JPH0725857A - 縮合ヘテロ環誘導体及び除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】 （式中、Ｒは水酸基等を示し、Ｒ^３又はＲ^４はアルコキ
シ基等を示し、Ｗは酸素原子、硫黄原子等を示し、Ｙは
ハロゲン、アルキル等を示し、ＺはＣＨ又はＮを示しＡ
は５〜６員環の置換されていてもよいヘテロ環、ｎは０
〜２の整数を示す。）で表される縮合ヘテロ環誘導体及
び除草剤。 【効果】水田湛水処理、畑作、土壌処理及び茎葉処理に
おいて作物に害をなす事なく、イネ科及び非イネ科雑草
に対してすぐれた除草活性を示す。また、非農耕地の雑
草に対してもすぐれた除草活性を示す。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規な縮合ヘテロ環誘導
体及びその塩と、それらを有効成分とする除草剤に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】本発明者らは特開平２−５６４６９号公
報明細書において、キノリンならびにナフタレン誘導体
が除草作用を有することを見出し、その具体例を提示し
ている。また、特開平２−１２１９７３号公報明細書に
は、キノリン、ナフタレン、ベンゾフラン、チオフェン
またはピリジン環を含む芳香族カルボン酸誘導体が除草
作用を有することが示されている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前記明細書に
は本発明の縮合ヘテロ環誘導体に関する具体的化合物は
全く例示されていない。また、これらの化合物は除草効
果の点で必ずしも満足できるものではない。これらの他
にも数多くの除草剤が開発され、農作業の省力化及び生
産性の向上に寄与してきたが、これらも実際の使用場面
では除草効果ならびに作物に対する安全性の面で種々の
問題を有している。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、縮合ヘテ
ロ環誘導体について、作物に対して薬害を与えることな
く、かつ除草活性が優れた化合物の開発を目的に鋭意研
究した。その結果、縮合ヘテロ環と結合したピリミジン
またはトリアジン誘導体である本発明化合物が、水田湛
水処理、畑作の土壌処理ならびに茎葉処理において、一
年生雑草はもとより多年生のイネ科、カヤツリグサ科及
び広葉雑草に対して優れた除草活性を有するとともに、
作物に安全性が高いことを見い出し、本発明を完成し
た。

【０００５】すなわち、本発明は、一般式〔Ｉ〕

【０００６】

【化４】 ｛式中、

【０００７】

【化５】 は

【化６】 を示し、Ｒは水素原子、水酸基、置換されていてもよい
アルコキシ基、置換されていてもよいベンジルオキシ
基、置換されていてもよいアリールオキシ基、置換され
ていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいベ
ンジルチオ基、置換されていてもよいアリールチオ基、
置換されていてもよいアルケニルオキシ基、置換されて
いてもよいアルキニルオキシ基、置換されていてもよい
アルケニルチオ基、置換されていてもよいアルキニルチ
オ基、アルキリデンアミノオキシ基、式−ＮＲ^６Ｒ
^７（式中、Ｒ^６及びＲ^７は同一または相異なり、水素原
子、アルキル基、アルコキシ基、ベンジル基、置換され
ていてもよいアリール基、アルキルスルホニル基、置換
されていてもよいアリールスルホニル基を示す。また、
Ｒ^６、Ｒ^７は窒素原子とともにヘテロ原子を含んでもよ
い環を形成することができる。）で表される基を示し、
Ｒ^１及びＲ^２は同一または相異なり、水素原子、ホルミ
ル基、置換されていてもよいアルキルカルボニル基、シ
クロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいアリ
ールカルボニル基、置換されていてもよいピリジルカル
ボニル基、カルボキシル基、式−ＣＯＮＲ^６Ｒ^７（式
中、Ｒ^６及びＲ^７は前記と同一の意味を示す。）、置換
されていてもよいアルキルチオカルボニル基、シクロア
ルキルチオカルボニル基、置換されていてもよいアリー
ルオキシカルボニル基、置換されていてもよいアルコキ
シカルボニル基、シクロアルキル基、置換されていても
よいアルキル基、置換されていてもよいアルケニル基、
置換されていてもよいアルキニル基、置換されていても
よいアルコキシ基、置換されていてもよいアリール基、
ハロゲン原子、置換されていてもよいベンジルオキシカ
ルボニル基、置換されていてもよいベンジルチオカルボ
ニル基、シクロアルコキシカルボニル基、置換されてい
てもよいアリールチオカルボニル基、置換されていても
よいアルケニルオキシカルボニル基、置換されていても
よいアルキニルオキシカルボニル基、置換されていても
よいアルケニルチオカルボニル基、置換されていてもよ
いアルキニルチオカルボニル基、イソプロピリデンアミ
ノオキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン
化カルボニル基を示し、式ＣＲ^８＝Ｎ−Ｒ^９（式中、Ｒ
^８は水素原子、アリール基、アルキル基を示し、Ｒ^９は
水酸基、アルキル基、置換されていてもよいアリール
基、置換されていてもよいベンジル基、置換されてもよ
いベンジルオキシ基、アルコキシ基、アルケニルオキシ
基、アルキニルオキシ基、置換されていてもよいフェノ
キシ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、置換
されていてもよいアリールアミノ基を示す。）、式ＮＲ
^１０Ｒ^１１（式中、Ｒ^１０及びＲ^１１は同一または相異
なり、水素原子、アルキル基、置換されていてもよいア
リール基、置換されていてもよいベンジル基、ホルミル
基、置換されていてもよいアルキルカルボニル基、シク
ロアルキルカルボニル基、置換されていてもよいアリー
ルカルボニル基、置換されていてもよいピリジルカルボ
ニル基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル
基、置換されていてもよいアリールスルホニル基、カル
バモイル基、アルキルチオカルボニル基、置換されてい
てもよいアリールチオカルボニル基を示す。また、Ｒ
^１０とＲ^１１は窒素原子とともにヘテロ原子を含んでも
よい環を形成することができる。）、式Ｎ＝ＣＲ^１２Ｒ
^１３（式中、Ｒ^１２及びＲ^１３は同一または相異なり、
水素原子、アルキル基、置換されていてもよいアリール
基を示す。また、Ｒ^１２とＲ^１３は、ヘテロ原子を含ん
でもよい環を形成することができる。）、Ｒ^３及びＲ^４
は同一または相異なり、水素原子、置換されていてもよ
いアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキルアミノ基、ジ
アルキルアミノ基、置換されていてもよいアルキル基を
示し、Ｒ^５は水素原子、置換されていてもよいアルキル
基、ホルミル基、置換されていてもよいアルキルカルボ
ニル基、シクロアルキルカルボニル基、置換されていて
もよいアリールカルボニル基、置換されていてもよいピ
リジルカルボニル基、カルバモイル基、アルコキシカル
ボニル基、アリールオキシカルボニル基、ベンジルオキ
シカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、アリール
チオカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールス
ルホニル基、トリアルキルシリル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル
基、トリクロロメチルチオ基を示し、Ｘ^１及びＸ^２は同
一または相異なり、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、
式ＮＲ^１４（式中、Ｒ^１４は水素原子またはアルキル基
を示す。）、カルボニル基、式Ｃ＝ＮＯＲ^１５（式中、
Ｒ^１５はアルキル基を示す。）、ヒドロキシメチレン基
で表される基を示し、Ｑ^１はメチレン基、カルボニル
基、式Ｃ＝Ｃ＜Ｒ^１６Ｒ^１７ （式中、Ｒ^１６及びＲ
^１７は同一または相異なり、シアノ基、シクロアルキル
カルボニル基、ベンゾイル基、アルコキシカルボニル基
を示す。）を示し、Ｑ^２、Ｑ^３は同一または相異なり、
式Ｃ＜Ｒ^１８Ｒ^１９［式中、Ｒ^１８及びＲ^１９は同一ま
たは相異なり、水素原子、アルキル基、アルコキシカル
ボニルアルキル基を示す。また、Ｒ^１８及びＲ^１９は一
つになり、カルボニル基または式Ｃ＝ＣＨＲ^２０（式
中、Ｒ^２０は水素原子またはアルキル基を示す。）を示
す。］を示し、ａ、ｂ、ｄ及びｅは窒素原子またはメチ
ン基を示し、少なくとも１つは窒素原子を表す。（但
し、ａとｂとｄがメチン基でｅが窒素原子を示し、化１
が８−キノリンカルボン酸誘導体を示す場合は除く。）
Ｙはハロゲン原子、置換されていてもよいアルキル基、
アルコキシ基、置換されていてもよいフェニル基、ニト
ロ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基を示し、
ｎは０〜２の整数を示し、ｎが２のときは相異なる基の
組合せであってもよい。Ｗは酸素原子、硫黄原子、Ｎ−
ホルミル基、メチレン基、カルボニル基、シアノメチレ
ン基を示し、Ｚはメチン基または窒素原子を示す。｝で
表される縮合ヘテロ環誘導体及びその塩ならびにこれを
有効成分として含有する除草剤に関するものである。

【０００８】この中で好ましい化合物としては、一般式
〔Ｉ〕においてＲが水素原子、水酸基及びＣ₁〜Ｃ₆のア
ルコキシ基のものを例示することができ、Ｒ³及びＲ⁴と
しては、ハロゲン原子（塩素、臭素、フッ素、ヨウ素の
各原子を例示することができる。）、Ｃ₁〜Ｃ₆のアルキ
ル基ならびにアルコキシ基のものを例示することができ
る。

【０００９】また、Ｙとしてはハロゲン原子（塩素、臭
素、フッ素、ヨウ素の各原子を例示することができ
る。）、Ｃ₁〜Ｃ₄のアルキル基ならびにアルコキシ基の
ものを例示することができる。

【００１０】さらに、化３又は化６におけるＲ¹及びＲ²
としては、Ｃ₁〜Ｃ₈のアルキル基、ホルミル基、Ｃ₁〜
Ｃ₈のアルキルカルボニル基、Ｃ₁〜Ｃ₈のアルコキシカ
ルボニル基、Ｃ₁〜Ｃ₈のアルキルチオカルボニル基、Ｃ
₁〜Ｃ₈のシクロアルコキシカルボニル基、Ｃ₁〜Ｃ₈のシ
クロアルキルチオカルボニル基、置換されていてもよい
Ｃ₃〜Ｃ₆のアルケニルオキシカルボニル基、Ｃ₃〜Ｃ₆の
アルケニルチオカルボニル基、置換されていてもよいＣ
₃〜Ｃ₆のアルキニルオキシカルボニル基及びＣ₃〜Ｃ₆の
アルキニルチオカルボニル基のものを例示することがで
き、Ｒ⁵としては水素原子、ホルミル基、Ｃ_１〜Ｃ_８の
アルキルカルボニル基のものを例示することができる。
次に本発明の化合物の具体的な例を表１〜表５４に示
す。尚、化合物番号は以後の記載において参照される。

