JPH07262543A - 磁気ヘッドのレール面加工方法 - Google Patents

磁気ヘッドのレール面加工方法

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JPH07262543A
JPH07262543A JP6078216A JP7821694A JPH07262543A JP H07262543 A JPH07262543 A JP H07262543A JP 6078216 A JP6078216 A JP 6078216A JP 7821694 A JP7821694 A JP 7821694A JP H07262543 A JPH07262543 A JP H07262543A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 様々なレールパターンを容易に作成する。 【構成】 マスク５４，５６には左側用レールパター
ン、右側用レールパターンが描かれている。レーザ光源
５２からは、レーザビーム５９が出射される。レーザビ
ーム５９はマスク５４またはマスク５６を介してロー２
６上のスライダ１チップ分のレール形成面に照射され、
このレール形成面上の感光膜４０にレールパターンを露
光する。左側用レールパターンを形成するか右側用レー
ルパターンを形成するかに応じて左側用マスク５４、右
側用マスク５６を切換えて使用する。露光後現像してレ
ールを形成する部分以外の感光膜を除去する。この感光
膜が除去された部分をエッチング堀込みしてレール３
４，３６を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、固定ディスク装置等
に用いられるエアフロー式磁気ヘッドのレール面を加工
する方法に関し、様々なレールパターンを容易に作成で
きるようにしたものである。
【０００２】
【従来の技術】エアフロー式磁気ヘッドは、図２（ａ）
に示すように、スライダ１２の下面（レール面）２８に
レール１４，１６を形成し、このレール１４，１６の後
端部に磁気ヘッド素子１８，２０を具えて構成され、図
２（ｂ）に示すように、回転している磁気ディスク２２
上でレール１４，１６による流体力学的作用で浮上し
て、磁気ディスク２２に対し非接触で磁気ヘッド素子１
８または２０により情報の記録および再生を行なう。
【０００３】図２の磁気ヘッド１０の製造工程の一例を
図３を参照して説明する。 ウェファー２１上にフォトリソグラフィ技法等によ
り多数の薄膜磁気ヘッド素子２２を形成する。 ウェファー２１の表面に切断時のチッピング（欠
け）防止用にスライダ単位でタテ、ヨコに切込み２４，
２５を加工する。 ヨコの切込み２５に沿ってウェファー２１を切断す
る。この切断された１本１本をロー２６という。 切断されたロー２６についてレール面２８を研削、
研磨する。そして、レール面２８に溝入加工して溝３０
を形成し、これによりレール１４，１６を形成する。 タテの切込み２４で切断して個々の磁気ヘッド１０
を完成する。エアフロー式磁気ヘッドのレール面は、通
常は前記図２、図３に示すように２本のレール１４，１
６を平行に形成して構成されている。このため、レール
面の加工は、図４に示すように、ロー２６のレール面２
８に対し回転ブレード３２を用いて直接機械加工により
溝入加工してレール１４，１６を形成するのが一般的で
あった。
【０００４】このような平行レールを持つ磁気ヘッドの
浮上量は、回転している磁気ディスクとの相対スピード
に依存し、通常、スピードの増大とともに浮上量も大き
くなる。そこで、最近、磁気ヘッドと磁気ディスクとの
相対スピードにかかわらず浮上量を一定にしたいという
要望が出てきており、それを実現するための一手法とし
て、例えば図５に示すような非対称非平行レール３４，
３６を有する磁気ヘッド３８が提案されている。
【０００５】このような非対称非平行レール３４，３６
は、前記図４に示したような機械加工によって製作する
のは困難である。このため、従来はフォトリソグラフィ
