JPH11110729A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドおよびその製造方法Info
- Publication number
- JPH11110729A JPH11110729A JP9268339A JP26833997A JPH11110729A JP H11110729 A JPH11110729 A JP H11110729A JP 9268339 A JP9268339 A JP 9268339A JP 26833997 A JP26833997 A JP 26833997A JP H11110729 A JPH11110729 A JP H11110729A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slider
- phase
- thin film
- recording medium
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B21/00—Head arrangements not specific to the method of recording or reproducing
- G11B21/16—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads
- G11B21/20—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier
- G11B21/21—Supporting the heads; Supporting the sockets for plug-in heads while the head is in operative position but stationary or permitting minor movements to follow irregularities in surface of record carrier with provision for maintaining desired spacing of head from record carrier, e.g. fluid-dynamic spacing, slider
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/4806—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed specially adapted for disk drive assemblies, e.g. assembly prior to operation, hard or flexible disk drives
- G11B5/4826—Mounting, aligning or attachment of the transducer head relative to the arm assembly, e.g. slider holding members, gimbals, adhesive
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/60—Fluid-dynamic spacing of heads from record-carriers
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49048—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing]
- Y10T29/49052—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing] by etching
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来、スライダの対向面および薄膜素子表面
に保護層としてのカーボン膜を成膜するには、前記カー
ボン膜の下に下地層を成膜する必要があったが、仮に下
地層を成膜しないで、直接カーボン膜を成膜すると、前
記カーボン膜と薄膜素子を構成するＮｉＦｅ系合金製の
コア層表面とで異常拡散が起こり、前記カーボン膜が剥
離したり、また前記カーボン膜に斑が発生してしまう。
これは、前記コア層表面を構成する結晶構造がα相（体
心立方格子）で、このα相の膜厚が非常に厚くなってい
ることによる。 【解決手段】 コア層１３，１５の表面を研磨などし
て、前記コア層１３，１５表面を構成するα相の膜厚を
非常に薄くしているので、直接カーボン膜１０を成膜し
ても、α相との間で適度な拡散が起こり、従って前記カ
ーボン膜１０に剥離や斑が発生することがない。
に保護層としてのカーボン膜を成膜するには、前記カー
ボン膜の下に下地層を成膜する必要があったが、仮に下
地層を成膜しないで、直接カーボン膜を成膜すると、前
記カーボン膜と薄膜素子を構成するＮｉＦｅ系合金製の
コア層表面とで異常拡散が起こり、前記カーボン膜が剥
離したり、また前記カーボン膜に斑が発生してしまう。
これは、前記コア層表面を構成する結晶構造がα相（体
心立方格子）で、このα相の膜厚が非常に厚くなってい
ることによる。 【解決手段】 コア層１３，１５の表面を研磨などし
て、前記コア層１３，１５表面を構成するα相の膜厚を
非常に薄くしているので、直接カーボン膜１０を成膜し
ても、α相との間で適度な拡散が起こり、従って前記カ
ーボン膜１０に剥離や斑が発生することがない。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばハードディ
スク装置などに搭載されるスライダを備えた磁気ヘッド
に係り、特に前記スライダに取り付けられる薄膜素子の
コア層表面に直接カーボン膜を成膜できるようにし、且
つスペーシングロスを低減させることが可能な磁気ヘッ
ドおよびその製造方法に関する。
スク装置などに搭載されるスライダを備えた磁気ヘッド
に係り、特に前記スライダに取り付けられる薄膜素子の
コア層表面に直接カーボン膜を成膜できるようにし、且
つスペーシングロスを低減させることが可能な磁気ヘッ
ドおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、ハードディスクなどに搭載され
る従来の磁気ヘッドを記録媒体との対向面を上向きにし
て示した断面図である。この磁気ヘッドでは、ディスク
の移動方向に対して上流側（イ）がリーディング側と呼
ばれ、下流側（ロ）が、トレーリング側と呼ばれてい
る。図４に示す符号１はセラミック材料などにより形成
されたスライダであり、前記スライダ１のディスク対向
部には、対向面５（浮上面；ＡＢＳ面）が形成されてい
る。この対向面５は図に示すように、所定の曲率のクラ
ウン形状に加工されている。またこの対向面５のリーデ
ィング（イ）側には、傾斜面６が形成されている。
る従来の磁気ヘッドを記録媒体との対向面を上向きにし
て示した断面図である。この磁気ヘッドでは、ディスク
の移動方向に対して上流側（イ）がリーディング側と呼
ばれ、下流側（ロ）が、トレーリング側と呼ばれてい
る。図４に示す符号１はセラミック材料などにより形成
されたスライダであり、前記スライダ１のディスク対向
部には、対向面５（浮上面；ＡＢＳ面）が形成されてい
る。この対向面５は図に示すように、所定の曲率のクラ
ウン形状に加工されている。またこの対向面５のリーデ
ィング（イ）側には、傾斜面６が形成されている。
【０００３】図４に示すように、スライダ１のトレーリ
ング側（ロ）端部２には薄膜素子３およびこの薄膜素子
３を覆うための保護層８が設けられている。なお前記薄
膜素子３の構造に関しては、後で詳述する。そして、図
４に示すように、前記対向面５および記録媒体に対向す
る薄膜素子３の表面には、ＳｉＯ2あるいはＳｉで形成
された下地層９が形成され、さらに前記下地層９の上に
はカーボン膜１０が成膜されている。このカーボン膜１
０は保護層としての役割を担う層であるが、前記カーボ
ン膜１０を成膜することで、例えば、薄膜素子３表面の
腐食を防止でき、また仮に磁気ヘッドが記録媒体に衝突
しても、前記薄膜素子３表面および対向面５が、カーボ
ン膜１０により摩耗しにくくなっている。
ング側（ロ）端部２には薄膜素子３およびこの薄膜素子
３を覆うための保護層８が設けられている。なお前記薄
膜素子３の構造に関しては、後で詳述する。そして、図
４に示すように、前記対向面５および記録媒体に対向す
る薄膜素子３の表面には、ＳｉＯ2あるいはＳｉで形成
された下地層９が形成され、さらに前記下地層９の上に
はカーボン膜１０が成膜されている。このカーボン膜１
