JPH04364217A - 保護被膜を有する磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 - Google Patents
保護被膜を有する磁気ヘッドスライダ及びその製造方法Info
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- JPH04364217A JPH04364217A JP3315280A JP31528091A JPH04364217A JP H04364217 A JPH04364217 A JP H04364217A JP 3315280 A JP3315280 A JP 3315280A JP 31528091 A JP31528091 A JP 31528091A JP H04364217 A JPH04364217 A JP H04364217A
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 23
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 title abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 29
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims abstract description 18
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 32
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 claims description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 9
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims description 8
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims description 3
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 claims description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 7
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000010329 laser etching Methods 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 230000026683 transduction Effects 0.000 description 1
- 238000010361 transduction Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3103—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing
- G11B5/3106—Structure or manufacture of integrated heads or heads mechanically assembled and electrically connected to a support or housing where the integrated or assembled structure comprises means for conditioning against physical detrimental influence, e.g. wear, contamination
-
- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
- G11B5/6005—Specially adapted for spacing from a rotating disc using a fluid cushion
- G11B5/6082—Design of the air bearing surface
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
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- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
- Y10T29/49041—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing with significant slider/housing shaping or treating
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ヘッドに関し、特
に薄膜磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドを製造する方法に
関する。
に薄膜磁気ヘッド及び薄膜磁気ヘッドを製造する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】薄膜磁
気ヘッドは、多年にわたり使用されており、これらヘッ
ドは伝統的に、基板上に各々が複数のヘッドを有する一
連の列を成して形成されている。ヘッドが制作されると
、基板は切断されて１列のヘッドが並べて形成される。 なお列の形を成している間に、薄膜磁気ヘッドが所定の
スロート高さの寸法になるようにラップ仕上げされるが
、これはヘッドの性能にとって非常に重要である。 一旦所要のラップ仕上げされたスロート高さ寸法に達す
ると、これはヘッドの以降の処理に影響されてはならな
い。
気ヘッドは、多年にわたり使用されており、これらヘッ
ドは伝統的に、基板上に各々が複数のヘッドを有する一
連の列を成して形成されている。ヘッドが制作されると
、基板は切断されて１列のヘッドが並べて形成される。 なお列の形を成している間に、薄膜磁気ヘッドが所定の
スロート高さの寸法になるようにラップ仕上げされるが
、これはヘッドの性能にとって非常に重要である。 一旦所要のラップ仕上げされたスロート高さ寸法に達す
ると、これはヘッドの以降の処理に影響されてはならな
い。
【０００３】ヘッドの処理の以降の工程の一つは、ラッ
プ仕上げされた面にレールのパターンを作って空気支持
面（ＡＢＳ）を形成することである。ＡＢＳ上のレール
の所要パターンは、その形状が漸次一層複雑になってき
ているので、エッチングプロセスのような乾式処理技法
が一般に使用されている。エッチングプロセス中の薄膜
磁気ヘッドの保護には保護被膜が必要であり、この被膜
は、一般に厚く、エッチングプロセスの完了後除去され
る。
プ仕上げされた面にレールのパターンを作って空気支持
面（ＡＢＳ）を形成することである。ＡＢＳ上のレール
の所要パターンは、その形状が漸次一層複雑になってき
ているので、エッチングプロセスのような乾式処理技法
が一般に使用されている。エッチングプロセス中の薄膜
磁気ヘッドの保護には保護被膜が必要であり、この被膜
は、一般に厚く、エッチングプロセスの完了後除去され
る。
【０００４】次に磁気ヘッドの列を個別の磁気ヘッドス
ライダに分離する。動作中に、スライダはＡＢＳ及び取
り付けられた薄膜磁気ヘッドと、磁気記録媒体との間に
狭い一様な間隔 （普通は１０マイクロインチ）
を維持するように浮上する。磁気ディスク記録装置の正
常動作では、ヘッドは磁気記録媒体と偶然接触すること
がある。
ライダに分離する。動作中に、スライダはＡＢＳ及び取
り付けられた薄膜磁気ヘッドと、磁気記録媒体との間に
狭い一様な間隔 （普通は１０マイクロインチ）
を維持するように浮上する。磁気ディスク記録装置の正
常動作では、ヘッドは磁気記録媒体と偶然接触すること
がある。
【０００５】従来技術では、ＡＢＳを、ヘッドと磁気記
録媒体との間の接触により生ずる機械的摩耗から保護す
るのに各種保護層が磁気ヘッドスライダ上に堆積された
。
録媒体との間の接触により生ずる機械的摩耗から保護す
るのに各種保護層が磁気ヘッドスライダ上に堆積された
。
【０００６】例えば、米国特許Ｒｅ３２、４６４は、剛
性磁気記録ディスクがそれを摩耗から保護する炭素の保
護層を備えている磁気記録装置を開示している。磁気ト
ランスジューサが炭素で、望ましくはグラファイトの形
で、被覆されて記録媒体との低摩擦耐摩耗接触面を形成
している。被膜の厚さは、２マイクロインチと１０マイ
クロインチとの間にある。
性磁気記録ディスクがそれを摩耗から保護する炭素の保
護層を備えている磁気記録装置を開示している。磁気ト
ランスジューサが炭素で、望ましくはグラファイトの形
で、被覆されて記録媒体との低摩擦耐摩耗接触面を形成
している。被膜の厚さは、２マイクロインチと１０マイ
クロインチとの間にある。
【０００７】ＩＢＭ ＴＤＢ、 Ｄｅｃｅｍｂｅｒ、
１９１２、ｐ．３１７３は、シリコンカーバイドまたは
ダイヤモンド様炭素の保護層を有する磁気ヘッドスライ
ダについて述べている。保護層の厚さは、５００から１
０００オングストロームの範囲にある。
１９１２、ｐ．３１７３は、シリコンカーバイドまたは
ダイヤモンド様炭素の保護層を有する磁気ヘッドスライ
ダについて述べている。保護層の厚さは、５００から１
０００オングストロームの範囲にある。
【０００８】ＩＢＭ ＴＤＢ、 Ｊｕｎｅ、１９７６
、ｐ．３５１は、約２００から５０００オングストロー
ムの層を成す窒化シリコンの保護層を有する磁気ヘッド
について述べている。
、ｐ．３５１は、約２００から５０００オングストロー
ムの層を成す窒化シリコンの保護層を有する磁気ヘッド
について述べている。
【０００９】１９８３年９月６日に公開された、特開昭
５８−１５０１２２は、磁気記録媒体に面するヘッ
ドの表面上に潤滑効果を有する物質の薄膜を備えた磁気
ヘッドについて述べている。適切な物質のリストが示さ
れており、それには炭素が入っており、膜の厚さは、２
００から８００オングストロームの範囲の中にある。
５８−１５０１２２は、磁気記録媒体に面するヘッ
ドの表面上に潤滑効果を有する物質の薄膜を備えた磁気
ヘッドについて述べている。適切な物質のリストが示さ
れており、それには炭素が入っており、膜の厚さは、２
００から８００オングストロームの範囲の中にある。
【００１０】米国特許４、１３０、８４７は、少なくと
も磁気ヘッドの上面に保護被膜を有する磁気ヘッドスラ
