
は、レーザー刃を用いてほぼ２mmごとに網目状に軽くひ
っかき線をつけておいた。次にこのテープを急速に引っ
張り、剥がれた塗膜面積を記録し、破壊度を評価した。
実験において用いる破壊度を示す基準は以下のとおりで
ある： ０度 ： 塗膜は全く剥がれない。 １度 ： 僅少、約０．１cm2 の塗膜が剥がれる。 ３度 ： 中位、約１cm2 の塗膜が剥がれる。 ３〜６度： 接着性乏しい、１〜４cm2 の塗膜が剥がれ
る。 ７度 ： 激変、４〜６cm2 の塗膜が剥がれる。 ７＋度 ： 破滅的な剥離、テープの全体が剥がれる。 湿潤接着性試験は以下の工程を含む。乳剤塗布試料を３
５mm×１２．７cmの細片に裁断し、適当な現像溶液中に
３分１５秒１００°Ｆ（３７．８℃）で浸漬した。現像
液に浸漬後、試料に幅方向のひっかき線を付け、次いで
試料を現像液で覆った状態で装置中に載置した。この装
置には、末端に取り付けられた直径約３．５cmのラバー
パットを有するアームが備えられている。９００ｇ重量
をかけ、前記パットで１分間６０サイクルのスピードで
１００サイクル、ひっかき線に対して直角方向に機械的
にこすった。各試験について３回反復試験試料を用いて
試験を行った。剥離乳剤があれば、乳剤剥離量をグリッ
ドを用いて測定し、剥離％を決定した。
【００１６】破壊度のコードは以下のとおりである： ０ ： 塗膜は剥離しない；優れた湿潤接着性 １〜５ ：最少の塗膜剥離；極めて良好な湿潤接着性 ５〜２５：かなり良好な湿潤接着性 ２６〜７５ ：乏しい湿潤接着性 ７６〜１００：破滅的な剥離 接着性試験の結果をＢ表に示す。
【００１７】
【表２】
【００１８】Ａ表及びＢ表に示した結果について統計的
分析を行った。ＰＥＮ又はＰＥＴの処理について最も重
要なファクターを以下に検討する。分析によれば、公称
上純粋な窒素、酸素及びアルゴン中での処理は同様の結
果をもたらさないことを示した。特に、ＰＥＮについて
の窒素中での最良操作条件は、低出力及び高ウエブスピ
ードである。対照的に、ＰＥＮについての酸素中での最
良操作条件は、高出力及び低ウエブスピードである。加
えるに、アルゴン処理は、湿潤接着性についてははるか
に有効性が低い。放電気体、放電出力及びウエブスピー
ドの選択のすべてが接着性の試験結果に影響を与える。
これらの接着性試験結果を調べるために、Ｘ線光電子分
光分析法（ＸＰＳ）、高分解能電子エネルギー損失分光
分析法（ＨＲＥＥＬＳ）及び静的第二イオン質量分析法
（ＳＳＩＭＳ）をすべて用いて、処理されたＰＥＮ又は
ＰＥＴの表面特性を決定した。さらに、酸性レベル（pH
２．５〜３．５）又は塩基性レベル（pH１１〜１２）に
緩衝化した水溶液を用いて接触角を測定した。処理され
た基板についてのこれら溶液の静的湿潤角は従来の光学
的方法を用いて測定した。ＰＥＮを基板として用いた場合 例１ 本発明の特質を具体的に示すために、試料を作成し、以
下の４種類の処理条件下で比較した。ＧＤＴ Ａは、エ
ネルギー４．５Ｊ／cm2 及び圧力７０ｍトールで４０kH
z 供給電力を用いて行った窒素処理であった。ＧＤＴ
Ｂは、エネルギー０．３Ｊ／cm2 及び圧力５０ｍトール
でｄｃ供給電力（全波整流ＡＣ）を用いて行った酸素処
理であった。ＧＤＴ Ｃは、エネルギー０．９Ｊ／cm2
及び圧力７０ｍトールで４０kHz の供給電力を用いて行
った窒素処理であった。ＧＤＴＤは、エネルギー１．７
Ｊ／cm2 及び圧力５０ｍトールでｄｃ供給電力を用いて
行った酸素処理であった。これらの例においては、単位
面積当りのエネルギーは、ウエブ幅１cm当りの供給電力
の出力（ワット）をウエブスピード（cm／秒）で割った
ものとして定義する。
【００１９】第１表は、これらの処理に付した各種塗膜
についての湿潤試験及び乾燥試験の両者の結果を示し、
これらの結果を、処理を施さない場合及び従来の大気圧
ＣＤＴ処理の場合と比較したものである。これらの塗膜
は、支持体に直接塗布されたカラー写真乳剤、乳剤に先
立って塗布された従来のゲル下塗り（gel sub)層に塗布
されたカラー写真乳剤、又は乳剤に先立って塗布された
米国特許第４，６９５，５３２号及び第４，６８９，３
５９号に記載されているラテックスとゼラチンを組合せ
たもの（単一下塗り、（single sub））に塗布されたカ