【００１１】

【表１】

【００１２】

【表２】

【００１３】

【表３】

【００１４】

【表４】

【００１５】

【表５】

【００１６】

【表６】

【００１７】

【表７】

【００１８】

【表８】

【００１９】

【表９】

【００２０】

【表１０】

【００２１】

【表１１】

【００２２】

【表１２】

【００２３】

【表１３】

【００２４】

【表１４】

【００２５】

【表１５】

【００２６】

【表１６】

【００２７】

【表１７】

【００２８】

【表１８】

【００２９】

【表１９】

【００３０】

【表２０】

【００３１】

【表２１】

【００３２】

【表２２】

【００３３】

【表２３】

【００３４】

【表２４】

【００３５】

【表２５】

【００３６】

【表２６】

【００３７】

【表２７】

【００３８】

【表２８】

【００３９】

【表２９】

【００４０】

【表３０】

【００４１】

【表３１】

【００４２】

【表３２】

【００４３】

【表３３】

【００４４】

【表３４】

【００４５】

【表３５】

【００４６】

【表３６】

【００４７】

【表３７】

【００４８】

【表３８】

【００４９】

【表３９】

【００５０】

【表４０】

【表４１】

【００５１】

【表４２】

【００５２】

【表４３】

【００５３】

【表４４】

【００５４】

【表４５】

【００５５】

【表４６】

【００５６】

【表４７】

【００５７】

【表４８】

【００５８】

【表４９】

【００５９】

【表５０】

【００６０】

【表５１】

【００６１】

【表５２】

【００６２】

【表５３】

【００６３】

【表５４】

【００６４】

【表５５】

【００６５】

【表５６】

【００６６】

【表５７】

【００６７】

【表５８】

【００６８】

【表５９】

【００６９】本発明化合物〔Ｉ〕は、例えば以下に示す
製造法１〜６に従って製造することができる。しかし、
これらの方法に限定されるものではない。 製造法１

【００７０】

【化７】 （式中、Ｌ¹はハロゲン原子、アルキルスルホニル基、
ベンジルスルホニル基または置換ベンジルスルホニル基
を示し、Ｒ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ａ、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で
定義したものと同じ意味を示す。） 一般式〔Ｉ〕で示される化合物は、一般式〔II〕で示さ
れる化合物と一般式〔III〕で示される化合物とを当量
以上の塩基の存在下、適当な溶媒中で室温から溶媒の沸
点の範囲で０.５時間〜２４時間反応させることにより
製造することができる。

【００７１】塩基としては、金属ナトリウム、金属カリ
ウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属及び
水素化アルカリ土類金属類、カリウムｔ−ブトキシド等
のアルカリ金属アルコキシド類、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩類、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ
金属類等が使用できる。

【００７２】溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、Ｎ,Ｎ−
ジメチルホルムアミド、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、
その他アセトニトリル等が使用できる。

【００７３】尚、原料となる縮合ヘテロ環カルボニル誘
導体〔ＩＩ〕は、公知の方法、例えばビュレタン・ドゥ
・ラ・ソシエテ・ヒミカ・ドゥ・フランス（Ｂｕｌｌｅ
ｔｉｎ ｄｅ ｌａ Ｓａｃｉｅｔｅ Ｃｈｉｍｉｑｕ
ｅ ｄｅ Ｆｒａｎｃｅ）、２７６３−２７６６頁（１
９７５年）、ジャーナル・オブ・ジ・インディアン・ケ
ミカル・ソサエティー（Ｊ．Ｉｎｄｉａｎ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．）、第４５巻（５）、４３９−４４５頁（１９
６８年）、インディアン・ジャーナル・オブ・ケミスト
リー（Ｉｎｄｉａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．）、Ｓｅｃｔｉｏ
ｎ Ｂ、２５Ｂ（８）、８７０−８７１頁（１９８６
年）、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサエティー
（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．）、Ｃ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ（１）、１−４頁（１９６９年）、イ
ンディアン・ジャーナル・オブ・ケミストリー（Ｉｎｄ
ｉａｎ Ｊ．Ｃｈｅｍ．）、Ｓｅｃｔｉｏｎ Ｂ、１５
Ｂ（１１）、１０５６−１０５８頁（１９７７年）、プ
ラティカル・ヘテロサイクリック・ケミストリー・アカ
デミック（Ｐｒａｃｔ．Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ．Ｃ
ｈｅｍ．Ａｃａｄｅｍｉｃ）、５５頁（１９６８年）、
オーガニック リアクション（Ｏｒｇａｎｉｃ ｒｅａ
ｃｔｉｏｎ）、第２０巻、３３７頁（１９７３年）、エ
ルベチカ チミカ アクタ （Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ Ｃ
ｈｅｍｉｃａＡｃｔａ．）、第５４巻、９５９頁（１９
７１年）、ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミスト
リー（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．）、第３３巻（１２）、
４４２６頁（１９６８年）、ケミカル・ファルマシア・
ブリチン（Ｃｈｅｍｉｃａｌ＆ Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔ
ｉｃａｌ Ｂｕｌｌｅｔｉｎ）、第２５巻（１１）、２
９８８頁（１９７７年）、ファルマコ （Ｆａｒｍａ
ｃｏ，Ｅｄｉｚｉｏｎｅ Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃａ（Ｉ
ＴＡ））、第３６巻（９）、７９４頁（１９８１年）等
に記載された方法に従って得ることができる。

【００７４】また、一般式〔II〕のＲがＨの場合には、
公知の方法に従って酸化して、ＲがＯＨのものを得るこ
とができる。 製造法２

【００７５】

【化８】 （式中、Ｒ²¹はアルキル基、アリル基、ベンジル基また
はトリメチルシリルエチル基を示し、Ａ、Ｗ、Ｙ、Ｚ、
Ｒ³、Ｒ⁴及びｎは前記で定義したものと同じ意味を示
す。） Ｒ²¹がアルキル基の場合には、一般式〔Ｖ〕で示される
化合物は〔IV〕で示される化合物を等量以上の塩基の存
在下、水または水を含む適当な溶媒中で、室温から溶媒
の沸点の範囲で０.５時間〜２４時間反応させた後、酸
性にすることにより製造することができる。

【００７６】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等の水酸化アルカリ金属類、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム等の炭酸アルカリ金属類、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム等の炭酸水素アルカリ金属類が
使用できる。

【００７７】溶媒としては、メタノール、エタノール、
2-プロパノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル
系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶
媒、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトア
ミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶
媒、その他アセトニトリル等が使用できる。

【００７８】Ｒ²¹がアリル基の場合は、テトラキストリ
フェニルホスフィンパラジウム（０）等のパラジウム触
媒を用いてアセトニトリル、ジメチルホルムアミドある
いはテトラヒドロフラン等の溶媒中、ジメドンあるいは
ギ酸、n-ブチルアミンなどのアリルアクセプターと室温
から溶媒の沸点の範囲で１時間から２４時間反応させる
ことにより製造することができる。

【００７９】尚、Ｒ²¹がベンジル基の場合は、白金系触
媒、パラジウム系触媒等を用いて適当な溶媒中で常温、
常圧（必要ならば加熱、加圧下）で水素添加することに
より製造することができる。

【００８０】Ｒ²¹がトリメチルシリルエチル基の場合に
は、等量以上のテトラブチルアンモニウムフルオライド
等でテトラヒドロフラン中、室温で反応させることによ
り製造することができる。

【００８１】溶媒としては、メタノール、エタノール等
のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエス
テル系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン
系溶媒、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロ
フラン等のエーテル系溶媒及び酢酸等を使用することが
できる。 製造法３

【００８２】

【化９】 ｛式中、Ｑはハロゲン原子、シアノ基、イミダゾリル基
を示し、Ｒ²²は置換されていてもよいアルコキシ基、置
換されていてもよいベンジルオキシ基、イソプロピリデ
ンアミノオキシ基、置換されていてもよいフェニルオキ
シ基、置換されていてもよいフェニルチオ基、アルケニ
ルオキシ基、アルキニルオキシ基、アルキルチオ基、ま
たは式−ＮＲ⁶Ｒ⁷（式中、Ｒ⁶及びＲ⁷は同一または相異
なり、水素原子、アルキル基、置換されていてもよいフ
ェニル基、アルキルスルホニル基、置換されていてもよ
いフェニルスルホニル基を示す。また、Ｒ⁶、Ｒ⁷は窒素
原子とともに環を形成してもよい。）で表される基を示
し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ａ、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で定義した
意味を示す。｝ 一般式〔Ｉ〕で示される本発明化合物は、一般式〔Ｖ〕
で示される化合物を適当な溶媒中で等量以上の縮合剤と
−１０℃から溶媒の沸点の範囲で０.５時間〜２４時間
反応することによって、一般式〔VI〕で示される化合物
を得ることができる。

【００８３】これを単離するかまたは単離することなく
一般式〔VII〕で示される化合物と等量以上の塩基とと
もに、適当な溶媒中で−１０℃から溶媒の沸点の範囲の
温度で０.５時間〜２４時間反応させることによって一
般式〔Ｉ〕で示される化合物を製造することができる。

【００８４】縮合剤としては、塩化チオニル、シュウ酸
ジクロリド、クロロ炭酸エステル、カルボニルジイミダ
ゾール、シアノリン酸エステル、カルボジイミド類等が
使用できる。

【００８５】塩基としては、金属ナトリウム、金属カリ
ウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属及び
水素化アルカリ土類金属類、カリウムｔ−ブトキシド等
のアルカリ金属アルコキシド類、炭酸ナトリウム、炭酸
カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類等が使用
できる。

【００８６】溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、N,N-ジメ
チルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、その他アセ
トニトリル等が使用できる。 製造法４

【００８７】

【化１０】 （式中、Ｒ³、Ｒ⁴、Ａ、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で定義
したものと同じ意味を示し、Ｍはアルカリ金属、アルカ
リ土類金属、アンモニウムまたは有機アンモニウ ムを示す。）一般式〔VIII〕で示される化合物は、一般
式〔Ｖ〕で示される化合物を等量の塩基とともに適当な
溶媒中で、室温から溶媒の沸点の範囲で０.５時間〜２
４時間反応させることにより製造することができる。

【００８８】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カルシウム等の水酸化アルカリ金属及び水酸化アルカリ
土類金属類、炭酸ナトリウム、炭酸カルシウム等の炭酸
アルカリ金属及び炭酸アルカリ土類金属類、水素化ナト
リウム、水素化カリウム及び水素化カルシウム等の水素
化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金属類、ナトリ
ウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等のアルカリ金
属アルコキシド類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリ
ウム等の炭酸水素アルカリ金属類等、アンモニア、イソ
プロピルアミン等の有機アミン類等が使用できる。