イダについて述べている。被膜は、スライダ本体の凹部
に１０マイクロインチもの薄い厚さに作られている。
も磁気ヘッドの上面に保護被膜を有する磁気ヘッドスラ
イダについて述べている。被膜は、スライダ本体の凹部
に１０マイクロインチもの薄い厚さに作られている。
【００１１】１９８８年１１月２４日に公表されたドイ
ツ特許出願ＤＥ３、７１４、７８７は、磁気ディスク表
面が摩擦軽減炭素で被覆され、磁気ヘッドスライダのレ
ールが炭素から成る摩擦軽減潤滑剤で被覆されている記
憶装置について述べている。炭素の厚さは、１０から１
０００オングストロームである。
ツ特許出願ＤＥ３、７１４、７８７は、磁気ディスク表
面が摩擦軽減炭素で被覆され、磁気ヘッドスライダのレ
ールが炭素から成る摩擦軽減潤滑剤で被覆されている記
憶装置について述べている。炭素の厚さは、１０から１
０００オングストロームである。
【００１２】１９８８年８月２２日に公表された特許出
願ＰＣＴ／ＵＳ８８／００４３８は、磁気ヘッドが側方
レールの一つの中に作り付けられている磁気ヘッドスラ
イダについて開示している。スライダの上には摩耗層が
設けられているが、これは５０オングストロームの厚さ
のクロム層と２００オングストロームの厚さの炭素層と
から構成されている。摩耗層の二つの構成要素のどちら
かを省略することができる。
願ＰＣＴ／ＵＳ８８／００４３８は、磁気ヘッドが側方
レールの一つの中に作り付けられている磁気ヘッドスラ
イダについて開示している。スライダの上には摩耗層が
設けられているが、これは５０オングストロームの厚さ
のクロム層と２００オングストロームの厚さの炭素層と
から構成されている。摩耗層の二つの構成要素のどちら
かを省略することができる。
【００１３】薄膜磁気ヘッドを、製作プロセス中のみな
らず磁気ディスク記憶装置での磁気ヘッドスライダの正
常動作中にも保護するのに有効な磁気ヘッドスライダ用
保護層について開示している参考文献は存在しない。
らず磁気ディスク記憶装置での磁気ヘッドスライダの正
常動作中にも保護するのに有効な磁気ヘッドスライダ用
保護層について開示している参考文献は存在しない。
【００１４】それ故、磁気ヘッドを、磁気記録装置の磁
気ヘッドスライダの正常動作中のみならず、製作プロセ
ス中にも保護する、磁気ヘッド上の薄い被膜を提供する
のが本発明の主な目的である。
気ヘッドスライダの正常動作中のみならず、製作プロセ
ス中にも保護する、磁気ヘッド上の薄い被膜を提供する
のが本発明の主な目的である。
【００１５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、前端及
び後端と空気支持面上の少なくとも二つのレールとを備
えた磁気ヘッドスライダが提供される。レールはその表
面に薄い接着層と薄いアモルファス水素添加炭素層とか
ら成る保護被膜を備えている。
び後端と空気支持面上の少なくとも二つのレールとを備
えた磁気ヘッドスライダが提供される。レールはその表
面に薄い接着層と薄いアモルファス水素添加炭素層とか
ら成る保護被膜を備えている。
【００１６】特定の実施例では、接着層は厚さが約１０
から５０オングストロームのシリコンから成り、保護被
膜の厚さは約２５０オングストローム以下である。
から５０オングストロームのシリコンから成り、保護被
膜の厚さは約２５０オングストローム以下である。
【００１７】磁気ヘッドスライダを製造する方法は、空
気支持面を形成して磁気ヘッドを所定の寸法にしてから
、その空気支持面上に、薄い接着層と薄いアモルファス
水素添加炭素層とから成る保護被膜を堆積する工程と、
空気支持面上にレール以外の空気支持面の領域内で空気
支持面から所定の深さまで物質を除去することによりレ
ールのパターンを形成する工程と、磁気ヘッドスライダ
の正常動作中に、磁気ヘッドスライダを摩耗及び腐食の
損傷から、保護するようにする工程とから構成される。
気支持面を形成して磁気ヘッドを所定の寸法にしてから
、その空気支持面上に、薄い接着層と薄いアモルファス
水素添加炭素層とから成る保護被膜を堆積する工程と、
空気支持面上にレール以外の空気支持面の領域内で空気
支持面から所定の深さまで物質を除去することによりレ
ールのパターンを形成する工程と、磁気ヘッドスライダ
の正常動作中に、磁気ヘッドスライダを摩耗及び腐食の
損傷から、保護するようにする工程とから構成される。
【００１８】本発明の前述の及び他の目的、特徴、及び
利点は、付図により図解した本発明の好適実施例の以下
の更に詳細な説明から明らかになるであろう。
利点は、付図により図解した本発明の好適実施例の以下
の更に詳細な説明から明らかになるであろう。
【００１９】
【実施例】本発明は、磁気ヘッドスライダを備えている
磁気記録装置に関する。スライダは、薄膜磁気読み書き
ヘッドを支持しており、ヘッドは、磁性材料、導電性材
料、及び電気絶縁材料の層を堆積して、磁気記録媒体上
の磁性被膜と共に変換機能を行うのに必要な周知の磁極
片及び磁気間隙を形成することにより形成される。制作
中、複数の薄膜磁気ヘッドをウェーハ上に堆積し、次い
でこれを切断してトランスジューサが並行して設定され
ている状態のトランスジューサの列を形成する。薄膜磁
気ヘッドは所定のスローロ高さ寸法までラップ仕上げさ
れるが、これはヘッドの性能にとって非常に重要である
。レールのパターンをラップ仕上げ済みの表面上に形成