ラー写真乳剤のいずれかであった。
【００２０】カラーネガティブ乳剤又は白黒乳剤は、通
常の方法で塗布し、チルセットし次いで乾燥した。ゲル
下塗り用塗布物は、ほぼ１００mg／ｍ2 の被覆量となる
ように塗布し次いで乾燥した。米国特許第４，６９５，
５３２号及び第４，６８９，３５９号に記載されている
ようなラテックス／ゼラチン下塗り用塗布物は、ほぼ３
５０mg／ｍ2 の被覆量となるように塗布した。後者の２
つの場合は、カラーネガティブ乳剤又は白黒ハロゲン化
銀乳剤を、前記の下塗り層上に塗布し、チルセットし次
いで乾燥した。
【００２１】
【表３】
【００２２】処理を施さない場合には、支持体をゲル下
塗り配合物又は単一下塗り配合物で塗布してもしなくて
も、破滅的な剥離があることがわかる。ＣＤＴ処理は、
ゲル下塗りの支持体への接着性を増進するのには依然と
して有効でないが、単一下塗り層の接着性は有意に改良
することがわかる。しかしながら、先に述べたＣＤＴの
相反する性質の故に、ＣＤＴ処理支持体上の単一下塗り
の湿潤接着性試験では２０％に達する剥離が生じる場合
がある。このレベルは許容しがたい程高いのでＣＤＴと
単一下塗りの組合せはＰＥＮについては信頼できない。
条件ＧＤＴ Ａを用いる処理は、後に施こした塗膜のす
べての乾燥接着性を改良するが、下塗りのない場合又は
ゲル下塗りの場合については湿潤接着性試験において許
容しがたい程の剥離が依然として生じた。しかしなが
ら、単一下塗り用配合物については、信頼しうる程の良
好な接着性を生じる点で極めて効果的であった。同様
に、ＧＤＴ Ｂは、下塗りを施さない場合には良好な湿
潤接着性を与えることはできないが、単一下塗りの接着
性においては有意に改良する結果となる。最後に、条件
ＧＤＴ Ｃ及びＧＤＴ Ｄの下では、下塗りなし、ゲル
下塗り及び単一下塗りの場合、良好な湿潤接着性及び乾
燥接着性を増進することができる。したがって、これら
の処理条件は極めて好ましい。これらの例は、ＰＥＮに
ついては、望ましい窒素処理が低エネルギーでおこり、
望ましい酸素処理は高エネルギーでおこることを実証し
ている。
【００２３】第２表は、４種類のＧＤＴ条件下で処理し
たＰＥＮ表面についてのＸＰＳ表面分析及び接触角測定
を示すものである。各場合に、ほぼ５nmの深さ内に存在
する窒素量及び酸素量を示す。窒素処理（ＧＤＴ Ａ及
びＧＤＴ Ｃ）は、ＰＥＮ中の固有のエステル基のエー
テル、カルボニル及びカルボキシル基への転位を誘発す
るが、カルボキシル基への転位が支配的である。転位量
をこれらの場合について示す。最後に、pH１１〜１２
（高）及びpH２．５〜３．５（低）の緩衝化溶液を用い
て接触角を測定した。これらの測定は、ポリマーの頂部
１nm表面に対し極めて感度が高く、そしてＸＰＳデータ
では明らかにされなかった差異を明らかにする。特に、
ＣＤＴ ＰＥＮとＧＤＴ ＰＥＮの頂部５nm中の酸素量
はＸＰＳ測定によれば同様であるが、接触角測定によれ
ば、これらの２種類の処理表面の上部１nmが非常に異る
ことを示している。角−分解（ａｎｇｌｅ−ｒｅｓｏｌ
ｕｅｄ）ＸＰＳ測定により、接触角の結果が確認され
た。角−分解ＸＰＳ測定は、ＧＤＴがＣＤＴとは異なる
酸素深度分布を生じさせることを明らかに示している。
上部５nm中での酸素深度分布は、ＣＤＴ ＰＥＮについ
ては比較的平坦であるが、ＧＤＴ ＰＥＮについては指
数関数的に低下する。
【００２４】ＣＤＴ及びＧＤＴはまた、接触角の測定に
用いられる液滴の形状から決定できる処理均一性におい
ても有意に異なる。すべての窒素ＧＤＴについては、液
滴は均一の円形状をなす。酸素ＧＤＴについては、液滴
は、接触角がpH１１〜１２で約１２度以下の場合、pH
２．５〜３．５で約３０度以下の場合のみ均一である。
ＣＤＴについては、液滴の形状は、すべての処理レベル
でpHの両者について不規則である。
【００２５】
【表４】
【００２６】ＰＥＴを基板として用いた場合 本発明の特質をさらに具体的に説明するために、酸素処
理及び窒素処理をＰＥＴベースに対して施こし、続いて
標準のゲル下塗り及び白黒乳剤を塗布した。すべての処
理でｄｃ（全波整流ａｃ）供給電力を用いた。ＧＤＴ
Ｅは、窒素中、エネルギー３Ｊ／cm2 及び圧力１００ｍ
トールで行った。ＧＤＴ Ｆは、窒素中、エネルギー