【００８９】溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、酢酸メチル、酢酸エ
チル等のエステル系溶媒、メタノール、エタノール、2-
プロパノール等のアルコール系溶媒、ジエチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶
媒、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、
N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミ
ド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、
その他アセトニトリル、水等が使用できる。 製造法５

【００９０】

【化１１】 （式中、Ａ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で定義
したものと同じ意味を示す。） 一般式〔Ｖ〕で示される本発明化合物は、一般式〔IX〕
で示される化合物と適当な酸化剤とを、適当な溶媒中で
０℃から溶媒の沸点の範囲で０.５時間〜２４時間反応
させることによって得ることができる。

【００９１】酸化剤としては、過マンガン酸カリウム等
の過マンガン酸塩類、無水クロム酸等のクロム酸類、過
酸化水素、メタクロロ過安息香酸等の有機過酸類、過酸
化ニッケル等が使用できる。

【００９２】溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホル
ム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、
テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、N,N-ジメ
チルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、その他アセ
トニトリル、水等が使用できる。 製造法６

【００９３】

【化１２】 （式中、Ｒ²³は置換されていてもよいアルキル基、置換
されていてもよいベンジル基、アルケニル基、アルキニ
ル基、２−トリメチルシリルエトキシメチル基を示し、
Ｌ²はハロゲン原子を示し、Ｒ³、Ｒ⁴、Ａ、Ｗ、Ｙ、Ｚ
及びｎは前記で定義したものと同じ意味を示す。） 一般式〔XI〕で表される化合物は、一般式〔Ｖ〕で表さ
れる化合物と一般式〔Ｘ〕にて表される化合物とを塩基
の存在下、適当な溶媒中において反応温度−１０℃から
溶媒の沸点の範囲で０.５時間〜２４時間反応させるこ
とにより製造することができる。

【００９４】塩基としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等の水酸化アルカリ金属類、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウムなどのアルカリ金属炭酸塩類、炭酸水素ナ
トリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素
塩類、水素化ナトリウム等の水酸化アルカリ金属類等が
使用できる。

【００９５】溶媒としては、アセトン、メチルエチエル
ケトン等のケトン系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テ
トラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエーテル系溶
媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、N,N-
ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、ジ
メチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、その他
アセトニトリル等を使用できる。 製造法７

【００９６】

【化１３】 （式中、Ｌ³はハロゲン等の脱離基を示し、Ｒ、Ｒ¹、Ｒ
²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｗ及びＺは前記で定義したものと同
じ意味を示す。但しＲ⁵は水素原子を除く。） 一般式〔ＸＩＶ〕で示される化合物は、一般式〔ＸＩ
Ｉ〕で示される化合物を適当な溶媒中で等量以上の塩基
の存在下、一般式〔ＸＩＩＩ〕で表される化合物と−１
０℃から溶媒の沸点の範囲で０．５時間〜２４時間反応
させることにより製造することができる。

【００９７】塩基としては、金属ナトリウム、金属カリ
ウム等のアルカリ金属類、水素化ナトリウム、水素化カ
リウム等の水素化アルカリ金属類、カリウムｔ−ブトキ
シド等のアルカリ金属アルコキシド類、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属類が
使用できる。

【００９８】溶媒としては、トルエン、キシレン等の炭
化水素系溶媒、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロ
ゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエーテル、テトラヒド
ロフラン等のエーテル系溶媒、アセトン等のケトン系溶
媒、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド
等の非プロトン性極性溶媒、その他アセトニトリル等が
使用できる。 製造法８

【００９９】

【化１４】 （式中、Ｒ²⁴はホルミル基、ニトロ基を示し、Ｒ¹、
Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で定義したもの
と同じ意味を示す。） 一般式〔ＸＶＩ〕で示される化合物は、一般式〔ＸＶ〕
で示される化合物をN,N-ジメチルホルムアミド中オキシ
塩化リンとビルスマイヤー反応を行うことにより、ホル
ミル体を得ることができ、また、アルコラートの存在
下、硝酸エステルとテトラヒドロフラン中で反応させる
か、ニトロニウムテトラフルオロボレートとアセトニト
リルまたはテトラヒドロフラン中で−５０℃から溶媒の
沸点の範囲で反応させることにより、ニトロ体を得るこ
とができる。

【０１００】さらに、得られたニトロ体を常法により還
元することにより、アミノ体を得ることができ各種誘導
体に導くことができる。

【０１０１】一般式〔Ｉ〕で表される本発明化合物のう
ち（Ａ−１１）で示される化合物で、一般式〔ＸＩＸ〕
で表される化合物は以下の方法によって製造することが
できる。 製造法９

【０１０２】

【化１５】 （式中、Ｘ¹及びＸ²は前記で定義したもののうち酸素原
子、硫黄原子、ＮＲ¹⁴を示し、Ｒ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ¹⁴、Ｑ
¹、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で定義したものと同じ意味
を示し、Ｒ²⁵及びＲ²⁶は同一または相異なり塩素原子、
アルコキシ基、低級アルキルチオ基を示す。） 一般式〔ＸＩＸ〕で示される化合物は、一般式〔ＸＶＩ
Ｉ〕で示される化合物と一般式〔ＸＶＩＩＩ〕で示され
る化合物とを塩基の存在下、または非存在下において適
当な溶媒中で−３０℃から溶媒の沸点の範囲、好ましく
は０℃からで１２０℃で０．５時間〜２４時間反応させ
ることにより製造することができる。

【０１０３】使用する塩基としては、好ましくはトリエ
チルアミン、ピリジン、N,N-ジイソプロピルエチルアミ
ン、N,N-ジメチルアニリン等の有機塩基があげられる
が、水素化ナトリウム、水素化カリウム、水素化カルシ
ウム等の水素化アルカリ金属及び水素化アルカリ土類金
属類、カリウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコ
キシド類、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ
金属炭酸塩類、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム
等のアルカリ金属炭酸水素塩類もまた使用することがで
きる。

【０１０４】使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等の
エーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、N,N-ジメ
チルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、その他、ア
セトニトリル等が使用できる。

【０１０５】一般式〔Ｉ〕で表される本発明化合物のう
ち（Ａ−１２）で示される化合物で、一般式〔ＸＸＩ
Ｉ〕で示される化合物は以下の方法によって製造するこ
とができる。 製造法１０

【０１０６】

【化１６】 （式中、、Ｒ⁵、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹は前記で定義したもののう
ち、水素原子、低級アルキル基を示し、Ｘ²は前記で定
義したもののうち酸素原子、硫黄原子、ＮＲ¹⁴を示し、
Ｌ⁴は塩素原子あるいは臭素原子を示し、Ｒ、Ｒ³、
Ｒ⁴、Ｒ¹⁴、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で定義したものと
同じ意味を示す。） 一般式〔ＸＸＩＩ〕で示される化合物は、一般式〔Ｘ
Ｘ〕で示される化合物と一般式〔ＸＸＩ〕で示される化
合物とを塩基の存在下において適当な溶媒中で０℃から
溶媒の沸点の範囲、好ましくは１０℃からで８０℃で１
時間〜２０時間反応させることにより製造することがで
きる。

【０１０７】使用する塩基としては、好ましくは炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等のアルカリ金属炭酸塩類、炭
酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属
炭酸水素塩類があげられるが、水素化ナトリウム、水素
化カリウム、水素化カルシウム等の水素化アルカリ金属
及び水素化アルカリ土類金属類、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウム等の水酸化アルカリ金属、カリウムｔ−ブ
トキシド等のアルカリ金属アルコキシド類、トリエチル
アミン、ピリジン、N,N-ジイソプロピルエチルアミン、
N,N-ジメチルアニリン等の有機塩基もまた使用すること
ができる。

【０１０８】使用する溶媒としては、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジクロロメタン、ク
ロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒、ジエチルエ
ーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等の
エーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセ
トン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、N,N-ジメ
チルアセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒、その他、ア
セトニトリル等が使用できる。

【０１０９】一般式〔Ｉ〕で表される本発明化合物のう
ち（Ａ−１２）で示される化合物で、一般式〔ＸＸＶ
Ｉ〕で示される化合物は以下の方法によって製造するこ
とができる。 製造法１１

【０１１０】

【化１７】 （式中、Ｒ²⁷は式ＣＲ¹⁸Ｒ¹⁹−ＣＨ＝ＣＨＲ¹⁸もしくは
式ＣＲ¹⁸Ｒ¹⁹Ｃ≡ＣＲ¹⁸を示し、Ｒ¹⁸、Ｒ¹⁹は前記で定
義したもののうち、水素原子、低級アルキル基を示し、
Ｘ¹は前記で定義したもののうち酸素原子、硫黄原子、
ＮＲ¹⁴を示し、Ｌ⁴、Ｒ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ¹⁴、Ｗ、Ｙ、Ｚ
及びｎは前記で定義したものと同じ意味を示す。） 一般式〔ＸＸＶ〕で示される化合物は、一般式〔ＸＸＩ
ＩＩ〕で示される化合物と一般式〔ＸＸＩＶ〕で示され
る化合物とを塩基の存在下において適当な溶媒中で０℃
から溶媒の沸点の範囲、好ましくは２０℃からで８０℃
で１時間〜２４時間反応させることにより製造すること
ができる。

【０１１１】使用される塩基及び溶媒は、製造法６で記
載したものと同一のものを使用できる。

【０１１２】さらに、一般式〔ＸＸＶＩ〕で示される化
合物は、一般式〔ＸＸＶ〕で示される化合物を適当な触
媒の存在下、適当な溶媒中で０℃から溶媒の沸点の範
囲、好ましくは２０℃からで１５０℃で５時間〜７２時
間分子内環化反応を行わせることにより製造することが
できる。

【０１１３】使用される触媒としては、炭酸カリウム、
炭酸ナトリウム等のアルカリ金属炭酸塩類及び酸化水銀
（黄色）等があげられる。

【０１１４】使用する溶媒としては、好ましくはメタノ
ール、エタノール等のアルコール系触媒、N,N-ジメチル
アセトアミド、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルス
ルホキシド等の非プロトン性極性溶媒があげられるが、
ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、ジ
クロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系
溶媒、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエ
ーテル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、その他アセ
トニトリル等もまた使用できる。一般式〔Ｉ〕で表され
る本発明化合物のうち（Ａ−１２）で示される化合物
で、一般式〔ＸＸＸ〕で示される化合物は以下の方法に
よって製造することができる。 製造法１２

【０１１５】

【化１８】 （式中、Ｒ¹⁸及びＲ¹⁹は前記で定義したもののうち、水
素原子、低級アルキル基を示し、Ｘ¹は前記で定義した
もののうち酸素原子、硫黄原子、ＮＲ¹⁴を示し、Ｌ⁴、
Ｒ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ¹⁴、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で定義し
たものと同じ意味を示す。） 一般式〔ＸＸＩＸ〕で示される化合物は、一般式〔ＸＸ
ＶＩＩ〕で示される化合物と一般式〔ＸＸＶＩＩＩ〕で
示される化合物とを塩基の存在下において適当な溶媒中
で０℃から溶媒の沸点の範囲、好ましくは２０℃からで
８０℃で３時間〜２４時間反応させることにより製造す
ることができる。なおこの場合、必要に応じてヨウ化カ
リウム等のヨウ化アルカリ金属を添加することにより反
応を促進することが可能である。