して、空気支持面（ＡＢＳ）を形成し、列を個別の磁気
ヘッドスライダに分離する。
磁気記録装置に関する。スライダは、薄膜磁気読み書き
ヘッドを支持しており、ヘッドは、磁性材料、導電性材
料、及び電気絶縁材料の層を堆積して、磁気記録媒体上
の磁性被膜と共に変換機能を行うのに必要な周知の磁極
片及び磁気間隙を形成することにより形成される。制作
中、複数の薄膜磁気ヘッドをウェーハ上に堆積し、次い
でこれを切断してトランスジューサが並行して設定され
ている状態のトランスジューサの列を形成する。薄膜磁
気ヘッドは所定のスローロ高さ寸法までラップ仕上げさ
れるが、これはヘッドの性能にとって非常に重要である
。レールのパターンをラップ仕上げ済みの表面上に形成
して、空気支持面（ＡＢＳ）を形成し、列を個別の磁気
ヘッドスライダに分離する。
【００２０】各スライダを懸吊装置に取り付け、これを
今度は、例えば、回転磁気ディスクに書き込むとき磁気
ヘッドにより形成されるトラック上に磁気ヘッドを位置
決めするアクセス装置に取り付ける。正常動作中、スラ
イダは、磁気記録媒体から、数マイクロインチの範囲の
狭い間隔をおいて、浮上する。
今度は、例えば、回転磁気ディスクに書き込むとき磁気
ヘッドにより形成されるトラック上に磁気ヘッドを位置
決めするアクセス装置に取り付ける。正常動作中、スラ
イダは、磁気記録媒体から、数マイクロインチの範囲の
狭い間隔をおいて、浮上する。
【００２１】ＡＢＳを形成する従来技術のプロセスは、
製造プロセスで敏感なヘッド構成要素に加わる腐食損傷
によりかなりな歩どまりの損失を生ずる可能性のあるこ
とがわかっている。これは、或る場合には、エッチング
動作中微妙な構成要素の被覆が不充分なためであり、ま
た他の場合には、エッチングプロセス中ヘッドを保護す
るのに使用したマスキング層を除去する期間中に或るヘ
ッド構成要素が損傷するためであることがわかっている
。
製造プロセスで敏感なヘッド構成要素に加わる腐食損傷
によりかなりな歩どまりの損失を生ずる可能性のあるこ
とがわかっている。これは、或る場合には、エッチング
動作中微妙な構成要素の被覆が不充分なためであり、ま
た他の場合には、エッチングプロセス中ヘッドを保護す
るのに使用したマスキング層を除去する期間中に或るヘ
ッド構成要素が損傷するためであることがわかっている
。
【００２２】ＡＢＳの形成後堆積した従来技術の保護層
は、現在の薄膜磁気ヘッドの動作中の寿命要件に合って
いないということもわかっている。動作中のヘッド／ス
ライダの寿命の劣化は、一部は、飛行中にヘッドと磁気
記録媒体との間が偶然に接触することにより生ずる機械
的摩耗によることがわかっている。機械的摩耗の他に、
薄膜磁気ヘッドは、大気の通常の構成成分により攻撃さ
れる多様な物質を含有している。ヘッドを大気に長くさ
らすと、酸化によりヘッド材料の腐食を生ずるためヘッ
ド性能の劣化を生ずる可能性がある。
は、現在の薄膜磁気ヘッドの動作中の寿命要件に合って
いないということもわかっている。動作中のヘッド／ス
ライダの寿命の劣化は、一部は、飛行中にヘッドと磁気
記録媒体との間が偶然に接触することにより生ずる機械
的摩耗によることがわかっている。機械的摩耗の他に、
薄膜磁気ヘッドは、大気の通常の構成成分により攻撃さ
れる多様な物質を含有している。ヘッドを大気に長くさ
らすと、酸化によりヘッド材料の腐食を生ずるためヘッ
ド性能の劣化を生ずる可能性がある。
【００２３】本発明によれば、薄い接着層と薄いアモル
ファス水素添加炭素層とから成る保護被膜は、薄膜磁気
ヘッドを、ＡＢＳ上にレールのパターンを形成する処理
においてばかりでなく、磁気ディスクファイルでのヘッ
ドの正常動作中にも、損傷から保護するのに有効である
ことが思いがけなくも観察された。これは、従来技術の
プロセスでは、処理中に使用する保護被膜はＡＢＳを形
成するエッチングプロセス中に次第に侵食されるため非
常に厚く作られていたので、予期しないことであった。 他方、動作中のスライダ上の保護層の全体の厚さは、そ
の厚さが薄膜磁気ヘッドと磁気記録媒体との間の間隔に
直接加わるための非常に薄い寸法に制限されている。特
定の実施例では、５０オングストローム程度の薄いアモ
ルファス水素添加炭素層でも製作歩どまりと、動作中の
ヘッドの寿命との双方がかなり改善されることがわかっ
た。
ファス水素添加炭素層とから成る保護被膜は、薄膜磁気
ヘッドを、ＡＢＳ上にレールのパターンを形成する処理
においてばかりでなく、磁気ディスクファイルでのヘッ
ドの正常動作中にも、損傷から保護するのに有効である
ことが思いがけなくも観察された。これは、従来技術の
プロセスでは、処理中に使用する保護被膜はＡＢＳを形
成するエッチングプロセス中に次第に侵食されるため非
常に厚く作られていたので、予期しないことであった。 他方、動作中のスライダ上の保護層の全体の厚さは、そ
の厚さが薄膜磁気ヘッドと磁気記録媒体との間の間隔に
直接加わるための非常に薄い寸法に制限されている。特
定の実施例では、５０オングストローム程度の薄いアモ
ルファス水素添加炭素層でも製作歩どまりと、動作中の
ヘッドの寿命との双方がかなり改善されることがわかっ
た。
【００２４】図１を参照すると、複数の薄膜磁気ヘッド
２０を備えた部分列１１の図が示されている。列１１の
表面１９は、各薄膜磁気ヘッド２０が所定のスロート高
さを有するようになるまでラップ仕上げされている。レ