技術を用いてマスクパターンで非対称非平行レールを形
成するようにしていた。従来におけるフォトリソグラフ
ィ技術による非対称非平行レールの製作工程を図６を参
照して説明する。 前記図３に〜で示した工程により、薄膜ヘッド
素子が形成された基板を切断してロー２６を形成する。
切断後レール面２８を研磨する。 レール面２８にレジストを塗布しあるいはドライフ
ィルムをラミネートする等により感光性の膜（感光膜）
４０を形成する。 複数列に配列されたロー２６の上に非対称非平行レ
ールパターンが描かれたフォトマスク４２を配置して露
光する。 現像することにより、感光膜がレールパターンの形
状に残されてマスク材４０′が形成される。 イオンビームエッチング加工によりマスク材４０′
が無い部分のロー２６の表面が堀込まれる。 マスク材４０′を除去してロー２６をスライダごと
に切断すると、非対称非平行レール３４，３６が形成さ
れた磁気ヘッド３８ができ上がる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】前記図６の方法によれ
ば、非対称非平行レールを作ることはできるが、複数の
磁気ヘッドに対してフォトマスク４２によって予め定め
られたレールパターンにしか形成することができない問
題があった。特に、１つの磁気ヘッドに複数個の素子を
形成し、そのうちの特性のよい素子を用いる場合であっ
て、いずれの素子を使うかによって適用すべきレールパ
ターンが異なる場合に、上述のように一定のパターンの
フォトマスク４２でレールパターンを形成したのでは、
使用しようとする素子に適用すべきパターンと異なるレ
ールパターンに形成された磁気ヘッドがいくつも生じる
ことになり歩留りが悪かった。
【０００７】この発明は、前記従来の技術における問題
点を解決して、様々なレールパターンを容易に作成でき
るようにした磁気ヘッドのレール面加工方法を提供しよ
うとするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は、
磁気ヘッドのレール面に感光膜を成膜し、当該レール面
に形成すべき１個の磁気ヘッドのレールパターン全体が
描かれたマスクを通して、当該レール面にビームを固定
照射することにより、当該固定照射で１個の磁気ヘッド
のレールパターン全体を露光し、露光後これを現像して
レールを形成する部分以外の感光膜を除去し、この感光
膜が除去された部分をエッチング堀込みしてレールを形
成してなるものである。
【０００９】請求項２記載の発明は、複数個の磁気ヘッ
ドが配列されたローのレール面に感光膜を成膜し、当該
レール面に形成すべき１個の磁気ヘッドのレールパター
ン全体が描かれたマスクを通して、１個の磁気ヘッドの
レール面にビームを固定照射し、かつ当該マスクとロー
との相対位置を変化させて当該レールパターンを形成す
べき磁気ヘッドごとに前記固定照射を行なうことによ
り、当該固定照射ごとに１個の磁気ヘッドのレールパタ
ーン全体を露光し、露光後これを現像してレールを形成
する部分以外の感光膜を除去し、この感光膜が除去され
た部分をエッチング堀込みしてレールを形成してなるも
のである。
【００１０】請求項３記載の発明は、前記マスクには複
数種類のレールパターンが描かれており、磁気ヘッドの
レール面に形成すべきレールパターンに応じて前記ビー
ムと前記マスクとの相対位置を変化させて前記照射を行
なうことを特徴とするものである。
【００１１】請求項４記載の発明は、前記磁気ヘッドは
左右にそれぞれ磁気ヘッド素子を有するものであり、か
つ前記複数種類のレールパターンは、右側の磁気ヘッド
素子を使用する磁気ヘッド用の右側用のレールパターン
と左側の磁気ヘッド素子を使用する磁気ヘッド用の左側
用のレールパターンを有するものであり、前記レール面
にレールを形成する前に前記左右両素子の良否の検査を
行ない、右側の素子が良好で左側の素子が不良の場合は
前記右側用のレールパターンを露光し、左側の素子が良
好で右側の素子が不良の場合は前記左側用のレールパタ