【０１１６】使用される塩基及び溶媒は、製造法６で記
載したものと同一のものを使用できる。

【０１１７】さらに、一般式〔ＸＸＸ〕で示される化合
物は、一般式〔ＸＸＩＸ〕で示される化合物をパラジウ
ム炭素触媒の存在下、適当な溶媒中で常温、常圧で３時
間〜７２時間水素添加を行わせることにより製造するこ
とができる。

【０１１８】使用する溶媒としては、好ましくはメタノ
ール、エタノール等のアルコール系溶媒をあげることが
できるが、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素
系溶媒、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等のエー
テル系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、その他とし
てアセトニトリル等もまた使用できる。

【０１１９】一般式〔Ｉ〕で表される本発明化合物のう
ち（Ａ−１２）で示される化合物で、一般式〔ＸＸＸＩ
Ｖ〕で示される化合物は以下の方法によって製造するこ
とができる。 製造法１３

【０１２０】

【化１９】 （式中、Ｒ¹⁸及びＲ¹⁹は前記で定義したもののうち、水
素原子、低級アルキル基を示し、Ｘ¹は前記で定義した
もののうち酸素原子、硫黄原子、ＮＲ¹⁴を示し、Ｌ⁴、
Ｒ、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ¹⁴、Ｗ、Ｙ、Ｚ及びｎは前記で定義し
たものと同じ意味を示す。） 一般式〔ＸＸＸＩＩ〕で示される化合物は、一般式〔Ｘ
ＸＶＩＩ〕で示される化合物と一般式〔ＸＸＸＩ〕で示
される化合物とを塩基の存在下において適当な溶媒中で
０℃から溶媒の沸点の範囲、好ましくは２０℃からで８
０℃で５時間〜２４時間反応させることにより製造する
ことができる。なおこの場合、必要に応じてヨウ化カリ
ウム等のヨウ化アルカリ金属を添加することにより反応
を促進することが可能である。

【０１２１】一般式〔ＸＸＸＩＩＩ〕で示される化合物
は、一般式〔ＸＸＸＩＶ〕で示される化合物を塩基の存
在下において適当な溶媒中で０℃から溶媒の沸点の範
囲、好ましくは２０℃からで８０℃で５時間〜２４時間
分子内環化反応をさせることにより製造することができ
る。

【０１２２】使用される塩基及び溶媒は、製造法６で記
載したものと同一のものを使用できる。

【０１２３】さらに、一般式〔ＸＸＸＩＶ〕で示される
化合物は、一般式〔ＸＸＸＩＩＩ〕で示される化合物を
ハイドロサルファイトナトリウムを用いて適当な溶媒中
で０℃から溶媒の沸点の範囲、好ましくは３０℃から５
０℃で０．１時間〜１時間還元することにより製造する
ことができる。

【０１２４】使用する溶媒としては、好ましくはメタノ
ール、エタノール等のアルコール系溶媒あるいは水をあ
げることができるが、必要に応じてテトラヒドロフラ
ン、１，４−ジオキサン等のエーテル系溶媒、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン系溶媒、その他とし
てアセトニトリル等を混用できる。

【０１２５】

【実施例】次に実施例をあげて本発明化合物の製造法並
びに製剤法、用途を具体的に説明する。

【０１２６】実施例１ ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−４−ホルミル−３−メチル−ベンゾチオフェンの製
造（化合物番号１０４） N,N-ジメチルホルムアミド３０ml中、４−ホルミル−５
−ヒドロキシ−３−メチルベンゾチオフェン２.１g、
４,６−ジメトキシ−２−メチルスルホニルピリミジン
２.４g、炭酸カリウム１.８gの混合物を７０℃にて３時
間加熱攪拌した。室温に戻した後、水にあけ酢酸エチル
にて抽出し有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥
した。減圧濃縮し得られた油状物をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）で精製し、目的化合物３.１g（収率８６％）を得
た。

【０１２７】実施例２ ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−３−メチルベンゾチオフェン−４−カルボン酸の製
造（化合物番号１０５） ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−４−ホルミル−３−メチルベンゾチオフェン０.６g
をアセトン８０mlに溶解し室温にて攪拌しながら１０ml
の水に溶解した過マンガン酸カリウム０.６gを１５分間
で滴下し、さらに室温で４時間攪拌した。減圧濃縮しア
セトンを除いた後、飽和重炭酸ナトリウム水を加えアル
カリ性とした。酢酸エチルで抽出した後、水層を１０％
塩酸で酸析した。析出した結晶を濾集し水洗し、目的化
合物０.４７g（収率７６％）を得た。

【０１２８】実施例３ ベンジル ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）オキシ−３−エトキシカルボニル−２−メチルベ
ンゾフラン−４−カルボキシレートの製造（化合物番号
１） １５０mlのN,N-ジメチルホルムアミド中、ベンジル ３
−エトキシカルボニル−５−ヒドロキシ−２−メチルベ
ンゾフラン−４−カルボキシレート１２.８８g、４,６
−ジメトキシ−２−メチルスルホニルピリミジン８.３
３g、炭酸カリウム５.５３gの混合物を７０℃にて３時
間加熱攪拌した。室温に戻し氷水中にあけ酢酸エチルで
抽出し有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し
た。減圧濃縮し得られた油状物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）
にて精製し、目的化合物１４.４５g（収率８１％）を得
た。

【０１２９】実施例４ ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−３−エトキシカルボニル−２−メチルベンゾフラン
−４−カルボン酸の製造（化合物番号２） １００mlのエタノール中、ベンジル ５−（４,６−ジ
メトキシピリミジン−２−イル）オキシ−３−エトキシ
カルボニル−２−メチルベンゾフラン−４−カルボキシ
レート１４.４g、１０％パラジウム炭素４.５２gの混合
物を室温にて攪拌しながら常圧水素添加を行った。反応
終了後、不溶物を濾別し濾液を減圧濃縮して析出した結
晶をジエチルエーテル／n-ヘキサン混合溶媒にて洗浄
し、目的化合物１０.４７g（収率８９％）を得た。

【０１３０】実施例５ ピバロイルオキシメチル ５−（４,６−ジメトキシピ
リミジン−２−イル）オキシ−３−エトキシカルボニル
−２−メチルベンゾフラン−４−カルボキシレートの製
造（化合物番号４） ２０mlのN,N-ジメチルホルムアミド中、５−（４,６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ−３−エトキ
シカルボニル−２−メチルベンゾフラン−４−カルボン
酸０.４０g、クロロメチルピバレート０.２６g、炭酸カ
リウム０.２１gの混合物を室温にて６時間攪拌させた
後、氷水中にあけ酢酸エチルで抽出し有機層を水洗後、
無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮し得られた油
状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサ
ン：酢酸エチル＝４：１）にて精製し、目的化合物０.
４３g（収率８４％）を得た。

【０１３１】実施例６ メチル ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシベンズオキサゾール−４−カルボキシレート
の製造（化合物番号４４６） ３０mlのN,N-ジメチルホルムアミド中、メチル ５−ヒ
ドロキシベンズオキサゾール−４−カルボキシレート
０.６g、２−クロロ−４,６ジメトキシピリミジン０.６
g、炭酸カリウム０.７gの混合物を１１５℃にて２時間
加熱攪拌した。室温に戻した後、水にあけ酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗し無水硫酸ナトリウムで乾燥
後、減圧濃縮し得られた油状物をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝５：１）に
より精製し、目的化合物０.４g（収率３９％）を得た。

【０１３２】実施例７ メチル ６−（４,６−ジメトキシ−１,３,５−トリア
ジン−２−イル）オキシベンズオキサゾール−７−カル
ボキシレートの製造（化合物番号４６４） ３０mlのN,N-ジメチルホルムアミド中、メチル ６−ヒ
ドロキシベンズオキサゾール−７−カルボキシレート
０.６g、２−クロロ−４,６−ジメトキシ−１,３,５−
トリアジン０.５５g、炭酸カリウム０.５gを１１５℃に
て３時間加熱攪拌した。室温に戻した後、水にあけ酢酸
エチルで抽出した。有機層を水洗し無水硫酸ナトリウム
で乾燥後、減圧濃縮して得られた油状物をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝
５：１）により精製し、目的化合物０.６g（収率５８
％）を得た。

【０１３３】実施例８ メチル ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ−２−エトキシ−２,３−ジヒドロベンゾフ
ラン−４−カルボキシレートの製造（化合物番号５０
２） ３０mlのN,N-ジメチルホルムアミド中、メチル ２−エ
トキシ−５−ヒドロキシ−２,３−ジヒドロベンゾフラ
ン−４−カルボキシレート１.０g、４,６−ジメトキシ
−２−メチルスルホニルピリミジン１.０g、炭酸カリウ
ム０.７８gの混合物を１００℃にて２時間加熱攪拌し
た。室温に戻した後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機
層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮
し得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）で精製し、目的
化合物１.５g（収率９５％）を得た。

【０１３４】実施例９ ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−２−エトキシ−２,３−ジヒドロベンゾフラン−４
−カルボン酸の製造（化合物番号５０３） ２０mlのジメチルスルホキシド中、メチル ５−（４,
６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ−２−エ
トキシ−２,３−ジヒドロベンゾフラン−４−カルボキ
シレート１.２gを室温で攪拌しながら２Ｎ水酸化ナトリ
ウム水溶液２mlを１０分間で滴下した後、さらに室温で
１５時間攪拌した。水にあけジエチルエーテルで抽出し
た後水層を１０％塩酸で酸性とし、析出した結晶を酢酸
エチルで抽出し有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで
乾燥した。減圧濃縮し得られた油状物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝
１：１）で精製し目的化合物１.０g（収率８７％）を得
た。

【０１３５】実施例１０ ３−ベンゾイル−５−（４,６−ジメトキシピリミジン
−２−イル）オキシ−２−トリフルオロメチルベンゾフ
ラン−４−カルボン酸ナトリウムの製造（化合物番号７
７） ３０mlのN,N-ジメチルホルムアミド中、０.３５gの水素
化ナトリウムを室温で攪拌しながら３−ベンゾイル−５
−ヒドロキシ−２−トリフルオロメチルベンゾフラン−
４−カルボン酸１.７３gを徐々に加えた。加え終わった
後、さらに１時間攪拌した。この混合物を室温で攪拌し
ながら４,６−ジメトキシ−２−メチルスルホニルピリ
ミジン１.０８gを加えた後、７０℃で３時間攪拌した。
室温に戻し水にあけ析出した結晶を濾別し、水、アセト
ンで洗浄し目的化合物１.０２g（収率４０.５％）を得
た。