０．３５Ｊ／cm2 及び圧力３５ｍトールで行った。ＧＤ
Ｔ Ｇは、酸素中、エネルギー０．３５Ｊ／cm2 及び圧
力１００ｍトールで行った。ＧＤＴＨは、酸素中、エネ
ルギー３Ｊ／cm2 及び圧力３５ｍトールで行った。
【００２７】第３表は、これらの処理に付した各種塗膜
についての、湿潤試験及び乾燥試験の両者の結果を示
し、これらの結果を、処理を行わない場合及び従来の大
気圧ＣＤＴ処理の場合と比較したものである。
【００２８】
【表５】
【００２９】これらの結果から、ＰＥＮの場合と同様
に、処理を行わない場合は、いずれの下塗りについても
破滅的剥離が生じることがわかる。ＰＥＮの場合と同様
に、ＣＤＴは、ＰＥＴへの標準ゲル下塗りの接着性を改
良することはできないが、単一下塗りの接着性は有意に
改良する。対照的に、すべての条件ＧＤＴは、ＰＥＴへ
のゲル下塗りの湿潤接着性を改良し、条件ＧＤＴ Ｅ及
び条件ＧＤＴ Ｈもまた同様に乾燥接着性を劇的に改良
することができた。ＰＥＮについては低エネルギーでの
処理が好ましかったが、ＰＥＴについては、窒素中での
好ましい処理は高エネルギーでのものであることも判明
した。
【００３０】ＰＥＴの表面化学に対する処理エネルギー
の効果を調べるために、酸素中及び窒素中で三種類の異
なるエネルギーを用いて処理した材料についてＸＰＳ分
析を行った。すべての処理をｄｃ供給電力を用いて圧力
５０ｍトールで行った。圧力の効果は、二次的に重要で
あることが判明している。結果を第４表に示す。ＰＥＮ
の場合と同様に、窒素処理によりエステル基はエーテル
基、カルボニル基及びカルボキシル基に転位する結果と
なり、カルボキシル基が支配的である。しかしながら、
処理された表面構造は、ＰＥＮのものとは非常に異なっ
ている。
【００３１】
【表６】
【００３２】要約すれば、窒素ＧＤＴにより７〜１５原
子％の窒素がポリエステルフィルムの頂部５nm中に取り
込まれる。この取り込まれた窒素は、主に、約１：１：
２の比率でイミン、第２アミン及び第１アミンの形で存
在する。静的二次イオン質量分析（ＳＳＩＭＳ）により
確認されるように少量のアミド基もまた生成する。第２
アミンは処理表面を架橋し、それにより処理表面に安定
性を、表面再編成工程を緩慢化することにより与える。
イミン及び第１アミンは、オーバーレーヤー中の酸性基
及び他の反応性基との結合部位を提供する。ＸＰＳ及び
高分解能電子エネルギー損失分光分析（ＨＲＥＥＬＳ）
の両者は、処理により芳香族環の開環が引き起こされ、
その結果脂肪族様の構造が得られ、この構造が、取り込
まれた窒素のための主な結合部位となることを立証して
いる。ＸＰＳ及びＨＲＥＥＬＳの両者は、処理によりま
た固有エステル基のエーテル基、カルボニル基又はカル
ボキシル基への（主にカルボキシル基への）転位が引き
起こされることも立証している。これらのカルボキシル
基は、オーバーレーヤー中の塩基性基との潜在的結合部
位となる。ＸＰＳ分析に基づけば、表面転位度は表面の
頂部５nmではエステル基の２０〜８０％である。緩衝水
溶液との接触角測定により、処理されたポリエステル表
面の酸性特性及び塩基性特性の両者の変化が確認され
る。pH１１〜１２の緩衝水溶液との接触角は、非処理ポ
リエステルについての６１〜７７度の値から処理ポリエ
ステルについての２０〜３５度まで減少する。pH２．５
〜３．５の緩衝水溶液との接触角は、非処理ポリエステ
ルについての６１〜７７度の値から処理ポリエステルに
ついての３５〜４５度まで減少する。接触角測定は、す
べての前記場合について均一の湿潤性を示す。接触角測
定におけるこれらの大きな変化は、処理されたポリエチ
レン表面の湿潤性、親水性並びに酸性特性及び塩基性特
性の両者が増加したことを実証するものである。
【００３３】酸素ＧＤＴ処理により、ポリエステルフィ
ルムの頂部５nm中へ、原酸素含有量より４〜１０原子％
高い酸素が取り込まれる。取り込まれた酸素は主にヒド
ロキシル、エーテル、エポキシ、カルボニル及びカルボ
キシル基から選ばれる少くとも一員の形で存在する。Ｘ
ＰＳ及びＨＲＥＥＬＳは、処理により芳香族環の開環が
引き起され、その結果、脂肪族様の構造が得られ、この
構造が取り込まれた酸素のための主な結合部位となるこ