ーンを露光し、左右の素子とも良好な場合は前記右側
用、左側用のいずれか一方のレールパターンを露光する
ことを特徴とするものである。
【００１２】請求項５記載の発明は、所定のロットごと
に、前記左側用のレールパターンを持った磁気ヘッドと
前記右側用のレールパターンを持った磁気ヘッドの数が
略々同等となるように、前記左右の素子とも良好な磁気
ヘッドに形成するレールパターンが決定されていること
を特徴とするものである。
【００１３】
【作用】請求項１記載の発明によれば、ビームの固定照
射で１個の磁気ヘッドのレールパターン全体を露光する
ので、複数種類のレールパターンを形成したマスクを用
意すれば、磁気ヘッドごとに任意のレールパターンを形
成することができる。したがって、１つの磁気ヘッドに
複数個の素子を形成し、そのうちの特性のよい素子を用
いる場合であって、いずれの素子を使うかによって適用
すべきレールパターンが異なる場合には、予め各素子の
良否の検査を行ない、検査結果により使用するものと定
めた素子に応じて適切なレールパターンを磁気ヘッドご
とに作成できるので、歩留りを向上させることができ
る。
【００１４】また、請求項１記載の発明によれば、マス
クを使って固定照射で１個の磁気ヘッドのレールパター
ン全体を露光するので、レール面上で細いビームを動か
してレールパターンを直接描画する場合に比べて短時間
で露光を行なうことができる。
【００１５】請求項２記載の発明によれば、マスクとロ
ーとの相対位置を変化させてビームを照射するようにし
たので、１本のローについて固定照射ごとに１個ずつ磁
気ヘッドにレールパターン全体を露光することができ
る。したがって、複数種類のレールパターンを形成した
マスクを用意すれば、１本のローにおいて磁気ヘッドご
とに任意のレールパターンを形成することができる。
【００１６】請求項３記載の発明によれば、マスクに複
数種類のレールパターンを形成して、ビームとマスクと
の相対位置を変化させて照射するようにしたので、磁気
ヘッドごとに任意のレールパターンを形成することがで
きる。
【００１７】請求項４記載の発明によれば、各磁気ヘッ
ドの左右に素子を形成する場合に、両素子の良否の検査
を行ない、右側の素子が良好な場合は右側用のレールパ
ターンを露光し、左側の素子が良好な場合は左側用のレ
ールパターンを露光し、両素子とも良好な場合は右側
用、左側用のいずれか一方のレールパターンを露光する
ようにしたので、磁気ヘッドの歩留りを向上させること
ができる。
【００１８】請求項５記載の発明によれば、磁気ヘッド
の左右に素子を形成し、左側の素子を使用する磁気ヘッ
ドと右側の素子を使用する磁気ヘッドを同等数必要とす
る場合に、所定のロットごと（例えば１枚のウェファー
ごと、１本のローごと等）に左側の素子を使用する磁気
ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘッドの数が略々同
等となるように、左右両素子とも良好な磁気ヘッドに形
成するレールパターンが決定されているので、左側の素
子を使用する磁気ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘ
ッドを略々同等数作ることができ、無駄が出ず歩留りが
向上する。
【００１９】
【実施例】この発明の一実施例を図１を参照して説明す
る。 Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ系セラミック板等のウェファー
２１上にフォトリソグラフィ技法等により多数の薄膜磁
気ヘッド素子２２を形成する。ここでは、各スライダ
（磁気ヘッド）の左右にそれぞれ薄膜磁気ヘッド素子２
２を形成するものとする。 各薄膜磁気ヘッド素子２２についてプローバ検査を
行なう。右側の素子を使用するスライダと左側の素子を
使用するスライダで別々のレールパターンを形成する場
合は、スライダごとに右側の素子が良好、左側の素子が
良好、左右の素子とも良好、左右の素子とも不良等の情
報を得て、コンピュータ４４の素子状態メモリ４６に１