【０１３６】実施例１１ ベンジル ５−（４,６−ジメトキシ−１,３,５−トリ
アジン−２−イル）オキシ−２−メチル−３−メトキシ
カルボニルベンゾフラン−４−カルボキシレートの製造
（化合物番号３２） ２０mlのN,N-ジメチルホルムアミド中、ベンジル ５−
ヒドロキシ−２−メチル−３−メトキシカルボニルベン
ゾフラン−４−カルボキシレート２g、４,６−ジメトキ
シ−２−メチルスルホニル−１,３,５−トリアジン１
g、炭酸カリウム１gの混合物を７０℃にて２時間加熱撹
拌した。室温に戻し、氷水中にあけ酢酸エチルで抽出
し、有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
その後、減圧濃縮し、得られた固体をエタノールにてよ
く洗浄し、目的化合物２.４g（収率８６％）を得た。

【０１３７】実施例１２ メチル ６−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ−３−メチルベンゾイソオキサゾール−７−
カルボキシレートの製造（化合物番号４８５） ２０mlのN,N-ジメチルホルムアミド中、メチル ６−ヒ
ドロキシ−３−メチル−ベンゾイソオキサゾール−７−
カルボキシレート１.３g、４,６−ジメトキシ−２−メ
チルスルホニルピリミジン１.４g、炭酸カリウム１gの
混合物を７０℃にて２時間加熱撹拌した。室温に戻し、
氷水中にあけ酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗後、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。その後、減圧濃縮し、得
られた結晶をイソプロピルエーテルにてよく洗浄し、目
的化合物１.６g（収率７３％）を得た。

【０１３８】実施例１３ ６−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−３−メチル−ベンゾイソオキサゾール−７−カルボ
ン酸の製造（化合物番号４８６） ２０mlのN,N-ジメチルスルホキシド中、メチル ６−
（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ−
３−メチルベンゾイソオキサゾール−７−カルボキシレ
ート１.０gを７０℃にて加熱撹拌しながら、２Ｎ水酸化
ナトリウム水溶液１.７mlを１０分間で滴下した後、さ
らに７０℃にて３０分間加熱撹拌した。室温に戻した
後、水にあけジエチルエーテルで抽出した。水層を１０
％塩酸で酸性とし、析出した結晶を酢酸エチルで抽出
し、有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
その後、減圧濃縮し得られた結晶をイソプロピルエーテ
ルにて洗浄し、目的化合物０.７g（収率７１％）を得
た。

【０１３９】実施例１４ ６−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−３−メトキシカルボニル−２−メチルベンゾフラン
−４−カルボン酸ナトリウムの製造（化合物番号１３
０） ５mlのテトラヒドロフラン中、５−（４,６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）オキシ−３−メトキシカルボ
ニル−２−メチル−ベンゾフラン−４−カルボン酸０.
５gを室温にて撹拌しながら、６０％水素化ナトリウム
０.０５gを加えた。室温にて６時間撹拌した後、析出し
た結晶を濾取し、イソプロピルエーテルにて洗浄し、目
的化合物０.４０g（収率７５％）を得た。

【０１４０】実施例１５ Ｎ−［５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ−３−エトキシカルボニル−２−メチルベン
ゾフラン−４−カルボニル］イミダゾールの製造（化合
物番号１６） ３０mlのテトラヒドロフラン中、５−（４,６−ジメト
キシピリミジン−２−イル）オキシ−３−エトキシカル
ボニル−２−メチル−ベンゾフラン−４−カルボン酸
０.８０gを室温にて撹拌しながらカルボニルジイミダゾ
ール０.３６gを加えた。室温にて１時間撹拌した後、減
圧濃縮し、残渣を酢酸エチルに溶解し水洗した。無水硫
酸ナトリウムで乾燥後、減圧濃縮し得られた結晶をｎ−
ヘキサンにて洗浄し、目的化合物０.８１g（収率９０
％）を得た。

【０１４１】実施例１６ ４−アリルオキシカルボニル−５−（４,６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）オキシ−２−メチルベンゾフ
ラン−３−カルボン酸の製造 （化合物番号３７１） N,N-ジメチルホルムアミド２００ml中、４−アリルオキ
シカルボニル−５−ヒドロキシ−２−メチルベンゾフラ
ン−３−カルボン酸５４.２g、４,６−ジメトキシ−２
−メチルスルホニルピリミジン４７g、炭酸カリウム６
５gの混合物を７０℃にて２時間加熱攪拌した。室温に
戻した後、反応液を水にあけ、酢酸エチルで抽出し、有
機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧
濃縮し得られた結晶をイソプロピルエーテルで洗浄し、
目的化合物７９.２g（収率９８％）を得た。

【０１４２】実施例１７ ４−アリルオキシカルボニル−５−（４,６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）オキシ−２−メチルベンゾフ
ラン−３−カルボニルクロリドの製造（化合物番号２５
４） ４−アリルオキシカルボニル−５−（４,６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）オキシ−２−メチルベンゾフ
ラン−３−カルボン酸３０.４gを塩化チオニル７３mlに
溶解し、６０℃にて３０分加熱攪拌した。室温に戻した
後、塩化チオニルを減圧濃縮し、トルエンを加えてさら
に濃縮した。得られた油状物にヘキサンを加え結晶化さ
せ、目的化合物３１.４g（収率９９％）を得た。

【０１４３】実施例１８ アリル ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ−３−ジメチルカルバモイル−２−メチルベ
ンゾフラン−４−カルボキシレートの製造（化合物番号
２４８） ４−アリルオキシカルボニル−５−（４,６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）オキシ−２−メチルベンゾフ
ラン−３−カルボニルクロリド３.０gをジクロロメタン
１３mlに溶解し、氷冷下５０％ジメチルアミン水溶液
１.５gを滴下した。３０分攪拌し、反応液を水にあけ、
ジクロロメタンで抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸ナ
トリウムで乾燥した。減圧濃縮し得られた油状物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：酢酸エ
チル＝４：１）にて精製し、目的化合物１.８４g（収率
６０％）を得た。

【０１４４】実施例１９ ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−３−ジメチルカルバモイル−２−メチルベンゾフラ
ン−４−カルボン酸の製造（化合物番号２４７） アリル ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ−３−ジメチルカルバモイル−２−メチルベ
ンゾフラン−４−カルボキシレート１.４０gとギ酸０.
２９gをテトラヒドロフラン１２mlに溶解し、窒素雰囲
気下テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
（０）３７ｍgを加え５０℃にて３時間加熱攪拌した。
室温に戻した後、反応液にイソプロピルエーテルを加
え、析出した結晶をろ取し、目的化合物１.０２g（収率
８０％）を得た。

【０１４５】実施例２０ アリル ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ−３−エチルチオカルボニル−２−メチルベ
ンゾフラン−４−カルボキシレートの製造（化合物番号
１５２） ４−アリルオキシカルボニル−５−（４,６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）オキシ−２−メチルベンゾフ
ラン−３−カルボニルクロライド３.０gとトリエチルア
ミン０.８８gをジクロロメタン１３mlに溶解し、氷冷下
エチルメルカプタン０.５６gを滴下した。３０分攪拌し
た後、反応液を水にあけ、ジクロロメタンで抽出した。
有機層を水洗後、無水硫酸ナトリウムにて乾燥し、減圧
濃縮して得られた油状物をシリカゲルカラムクロマトグ
ラフィー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝４：１）にて精製
し、目的化合物１.７４g（収率５５％）を得た。

【０１４６】実施例２１ ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−３−エチルチオカルボニル−２−メチルベンゾフラ
ン−４−カルボン酸の製造（化合物番号１５３） アリル ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ−３−エチルチオカルボニル−２−メチルベ
ンゾフラン−４−カルボキシレート１.６０gとジメドン
０.５４gをテトラヒドロフラン１４mlに溶解し、窒素雰
囲気下、テトラキストリフェニルホスフィンパラジウム
（０）４０mgを加え、室温で３時間攪拌した。反応液を
減圧濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー（n-ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、目
的化合物１.３３g（収率９１％）を得た。

【０１４７】実施例２２ ２−トリメチルシリルエトキシメチル ５−（４,６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ−３−（４−
メトキシベンジルオキシカルボニル）−２−メチルベン
ゾフラン−４−カルボキシレートの製造（化合物番号３
６９） ５−（４,６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ−３−（４−メトキシベンジルオキシカルボニル）−
２−メチルベンゾフラン−４−カルボン酸１３.５gとト
リエチルアミン３.３gをジクロロメタン１２０mlに溶解
し、氷冷下２−トリメチルシリルエトキシメチルクロリ
ド５.０gを滴下した。３０分攪拌後、反応液を水にあ
け、ジクロロメタンで抽出した。有機層を水洗後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（n-ヘキサン：
酢酸エチル＝４：１）にて精製し、目的化合物１４.０g
（収率８２％）を得た。

【０１４８】実施例２３ メチル ６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）オキシ］キノリン−５−カルボキシレートの製造
（化合物番号８９９） メチル ６−ヒドロキシキノリン−５−カルボキシレー
ト０．８ｇ、４，６−ジメトキシ−２−メチルスルホニ
ルピリミジン０．９６ｇおよび炭酸カリウム０．８２ｇ
をN,N-ジメチルホルムアミド３０ｍｌ中８０℃で３時間
攪拌した。室温に戻した後、氷水にあけ酢酸エチルで抽
出し有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し
た。減圧濃縮し得られた残渣をジクロロメタン／イソプ
ロピルエーテル混合溶媒で、結晶化させ目的化合物１．
２１ｇ（収率８９．０％）を得た。ｍｐ．１６０〜１６
２℃

【０１４９】実施例２４ ６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］キノリン−５−カルボン酸の製造（化合物番号８
９８） メタノール１０ｍｌおよびメトキシエタン２０ｍｌ中、
メチル ６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）オキシ］キノリン−５−カルボキシレート０．
８ｇを溶解し、４０℃で水酸化カリウム０．３９ｇの水
溶液５ｍｌを加え、ジクロロメタンで抽出した。水層を
１０％塩酸水溶液で酸性（ｐＨ＝４）とし、析出した沈
澱を濾取、乾燥し、目的化合物０．５ｇ（収率６６．０
％）を得た。ｍｐ．１９５〜１９８℃

【０１５０】実施例２５ ベンジル ５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）オキシ］２−メチルインドール−４−カルボン
キシレートの製造（化合物番号６５９） N,N-ジメチルホルムアミド２０ｍｌ中、ベンジル ５
−ヒドロキシ−２−メチルインドール−４−カルボキシ
レート２．２ｇ、４，６−ジメトキシ−２−メチルスル
ホニルピリミジン１．７ｇ、炭酸カリウム１．３ｇの混
合物を７０〜８０℃で２時間加熱攪拌した。室温に戻し
た後、氷水にあけ、酢酸エチルで抽出し有機層を水洗
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し得ら
れた残渣を、イソプロピルエーテルで結晶化させ、目的
化合物２．８ｇ（収率８５％）を得た。ｍｐ．１３５〜
１３９℃