とを立証している。緩衝水溶液での接触角測定によれ
ば、処理されたポリエステル表面の酸性特性及び塩基性
特性の両者の変化が確認される。pH１１〜１２の緩衝水
溶液との接触角は、非処理ポリエステルについての６１
〜７７度の値から、処理ポリエステルについての６〜１
５度へ減少する。pH２．５〜３．５の緩衝水溶液との接
触角は、非処理ポリエステルについての６１〜７７度の
値から、処理ポリエステルについての２２〜４０度へ減
少する。接触角測定は、pH１１〜１２については１２度
未満そしてpH２．５〜３．５については３０度未満の場
合にのみ均一の湿潤性を示す。接触角測定におけるこれ
らの大きな変化は、処理ポリエステル表面の湿潤性、親
水性並びに酸性特性及び塩基性特性の両者が増加したこ
とを実証するものである。
【００３４】何が本発明の好ましい実施態様と考えられ
るかについて示しかつ記載してきたが、添付の特許請求
の範囲により定義される本発明の範囲から逸脱すること
なく各種の変更及び修正がなされてもよいことは当業者
に明らかであろう。すべてのそのような修正は本出願中
に包含されることを意図している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルイス ジョセフ ジェレンサー アメリカ合衆国，ニューヨーク 14580, ウェブスター，ワイルドフラワー ドライ ブ 1221 (72)発明者 デビッド アップラー グロッカー アメリカ合衆国，ニューヨーク 14586, ウエスト ヘンリエッタ，ラッシュ−ヘン リエッタ タウン ライン ロード 791

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    ステル基板であって、前記表面が約７．０原子％〜約１
    ５原子％の窒素を含み、前記窒素が約１：１：２の比率
    でイミン、第２アミン及び第１アミンの形で存在するポ
    リエステル基板、を含んでなるフィルムベース。
  2. 【請求項２】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    ステル基板であって、前記表面がヒドロキシル基、エー
    テル基、エポキシ基、カルボニル基及びカルボキシル基
    から選ばれる少くとも一員の形の酸素を含み、前記酸素
    が原表面含有量より約４原子％〜約１０原子％高く；そ
    してpH１１〜１２の緩衝水溶液との表面接触角が約１０
    〜約１２度であり、pH２．５〜３．５の緩衝水溶液との
    第２の表面接触角が約２３〜３６度であるポリエステル
    基板、を含んでなるフィルムベース。
  3. 【請求項３】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    ステル基板であって、前記表面が約７．０原子％〜約１
    ５原子％の窒素を含み、前記窒素が約１：１：２の比率
    でイミン、第２アミン及び第１アミンの形で存在し、前
    記基板が、 ポリエステル基板を用意し；そして前記基板を、その表
    面上に与えられるエネルギー量が０．０６〜４．５Ｊ／
    cm 2 であり、そして電極での圧力が３５ｍトール〜１０
    ０ｍトールである動力電極の前方を通過させる、ことを
    含んでなる工程により形成されるポリエステル基板。
  4. 【請求項４】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    ステル基板であって、前記表面がヒドロキシル基、エー
    テル基、エポキシ基、カルボニル基及びカルボキシル基
    から選ばれる少くとも一員の形の酸素を含み、前記酸素
    が原表面含有量より約４原子％〜約１０原子％高く、pH
    １１〜１２の緩衝水溶液との表面接触角が約１０〜約１
    ２度であり、そしてpH２．５〜３．５の緩衝水溶液との
    第２の接触角が約２３〜３６度であり、前記基板が、 ポリエステル基板を用意し；そして前記基板を、その表
    面上に与えられるエネルギー量が０．５〜３．０Ｊ／cm
    2でありそして電極での圧力が３５ｍトール〜７０ｍト
    ールである動力電極の前方を通過させる、ことを含んで