ロット分（例えば１枚のウェファー２１分あるいは１本
のロー２６分）の情報を記憶する。
【００２０】コンピュータ４４の演算手段４８は、１ロ
ット分で、右側の素子を用いる右側用の磁気ヘッドと左
側の素子を用いる左側用の磁気ヘッドの割合が所望の状
態となるように、各スライダを右側用、左側用に振り分
ける。すなわち、右側の素子が良好なものは右側用と
し、左側の素子が良好なものは左側用とし、左右両素子
とも良好なものは右側用または左側用に振り分けて、１
ロット分で右側用、左側用の割合が所望の状態となるよ
うにする。
【００２１】例えば、１ロット分で、少くとも左右いず
れか一方の素子が良好なスライダの総数をＮとし、その
うち右側の素子のみ良好な個数をａ個、左側の素子のみ
良好な個数をｂ個とすると、両素子とも良好なものＮ−
（ａ＋ｂ）のうち、Ｎ÷２−ａ個を右側用とし、Ｎ÷２
−ｂを左側用とする（Ｎが奇数の場合は右側用または左
側用を１個多くする。）このように左右両素子とも良好
なスライダを右側用、左側用に振り分けることにより、
右側用磁気ヘッドと左側用磁気ヘッドが所望の割合で得
られ、無駄が出ず歩留りが最良となる。すなわち、一般
に固定ディスク装置用薄膜磁気ヘッドは左右２個の素子
のうち外周側の素子だけが用いられる。そして、１枚の
磁気ディスク記録媒体に対し磁気ヘッドはその上面およ
び下面に１個ずつ配置されてペアで用いられるので、外
周側に来る素子が上面と下面で左右逆になる。したがっ
て、右側の素子を用いる右側用磁気ヘッドと左側の素子
を用いる左側用磁気ヘッドの数を等しく取ることができ
れば余りが出ず歩留りが最良になる。
【００２２】演算手段４８は、上記振分結果に適合する
ようにロー２６ごとに右側用、左側用のスライダの配列
状態を決定し、配列状態メモリ４９に記憶する。 ウェファー２１を切断してロー２６に分割する。 ロー２６のレール面２８を研磨する。 レール面２８にレジストを塗布しあるいはドライフ
ィルムをラミネートする等により感光膜４０を形成す
る。 ロー２６をＸ−Ｙ可動ステージ５０上に並べてセッ
トする（ロー２６の長さ方向をＹ軸方向に合わせ、ロー
２６，２６，……の配列方向をＸ軸方向に合わせる）。
Ｘ−Ｙ可動ステージ５０の上方には、レーザ光源５２
（例えばエキシマレーザ光源）が照射方向を下方に向け
て固定配設されている。レーザ光源５２とＸ−Ｙ可動ス
テージ５０との間には、マスク５３が配設されている。
マスク５３は、左側の磁気ヘッド素子を使用するスライ
ダ用にスライダ１個分の左側用レールパターン（マスク
パターン）を形成した左側用マスク５４と、右側の磁気
ヘッド素子を使用するスライダ用にスライダ１個分の右
側用レールパターン（マスクパターン）を形成した右側
用マスク５６をマスクホルダ５８に保持した状態で具え
ており、両マスク５４，５６の配列方向（Ｙ軸方向）に
移動可能に配設されている。
【００２３】ビームとしてエキシマレーザビームを用い
る場合は、マスク５４，５６は、例えばＳｉＯ2 などの
エキシマレーザビームに対して透明な材料をマスク基板
として用い、その上にエキシマレーザビームに対して不
透明でかつ損傷を受け難い金属材料をマスク材としてマ
スクパターンを形成して構成されている。その場合、マ
スクパターンの形成には、リソグラフィを用いることが
できる。すなわち、はじめにマスク基板上にマスク材を
構成する金属材料を一定の厚さに付着させ、その上に感
光剤レジストを塗布し、レジストをマスクパターンに露
光する。そして、これを現像してパターンカットし、露
出したマスク材部分をプラズマエッチング加工等により
除去し、最後に不用なレジストを取り除くことにより、
マスク５４，５６が完成する。
【００２４】制御装置５７は、Ｘ−Ｙ可動ステージ５０
の移動制御、マスクホルダ５８の移動制御、レーザ光源
５２の発振オン、オフ制御等を行なって、ロー２６の各
スライダ（磁気ヘッド）レール面の感光膜４０にレール
パターンの露光を行なう。この露光の手順の一例を図
７，８を参照して説明する。