【０１５１】実施例２６ ベンジル ５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）オキシ］−３−ホルミル−２−メチルインドー
ル−４−カルボキシレートの製造（化合物番号６７５） N,N-ジメチルホルムアミド１．８ｍｌ中、氷冷下オキシ
塩化リン０．４６ｍｌを滴下し３０分間攪拌した。これ
にN,N-ジメチルホルムアミド１０ｍｌ中、ベンジル
５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−２−メチルインドール−４−カルボキシレート
２．３ｇを溶解し、氷冷下滴下した。３０分間攪拌した
後、氷水にあけ、水酸化ナトリウム水溶液を加えｐＨ９
とし酢酸エチルで抽出し有機層を水洗後、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。減圧濃縮し、得られた残渣をイソ
プロピルエーテルで結晶化させ、目的化合物２ｇ（収率
８１．５％）を得た。ｍｐ．１４８〜１４９℃

【０１５２】実施例２７ アリル ５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−
イル）オキシ］−２−メチル−３−ニトロインドール−
４−カルボキシレートの製造（化合物番号７５４） アセトニトリル２５ｍｌ中、アリル ５−［（４，６
−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ］−２−メ
チルインドール−４−カルボキシレート２．０ｇを溶解
し、−３０℃に冷却した。ニトロニウムテトラフルオロ
ボレートの０．５Ｍスルホラン溶液１６．３ｍｌを滴下
し５時間攪拌した。アンモニア水２ｍｌを加えた後、室
温に戻し酢酸エチルで抽出し有機層を水洗後、無水硫酸
ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮し得られた結晶をヘキ
サンで洗浄し、目的化合物１．２３ｇ（収率５５％）を
得た。

【０１５３】実施例２８ アリル ３−アミノ−５−［（４，６−ジメトキシピリ
ミジン−２−イル）オキシ］−２−メチルインドール−
４−カルボキシレートの製造（化合物番号７１７） メタノール５０ｍｌ中、アリル ５−［（４，６−ジ
メトキシピリミジン−２−イル）オキシ−２−メチル−
３−ニトロインドール−４−カルボキシレート３．４ｇ
を溶解し、濃塩酸５ｍｌを加え、室温でスズ粉末４．９
ｇを少量ずつ加えた後、１２時間室温で攪拌した。固体
を濾別し、減圧濃縮し酢酸エチルで抽出し、有機層を水
洗後、無水硫酸ナトリウムで乾燥した。減圧濃縮し得ら
れた残渣をイソプロピルエーテルで結晶化させ、目的化
合物２．５ｇ（収率 ７９％）を得た。ｍｐ．１３２〜
１３５℃

【０１５４】実施例２９ アリル ３−アセチルアミノ−５−［（４，６−ジメト
キシピリミジン−２−イル）オキシ］−２−メチルイン
ドール−４−カルボキシレートの製造（化合物番号７３
０） ピリジン１０ｍｌ中、アリル ５−［（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）オキシ］−２−メチルイ
ンドール−４−カルボキシレート０．５ｇを溶解し、こ
れに無水酢酸０．１６ｇを加え、１２時間攪拌した。反
応液を氷水にあけ酢酸エチルで抽出し、有機層を水洗
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し得ら
れた残渣をイソプロピルエーテルで結晶化させ、目的化
合物０．４９ｇ（収率８７％）を得た。 ｍｐ．１７７
〜１８０℃

【０１５５】実施例３０ ３−アセチルアミノ−５−［（４，６−ジメトキシピリ
ミジン−２−イル）オキシ］−２−メチルインドール−
４−カルボン酸の製造（化合物番号７３１） テトラヒドロフラン１０ｍｌ中、アリル ３−アセチ
ルアミノ−５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２
−イル）オキシ］−２−メチルインドール−４−カルボ
キシレート０．４９ｇを溶解し、これにジメドン０．１
ｇとテトラキストリフェニルホスフィンパラジウム０．
０１ｇを加え４時間室温で攪拌した。減圧濃縮し得られ
た結晶をイソプロピルエーテルで洗浄し、目的化合物
０．４１ｇ（収率 ９３％）を得た。 ｍｐ．２３０〜
２３３℃

【０１５６】実施例３１ ベンジル １−ベンゾイル−５−［（４，６−ジメトキ
シピリミジン−２−イル）オキシ］−３−エトキシカル
ボニル−２−メチルインドール−４−カルボキシレート
の製造（化合物番号７９１） テトラヒドロフラン５０ｍｌ中、ベンジル ５−
［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ］−３−エトキシカルボニル−２−メチルインドール
−４−カルボキシレート１．５ｇを溶解し、６０％水素
化ナトリウム ０．１７６ｇを加え室温で３０分攪拌し
た後、ベンゾイルクロリド０．５１ｇを室温で滴下し４
時間攪拌した。減圧濃縮した後、氷水にあけ、酢酸エチ
ルで抽出し、有機層を水洗後、無水硫酸マグネシウムで
乾燥した。減圧濃縮し得られた残渣をイソプロピルエー
テルで結晶化させ、目的化合物１．６７ｇ（収率 ９２
％）を得た。 ｍｐ．１２８〜１３２。５℃

【０１５７】実施例３２ １−ベンゾイル−５−［（４，６−ジメトキシピリミジ
ン−２−イル）オキシ］−３−エトキシカルボニル−２
−メチルインドール−４−カルボン酸の製造（化合物番
号７９２） 酢酸エチル５０ｍｌ中、ベンジル １−ベンゾイル−
５−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−３−エトキシカルボニル−２−メチルインドー
ル−４−カルボキシレート１．６ｇを溶解し、１０％パ
ラジウム炭素Ｏ．１ｇを加え、接触還元を行った。不溶
物を濾過後、減圧濃縮し得られた残渣をイソプロピルエ
ーテルで洗浄し、目的化合物１．２８ｇ（収率 ９７
％）を得た。 ｍｐ．１１３〜１１５℃

【０１５８】実施例３３ （２−トリメチルシリル）エチル ６−［（４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ］−２−オキ
ソベンゾオキサゾリン−７−カルボキシレートの製造
（化合物番号８４８） ジクロロメタン２０ｍｌ中、（２−トリメチルシリル）
エチル ３−アミノ−２−ヒドロキシ−６−［（４，
６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ］ベンゾ
エート２．４５ｇ、トリエチルアミン５ｍｌの混合物に
室温でトリホスゲン１．１８ｇを少量ずつ加えた。１時
間室温で攪拌した後、水にあけ酢酸エチルで抽出し有機
層を水、１０％塩酸、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥した。減圧濃縮し得られた残渣をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的化合物
２．２５ｇ（収率 ９７％）を得た。（収率 ８６．５
％） 屈折率：測定不可

【０１５９】実施例３４ （２−トリメチルシリル）エチル ７−［（４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ−３−オキソ
−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン
−８−カルボキシレートの製造（化合物番号８７３） N,N-ジメチルホルムアミド１５ｍｌ中、（２−トリメチ
ルシリル）エチル３−アミノ−２−ヒドロキシ−６−
［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ］ベンゾエート２．０４ｇ、炭酸カリウム１．３８ｇ
の混合物に１０℃でクロロアセチルクロリド０．６０ｇ
をゆっくり滴下した後、徐々に室温に戻し５時間攪拌し
た。さらに５０℃で２時間攪拌して反応を完結させた。
室温に戻した後、水中にあけ１０％塩酸でＰＨを３に調
整し酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗
浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し、
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで
精製して目的化合物１．０１ｇ（収率 ４１．８％）を
得た。 ｍｐ．：１４８〜１５０℃

【０１６０】実施例３５ （２−トリメチルシリル）エチル ７−［（４，６−
ジメトキシピリミンジン−２−イル）オキシ］−２−メ
チレン−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキ
サジン−８−カルボキシレートの製造（化合物番号８９
１） N,N-ジメチルホルムアミド２０ｍｌ中、（２−トリメチ
ルシリル）エチル３−アミノ−２−ヒドロキシ−６−
［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ］ベンゾエート４．２０ｇ、炭酸ナトリウム１．６８
ｇ、プロパルギルブロミド１．４２ｇの混合物を５０℃
で４時加熱間攪拌した。室温に戻した後、水にあけ、酢
酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で洗浄した
後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し、得
られた残渣をシリカゲルカルムクロマトグラフィーで精
製し、（２−トリメチルシリル）エチル ２−ヒドロ
キシ−３−プロパルギルアミノ−６−［（４，６−ジメ
トキシピリミジン−２−イル）オキシ］ベンゾエート
２．９０ｇ（収率 ６３．９％）を得た。

【０１６１】N,N-ジメチルホルムアミド１０ｍｌ中、得
られた（２−トリメチルシリル）エチル ２−ヒドロキシ−３−プロパギルアミノ−６−［（４，
６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ］ベンゾ
エート２．８０ｇ、酸化水銀（黄色）０．２０ｇの混合
物を、窒素気流下１５０℃で２時間加熱攪拌した。室温
に戻した後、水にあけ、酢酸エチルで抽出し有機層を
水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥
した。減圧濃縮し得られた残渣をシリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して目的化合物１．８０ｇを得
た。屈折率：測定不可

【０１６２】実施例３６ （２−トリメチルシリル）エチル ７−［（４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ−３−メチル
−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン
−８−カルボキシレートの製造（化合物番号８８５） アセトン２０ｍｌ中、（２−トリメチルシリル）エチル
２−ヒドロキシ−３−ニトロ−６−［（４，６−ジ
メトキシピリミジン−２−イル）オキシ］ベンゾエート
３．５０ｇ、炭酸カリウム１．８０ｇ、ヨウ化カリウム
１．３３ｇの混合物に１０℃でクロロアセトン１．２０
ｇをゆっくり滴下した後、徐々に室温に戻し８時間攪拌
した。不溶物を濾去し、減圧濃縮し、水にあけ酢酸エチ
ルで抽出し有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し、得られた残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して（２−
トリメチルシリル）エチル ２−アセトニルオキシ−
３−ニトロ−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−
２−イル）オキシ］ベンゾエート３．７０ｇ（収率６
３．９％）を得た。（収率 ９３．７％） メタノール１００ｍｌ中、得られた（２−トリメチルシ
リル）エチル ２−アセトニルオキシ−３−ニトロ−
６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］ベンゾエート３．６０ｇを１０％パラジウム炭素
０．５ｇをで常圧接触還元を行った。ほぼ理論量の７０
０ｍｌの水素を消費したところで反応を停止した。パラ
ジウム炭素を濾別し、減圧濃縮し得られた残渣をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的化合物
３．１０ｇ（収率 ９４．８％）を得た。屈折率：測定
不可