０は保護層としての役割を担う層であるが、前記カーボ
ン膜１０を成膜することで、例えば、薄膜素子３表面の
腐食を防止でき、また仮に磁気ヘッドが記録媒体に衝突
しても、前記薄膜素子３表面および対向面５が、カーボ
ン膜１０により摩耗しにくくなっている。
【０００４】図２は、スライダ１のトレーリング側端部
２に設けられた薄膜素子３の構造を示すものであり、図
４に示すＩＩ矢視の斜視図である。なお図２には、図４
に示す下地層９、カーボン膜１０、および保護層８は図
示されていない。図２に示すように、トレーリング側端
面２上には、ＮｉＦｅ系合金（パーマロイ）などで形成
された下部シールド層１１が形成されている。この下部
シールド層１１の上には、下部ギャップ層（図示しな
い）を介して磁気抵抗効果素子層１２が形成されてお
り、さらに前記磁気抵抗効果素子層１２の上には、上部
シールド層（図示しない）を介してＮｉＦｅ系合などで
形成された下部コア層（上部シールド層）１３が形成さ
れている。前記下部コア層１３の上には、ギャップ層
（図示しない）を介してコイル層１４が螺旋状に形成さ
れており、さらに前記コイル層１４の上に絶縁層（図示
しない）などを介して上部コア層１５が形成されてい
る。なお前記上部コア層１５は下部コア層１３と同様に
ＮｉＦｅ系合金などの磁性材料により形成されている。
２に設けられた薄膜素子３の構造を示すものであり、図
４に示すＩＩ矢視の斜視図である。なお図２には、図４
に示す下地層９、カーボン膜１０、および保護層８は図
示されていない。図２に示すように、トレーリング側端
面２上には、ＮｉＦｅ系合金（パーマロイ）などで形成
された下部シールド層１１が形成されている。この下部
シールド層１１の上には、下部ギャップ層（図示しな
い）を介して磁気抵抗効果素子層１２が形成されてお
り、さらに前記磁気抵抗効果素子層１２の上には、上部
シールド層（図示しない）を介してＮｉＦｅ系合などで
形成された下部コア層（上部シールド層）１３が形成さ
れている。前記下部コア層１３の上には、ギャップ層
（図示しない）を介してコイル層１４が螺旋状に形成さ
れており、さらに前記コイル層１４の上に絶縁層（図示
しない）などを介して上部コア層１５が形成されてい
る。なお前記上部コア層１５は下部コア層１３と同様に
ＮｉＦｅ系合金などの磁性材料により形成されている。
【０００５】図２に示すように、前記上部コア層１５の
先端部は、下部コア層１３と磁気ギャップＧを介して対
向し、また前記上部コア層１５の基端部１５ａは、前記
下部コア層１３と接合されている。この薄膜素子３は、
下部シールド層１１から下部コア層（上部シールド層）
１３までの多層膜が磁気抵抗効果を利用してハードディ
スクなどの記録媒体からの洩れ磁界を検出し磁気信号を
読み取るＭＲヘッド（読み出しヘッド）であり、このＭ
Ｒヘッドの上に、下部コア層１３から上部コア層１５ま
での多層膜により構成されるインダクティブヘッド（書
き込みヘッド）が積層されている。
先端部は、下部コア層１３と磁気ギャップＧを介して対
向し、また前記上部コア層１５の基端部１５ａは、前記
下部コア層１３と接合されている。この薄膜素子３は、
下部シールド層１１から下部コア層（上部シールド層）
１３までの多層膜が磁気抵抗効果を利用してハードディ
スクなどの記録媒体からの洩れ磁界を検出し磁気信号を
読み取るＭＲヘッド（読み出しヘッド）であり、このＭ
Ｒヘッドの上に、下部コア層１３から上部コア層１５ま
での多層膜により構成されるインダクティブヘッド（書
き込みヘッド）が積層されている。
【０００６】図４に示す磁気ヘッドのスライダ１は、ロ
ードビームの先端に固定されたフレキシャに支持され、
スライダ１は、板バネにより形成されたロードビームの
弾性力により、ディスクに付勢されている。この磁気ヘ
ッドは、いわゆるＣＳＳ（コンタクト・スタート・スト
ップ）方式のハードディスク装置に使用され、ディスク
が停止しているときは、前記弾性力によりスライダ１の
対向面５がディスクの記録面に接触する。ディスクが始
動すると、ディスクの移動方向に沿ってスライダ１とデ
ィスク表面との間に空気流が導かれ、対向面５が空気流
による浮上力を受けて、スライダ１がディスク表面から
短い距離だけ浮上する。浮上姿勢では、リーディング側
（イ）がトレーリング側（ロ）よりもディスク上に高く
持ち上がる傾斜した浮上姿勢となる。この浮上姿勢に
て、図２に示す薄膜素子３の下部コア層１３と上部コア
層１５との間で発生する漏れ磁界によりディスクに記録
信号が書込まれたり、あるいは前記薄膜素子３の磁気抵
抗効果素子層１２によりディスクからの磁気信号が検出
される。
ードビームの先端に固定されたフレキシャに支持され、
スライダ１は、板バネにより形成されたロードビームの
弾性力により、ディスクに付勢されている。この磁気ヘ
ッドは、いわゆるＣＳＳ（コンタクト・スタート・スト
ップ）方式のハードディスク装置に使用され、ディスク
が停止しているときは、前記弾性力によりスライダ１の
対向面５がディスクの記録面に接触する。ディスクが始
動すると、ディスクの移動方向に沿ってスライダ１とデ
ィスク表面との間に空気流が導かれ、対向面５が空気流
による浮上力を受けて、スライダ１がディスク表面から
短い距離だけ浮上する。浮上姿勢では、リーディング側
（イ）がトレーリング側（ロ）よりもディスク上に高く
持ち上がる傾斜した浮上姿勢となる。この浮上姿勢に
て、図２に示す薄膜素子３の下部コア層１３と上部コア
層１５との間で発生する漏れ磁界によりディスクに記録
信号が書込まれたり、あるいは前記薄膜素子３の磁気抵
抗効果素子層１２によりディスクからの磁気信号が検出
される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来では、ス
ライダ１の対向面５および薄膜素子３表面に下地層９を
介して保護層としてのカーボン膜１０が成膜されていた
が、仮に前記下地層９を設けないで、直接薄膜素子３表
面にカーボン膜１０を成膜すると、カーボン膜１０が剥
離したり、また前記カーボン膜１０が均一に成膜され
ず、前記カーボン膜１０表面に凹凸が形成されたり、あ
るいは前記カーボン膜１０が斑状に形成されるなどの不
具合が生じる。
ライダ１の対向面５および薄膜素子３表面に下地層９を
介して保護層としてのカーボン膜１０が成膜されていた
が、仮に前記下地層９を設けないで、直接薄膜素子３表
面にカーボン膜１０を成膜すると、カーボン膜１０が剥
離したり、また前記カーボン膜１０が均一に成膜され
ず、前記カーボン膜１０表面に凹凸が形成されたり、あ
るいは前記カーボン膜１０が斑状に形成されるなどの不
具合が生じる。
【０００８】これは、薄膜素子３のコア層表面の結晶構
造に起因している。前述したように、図２に示す下部コ
ア層１３および上部コア層１５はＮｉＦｅ系合金で形成
されているが、Ｘ線回折により、前記コア層１３，１５
の結晶構造を調べてみると、コア層１３，１５の内部で
はγ相（面心立方格子）が主体となっており、前記コア
層１３，１５の表面ではα相（体心立方格子）が主体と
なっていることがわかった。なおこのα相の膜厚は非常
に厚く、前記膜厚は最大で２００μｍにも達する。この
ように、コア層１３，１５の表面の結晶構造が、厚い膜
厚を有するα相で構成されていると、前記コア層１３，
１５の表面に直接、カーボン膜１０を成膜した場合、前
記α相とカーボン膜１０との間で異常拡散が起こり、こ
のため前記カーボン膜１０の膜厚が均一にならず、また
前記カーボン膜１０が剥離してしまうなどの問題が生じ
る。
造に起因している。前述したように、図２に示す下部コ
ア層１３および上部コア層１５はＮｉＦｅ系合金で形成
されているが、Ｘ線回折により、前記コア層１３，１５
の結晶構造を調べてみると、コア層１３，１５の内部で
はγ相（面心立方格子）が主体となっており、前記コア
層１３，１５の表面ではα相（体心立方格子）が主体と
なっていることがわかった。なおこのα相の膜厚は非常
に厚く、前記膜厚は最大で２００μｍにも達する。この
ように、コア層１３，１５の表面の結晶構造が、厚い膜
厚を有するα相で構成されていると、前記コア層１３，
１５の表面に直接、カーボン膜１０を成膜した場合、前
記α相とカーボン膜１０との間で異常拡散が起こり、こ
のため前記カーボン膜１０の膜厚が均一にならず、また
前記カーボン膜１０が剥離してしまうなどの問題が生じ
る。
【０００９】またコア層１３，１５の表面を構成するα
相の膜厚が厚いと、スペーシングロスが増大し、記録磁
界が低下するといった問題も生じる。これはコア層１
３，１５のγ相までが実質的にコアとして機能してお
り、前記コア層１３，１５表面を構成するα相がコアと
しての役割を果たしていないことによる。従って、前記