【００２５】制御装置５７は、まず、左側用マスク５４
をレーザ光源５２の直下に位置決めし（Ｓ１）、また配
列状態メモリ４９に記憶されている配列状態を読み出し
て（Ｓ２）、Ｘ−Ｙ可動ステージ５０を移動させて左側
用レールパターンを形成すべきスライダ１チップ分（す
なわち磁気ヘッド１個分）をレーザ光源５２の直下に位
置決めする（Ｓ３，Ｓ４）。この状態で、レーザ光源５
２を所定時間（例えば、エキシマレーザの場合、数十分
の１秒程度）発振させて、レーザビーム５９を下方に向
けて出射する（Ｓ５）。レーザビーム５９は左側用マス
ク５４を介して１個のスライダチップのレール面に照射
されて、レール面上の感光膜４０をレールパターンに露
光する。レーザビーム６２の１ショット（１度の照射）
で１個のスライダのレールパターン全体が露光され
る）。
【００２６】１個のスライダについてレールパターンの
露光が終了したら、Ｘ−Ｙ可動ステージ５０をＹ軸方向
に移動させて、次に左側用レールパターンを露光すべき
スライダチップをレーザ光源５２の直下に位置決めし
（Ｓ７）、同様にレーザ発振させてレールをパターンを
露光する（Ｓ５）。このようにして、左側用レールパタ
ーンを形成すべきスライダチップをレーザ光源５２の直
下に順次位置決めして、露光を順次行なう。
【００２７】１本のロー２６について左側用レールパタ
ーンを形成すべきスライダチップに対する露光が終了し
たら（Ｓ６）、Ｘ−Ｙ可動ステージ５０をＸ方向に移動
して、次のロー２６に位置決めして（Ｓ９）、同様に左
側用レールパターンの露光を行なう（Ｓ４，Ｓ５）。そ
して、すべてのロー２６について左側用レールパターン
の露光が終了したら（Ｓ８）、マスクホルダ５８をＹ軸
方向に移動させて、右側用マスク５６をレーザ光源５２
の直下に位置決めする（Ｓ１０）。そして、Ｘ−Ｙ可動
ステージ５０を移動させて右側用レールパターンを形成
すべき１個のスライダチップをレーザ光源５２の直下に
位置決めする（Ｓ１１，Ｓ１２）。この状態で、レーザ
光源５２を所定時間発振させて、レーザビーム５９を下
方に向けて出射する（Ｓ１３）。レーザビーム５９は右
側用マスク５６を介して１個のスライダチップのレール
面に照射されて、レール面上の感光膜４０をレールパタ
ーンに露光する。
【００２８】１個のスライダについてレールパターンの
露光が終了したら、Ｘ−Ｙ可動ステージ５０をＹ軸方向
に移動させて、次の右側用レールパターンを形成すべき
スライダチップをレーザ光源５２の直下に位置決めし
（Ｓ１５）、同様にレーザ発振させてレールパターンを
露光する（Ｓ１３）。このようにして、右側用レールパ
ターンを形成すべきスライダチップをレーザ光源５２の
直下に順次位置決めして、露光を順次行なう。
【００２９】１本のロー２６について右側用レールパタ
ーンを形成すべきスライダチップに対する露光が終了し
たら（Ｓ１４）、Ｘ−Ｙ可動ステージ５０をＸ方向に移
動して、次のロー２６に位置決めして（Ｓ１７）、同様
に右側用レールパターンの露光を行なう（Ｓ１２，Ｓ１
３）。そして、すべてのロー２６について右側用レール
パターンの露光が終了したら（Ｓ１６）、すべての工程
を終了する（Ｓ１８）。 以上のようにして、すべてのロー２６のすべてのス
ライダチップについてレールパターンの露光が終了した
ら、これを現像することにより、感光膜がレールパター
ンの形状に残されてレジストパターン４０′が形成され
る。 イオンビームエッチング、パウダーブラスト、反応
性エッチング等によるエッチング掘込加工によりレジス
トパターン４０′が無い部分のロー２６の表面が堀込ま
れる。 レジストパターン４０′を除去してロー２６をスラ
イダごとに切断すると、右側用、左側用で別々のパター
ン６０，６２に形成された非対称非平行レール３４，３
６を有する磁気ヘッド３８ができ上がる。
【００３０】
【他の実施例】前記実施例では、はじめに左側用レール
パターンを形成すべきスライダチップについてまとめて
露光を行ない、それが終了したらマスクを交換して右側
用レールパターンを形成すべきスライダチップについて