ールのパターンは、表面１９の上に作られて空気支持面
（ＡＢＳ）を形成しており、列は次に個別の磁気ヘッド
スライダ１０に切離される。
２０を備えた部分列１１の図が示されている。列１１の
表面１９は、各薄膜磁気ヘッド２０が所定のスロート高
さを有するようになるまでラップ仕上げされている。レ
ールのパターンは、表面１９の上に作られて空気支持面
（ＡＢＳ）を形成しており、列は次に個別の磁気ヘッド
スライダ１０に切離される。
【００２５】レールのパターンは図２に示すようにする
ことができる。図２では、１対の外側レール１２、１４
が中心レール１６と共に作られている。外側レールはス
ライダ１０の前端１５から後端１７に向かって途中まで
延びているが、中心レールは前端１５から後端１７まで
延びている。薄膜磁気ヘッド２０は、中心レール１６の
後端に設けられている。
ことができる。図２では、１対の外側レール１２、１４
が中心レール１６と共に作られている。外側レールはス
ライダ１０の前端１５から後端１７に向かって途中まで
延びているが、中心レールは前端１５から後端１７まで
延びている。薄膜磁気ヘッド２０は、中心レール１６の
後端に設けられている。
【００２６】レールのパターンは、図３に示すようにす
ることもでき、この実施例は図１の列１１に示す構成に
対応する。この場合には外側レール１２、１４はスライ
ダ１０の前端１５から後端１７まで延びている。薄膜磁
気ヘッド２０は、外側レール１２、１４の後端１７に設
けられている。
ることもでき、この実施例は図１の列１１に示す構成に
対応する。この場合には外側レール１２、１４はスライ
ダ１０の前端１５から後端１７まで延びている。薄膜磁
気ヘッド２０は、外側レール１２、１４の後端１７に設
けられている。
【００２７】個別スライダ１０に作られるレールパター
ンは、ＡＢＳ１９の上に薄膜磁気ヘッド２０のラップ仕
上げされた磁極片と同じレベルにあり、残りは移動磁気
する記録媒体と協同して、記録媒体から所定の高さの所
までスライダル１０を浮上させる、圧力プロファイルを
生じるように選定された深さだけ、ＡＢＳ１９よりへこ
んでいる、凹領域１８である。
ンは、ＡＢＳ１９の上に薄膜磁気ヘッド２０のラップ仕
上げされた磁極片と同じレベルにあり、残りは移動磁気
する記録媒体と協同して、記録媒体から所定の高さの所
までスライダル１０を浮上させる、圧力プロファイルを
生じるように選定された深さだけ、ＡＢＳ１９よりへこ
んでいる、凹領域１８である。
【００２８】本発明によれば、ヘッドが所定のスロート
高さになるようにラップ仕上げされてからレールパター
ンがＡＢＳ上に作られる前の或る時間に、保護被膜がＡ
ＢＳ上に作られる。この保護被膜は、薄膜磁気ヘッドを
三つの態様で保護する。先ず、保護被膜は、ヘッド／ス
ライダを処理してレールのパターンをＡＢＳ上に形成す
る工程中に薄膜磁気ヘッドを保護するのに有効である。 保護被膜は、磁気ディスクファイルでのヘッドの正常動
作中に、例えば、ヘッド及びＡＢＳを、ヘッド／スライ
ダと磁気記録媒体との間の偶然の接触により生ずる機械
的摩耗から保護するのにも有効である。機械的摩耗の他
に、保護被膜は、大気の通常構成成分により攻撃される
磁気ヘッドに含まれている多様な物質を、装置の正常動
作中に酸化及び腐食から保護するのにも有効である。
高さになるようにラップ仕上げされてからレールパター
ンがＡＢＳ上に作られる前の或る時間に、保護被膜がＡ
ＢＳ上に作られる。この保護被膜は、薄膜磁気ヘッドを
三つの態様で保護する。先ず、保護被膜は、ヘッド／ス
ライダを処理してレールのパターンをＡＢＳ上に形成す
る工程中に薄膜磁気ヘッドを保護するのに有効である。 保護被膜は、磁気ディスクファイルでのヘッドの正常動
作中に、例えば、ヘッド及びＡＢＳを、ヘッド／スライ
ダと磁気記録媒体との間の偶然の接触により生ずる機械
的摩耗から保護するのにも有効である。機械的摩耗の他
に、保護被膜は、大気の通常構成成分により攻撃される
磁気ヘッドに含まれている多様な物質を、装置の正常動
作中に酸化及び腐食から保護するのにも有効である。
【００２９】保護被膜２２（図５及び図６）は２層から
構成されており、第１の層は適切な接着層２４であり、
第２の層は薄いアモルファス水素添加炭素層である。特
定の実施例では、接着層２４は厚さ約５０オングストロ
ームのシリコンであり、保護被膜の全体の厚さは約２５
０オングストロームである。他の特定の実施例では、接
着層２４は厚さ約３０オングストロームのシリコンであ
り、保護被膜の全体の厚さは約１２５オングストローム
である。
構成されており、第１の層は適切な接着層２４であり、
第２の層は薄いアモルファス水素添加炭素層である。特
定の実施例では、接着層２４は厚さ約５０オングストロ
ームのシリコンであり、保護被膜の全体の厚さは約２５
０オングストロームである。他の特定の実施例では、接
着層２４は厚さ約３０オングストロームのシリコンであ
り、保護被膜の全体の厚さは約１２５オングストローム
である。
【００３０】本発明による磁気ヘッドスライダを製造す
るプロセスを、図４Ａ及至４Ｄを参照して説明すること
にする。このプロセスは、単独スライダ１０または望ま
しくは、並行関係に並んだ複数のスライダを有する列１
１からなる基板１３から出発する。薄膜磁気ヘッド２０
は、列１１の第１の表面２１の上に製作され、第１の表