α相はスペーシングロスとなり、前記α相の膜厚が厚い
ほど、スペーシングロスは増大することになる。
相の膜厚が厚いと、スペーシングロスが増大し、記録磁
界が低下するといった問題も生じる。これはコア層１
３，１５のγ相までが実質的にコアとして機能してお
り、前記コア層１３，１５表面を構成するα相がコアと
しての役割を果たしていないことによる。従って、前記
α相はスペーシングロスとなり、前記α相の膜厚が厚い
ほど、スペーシングロスは増大することになる。
【００１０】本発明は、上記従来の課題を解決するため
のものであり、コア層表面におけるα相の膜厚を適性に
調節して、直接前記コア層表面にカーボン膜を成膜でき
るようにし、且つスペーシングロスを低減させた磁気ヘ
ッドおよびその製造方法を提供することを目的としてい
る。
のものであり、コア層表面におけるα相の膜厚を適性に
調節して、直接前記コア層表面にカーボン膜を成膜でき
るようにし、且つスペーシングロスを低減させた磁気ヘ
ッドおよびその製造方法を提供することを目的としてい
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、スライダと、
このスライダのトレーリング側端部に設けられ、ＮｉＦ
ｅ系合金層を有する磁気記録および／または再生用の薄
膜素子とから成り、記録媒体が停止しているとき、前記
スライダの対向面が前記記録媒体表面に接触し、記録媒
体の始動後は、記録媒体表面の空気流による浮上力を受
ける磁気ヘッドにおいて、記録媒体と対向する薄膜素子
の表面および前記スライダの対向面に直接、カーボン膜
が成膜されていることを特徴とするものである。
このスライダのトレーリング側端部に設けられ、ＮｉＦ
ｅ系合金層を有する磁気記録および／または再生用の薄
膜素子とから成り、記録媒体が停止しているとき、前記
スライダの対向面が前記記録媒体表面に接触し、記録媒
体の始動後は、記録媒体表面の空気流による浮上力を受
ける磁気ヘッドにおいて、記録媒体と対向する薄膜素子
の表面および前記スライダの対向面に直接、カーボン膜
が成膜されていることを特徴とするものである。
【００１２】本発明では、前記薄膜素子を構成するＮｉ
Ｆｅ系合金層表面の結晶構造は、α相（体心立方格子）
から成り、前記α相の膜厚が、０．５〜４０ｎｍの範囲
内であることが好ましい。より好ましくは前記α相の膜
厚が、１．０〜２０ｎｍの範囲内である。
Ｆｅ系合金層表面の結晶構造は、α相（体心立方格子）
から成り、前記α相の膜厚が、０．５〜４０ｎｍの範囲
内であることが好ましい。より好ましくは前記α相の膜
厚が、１．０〜２０ｎｍの範囲内である。
【００１３】なお本発明では、前記薄膜素子を構成する
ＮｉＦｅ系合金層表面の結晶構造がγ相（面心立方格
子）であり、前記カーボン膜が前記γ相の表面への拡散
層を介して成膜されるものであってもよい。
ＮｉＦｅ系合金層表面の結晶構造がγ相（面心立方格
子）であり、前記カーボン膜が前記γ相の表面への拡散
層を介して成膜されるものであってもよい。
【００１４】また本発明では、前記カーボン膜に代えて
ＣＮ膜（窒化炭素膜）が、成膜されていてもよい。
ＣＮ膜（窒化炭素膜）が、成膜されていてもよい。
【００１５】また本発明は、スライダと、このスライダ
のトレーリング側端部に設けられ、ＮｉＦｅ系合金層を
有する磁気記録および／または再生用の薄膜素子とから
成り、記録媒体が停止しているとき、前記スライダの対
向面が前記記録媒体表面に接触し、記録媒体の始動後
は、記録媒体表面の空気流による浮上力を受ける磁気ヘ
ッドの製造方法において、
のトレーリング側端部に設けられ、ＮｉＦｅ系合金層を
有する磁気記録および／または再生用の薄膜素子とから
成り、記録媒体が停止しているとき、前記スライダの対
向面が前記記録媒体表面に接触し、記録媒体の始動後
は、記録媒体表面の空気流による浮上力を受ける磁気ヘ
ッドの製造方法において、
【００１６】ＮｉＦｅ系合金層表面の結晶構造を構成す
るα相の膜厚が、０．５〜４０ｎｍの範囲内となるよう
に、前記薄膜素子表面を研磨あるいはエッチング等で削
り取る工程と、薄膜素子の表面およびスライダの浮上面
にカーボン膜あるいはＣＮ膜（窒化炭素膜）を成膜する
工程と、を有することを特徴とするものである。
るα相の膜厚が、０．５〜４０ｎｍの範囲内となるよう
に、前記薄膜素子表面を研磨あるいはエッチング等で削
り取る工程と、薄膜素子の表面およびスライダの浮上面
にカーボン膜あるいはＣＮ膜（窒化炭素膜）を成膜する
工程と、を有することを特徴とするものである。
【００１７】なお本発明では、前記ＮｉＦｅ系合金層表
面のα相の膜厚が、１．０〜２０ｎｍの範囲内となるよ
うに、薄膜素子表面を研磨あるいはエッチング等で削り
取ることが好ましい。
面のα相の膜厚が、１．０〜２０ｎｍの範囲内となるよ
うに、薄膜素子表面を研磨あるいはエッチング等で削り
取ることが好ましい。
【００１８】さらに本発明は、スライダと、このスライ
ダのトレーリング側端部に設けられ、ＮｉＦｅ系合金層
を有する磁気記録および／または再生用の薄膜素子とか
ら成り、記録媒体が停止しているとき、前記スライダの
対向面が前記記録媒体表面に接触し、記録媒体の始動後
は、記録媒体表面の空気流による浮上力を受ける磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記ＮｉＦｅ系合金層表面に
γ相が現れるように、α相を全て除去する工程と、前記
ＮｉＦｅ系合金層表面にカーボンイオンあるいは窒素イ
オンを打ち込んで拡散層を形成し、薄膜素子表面および
スライダの対向面にカーボン膜あるいはＣＮ膜を成膜す
る工程と、を有することを特徴とするものである。
ダのトレーリング側端部に設けられ、ＮｉＦｅ系合金層
を有する磁気記録および／または再生用の薄膜素子とか
ら成り、記録媒体が停止しているとき、前記スライダの
対向面が前記記録媒体表面に接触し、記録媒体の始動後
は、記録媒体表面の空気流による浮上力を受ける磁気ヘ
ッドの製造方法において、前記ＮｉＦｅ系合金層表面に
γ相が現れるように、α相を全て除去する工程と、前記
ＮｉＦｅ系合金層表面にカーボンイオンあるいは窒素イ
オンを打ち込んで拡散層を形成し、薄膜素子表面および
スライダの対向面にカーボン膜あるいはＣＮ膜を成膜す
る工程と、を有することを特徴とするものである。
【００１９】本発明では、薄膜素子のコア層表面を構成
するα相の膜厚を適性に調節して、前記コア層表面に直
接カーボン膜を成膜することができると同時に、スペー
シングロスを低減させることを可能としたものである。
するα相の膜厚を適性に調節して、前記コア層表面に直
接カーボン膜を成膜することができると同時に、スペー
シングロスを低減させることを可能としたものである。
【００２０】本発明では、前記コア層表面を構成するα
相の膜厚が０．５〜４０ｎｍの範囲内となるように、コ
ア層表面を研磨やエッチング等で削り取っている。α相
の膜厚を０．５〜４０ｎｍの範囲内とすると、直接コア
層表面にカーボン膜を成膜しても、剥離や斑などがほと
んど発生しないことが実験によりわかった。
相の膜厚が０．５〜４０ｎｍの範囲内となるように、コ
ア層表面を研磨やエッチング等で削り取っている。α相
の膜厚を０．５〜４０ｎｍの範囲内とすると、直接コア
層表面にカーボン膜を成膜しても、剥離や斑などがほと
んど発生しないことが実験によりわかった。
【００２１】ただし、本発明では前記α相を全て除去し
てもよい。α相を全て除去すると、コア層表面を構成す
る結晶構造はγ相（体心立方格子）となるが、前記γ相
の上に直接カーボン膜を成膜すると剥離などを生じるこ
とが実験により明らかとなったので、α相を全て除去し
た場合、まず前記コア層表面にカーボンイオンあるいは
窒素イオンを打ち込み拡散層を形成しておくことが必要
である。
てもよい。α相を全て除去すると、コア層表面を構成す
る結晶構造はγ相（体心立方格子）となるが、前記γ相
の上に直接カーボン膜を成膜すると剥離などを生じるこ
とが実験により明らかとなったので、α相を全て除去し
た場合、まず前記コア層表面にカーボンイオンあるいは
窒素イオンを打ち込み拡散層を形成しておくことが必要
である。
【００２２】拡散層を形成することで、前記γ相の上に
直接カーボン膜あるいはＣＮ膜を成膜しても剥離などを
生じることはなく、コア層とカーボン膜との密着性を向
上させることができる。
直接カーボン膜あるいはＣＮ膜を成膜しても剥離などを
生じることはなく、コア層とカーボン膜との密着性を向
上させることができる。
【００２３】また本発明では磁気記録特性に直接関与し
ないα相の膜厚を薄くし、しかも従来のように下地層を
必要としないので、スペーシングロスを低減させること
ができ、高記録密度化に対応することが可能となってい