まとめて露光を行なうようにしたが、ロー２６における
スライダチップの配列順に従ってスライダチップをレー
ザ光源５２の直下位置に順次位置決めして、その都度左
右のいずれの側のレールパターンを形成すべきかに応じ
て左側用マスク５４、右側用マスク５６を切換えて使用
することにより、スライダチップの配列順に露光を行な
うこともできる。
【００３１】また、前記実施例ではマスクのレールパタ
ーンを２種類用意したが、より多種類のレールパターン
を有するマスクをマスクホルダに同時にセットしておく
ことにより、様々な種類のレールパターンを形成するこ
とができる。
【００３２】また、前記実施例では薄膜磁気ヘッドにこ
の発明を適用した場合について説明したが、薄膜以外の
磁気ヘッドにも適用することができる。また、この発明
は平行レールパターンの形成にも適用することができ
る。また、露光に用いるビームはレーザ光のほか、電子
ビーム、イオンビーム等各種のビームを用いることがで
きる。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、ビームの固定照射で１個の磁気ヘッドのレ
ールパターン全体を露光するので、複数種類のレールパ
ターンを形成したマスクを用意すれば、磁気ヘッドごと
に任意のレールパターンを形成することができる。した
がって、１つの磁気ヘッドに複数個の素子を形成し、そ
のうちの特性のよい素子を用いる場合であって、いずれ
の素子を使うかによって適用すべきレールパターンが異
なる場合には、予め各素子の良否の検査を行ない、検査
結果により使用するものと定めた素子に応じて適切なレ
ールパターンを磁気ヘッドごとに作成できるので、歩留
りを向上させることができる。
【００３４】また、請求項１記載の発明によれば、マス
クを使って固定照射で１個の磁気ヘッドのレールパター
ン全体を露光するので、レール面上で細いビームを動か
してレールパターンを直接描画する場合に比べて短時間
で露光を行なうことができる。
【００３５】請求項２記載の発明によれば、マスクとロ
ーとの相対位置を変化させてビームを照射するようにし
たので、１本のローについて固定照射ごとに１個ずつ磁
気ヘッドにレールパターン全体を露光することができ
る。したがって、複数種類のレールパターンを形成した
マスクを用意すれば、１本のローにおいて磁気ヘッドご
とに任意のレールパターンを形成することができる。
【００３６】請求項３記載の発明によれば、マスクに複
数種類のレールパターンを形成して、ビームとマスクと
の相対位置を変化させて照射するようにしたので、磁気
ヘッドごとに任意のレールパターンを形成することがで
きる。
【００３７】請求項４記載の発明によれば、各磁気ヘッ
ドの左右に素子を形成する場合に、両素子の良否の検査
を行ない、右側の素子が良好な場合は右側用のレールパ
ターンを露光し、左側の素子が良好な場合は左側用のレ
ールパターンを露光し、両素子とも良好な場合は右側
用、左側用のいずれか一方のレールパターンを露光する
ようにしたので、磁気ヘッドの歩留りを向上させること
ができる。
【００３８】請求項５記載の発明によれば、磁気ヘッド
の左右に素子を形成し、左側の素子を使用する磁気ヘッ
ドと右側の素子を使用する磁気ヘッドを同等数必要とす
る場合に、所定のロットごと（例えば１枚のウェファー
ごと、１本のローごと等）に左側の素子を使用する磁気
ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘッドの数が略々同
等となるように、左右両素子とも良好な磁気ヘッドに形
成するレールパターンが決定されているので、左側の素
子を使用する磁気ヘッドと右側の素子を使用する磁気ヘ
ッドを略々同等数作ることができ、無駄が出ず歩留りが
向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】 この発明の一実施例を示す工程図である。
【図２】 平行レールを有するエアフロー式磁気ヘッド
を示す斜視図および側面図である。