面２１は、ＡＢＳ１９に対して実質上９０°を成してい
る。ＡＢＳ１９は、薄膜磁気ヘッドが所定のスロート高
さに達するまでラップ仕上げされる。ラップ仕上げは、
例えば米国特許４、９１２、８８３に記されているよう
、適切な手法によって行うことができる。又、薄膜磁気
ヘッド２０が磁気抵抗性（ＭＲ）読み取りトランスジュ
ーサを有する場合には、米国特許４、９１４、８６８に
記されているようにラップ仕上げを行うことができる。 この場合、ＡＢＳは、ＭＲ読み取りトランスジューサが
所定のＭＲ素子の高さに達するまでラップ仕上げされる
。
るプロセスを、図４Ａ及至４Ｄを参照して説明すること
にする。このプロセスは、単独スライダ１０または望ま
しくは、並行関係に並んだ複数のスライダを有する列１
１からなる基板１３から出発する。薄膜磁気ヘッド２０
は、列１１の第１の表面２１の上に製作され、第１の表
面２１は、ＡＢＳ１９に対して実質上９０°を成してい
る。ＡＢＳ１９は、薄膜磁気ヘッドが所定のスロート高
さに達するまでラップ仕上げされる。ラップ仕上げは、
例えば米国特許４、９１２、８８３に記されているよう
、適切な手法によって行うことができる。又、薄膜磁気
ヘッド２０が磁気抵抗性（ＭＲ）読み取りトランスジュ
ーサを有する場合には、米国特許４、９１４、８６８に
記されているようにラップ仕上げを行うことができる。 この場合、ＡＢＳは、ＭＲ読み取りトランスジューサが
所定のＭＲ素子の高さに達するまでラップ仕上げされる
。
【００３１】薄膜磁気ヘッド２０のラップ仕上げ済みの
列を図４Ａに示す。次に、接着層２４と薄いアモルファ
ス水晶添加炭素層２６とから成る、２層構成の保護被膜
２２をＡＢＳ１９の上に堆積する（図４Ｂ）。特定の実
施例では、接着層２４はアモルファスシリコンの堆積層
から構成されている。典型的には、シリコンは約１０〜
５０オングストロームの厚さまで堆積されるが、可能な
範囲は単層から約５００オングストロームまである。し
かし、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間の間隔の増大を
制限するという観点から、シリコンの更に薄い層（５０
オングストローム未満）が望ましい。
列を図４Ａに示す。次に、接着層２４と薄いアモルファ
ス水晶添加炭素層２６とから成る、２層構成の保護被膜
２２をＡＢＳ１９の上に堆積する（図４Ｂ）。特定の実
施例では、接着層２４はアモルファスシリコンの堆積層
から構成されている。典型的には、シリコンは約１０〜
５０オングストロームの厚さまで堆積されるが、可能な
範囲は単層から約５００オングストロームまである。し
かし、磁気ヘッドと磁気記録媒体との間の間隔の増大を
制限するという観点から、シリコンの更に薄い層（５０
オングストローム未満）が望ましい。
【００３２】アモルファス水素添加炭素層２６は、約５
０〜１０００オングストロームの厚さに堆積される。５
０オングストローム程度の薄いアモルファス水素添加炭
素層２６でも、耐摩耗性及び、腐食性をかなり改善する
ことがわかっている。しかし、更に厚い層は保護を増大
するので望ましく、従って、厚さは磁気ヘッドと磁気記
録媒体との間の間隔の許容増加量に基づいて選定される
。
０〜１０００オングストロームの厚さに堆積される。５
０オングストローム程度の薄いアモルファス水素添加炭
素層２６でも、耐摩耗性及び、腐食性をかなり改善する
ことがわかっている。しかし、更に厚い層は保護を増大
するので望ましく、従って、厚さは磁気ヘッドと磁気記
録媒体との間の間隔の許容増加量に基づいて選定される
。
【００３３】保護被膜２２の２層は、プラズマ援助化学
蒸着、イオンビームまたはレーザによる各技法のような
適切な任意の技法によって堆積することができる。望ま
しい技法は、ＲＦプラズマ蒸着装置内でＤＣバイアス基
板を使用することによるものである。炭素層２６の膜の
性質は、堆積パラメータを適切に選定することによって
制御することができる。これらパラメータには、堆積中
の制御温度及び部品のバイアス、ＲＦパワー、アルゴン
スパッタガス中の水素含有量、スパッタガスの圧力、及
びターゲットから基板までの間隔がある。
蒸着、イオンビームまたはレーザによる各技法のような
適切な任意の技法によって堆積することができる。望ま
しい技法は、ＲＦプラズマ蒸着装置内でＤＣバイアス基
板を使用することによるものである。炭素層２６の膜の
性質は、堆積パラメータを適切に選定することによって
制御することができる。これらパラメータには、堆積中
の制御温度及び部品のバイアス、ＲＦパワー、アルゴン
スパッタガス中の水素含有量、スパッタガスの圧力、及
びターゲットから基板までの間隔がある。
【００３４】列１１の上に保護被膜２２が堆積されると
、パターン可能材料の薄層３０を列１１の上に堆積する
。望ましい材料はフォトレジスト材料であり、この材料
を適切なマスク（図示せず）を通して露光し、パターン
可能材料層３０に所要レールパターンの陰画像を作る。 パターン可能材料を現像して所要レールパターンの画像
のマスクを作る。
、パターン可能材料の薄層３０を列１１の上に堆積する
。望ましい材料はフォトレジスト材料であり、この材料
を適切なマスク（図示せず）を通して露光し、パターン
可能材料層３０に所要レールパターンの陰画像を作る。 パターン可能材料を現像して所要レールパターンの画像
のマスクを作る。
【００３５】次いでマスクされた列１１に、図４Ｃに矢