る。
ないα相の膜厚を薄くし、しかも従来のように下地層を
必要としないので、スペーシングロスを低減させること
ができ、高記録密度化に対応することが可能となってい
る。
【００２４】
【発明の実施の形態】図１（ａ）は、ハードディスクな
どに搭載される本発明の磁気ヘッドを記録媒体との対向
面を上向きにして示した斜視図、図１（ｂ）は、図１
（ａ）に示すＩｂ―Ｉｂ線の断面図である。図１に示し
た磁気ヘッドＨのスライダ１は、アルミナ・チタンカー
バイト、またはＳｉ（シリコン）などのセラミック材料
により形成されており、記録媒体であるハードディスク
との対向部にエアーグルーブ７が形成され、その両側に
レール部４，４が形成されている。
どに搭載される本発明の磁気ヘッドを記録媒体との対向
面を上向きにして示した斜視図、図１（ｂ）は、図１
（ａ）に示すＩｂ―Ｉｂ線の断面図である。図１に示し
た磁気ヘッドＨのスライダ１は、アルミナ・チタンカー
バイト、またはＳｉ（シリコン）などのセラミック材料
により形成されており、記録媒体であるハードディスク
との対向部にエアーグルーブ７が形成され、その両側に
レール部４，４が形成されている。
【００２５】図１（ｂ）に示すように、前記レール部
４，４は所定のクラウン形状で形成されており、前記レ
ール部４，４の表面は、記録媒体との対向面（浮上面；
ＡＢＳ面）５，５となっている。また、前記レール部
４，４のリーディング側（イ）端部には傾斜部６，６が
形成されている。スライダ１のトレーリング側（ロ）の
端面（端部）２には、薄膜素子３が設けられている。こ
の薄膜素子３は、図１（ｂ）に示すように、記録媒体と
対向する表面以外の面を、例えばアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）
などのセラミック材料による保護層８で覆われている。
４，４は所定のクラウン形状で形成されており、前記レ
ール部４，４の表面は、記録媒体との対向面（浮上面；
ＡＢＳ面）５，５となっている。また、前記レール部
４，４のリーディング側（イ）端部には傾斜部６，６が
形成されている。スライダ１のトレーリング側（ロ）の
端面（端部）２には、薄膜素子３が設けられている。こ
の薄膜素子３は、図１（ｂ）に示すように、記録媒体と
対向する表面以外の面を、例えばアルミナ（Ａｌ2Ｏ3）
などのセラミック材料による保護層８で覆われている。
【００２６】本発明では、図１（ｂ）に示すように、記
録媒体と対向する薄膜素子３表面および対向面５上に、
直接カーボン膜１０が成膜されている。なお前記カーボ
ン膜１０はスパッタ法やＣＶＤ法により成膜されてい
る。前記カーボン膜１０を成膜することにより、前記薄
膜素子３の腐食を防止することができ、また前記薄膜素
子３表面および対向面５を記録媒体との衝突から保護す
ることができる。なお本発明では前記カーボン膜１０に
代えてＣＮ膜（窒化炭素膜）を用いても、カーボン膜１
０と同様の効果を得ることができる。
録媒体と対向する薄膜素子３表面および対向面５上に、
直接カーボン膜１０が成膜されている。なお前記カーボ
ン膜１０はスパッタ法やＣＶＤ法により成膜されてい
る。前記カーボン膜１０を成膜することにより、前記薄
膜素子３の腐食を防止することができ、また前記薄膜素
子３表面および対向面５を記録媒体との衝突から保護す
ることができる。なお本発明では前記カーボン膜１０に
代えてＣＮ膜（窒化炭素膜）を用いても、カーボン膜１
０と同様の効果を得ることができる。
【００２７】従来では、前記カーボン膜１０を成膜する
には、薄膜素子３と前記カーボン膜１０との密着性を向
上させるために、図４に示すように、前記カーボン膜１
０の下に下地層９を敷く必要があった。これに対し、本
発明では前記下地層９を成膜しなくても、カーボン膜１
０と薄膜素子３との密着性は良好で、従って直接、前記
薄膜素子３表面および対向面５にカーボン膜１０を成膜
することが可能である。これは、前記薄膜素子３を構成
するコア層１３，１５表面の結晶構造に起因している。
には、薄膜素子３と前記カーボン膜１０との密着性を向
上させるために、図４に示すように、前記カーボン膜１
０の下に下地層９を敷く必要があった。これに対し、本
発明では前記下地層９を成膜しなくても、カーボン膜１
０と薄膜素子３との密着性は良好で、従って直接、前記
薄膜素子３表面および対向面５にカーボン膜１０を成膜
することが可能である。これは、前記薄膜素子３を構成
するコア層１３，１５表面の結晶構造に起因している。
【００２８】図２は、図１（ｂ）に示すＩＩ矢視の斜視
図である。なお図２には、図１（ｂ）に示す保護層８、
およびカーボン膜１０は省略されている。図２に示すよ
うに、トレーリング側端部２の上には、例えばＮｉＦｅ
系合金で形成された下部シールド層１１が設けられてお
り、前記下部シールド層１１の上に、絶縁材料製の下部
ギャップ層（図示しない）を介して磁気抵抗効果素子層
１２が形成されている。この磁気抵抗効果素子層１２
は、ＡＭＲ素子や、あるいはスピンバルブ型薄膜素子な
どである。
図である。なお図２には、図１（ｂ）に示す保護層８、
およびカーボン膜１０は省略されている。図２に示すよ
うに、トレーリング側端部２の上には、例えばＮｉＦｅ
系合金で形成された下部シールド層１１が設けられてお
り、前記下部シールド層１１の上に、絶縁材料製の下部
ギャップ層（図示しない）を介して磁気抵抗効果素子層
１２が形成されている。この磁気抵抗効果素子層１２
は、ＡＭＲ素子や、あるいはスピンバルブ型薄膜素子な
どである。
【００２９】前記磁気抵抗効果素子層１２の上には、絶
縁材料製の上部ギャップ層（図示しない）を介して、Ｎ
ｉＦｅ系合金の上部シールド層（下部コア層）１３が形
成されている。前述した下部シールド層１１から上部シ
ールド層１３までが、ディスクに記録された磁気記録信
号を再生する磁気検出部（読み出しヘッド）である。前
記上部シールド層１３は、次に説明するインダクティブ
ヘッド（書込みヘッド）の下部コア層としても機能して
いる。
縁材料製の上部ギャップ層（図示しない）を介して、Ｎ
ｉＦｅ系合金の上部シールド層（下部コア層）１３が形
成されている。前述した下部シールド層１１から上部シ
ールド層１３までが、ディスクに記録された磁気記録信
号を再生する磁気検出部（読み出しヘッド）である。前
記上部シールド層１３は、次に説明するインダクティブ
ヘッド（書込みヘッド）の下部コア層としても機能して
いる。
【００３０】図２に示すように、前記下部コア層１３の
上には、ギャップ層（図示しない）を介して、Ｃｕなど
電気抵抗の低い非磁性導電材料で形成された螺旋状のコ
イル層１４、およびＮｉＦｅ系合金の上部コア層１５が
形成されている。前記上部コア層１５の先端部は、下部
コア層１３と磁気ギャップＧを介して対向し、前記上部
コア層１５の基端部１５ａは、下部コア層１３と磁気的
に接合されている。前記下部コア層１３から上部コア層
１５までのインダクティブヘッドでは、コイル層１４に
記録電流が与えられると、前記下部コア層１３および上
部コア層１５に記録磁界が誘導され、下部コア層１３と
上部コア層１５の先端部との磁気ギャップＧ部分からの
漏れ磁界により、ディスクに記録信号が記録される。
上には、ギャップ層（図示しない）を介して、Ｃｕなど
電気抵抗の低い非磁性導電材料で形成された螺旋状のコ
イル層１４、およびＮｉＦｅ系合金の上部コア層１５が
形成されている。前記上部コア層１５の先端部は、下部
コア層１３と磁気ギャップＧを介して対向し、前記上部
コア層１５の基端部１５ａは、下部コア層１３と磁気的
に接合されている。前記下部コア層１３から上部コア層
１５までのインダクティブヘッドでは、コイル層１４に
記録電流が与えられると、前記下部コア層１３および上
部コア層１５に記録磁界が誘導され、下部コア層１３と
上部コア層１５の先端部との磁気ギャップＧ部分からの
漏れ磁界により、ディスクに記録信号が記録される。
【００３１】本発明では、スライダ１のトレーリング側
端部２に前述した薄膜素子３が成膜された段階で、機械
や化学的な薬品による研磨、イオンエッチングなどのプ
ラズマクリーニングにより、前記薄膜素子３表面が削り
取られ、下部コア層１３、および上部コア層１５表面の
結晶構造を構成するα相（体心立方格子）の膜厚が０．
５〜４０ｎｍの範囲内とされている。なお従来における
薄膜素子３のコア層１３，１５表面を構成するα相の膜
厚は、数μｍ〜数１００μｍと非常に厚くなっていた。
本発明のように、α相の膜厚を薄くすることで、直接カ
ーボン膜１０をコア層１３，１５表面に成膜すると、前
記カーボン膜１０とコア層１３，１５との間で適度な拡
散が起こり、カーボン膜１０に剥離が生じにくくなる。
また前記カーボン膜１０は均一な膜厚に保たれ、前記カ