    なる工程により形成されるポリエステル基板。
  5. 【請求項５】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    ステル基板であって、前記表面が約７．０原子％〜約１
    ５原子％の窒素を含み、前記窒素が約１：１：２の比率
    でイミン、第２アミン及び第１アミンの形で存在するポ
    リエステル基板；前記基板表面に施された親水性非感光
    性塗膜；及び前記親水性非感光性塗膜に施された写真乳
    剤、を含んでなる写真要素。
  6. 【請求項６】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    ステル基板であって、前記表面が約７．０原子％〜約１
    ５原子％の窒素を含み、前記窒素が約１：１：２の比率
    でイミン、第２アミン及び第１アミンの形で存在するポ
    リエステル基板；及び前記の親水性非感光性塗膜に施さ
    れた写真乳剤、を含んでなる写真要素。
  7. 【請求項７】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    ステル基板であって、前記表面がヒドロキシル基、エー
    テル基、エポキシ基、カルボニル基及びカルボキシル基
    から選ばれる少くとも一員の形の酸素を含み、前記酸素
    が、原表面含有量より約４原子％〜約１０原子％高く、
    pH１１〜１２の緩衝水溶液との表面接触角が約１０〜約
    １２度であり、そしてpH２．５〜３．５の緩衝水溶液と
    の第２の表面接触角が約２３〜３６度であるポリエステ
    ル基板；前記基板表面に施された親水性非感光性塗膜；
    及び前記親水性非感光性塗膜に施された写真乳剤、を含
    んでなる写真要素。
  8. 【請求項８】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    ステル基板であって、前記表面がヒドロキシル基、エー
    テル基、エポキシ基、カルボニル基及びカルボキシル基
    から選ばれる少くとも一員の形の酸素を含み、前記酸素
    が、原表面含有量より約４原子％〜約１０原子％高く、
    pH１１〜１２の緩衝水溶液との表面接触角が約１０〜約
    １２度であり、そしてpH２．５〜３．５の緩衝水溶液と
    の第２の表面接触角が約２３〜３６度であるポリエステ
    ル基板；及び前記親水性非感光性塗膜に施された写真乳
    剤、を含んでなる写真要素。
  9. 【請求項９】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリエ
    チレンナフタレート基板であって、前記表面が約９〜約
    １０原子％の窒素を含み、前記窒素が約１：１：２の比
    率でイミン、第２アミン及び第１アミンの形で存在する
    ポリエチレンナフタレート、を含んでなるフィルムベー
    ス。
  10. 【請求項１０】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリ
    エチレンナフタレート基板であって、前記表面がヒドロ
    キシル基、エーテル基、エポキシ基、カルボニル基及び
    カルボキシル基から選ばれる少くとも一員の形の酸素を
    含み、前記酸素が、原表面含有量より約８原子％〜約１
    ０原子％高く、pH１１〜１２の緩衝水溶液との表面接触
    角が約１０〜１２度であり、pH２．５〜３．５の緩衝水
    溶液との第２の表面接触角が約２３〜３６度であるポリ
    エチレンナフタレート基板、を含んでなるフィルムベー
    ス。
  11. 【請求項１１】 ほぼ５．０nm厚さの表面を有するポリ
    エチレンテレフタレート基板であって、前記表面が約１
    ３〜約１４原子％の窒素を含み、前記窒素が約１：１：
    ２の比率でイミン、第２アミン及び第１アミンの形で存
    在するポリエチレンテレフタレート基板、を含んでなる
    フィルムベース。
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