印で示したように、例えば、反応性イオンエッチング、
スパッタエッチング、イオンミリング、またはレーザエ
ッチングのような適切なエッチングプロセス（図４Ｃ）
を施す。保護被膜２２の露光部分をエッチングによって
除去し、次に列１１のＡＢＳ１９を、磁気記録媒体との
正常動作時にスライダ１０に対して、所要の浮上特性を
付与するように選定した深さまでエッチングする。
印で示したように、例えば、反応性イオンエッチング、
スパッタエッチング、イオンミリング、またはレーザエ
ッチングのような適切なエッチングプロセス（図４Ｃ）
を施す。保護被膜２２の露光部分をエッチングによって
除去し、次に列１１のＡＢＳ１９を、磁気記録媒体との
正常動作時にスライダ１０に対して、所要の浮上特性を
付与するように選定した深さまでエッチングする。
【００３６】次にパターン可能材料３０の残りを、例え
ば、適切な溶媒を使用することにより除去して（図４Ｄ
）スライダの列１１を作る。保護被膜２２の残りの部分
は、スライダ１０のレールを覆い、スライダレール製作
プロセス中スライダを保護する。列１１を成すスライダ
を次に分離して図５及び図６に示すように個別のスライ
ダを形成する。保護被膜はまた薄膜磁気ヘッド２０及び
ＡＢＳを、磁気記録装置内のスライダ１０の正常動作中
、摩耗及び腐食による損傷から保護する。
ば、適切な溶媒を使用することにより除去して（図４Ｄ
）スライダの列１１を作る。保護被膜２２の残りの部分
は、スライダ１０のレールを覆い、スライダレール製作
プロセス中スライダを保護する。列１１を成すスライダ
を次に分離して図５及び図６に示すように個別のスライ
ダを形成する。保護被膜はまた薄膜磁気ヘッド２０及び
ＡＢＳを、磁気記録装置内のスライダ１０の正常動作中
、摩耗及び腐食による損傷から保護する。
【００３７】磁気ヘッドを、製作中のみならず、例えば
、磁気ディスクファイルでの正常動作中にも損傷から保
護する、薄い接着層と薄いアモルファス水素添加炭素層
とから成る、薄い保護被膜を備えている磁気ヘッドスラ
イダについて開示した。この構造は、製作中に厚い保護
被膜を使用してから除去し、スライダの製作後薄い保護
被膜を堆積して使用中の保護被膜として役立てる従来技
術の手法とは対照的である。本発明は、製造歩どまりを
一層大きくすると共に磁気記録装置での動作時の寿命を
一層長くする。
、磁気ディスクファイルでの正常動作中にも損傷から保
護する、薄い接着層と薄いアモルファス水素添加炭素層
とから成る、薄い保護被膜を備えている磁気ヘッドスラ
イダについて開示した。この構造は、製作中に厚い保護
被膜を使用してから除去し、スライダの製作後薄い保護
被膜を堆積して使用中の保護被膜として役立てる従来技
術の手法とは対照的である。本発明は、製造歩どまりを
一層大きくすると共に磁気記録装置での動作時の寿命を
一層長くする。
【００３８】本発明についてその好適実施例を参照して
特に図示し且つ説明したが、当業者は、これに関して本
発明の精神及び範囲を逸脱することなく形態及び細部に
他の種々な変更を行うことができることを理解するであ
ろう。
特に図示し且つ説明したが、当業者は、これに関して本
発明の精神及び範囲を逸脱することなく形態及び細部に
他の種々な変更を行うことができることを理解するであ
ろう。
【００３９】
【発明の効果】保護被膜は、レールの製作プロセス中に
磁気ヘッドを保護すると共に磁気記録装置での使用中に
磁気ヘッドを摩耗及び腐食の損傷から保護する。
磁気ヘッドを保護すると共に磁気記録装置での使用中に
磁気ヘッドを摩耗及び腐食の損傷から保護する。
【図１】薄膜磁気ヘッドの部分列の平面図である。
【図２】磁気ヘッドスライダの特定の実施例の下面平面
図である。
図である。
【図３】磁気ヘッドスライダの別の実施例の下面平面図
である。
である。
【図４Ａ】本発明による磁気ヘッドスライダを作るプロ
セスの一工程における、薄膜磁気ヘッドの部分列を示す
図である。
セスの一工程における、薄膜磁気ヘッドの部分列を示す
図である。
【図４Ｂ】本発明による磁気ヘッドスライダを作るプロ
セスの一工程における、薄膜磁気ヘッドの部分列を示す
図である。
セスの一工程における、薄膜磁気ヘッドの部分列を示す
図である。
【図４Ｃ】本発明による磁気ヘッドスライダを作るプロ
セスの一工程における、薄膜磁気ヘッドの部分列を示す
図である。
セスの一工程における、薄膜磁気ヘッドの部分列を示す
図である。
【図４Ｄ】本発明による磁気ヘッドスライダを作るプロ
セスの一工程における、薄膜磁気ヘッドの部分列を示す
図である。
セスの一工程における、薄膜磁気ヘッドの部分列を示す
図である。
【図５】本発明による磁気ヘッドスライダの特定の実施
例の後端の平面図である。
例の後端の平面図である。
【図６】本発明による磁気ヘッドスライダの別の実施例
の後端の平面図である。
の後端の平面図である。
１０・・・磁気ヘッドスライダ
１２，１４・・・外側レール
２０・・・磁気ヘッド
２２・・・保護被膜
２４・・・接着層
Claims (11)
- 【請求項１】前端及び後端と空気支持面とを有するスラ
イダ構造体と、前記空気支持面上にあって、薄い接着層
と薄いアモルファス水素添加炭素層とから成る保護被膜
を有するパターン領域とを有することを特徴とする磁気
ヘッド支持用磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項２】前記パターン領域は、少なくとも一つのレ