ーボン膜１０表面の平滑性は良好なものとなる。
端部２に前述した薄膜素子３が成膜された段階で、機械
や化学的な薬品による研磨、イオンエッチングなどのプ
ラズマクリーニングにより、前記薄膜素子３表面が削り
取られ、下部コア層１３、および上部コア層１５表面の
結晶構造を構成するα相（体心立方格子）の膜厚が０．
５〜４０ｎｍの範囲内とされている。なお従来における
薄膜素子３のコア層１３，１５表面を構成するα相の膜
厚は、数μｍ〜数１００μｍと非常に厚くなっていた。
本発明のように、α相の膜厚を薄くすることで、直接カ
ーボン膜１０をコア層１３，１５表面に成膜すると、前
記カーボン膜１０とコア層１３，１５との間で適度な拡
散が起こり、カーボン膜１０に剥離が生じにくくなる。
また前記カーボン膜１０は均一な膜厚に保たれ、前記カ
ーボン膜１０表面の平滑性は良好なものとなる。
【００３２】なお、前記α相の膜厚を１．０〜２．０ｎ
ｍの範囲内に適性に調節すると、さらにコア層１３，１
５とカーボン膜１０との密着性を向上させることができ
る。また本発明では、α相を全て取り除いてもよい。α
相を全て取り除くと、コア層１３，１５表面の結晶構造
はγ相（面心立方格子）で構成される。ただし、前記γ
相は、α相に比べてカーボンなどの拡散速度は非常に遅
いために、前記γ相に直接カーボン膜１０を成膜する
と、界面にて拡散がほとんど起こらず、従ってカーボン
膜１０は剥離を起こしやすくなる。
ｍの範囲内に適性に調節すると、さらにコア層１３，１
５とカーボン膜１０との密着性を向上させることができ
る。また本発明では、α相を全て取り除いてもよい。α
相を全て取り除くと、コア層１３，１５表面の結晶構造
はγ相（面心立方格子）で構成される。ただし、前記γ
相は、α相に比べてカーボンなどの拡散速度は非常に遅
いために、前記γ相に直接カーボン膜１０を成膜する
と、界面にて拡散がほとんど起こらず、従ってカーボン
膜１０は剥離を起こしやすくなる。
【００３３】このため本発明では、α相を全て取り除い
た後、カーボンイオンを、コア層１３，１５表面に打ち
込み拡散層を形成することで、前記コア層１３，１５に
直接カーボン膜１０を成膜しても、前記カーボン膜１０
に剥離を生じなくすることが可能である。なお前記コア
層１３，１５表面にイオン打ち込みを行いながら、同時
にカーボン膜１０を成膜してもよい。
た後、カーボンイオンを、コア層１３，１５表面に打ち
込み拡散層を形成することで、前記コア層１３，１５に
直接カーボン膜１０を成膜しても、前記カーボン膜１０
に剥離を生じなくすることが可能である。なお前記コア
層１３，１５表面にイオン打ち込みを行いながら、同時
にカーボン膜１０を成膜してもよい。
【００３４】なお、カーボン膜１０に代えて、ＣＮ膜を
成膜する場合は、コア層１３，１５表面にカーボンイオ
ンあるいは窒素イオンを打ち込み拡散層を形成する。ま
た、コア層１３，１５表面の結晶構造は、Ｘ線回折、あ
るいは薄膜Ｘ線回折などにより分析することが可能であ
る。以上のように本発明では、コア層１３，１５表面を
構成するα相の膜厚を、従来に比べて非常に薄くしてい
るので、直接前記コア層１３，１５表面にカーボン膜１
０を成膜することができ、従って従来のように、コア層
１３，１５表面とカーボン膜１０との密着性を得るため
の下地層９（図４参照）を成膜する必要がなく、製造工
程数を減少させることができる。特に本発明では、コア
層１３，１５表面を構成するα相を薄くし、且つ下地層
９を形成する必要がないので、従来に比べて、スペーシ
ングロスを低減させることができ、従って高い再生出力
を得ることが可能となっている。
成膜する場合は、コア層１３，１５表面にカーボンイオ
ンあるいは窒素イオンを打ち込み拡散層を形成する。ま
た、コア層１３，１５表面の結晶構造は、Ｘ線回折、あ
るいは薄膜Ｘ線回折などにより分析することが可能であ
る。以上のように本発明では、コア層１３，１５表面を
構成するα相の膜厚を、従来に比べて非常に薄くしてい
るので、直接前記コア層１３，１５表面にカーボン膜１
０を成膜することができ、従って従来のように、コア層
１３，１５表面とカーボン膜１０との密着性を得るため
の下地層９（図４参照）を成膜する必要がなく、製造工
程数を減少させることができる。特に本発明では、コア
層１３，１５表面を構成するα相を薄くし、且つ下地層
９を形成する必要がないので、従来に比べて、スペーシ
ングロスを低減させることができ、従って高い再生出力
を得ることが可能となっている。
【００３５】前述したように、コア層１３，１５表面を
構成する結晶構造はα相で、前記α相よりも内側の部分
を占める結晶構造はγ相であるが、実際に磁気記録特性
に関与している部分は主にγ相で、コア層１３，１５表
面のα相は、磁気記録特性に関与しにくく、従って、前
記α相の膜厚が厚くなるほどスペーシングロスは増大し
てしまう。本発明では、コア層１３，１５表面を構成す
るα相の膜厚を薄くしているか、あるいは前記α相を全
て除去しているので、α相を取り除いたその膜厚分だけ
スペーシングロスを低減させることが可能となる。
構成する結晶構造はα相で、前記α相よりも内側の部分
を占める結晶構造はγ相であるが、実際に磁気記録特性
に関与している部分は主にγ相で、コア層１３，１５表
面のα相は、磁気記録特性に関与しにくく、従って、前
記α相の膜厚が厚くなるほどスペーシングロスは増大し
てしまう。本発明では、コア層１３，１５表面を構成す
るα相の膜厚を薄くしているか、あるいは前記α相を全
て除去しているので、α相を取り除いたその膜厚分だけ
スペーシングロスを低減させることが可能となる。
【００３６】以上詳述した磁気ヘッドＨは、ロードビー
ムの先部に設けられたフレキシャにスライダ１が支持さ
れる。スライダ１が所定の力により記録媒体であるハー
ドディスクに付勢される。この磁気ヘッドＨはＣＳＳ方
式のハードディスク装置（磁気記録再生装置）に使用さ
れる。ディスクが停止しているときには、スライダ１の
対向面５，５が、スライダ表面に接触する。ディスクが
移動し始めると、スライダ１とディスクとの間に導かれ
る空気流により、スライダ１全体がディスク表面から浮
上し、リーディング側（イ）がトレーリング側（ロ）よ
りもディスク上に高く持ち上がる浮上姿勢となるか、あ
るいはリーディング側（ロ）のみがディスク表面から浮
上し、トレーリング側（ロ）端部がディスク表面に連続
または不連続に接触して摺動する浮上姿勢となる。
ムの先部に設けられたフレキシャにスライダ１が支持さ
れる。スライダ１が所定の力により記録媒体であるハー
ドディスクに付勢される。この磁気ヘッドＨはＣＳＳ方
式のハードディスク装置（磁気記録再生装置）に使用さ
れる。ディスクが停止しているときには、スライダ１の
対向面５，５が、スライダ表面に接触する。ディスクが
移動し始めると、スライダ１とディスクとの間に導かれ
る空気流により、スライダ１全体がディスク表面から浮
上し、リーディング側（イ）がトレーリング側（ロ）よ
りもディスク上に高く持ち上がる浮上姿勢となるか、あ
るいはリーディング側（ロ）のみがディスク表面から浮
上し、トレーリング側（ロ）端部がディスク表面に連続
または不連続に接触して摺動する浮上姿勢となる。
【００３７】この浮上姿勢にて、図１に示す薄膜素子３
の下部コア層１３と上部コア層１５との間で発生する漏
れ磁界によりディスクに記録信号が書込まれたり、ある
いは前記薄膜素子３の磁気抵抗効果素子層１２によりデ
ィスクからの磁気信号が検出される。
の下部コア層１３と上部コア層１５との間で発生する漏
れ磁界によりディスクに記録信号が書込まれたり、ある
いは前記薄膜素子３の磁気抵抗効果素子層１２によりデ
ィスクからの磁気信号が検出される。
【００３８】
【実施例】本発明では、薄膜素子３のコア層１３，１５
表面の結晶構造を構成するα相の膜厚を変化させ、イン
ダクティブヘッド（書込みヘッド）によりハードディス
クに記録した情報をＭＲヘッド（読出しヘッド）により
再生し、前記α相の膜厚と再生出力との関係について調
べた。その実験結果を図３に示す。なお、α相の各膜厚
におけるカーボン膜１０の膜厚は、５．５ｎｍで統一し
た。また、横軸で「０＋イオン」とあるのは、α相をす
べて取り除いた後、カーボンイオンを打ち込み、その後
カーボン膜１０を成膜した場合である。
表面の結晶構造を構成するα相の膜厚を変化させ、イン
ダクティブヘッド（書込みヘッド）によりハードディス
クに記録した情報をＭＲヘッド（読出しヘッド）により
再生し、前記α相の膜厚と再生出力との関係について調
べた。その実験結果を図３に示す。なお、α相の各膜厚
におけるカーボン膜１０の膜厚は、５．５ｎｍで統一し
た。また、横軸で「０＋イオン」とあるのは、α相をす
べて取り除いた後、カーボンイオンを打ち込み、その後