【０１６３】実施例３７ （２−トリメチルシリル）エチル ７−［（４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ］−３，４−
ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−８−カル
ボキシレートの製造（化合物番号８７９） N,N-ジメチルホルムアミド２０ｍｌ中、（２−トリメチ
ルシリル）エチル２−ヒドロキシ−３−ニトロ−６−
［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ］ベンゾエート３．５０ｇ、炭酸カリウム３．４０
ｇ、１，２−ジブロムエタン９．４０ｇの混合物を８０
℃で２時間加熱攪拌した。室温に戻した後、水にあけ、
酢酸エチルで抽出し有機層を水、飽和食塩水で洗浄後、
無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して
（２−トリメチルシリル）エチル ２−（２−ブロモ
エトキシ）−３−ニトロ−６−［（４，６−ジメトキシ
ピリミジン−２−イレウ）オキシベンゾエート３．６０
ｇ（収率 ８２．８％）を得た。

【０１６４】水（１５ｍｌ）とメタノール（３０ｍｌ）
の混合溶媒中、得られた（２−トリメチルシリル）エチ
ル ２−（２−ブロモエトキシ）−３−ニトロ−６−
［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキ
シ］ベンゾエート３．６０ｇ、７０％ハイドロサルファ
イトナトリウム７．００ｇを２０分間室温で攪拌した。
水にあけ、食塩を飽和させてから酢酸エチルで抽出し
た。有機層を減圧濃縮した後、酢酸エチルで抽出し、有
機層を水、飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸マグネシウム
で乾燥した。減圧濃縮し得られた（２−トリメチルシリ
ル）エチル ３−アミノ−２−（２−ブロモエトキ
シ）−６−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イ
ル）オキシ］ベンゾエート３．１０ｇを得た。このもの
はさらに精製することなく次の反応に供した。（収率
９１．２％） N,N-ジメチルホルムアミド１０ｍｌ中、得られた（２−
トリメチルシリル）エチル ３−アミノ−２−（２−ブロモエトキシ）−６−
［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ
ベンゾエート３．１０ｇ、炭酸カリウム２．７６ｇを６
０℃から８０℃で３時間攪拌した。室温に戻した後、水
にあけ酢酸エチルで抽出し、有機層を水、飽和食塩水で
洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮
し、目的化合物１．９５ｇ（収率 ７５．０％）を得
た。 屈折率：１．５３３３

【０１６５】実施例３８ ７−［（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）オ
キシ］−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキ
サジン−８−カルボン酸の製造（化合物番号８８０） テトラヒドロフラン３０ｍｌ中、実施例３９で得られた
（２−トリメチルシリル）エチル ７−［（４，６−
ジメトキシピリミジン−２−イル）オキシ］−３，４−
ジヒドロ−２Ｈ−１，４−ベンゾオキサジン−８−カル
ボキシレート１．６５ｇにテトラブチルアンモニウムフ
ロリド・三水塩の１モル−テトラヒドロフラン溶液１５
ｍｌを加え、３時間室温で攪拌した。減圧濃縮し、水に
あけ２０％クエン酸水溶液でＰＨを５に調整し、酢酸エ
チルで抽出し有機層を水、飽和食塩水で洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥した。減圧濃縮し得られた残
渣をイソプロピルエーテルで結晶化させて目的化合物
０．８７ｇ（収率 ６８．５％）を得た。 ｍｐ．：１
６０〜１６４℃ 本発明の除草剤は、一般式〔Ｉ〕で示される縮合ヘテロ
環誘導体を有効成分としてなる。

【０１６６】本発明化合物を除草剤として使用するには
本発明化合物それ自体で用いてもよいが、製剤化に一般
的に用いられる担体、界面活性剤、分散剤または補助剤
等を配合して、粉剤、水和剤、乳剤、微粒剤または粒剤
等に製剤して使用することもできる。

【０１６７】製剤化に際して用いられる担体としては、
例えばジークライト、タルク、ベントナイト、クレー、
カオリン、珪藻土、ホワイトカーボン、バーミキュライ
ト、炭酸カルシウム、消石灰、珪砂、硫安、尿素等の固
体担体、イソプロピルアルコール、キシレン、シクロヘ
キサン、メチルナフタレン等の液体担体等があげられ
る。

【０１６８】界面活性剤及び分散剤としては、例えばア
ルキルベンゼンスルホン酸金属塩、ジナフチルメタンジ
スルホン酸金属塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキ
ルアリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、ポリ
オキシエチレングリコールエーテル、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンソル
ビタンモノアルキレート等があげられる。

【０１６９】補助剤としては、例えばカルボキシメチル
セルロース、ポリエチレングリコール、アラビアゴム等
があげられる。

【０１７０】使用に際しては適当な濃度に希釈して散布
するかまたは直接施用する。

【０１７１】本発明の除草剤は茎葉散布、土壌施用また
は水面施用等により使用することができる。有効成分の
配合割合については必要に応じて適宜選ばれるが、粉剤
または粒剤とする場合は０.０１〜１０％（重量）、好
ましくは０.０５〜５％（重量）の範囲から適宜選ぶの
がよい。また、乳剤及び水和剤とする場合は１〜５０％
（重量）、好ましくは５〜３０％（重量）の範囲から適
宜選ぶのがよい。

【０１７２】本発明の除草剤の施用量は使用される化合
物の種類、対象雑草、発生傾向、環境条件ならびに使用
する剤型等によってかわるが、粉剤及び粒剤のようにそ
のまま使用する場合は、有効成分として１０アール当り
０.１g〜５kg、好ましくは１g〜１kgの範囲から適宜選
ぶのがよい。また、乳剤及び水和剤とする場合のように
液状で使用する場合は、０.１〜５０,０００ppm、好ま
しくは１０〜１０,０００ppmの範囲から適宜選ぶのがよ
い。

【０１７３】また、本発明の化合物は必要に応じて殺虫
剤、殺菌剤、他の除草剤、植物生長調節剤、肥料等と混
用してもよい。

【０１７４】次に代表的な製剤例をあげて製剤方法を具
体的に説明する。化合物、添加剤の種類及び配合比率
は、これのみに限定されることなく広い範囲で変更可能
である。以下の説明において「部」は重量部を意味す
る。

【０１７５】製剤例１ 水和剤 化合物（１７２）の１０部にポリオキシエチレンオクチ
ルフェニルエーテルの０.５部、β−ナフタレンスルホ
ン酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０.５部、珪藻土
の２０部、クレーの６９部を混合粉砕し、水和剤を得
る。

【０１７６】製剤例２ 水和剤 化合物（２）の１０部にポリオキシエチレンオクチルフ
ェニルエーテルの０.５部、β−ナフタレンスルホン酸
ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０.５部、珪藻土の２
０部、ホワイトカーボンの５部、クレーの６４部を混合
粉砕し、水和剤を得る。

【０１７７】製剤例３ 水和剤 化合物（２４）の１０部にポリオキシエチレンオクチル
フェニルエーテルの０.５部、β−ナフタレンスルホン
酸ホルマリン縮合物ナトリウム塩の０.５部、珪藻土の
２０部、ホワイトカーボンの５部、炭酸カルシウムの６
４部を混合粉砕し、水和剤を得る。

【０１７８】製剤例４ 乳剤 化合物（９）の１０部にキシレンとイソホロンの等量混
合物８０部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタン
アルキレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポ
リマー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の１
０部を加え、これらをよくかきまぜることによって乳剤
を得る。

【０１７９】製剤例５ 粒剤 化合物（１６８）の１部、タルクとベントナイトを１：
３の割合の混合した増量剤の８９部、ホワイトカーボン
の５部、界面活性剤ポリオキシエチレンソルビタンアル
キレート、ポリオキシエチレンアルキルアリールポリマ
ー及びアルキルアリールスルホネートの混合物の５部に
水１０部を加え、よく練ってペースト状としたものを直
径０.７mmのふるい穴から押し出して乾燥した後に０.５
〜１mmの長さに切断し、粒剤を得る。 明細書１終り（明細書２へ続く） 明細書２（明細書１の続き）

【０１８０】

【発明の効果】一般式〔Ｉ〕で表される本発明の化合物
は、非農耕地や畑地において問題となる種々の雑草、例
えばオオイヌタデ、アオビユ、シロザ、ヤエムグラ、オ
オイヌノフグリ、カミツレ、タネツケバナ、ハコベ、イ
チビ、アメリカキンゴジカ、アメリカツノクサネム等の
広葉雑草をはじめ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ等の
カヤツリグサ科雑草、ヒエ、メヒシバ、エノコログサ、
スズメノカタビラ、ジョンソングラス、ノスズメノテッ
ポウ、野生エンバク等のイネ科雑草の発芽前から生育期
の広い範囲にわたって優れた除草効果を発揮する。ま
た、水田に発生するタイヌビエ、タマガヤツリ、コナギ
等の一年生雑草及びウリカワ、オモダカ、ミズガヤツ
リ、クログワイ、ホタルイ、ヘラオモダカ等の多年生雑
草を防除することもできる。一方、本発明の除草剤は作
物に対する安全性も高く、中でもイネ、コムギ、オオム
ギ及びワタ等に対して高い安全性を示す。次に試験例を
あげて本発明化合物の奏する効果を説明する。

【０１８１】試験例１（水田土壌処理による除草効果試
験） １００cm²のプラスチックポットに水田土壌を充填し、
代掻後、タイヌビエ(Eo)、コナギ(Mo)及びホタルイ(Sc)
の各種子を播種し、水深３cmに湛水した。翌日、製剤例
１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、水面滴下し
た。施用量は、有効成分を１０アール当り１００gとし
た。その後、温室内で育成し、処理後２１日目に表６０
の基準に従って除草効果を調査した。尚、比較化合物と
しては表６１に示す化合物を同様に製剤して使用した。
結果を表６２〜表６５に示す。

【０１８２】

【表６０】

【０１８３】

【表６１】

【０１８４】

【表６２】

【０１８５】

【表６３】

【０１８６】

【表６４】

【０１８７】

【表６５】

【０１８８】試験例２（畑地土壌処理による除草効果試
験） １２０cm²プラスチックポットに畑地土壌を充填し、食
用ビエ(Ec)、オオイヌタデ(Po)、アオビユ(Am)、シロザ
(Ch)、コゴメガヤツリ(Ci)の各種子を播種して覆土し
た。製剤例１に準じて調製した水和剤を水で希釈し、１
０アール当り有効成分が１００gになる様に、１０アー
ル当り１００lを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布し
た。その後、温室内で育成し、処理２１日目に表６０の
基準に従って、除草効果を調査した。尚、比較化合物と
しては表６１に示す化合物を同様に製剤して使用した。
結果を表６６〜表６９に示す。