ールを備えていることを特徴とする請求項１に記載の磁
気ヘッドスライダ。 - 【請求項３】前記接着層は、シリコンから成ることを特
徴とする請求項２に記載の磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項４】前記接着層の厚さは約１０〜５０オングス
トロームであることを特徴とする請求項３に記載の磁気
ヘッドスライダ。 - 【請求項５】前記保護被膜の厚さは約２５０オングスト
ローム以下であることを特徴とする請求項４に記載の磁
気ヘッドスライダ。 - 【請求項６】磁気ヘッドが所定寸法になるように形成さ
れた空気支持面を備えている、磁気ヘッド支持用の、磁
気ヘッドスライダを製造する方法であって、前記スライ
ダの前記空気支持面上に、薄い接着層と薄いアモルファ
ス水素添加炭素層とから成る保護被膜を堆積する工程と
、前記空気支持面上に少なくとも一つのレールのパター
ンを、前記レール以外の前記空気支持面の領域内で前記
空気支持面から所定の深さまで物質を除去することによ
り形成する工程と、磁気記録装置内で前記スライダが正
常に動作している期間中、保護被膜が磁気ヘッドと空気
支持面とを摩耗及び腐食の損傷から保護する働きをする
ように、前記レール上に、前記保護被膜を保持する工程
とから成ることを特徴とする磁気ヘッドスライダの製造
方法。 - 【請求項７】前記レールのパターンを形成する工程は、
エッチングプロセスにより行われることを特徴とする請
求項６に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項８】前記エッチングプロセスは、反応性イオン
エッチングから成ることを特徴とする請求項７に記載の
磁気ヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項９】前記接着層はシリコンから成ることを特徴
とする請求項６に記載の磁気ヘッドスライダの製造方法
。 - 【請求項１０】前記接着層の厚さは約１０〜５０オング
ストロームであることを特徴とする請求項９に記載の磁
気ヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項１１】前記保護被膜の厚さは約２５０オングス
トローム以下であることを特徴とする請求項１０に記載
の磁気ヘッドスライダの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US634671 | 1990-12-27 | ||
| US07/634,671 US5159508A (en) | 1990-12-27 | 1990-12-27 | Magnetic head slider having a protective coating thereon |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04364217A true JPH04364217A (ja) | 1992-12-16 |
| JPH0827925B2 JPH0827925B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=24544755
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3315280A Expired - Lifetime JPH0827925B2 (ja) | 1990-12-27 | 1991-11-05 | 保護被膜を有する磁気ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5159508A (ja) |
| JP (1) | JPH0827925B2 (ja) |
| KR (1) | KR960001288B1 (ja) |
| CA (1) | CA2055801C (ja) |
| MY (1) | MY121891A (ja) |
| TW (1) | TW197521B (ja) |
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| JP2016522529A (ja) * | 2013-06-07 | 2016-07-28 | パーデュー・リサーチ・ファウンデーションＰｕｒｄｕｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ Ｆｏｕｎｄａｔｉｏｎ | 熱アシスト磁気記録のための近接場トランスデューサ |
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|---|---|---|---|---|
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| US5190824A (en) | 1988-03-07 | 1993-03-02 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Electrostatic-erasing abrasion-proof coating |
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