カーボン膜１０を成膜した場合である。
【００３９】図に示すように、α相の膜厚が大きくなる
に従い、再生出力が低下していることがわかる。この実
験結果から高い再生出力を得るためには、α相の膜厚を
４０ｎｍ以下にすることが好ましいことがわかる。また
α相の膜厚を２０ｎｍ以下にすれば６００（μＶ）以上
の再生出力を得ることが可能である。次に、α相の膜厚
とカーボン膜１０の密着性などについて測定し、その実
験結果を表１に示す。
に従い、再生出力が低下していることがわかる。この実
験結果から高い再生出力を得るためには、α相の膜厚を
４０ｎｍ以下にすることが好ましいことがわかる。また
α相の膜厚を２０ｎｍ以下にすれば６００（μＶ）以上
の再生出力を得ることが可能である。次に、α相の膜厚
とカーボン膜１０の密着性などについて測定し、その実
験結果を表１に示す。
【００４０】
【表１】
【００４１】表１に示す「剥離」および「斑」は、電子
顕微鏡によりカーボン膜１０の外観を観察し、剥離およ
び斑が全く観察されない場合を○、若干剥離および斑が
観察される場合を△、完全に剥離していたりあるいは斑
が観察される場合を×とした。表１に示すように、α相
の膜厚が０．５〜４０μｍの範囲内であれば、剥離およ
び斑を最小限に抑えることが可能である。α相の膜厚が
厚くなるほど剥離および斑が生じやすくなるのは、前記
α相とカーボン膜１０との間で異常拡散が起こりやすく
なるからである。また前記α相の膜厚が０μｍである
と、コア層１３，１５表面を構成する結晶構造はγ相と
なるが、前記γ相とカーボン膜１０との間ではほとんど
拡散が起こらないために、前記カーボン膜１０は剥離を
起こしてしまう。
顕微鏡によりカーボン膜１０の外観を観察し、剥離およ
び斑が全く観察されない場合を○、若干剥離および斑が
観察される場合を△、完全に剥離していたりあるいは斑
が観察される場合を×とした。表１に示すように、α相
の膜厚が０．５〜４０μｍの範囲内であれば、剥離およ
び斑を最小限に抑えることが可能である。α相の膜厚が
厚くなるほど剥離および斑が生じやすくなるのは、前記
α相とカーボン膜１０との間で異常拡散が起こりやすく
なるからである。また前記α相の膜厚が０μｍである
と、コア層１３，１５表面を構成する結晶構造はγ相と
なるが、前記γ相とカーボン膜１０との間ではほとんど
拡散が起こらないために、前記カーボン膜１０は剥離を
起こしてしまう。
【００４２】次に「耐食性」は、腐食性ガス中にさらし
た場合における薄膜素子３の外観を電子顕微鏡で観察し
た結果である。○は、全く腐食が見られない場合、△は
若干腐食が見られる場合、×は、腐食が完全に進行して
いる場合である。表１に示すように、「耐食性」は、α
相の膜厚が０．５〜４０ｎｍの範囲内であれば良好なも
のとなることがわかる。薄膜素子３の耐食性は、前記薄
膜素子３を保護すべきカーボン膜１０の状態と密接な関
係があり、前記カーボン膜１０に剥離や斑が発生してい
ると、前記薄膜素子３が直接外部にさらされることにな
り、前記薄膜素子３が腐食しやすくなる。従って前記薄
膜素子３の耐食性を向上させるには、カーボン膜１０に
剥離や斑が発生しないようにする必要がある。
た場合における薄膜素子３の外観を電子顕微鏡で観察し
た結果である。○は、全く腐食が見られない場合、△は
若干腐食が見られる場合、×は、腐食が完全に進行して
いる場合である。表１に示すように、「耐食性」は、α
相の膜厚が０．５〜４０ｎｍの範囲内であれば良好なも
のとなることがわかる。薄膜素子３の耐食性は、前記薄
膜素子３を保護すべきカーボン膜１０の状態と密接な関
係があり、前記カーボン膜１０に剥離や斑が発生してい
ると、前記薄膜素子３が直接外部にさらされることにな
り、前記薄膜素子３が腐食しやすくなる。従って前記薄
膜素子３の耐食性を向上させるには、カーボン膜１０に
剥離や斑が発生しないようにする必要がある。
【００４３】「スペーシング」は、図３の実験結果を踏
まえて、○、△、×を付けている。高記録密度化に伴
い、スペーシングを小さくする必要があるが、コア層１
３，１５表面を構成するα相は直接磁気記録特性に関与
しないために、前記α相の膜厚が厚くなると、スペーシ
ングロスが増大し、インダクティブヘッド（書込みヘッ
ド）からの記録磁界が低下するため、結果的にＭＲヘッ
ド（読出しヘッド）による再生出力は低下してしまう。
まえて、○、△、×を付けている。高記録密度化に伴
い、スペーシングを小さくする必要があるが、コア層１
３，１５表面を構成するα相は直接磁気記録特性に関与
しないために、前記α相の膜厚が厚くなると、スペーシ
ングロスが増大し、インダクティブヘッド（書込みヘッ
ド）からの記録磁界が低下するため、結果的にＭＲヘッ
ド（読出しヘッド）による再生出力は低下してしまう。
【００４４】以上の実験結果により本発明では、α相の
膜厚を０．５〜４０ｎｍの範囲内とし、より好ましいα
相の膜厚を１．０〜２０ｎｍの範囲内とした。なお表１
に示す一番右側の欄にあるように、α相を全て除去し、
カーボンイオンの打ち込みを行った場合では、剥離、
斑、耐食性、およびスペーシング共に良好な結果を得る
ことができた。
膜厚を０．５〜４０ｎｍの範囲内とし、より好ましいα
相の膜厚を１．０〜２０ｎｍの範囲内とした。なお表１
に示す一番右側の欄にあるように、α相を全て除去し、
カーボンイオンの打ち込みを行った場合では、剥離、
斑、耐食性、およびスペーシング共に良好な結果を得る
ことができた。
【００４５】
【発明の効果】以上詳述した本発明によれば、ＮｉＦｅ
系合金で形成されたコア層の表面を研磨などして、前記
コア層表面を構成するα相（体心立方格子）の膜厚を薄
くしているので、下地層を設けなくても前記コア層表面
に直接カーボン膜を成膜することができる。
系合金で形成されたコア層の表面を研磨などして、前記
コア層表面を構成するα相（体心立方格子）の膜厚を薄
くしているので、下地層を設けなくても前記コア層表面
に直接カーボン膜を成膜することができる。
【００４６】特に本発明では、磁気記録特性に直接関与
しないα相の膜厚を薄くしているので、除去したα相の
膜厚分および下地層の膜厚分だけ、スペーシングロスを
低減させることができる。
しないα相の膜厚を薄くしているので、除去したα相の
膜厚分および下地層の膜厚分だけ、スペーシングロスを
低減させることができる。
【００４７】本発明では、α相の膜厚を０．５〜４０ｎ
ｍ、より好ましくは１．０〜２０ｎｍの範囲内としてお
り、この範囲内であればカーボン膜に斑や剥離がほとん
ど発生しない。また高い再生出力を得ることが可能で、
高記録密度化に対応することができる。
ｍ、より好ましくは１．０〜２０ｎｍの範囲内としてお
り、この範囲内であればカーボン膜に斑や剥離がほとん
ど発生しない。また高い再生出力を得ることが可能で、
高記録密度化に対応することができる。
【００４８】なお本発明では、コア層表面を研磨する段
階にて、α相を全て除去してもよい。α相を全て除去す
ることで、スペーシングをより小さくすることが可能で
ある。ただし、この場合はα相を除去した後、コア層表
面にカーボンイオンを打ち込み拡散層を形成し、その後
前記コア層表面にカーボン膜を成膜する必要がある。
階にて、α相を全て除去してもよい。α相を全て除去す
ることで、スペーシングをより小さくすることが可能で
ある。ただし、この場合はα相を除去した後、コア層表
面にカーボンイオンを打ち込み拡散層を形成し、その後
前記コア層表面にカーボン膜を成膜する必要がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】（ａ）は本発明の磁気ヘッドをディスク対向面
を上向きにして示した斜視図、（ｂ）は（ａ）に示すＩ
Ｉｂ―ＩＩｂ線の断面図、
を上向きにして示した斜視図、（ｂ）は（ａ）に示すＩ
Ｉｂ―ＩＩｂ線の断面図、
【図２】図１（ｂ）および図４に示すＩＩ矢視の拡大斜
視図、
視図、
【図３】α相の膜厚と再生出力との関係を示すグラフ、
【図４】従来の磁気ヘッドをディスク対向面を上向きに
して示した断面図、
して示した断面図、
１ スライダ ２ （トレーリング側の）端面 ３ 薄膜素子 ５ 対向面 ６ 傾斜面 ７ エアーグルーブ ８ 保護層 １０ カーボン膜 １３ 下部コア層 １５ 上部コア層
フロントページの続き (72)発明者 斎藤 秀俊 新潟県長岡市深沢町1769番地１
Claims (8)
- 【請求項１】 スライダと、このスライダのトレーリン
グ側端部に設けられ、ＮｉＦｅ系合金層を有する磁気記
録および／または再生用の薄膜素子とから成り、記録媒
体が停止しているとき、前記スライダの対向面が前記記
録媒体表面に接触し、記録媒体の始動後は、記録媒体表
面の空気流による浮上力を受ける磁気ヘッドにおいて、