【図３】 図２の磁気ヘッドの製作工程を示す図であ
る。
【図４】 機械加工によるレール形成方法を示す斜視図
である。
【図５】 非対称非平行レール面を有する磁気ヘッドを
示す斜視図である。
【図６】 マスクパターンを使って図５の磁気ヘッドを
作る工程を示す図である。
【図７】 図１における制御装置５７による制御フロー
の一例を示す図（前半）である。
【図８】 図１における制御装置５７による制御フロー
の一例を示す図（後半）である。
【符号の説明】
１８，２０ 薄膜磁気ヘッド素子（磁気ヘッド素子） ２６ ロー ２８ レール面 ３４，３６ レール ３８ 磁気ヘッド ４０ 感光膜 ５２ レーザ光源 ５３ マスク ５４ 左側用マスク ５６ 右側用マスク ５９ レーザビーム ６０ 右（左）側用レールパターン ６２ 左（右）側用レールパターン

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】磁気ヘッドのレール面に感光膜を成膜し、
    当該レール面に形成すべき１個の磁気ヘッドのレールパ
    ターン全体が描かれたマスクを通して、当該レール面に
    ビームを固定照射することにより、当該固定照射で１個
    の磁気ヘッドのレールパターン全体を露光し、露光後こ
    れを現像してレールを形成する部分以外の感光膜を除去
    し、この感光膜が除去された部分をエッチング堀込みし
    てレールを形成してなる磁気ヘッドのレール面加工方
    法。
  2. 【請求項２】複数個の磁気ヘッドが配列されたローのレ
    ール面に感光膜を成膜し、当該レール面に形成すべき１
    個の磁気ヘッドのレールパターン全体が描かれたマスク
    を通して、１個の磁気ヘッドのレール面にビームを固定
    照射し、かつ当該マスクとローとの相対位置を変化させ
    て当該レールパターンを形成すべき磁気ヘッドごとに前
    記固定照射を行なうことにより、当該固定照射ごとに１
    個の磁気ヘッドのレールパターン全体を露光し、露光後
    これを現像してレールを形成する部分以外の感光膜を除
    去し、この感光膜が除去された部分をエッチング堀込み
    してレールを形成してなる磁気ヘッドのレール面加工方
    法。
  3. 【請求項３】前記マスクには複数種類のレールパターン
    が描かれており、磁気ヘッドのレール面に形成すべきレ
    ールパターンに応じて前記ビームと前記マスクとの相対
    位置を変化させて前記照射を行なうことを特徴とする請
    求項１または２に記載の磁気ヘッドのレール面加工方
    法。
  4. 【請求項４】前記磁気ヘッドは左右にそれぞれ磁気ヘッ
    ド素子を有するものであり、かつ前記複数種類のレール
    パターンは、右側の磁気ヘッド素子を使用する磁気ヘッ
    ド用の右側用のレールパターンと左側の磁気ヘッド素子
    を使用する磁気ヘッド用の左側用のレールパターンを有
    するものであり、前記レール面にレールを形成する前に
    前記左右両素子の良否の検査を行ない、右側の素子が良
    好で左側の素子が不良の場合は前記右側用のレールパタ
    ーンを露光し、左側の素子が良好で右側の素子が不良の
    場合は前記左側用のレールパターンを露光し、左右の素
    子とも良好な場合は前記右側用、左側用のいずれか一方
    のレールパターンを露光することを特徴とする請求項１
    〜３のいずれかに記載の磁気ヘッドのレール面加工方
    法。
  5. 【請求項５】所定のロットごとに、前記左側用のレール
    パターンを持った磁気ヘッドと前記右側用のレールパタ
    ーンを持った磁気ヘッドの数が略々同等となるように、
    前記左右の素子とも良好な磁気ヘッドに形成するレール
    パターンが決定されていることを特徴とする請求項４項
    記載の磁気ヘッドのレール面加工方法。
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