記録媒体と対向する薄膜素子の表面および前記スライダ
の対向面に直接、カーボン膜が成膜されていることを特
徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項２】 前記薄膜素子を構成するＮｉＦｅ系合金
層表面の結晶構造は、α相（体心立方格子）から成り、
前記α相の膜厚が、０．５〜４０ｎｍの範囲内である請
求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項３】 前記α相の膜厚が、１．０〜２０ｎｍの
範囲内である請求項２記載の磁気ヘッド。 - 【請求項４】 前記薄膜素子を構成するＮｉＦｅ系合金
層表面の結晶構造がγ相（面心立方格子）であり、前記
カーボン膜が前記γ相の表面への拡散層を介して成膜さ
れる請求項１記載の磁気ヘッド。 - 【請求項５】 前記カーボン膜に代えてＣＮ膜（窒化炭
素膜）が成膜されている請求項１ないし請求項４のいず
れかに記載の磁気ヘッド。 - 【請求項６】 スライダと、このスライダのトレーリン
グ側端部に設けられ、ＮｉＦｅ系合金層を有する磁気記
録および／または再生用の薄膜素子とから成り、記録媒
体が停止しているとき、前記スライダの対向面が前記記
録媒体表面に接触し、記録媒体の始動後は、記録媒体表
面の空気流による浮上力を受ける磁気ヘッドの製造方法
において、 ＮｉＦｅ系合金層表面の結晶構造を構成するα相の膜厚
が、０．５〜４０ｎｍの範囲内となるように、前記薄膜
素子表面を研磨あるいはエッチング等で削り取る工程
と、 薄膜素子の表面およびスライダの浮上面にカーボン膜あ
るいはＣＮ膜（窒化炭素膜）を成膜する工程と、 を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項７】 前記ＮｉＦｅ系合金層表面のα相の膜厚
が、１．０〜２０ｎｍの範囲内となるように、薄膜素子
表面を研磨あるいはエッチング等で削り取る請求項６記
載の磁気ヘッドの製造方法。 - 【請求項８】 スライダと、このスライダのトレーリン
グ側端部に設けられ、ＮｉＦｅ系合金層を有する磁気記
録および／または再生用の薄膜素子とから成り、記録媒
体が停止しているとき、前記スライダの対向面が前記記
録媒体表面に接触し、記録媒体の始動後は、記録媒体表
面の空気流による浮上力を受ける磁気ヘッドの製造方法
において、 前記ＮｉＦｅ系合金層表面にγ相が現れるように、α相
を全て除去する工程と、 前記ＮｉＦｅ系合金層表面にカーボンイオンあるいは窒
素イオンを打ち込んで拡散層を形成し、薄膜素子表面お
よびスライダの対向面にカーボン膜あるいはＣＮ膜を成
膜する工程と、 を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9268339A JPH11110729A (ja) | 1997-10-01 | 1997-10-01 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| US09/159,326 US6271994B1 (en) | 1997-10-01 | 1998-09-23 | Magnetic head having a thin film element |
| CNB981193994A CN1169120C (zh) | 1997-10-01 | 1998-09-25 | 磁头及其制造方法 |
| KR1019980040942A KR100293741B1 (ko) | 1997-10-01 | 1998-09-30 | 자기헤드및그제조방법 |
| US09/626,948 US6404592B1 (en) | 1997-10-01 | 2000-07-27 | Magnetic head producing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9268339A JPH11110729A (ja) | 1997-10-01 | 1997-10-01 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11110729A true JPH11110729A (ja) | 1999-04-23 |
Family
ID=17457178
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9268339A Withdrawn JPH11110729A (ja) | 1997-10-01 | 1997-10-01 | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US6271994B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11110729A (ja) |
| KR (1) | KR100293741B1 (ja) |
| CN (1) | CN1169120C (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11110729A (ja) * | 1997-10-01 | 1999-04-23 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
| US6602620B1 (en) * | 1998-12-28 | 2003-08-05 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Magnetic recording apparatus, magnetic recording medium and manufacturing method thereof |
| US7159301B2 (en) * | 2001-10-05 | 2007-01-09 | Headway Technologies, Inc. | Method of manufacturing a slider of a thin-film magnetic head |
| EP1596371A4 (en) * | 2003-02-19 | 2008-06-04 | Fujitsu Ltd | MAGNETIC HEAD SLIDER |
| US8815060B2 (en) * | 2004-08-30 | 2014-08-26 | HGST Netherlands B.V. | Method for minimizing magnetically dead interfacial layer during COC process |
| JP5259645B2 (ja) | 2010-04-14 | 2013-08-07 | 株式会社東芝 | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60170234A (ja) | 1984-02-15 | 1985-09-03 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 気相反応装置および気相反応被膜作製方法 |
| US5512102A (en) | 1985-10-14 | 1996-04-30 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Microwave enhanced CVD system under magnetic field |
| US5256483A (en) | 1988-02-05 | 1993-10-26 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Plasma processing method and apparatus |
| US5159508A (en) | 1990-12-27 | 1992-10-27 | International Business Machines Corporation | Magnetic head slider having a protective coating thereon |
| JPH04258805A (ja) * | 1991-02-13 | 1992-09-14 | Nec Corp | 磁気ヘッド |
| US5470447A (en) | 1992-08-19 | 1995-11-28 | Stormedia, Inc. | Method for applying a protective coating on a magnetic recording head |
| JPH06203328A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-07-22 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 薄膜磁気変換器 |
| JP3651916B2 (ja) * | 1993-09-27 | 2005-05-25 | 松下電器産業株式会社 | 磁気ヘッド |
| JPH0863713A (ja) * | 1994-08-25 | 1996-03-08 | Sanyo Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘッド |
| KR100276752B1 (ko) * | 1994-12-19 | 2001-01-15 | 윌리암 엘. 허드슨 | 디스크 드라이브용 헤드 및 그 제조 방법 |
| US5901001A (en) * | 1996-02-20 | 1999-05-04 | Seagate Technology, Inc. | Detection of asperities in recording surface of storage medium |
| WO1998010115A1 (en) * | 1996-09-03 | 1998-03-12 | Monsanto Company | Silicon-doped diamond-like carbon coatings for magnetic transducers and for magnetic recording media |
| JPH11110729A (ja) * | 1997-10-01 | 1999-04-23 | Alps Electric Co Ltd | 磁気ヘッドおよびその製造方法 |
-
1997
- 1997-10-01 JP JP9268339A patent/JPH11110729A/ja not_active Withdrawn
-
1998
- 1998-09-23 US US09/159,326 patent/US6271994B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-25 CN CNB981193994A patent/CN1169120C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1998-09-30 KR KR1019980040942A patent/KR100293741B1/ko not_active IP Right Cessation
-
2000
- 2000-07-27 US US09/626,948 patent/US6404592B1/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6271994B1 (en) | 2001-08-07 |
| CN1169120C (zh) | 2004-09-29 |
| CN1213815A (zh) | 1999-04-14 |
| KR19990036729A (ko) | 1999-05-25 |
| US6404592B1 (en) | 2002-06-11 |
| KR100293741B1 (ko) | 2001-08-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7023658B1 (en) | Submicron track-width pole-tips for electromagnetic transducers | |
| US5896243A (en) | Magneto-resistive effect type head with step or protrusion for reducing thermal asperity | |
| US6842308B1 (en) | Thermal compensation for head protrusion in a magnetic drive | |
| US6737281B1 (en) | Method of making transducer with inorganic nonferromagnetic apex region | |
| US5719730A (en) | Low fringe-field and narrow write-track magneto-resistive (MR) magnetic read-write head | |
| JPH06195640A (ja) | 耐摩耗薄層を有する薄膜磁気ヘッドアセンブリおよび薄層ベースとその製造方法 | |
| US10522178B1 (en) | High damping shield with low magnetic moment in perpendicular magnetic recording (PMR) writer | |
| US20060011484A1 (en) | Magnetic head having thermally assisted write head with encapsulated heater element, and method of fabrication thereof | |
| JP2000149233A (ja) | 磁気ヘッド装置、並びに、その製造方法 | |
| US6535361B2 (en) | Contact planar magnetoresistive head | |
| US6373657B1 (en) | Thin film magnetic head with magnetic film offsets at forefront surfaces thereof | |
| US6580586B1 (en) | Magnetic transducer with recessed magnetic elements | |
| JP5859397B2 (ja) | 軟質中間膜を備えた空気ベアリング面オーバーコートおよびその製造方法 | |
| JP2004079090A (ja) | 記録再生分離型磁気ヘッド | |
| WO1998012696A1 (fr) | Coulisseau de tete magnetique et son procede de production | |
| JPH11110729A (ja) | 磁気ヘッドおよびその製造方法 | |
| US7123447B2 (en) | Patterned multi-material basecoat to reduce thermal protrusion | |
| US7339763B2 (en) | Disk drive thin-film inductive write head with pole tip structure having reduced susceptibility to corrosion | |
| US6477765B1 (en) | Method of fabricating a magnetic write transducer | |
| JPH0612615A (ja) | 磁気ヘッド及び磁気ディスク | |
| US6654203B2 (en) | Thin-film magnetic head and method of manufacturing same, head gimbal assembly and hard disk drive | |
| JP3511371B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| WO1998000841A1 (en) | Virtual contact hard disk drive with planar transducer | |
| WO1999041739A1 (fr) | Tete magnetique a film mince, procede de fabrication correspondant et lecteur de disque magnetique muni de ce film | |
| JP3790353B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040220 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040302 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20041207 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20050117 |