【０１８９】

【表６６】

【０１９０】

【表６７】

【０１９１】

【表６８】

【０１９２】

【表６９】

【０１９３】試験例３（畑地茎葉処理による除草効果試
験） １２０ｃｍ²プラスチックポットに畑地土壌を充填し、
食用ビエ（Ec）、オオイヌタデ（Po）、アオビユ（A
m）、シロザ（Ch）、コゴメガヤツリ（Ci）の各種子を
播種し、温室内で２週間育成後、製剤例１に準じて調製
した水和剤を水に希釈し、１０アール当り有効成分が１
００ｇになる様に、１０アール当り１００ｌを小型噴霧
器で植物体の上方から全体に茎葉散布処理した。その
後、温室内で育成し、処理１４日目に表６０の基準に従
って、除草効果を調査した。尚、比較化合物としては表
６１に示す化合物を同様に製剤して使用した。試験結果
を表７０〜表７３に示す。

【０１９４】

【表７０】

【０１９５】

【表７１】

【０１９６】

【表７２】

【０１９７】

【表７３】

【０１９８】試験例４（水田土壌処理による作物選択性
試験） 1/10000aプラスチックポットに水田土壌を充填し、入
水、代掻後、タイヌビエ（Eo）、コナギ（Mo）及びホタ
ルイ（Sc）の種子を０．５cmの深さに播種し、更に２．
５葉期の水稲（Or）を移植深度２cmで、２本移植して水
深３cmに湛水した。翌日、製剤例１に準じて調製した水
和剤の所定有効成分量（g^ai/10a）を水で希釈し、水面
に滴下処理した。その後、温室内で育成し、処理後２８
日目に表６０の基準に従い、除草効果及び薬害を調査し
た。尚、比較化合物としては表６１に示す化合物を同様
に製剤して使用した。結果を表７５〜表７７に示す。

【０１９９】

【表７５】

【０２００】

【表７６】

【０２０１】

【表７７】

【０２０２】試験例５（畑地土壌処理による作物選択性
試験） ６００cm²プラスチックポットに畑地土壌を充填し、コ
ムギ(Tr)、食用ビエ(Ec)、エノコログサ(Se)、ジョンソ
ングラス(So)、ノスズメノテッポウ(Al)、オオイヌタデ
(Po)、アオビユ(Am)、シロザ(Ch)の各種子を播種して覆
土した。翌日、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定
有効成分量（g^ai/10a）を水で希釈し、１０アール当り
１００lを小型噴霧器で土壌表面に均一に散布した。そ
の後、温室内で育成し、処理後２１日目に表６０の基準
に従って除草効果を調査した。尚、比較化合物としては
表６１に示す化合物を同様に製剤して使用した。結果を
表７８〜表７９に示す。

【０２０３】

【表７８】

【０２０４】

【表７９】

【０２０５】試験例６（畑地茎葉処理による作物選択性
試験） ６００cm²プラスチックポットに畑地土壌を充填し、イ
ネ(Or)、コムギ(Tr)、食用ビエ(Ec)、ジョンソングラス
(So)、ノスズメノテッポウ(Al)、オオイヌタデ(Po)、ア
オビユ(Am)、シロザ(Ch)の各種子を播種し、温室内で２
週間育成後、製剤例１に準じて調製した水和剤の所定有
効成分量（g^ai/10a）を水で希釈し、１０アール当り１
００lを小型噴霧器で植物体の上方から全体に茎葉散布
処理した。その後、温室内で育成し、処理１４日目に表
６０の基準に従って、除草効果を調査した。尚、比較化
合物としては表６１に示す化合物を同様に製剤して使用
した。結果を表８０〜表８１に示す。

【０２０６】

【表８０】

【０２０７】

【表８１】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ａ０１Ｎ 43/76 １０１ 9155−4Ｈ 43/78 １０１ 9155−4Ｈ 43/80 １０１ 9155−4Ｈ １０２ 9155−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 251/30 401/12 ２３９ 403/12 ２０９ ２３１ ２３５ ２３７ 405/12 ２３９ ２５１ 405/14 ２１３ ２３３ 409/12 ２３９ ２５１ 409/14 ２３９ 411/12 413/12 ２３９ ２５１ 417/12 ２３９ ２５１ Ｃ０７Ｆ 7/10 Ａ //(Ｃ０７Ｄ 405/12 239:00 307:00） (Ｃ０７Ｄ 405/12 251:00 307:00） (Ｃ０７Ｄ 405/14 233:00 239:00 307:00） (Ｃ０７Ｄ 405/14 213:00 239:00 307:00） (Ｃ０７Ｄ 413/12 239:00 263:00） (Ｃ０７Ｄ 413/12 251:00 263:00） (Ｃ０７Ｄ 413/12 239:00 261:00） (Ｃ０７Ｄ 413/12 251:00 261:00） (Ｃ０７Ｄ 417/12 − − − − − 1 ＫＮ０ Ｇ ＧＡＡ− - Ｇ , − ， ８６．Ｅ 7. . ＫＥ， Ｎ , − ， ，ＳＤ， , , , ＳＺ， Ｓ , −,Ｓ ９１．Ｋ , , , Ｎ，Ｓ Ｕ 6. − ＳＹ，Ｓ , 1-191 ．ＫＥ ， (72)発明者 大庭 伸之 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 永田 俊浩 静岡県磐田郡福田町塩新田408番地の１ 株式会社ケイ・アイ研究所内 (72)発明者 立川 重彦 静岡県静岡市安西３丁目57番地 (72)発明者 宮沢 武重 静岡県小笠郡大東町岩滑1205番地の９ (72)発明者 柳沢 克忠 静岡県小笠郡菊川町加茂1809番地

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】一般式 【化１】 ｛式中、 【化２】 は 【化３】 を示し、Ｒは水素原子、水酸基、置換されていてもよい
   アルコキシ基、置換されていてもよいベンジルオキシ
   基、置換されていてもよいアリールオキシ基、置換され
   ていてもよいアルキルチオ基、置換されていてもよいベ
   ンジルチオ基、置換されていてもよいアリールチオ基、
   置換されていてもよいアルケニルオキシ基、置換されて
   いてもよいアルキニルオキシ基、置換されていてもよい
   アルケニルチオ基、置換されていてもよいアルキニルチ
   オ基、アルキリデンアミノオキシ基、式−ＮＲ⁶Ｒ⁷（式
   中、Ｒ⁶及びＲ⁷は同一または相異なり、水素原子、アル
   キル基、アルコキシ基、ベンジル基、置換されていても
   よいアリール基、アルキルスルホニル基、置換されてい
   てもよいアリールスルホニル基を示す。また、Ｒ⁶、Ｒ⁷
   は窒素原子とともにヘテロ原子を含んでもよい環を形成
   することができる。）で表される基を示し、Ｒ¹及びＲ²
   は同一または相異なり、水素原子、ホルミル基、置換さ
   れていてもよいアルキルカルボニル基、シクロアルキル
   カルボニル基、置換されていてもよいアリールカルボニ
   ル基、置換されていてもよいピリジルカルボニル基、カ
   ルボキシル基、式−ＣＯＮＲ⁶Ｒ⁷（式中、Ｒ⁶及びＲ⁷は
   前記と同一の意味を示す。）、置換されていてもよいア
   ルキルチオカルボニル基、シクロアルキルチオカルボニ
   ル基、置換されていてもよいアリールオキシカルボニル
   基、置換されていてもよいアルコキシカルボニル基、シ
   クロアルキル基、置換されていてもよいアルキル基、置
   換されていてもよいアルケニル基、置換されていてもよ
   いアルキニル基、置換されていてもよいアルコキシ基、
   置換されていてもよいアリール基、ハロゲン原子、置換
   されていてもよいベンジルオキシカルボニル基、置換さ
   れていてもよいベンジルチオカルボニル基、シクロアル
   コキシカルボニル基、置換されていてもよいアリールチ
   オカルボニル基、置換されていてもよいアルケニルオキ
   シカルボニル基、置換されていてもよいアルキニルオキ
   シカルボニル基、置換されていてもよいアルケニルチオ
   カルボニル基、置換されていてもよいアルキニルチオカ
   ルボニル基、イソプロピリデンアミノオキシカルボニル
   基、ニトロ基、シアノ基、ハロゲン化カルボニル基を示
   し、式ＣＲ⁸＝Ｎ−Ｒ⁹（式中、Ｒ⁸は水素原子、アリー
   ル基、アルキル基を示し、Ｒ⁹は水酸基、アルキル基、
   置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよ
   いベンジル基、置換されてもよいベンジルオキシ基、ア
   ルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニルオキシ
   基、置換されていてもよいフェノキシ基、アルキルアミ
   ノ基、ジアルキルアミノ基、置換されていてもよいアリ
   ールアミノ基を示す。）、式ＮＲ¹⁰Ｒ¹¹（式中、Ｒ¹⁰及
   びＲ¹¹は同一または相異なり、水素原子、アルキル基、
   置換されていてもよいアリール基、置換されていてもよ
   いベンジル基、ホルミル基、置換されていてもよいアル
   キルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、置換
   されていてもよいアリールカルボニル基、置換されてい
   てもよいピリジルカルボニル基、アルコキシカルボニル
   基、アルキルスルホニル基、置換されていてもよいアリ
   ールスルホニル基、カルバモイル基、アルキルチオカル
   ボニル基、置換されていてもよいアリールチオカルボニ
   ル基を示す。また、Ｒ¹⁰とＲ¹¹は窒素原子とともにヘテ
   ロ原子を含んでもよい環を形成することができる。）、
   式Ｎ＝ＣＲ¹²Ｒ¹³（式中、Ｒ¹²及びＲ¹³は同一または相
   異なり、水素原子、アルキル基、置換されていてもよい
   アリール基を示す。また、Ｒ¹²とＲ¹³は、ヘテロ原子を
   含んでもよい環を形成することができる。）、Ｒ³及び
   Ｒ⁴は同一または相異なり、水素原子、置換されていて
   もよいアルコキシ基、ハロゲン原子、アルキルアミノ
   基、ジアルキルアミノ基、置換されていてもよいアルキ
   ル基を示し、Ｒ⁵は水素原子、置換されていてもよいア
   ルキル基、ホルミル基、置換されていてもよいアルキル
   カルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、置換され
   ていてもよいアリールカルボニル基、置換されていても
   よいピリジルカルボニル基、カルバモイル基、アルコキ
   シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ベンジ
   ルオキシカルボニル基、アルキルチオカルボニル基、ア
   リールチオカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリ
   ールスルホニル基、トリアルキルシリル基、アルケニル
   基、アルキニル基、4,6−ジメトキシピリミジン−2−イ
   ル基、トリクロロメチルチオ基を示し、Ｘ¹及びＸ²は同
   一または相異なり、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、
   式ＮＲ¹⁴（式中、Ｒ¹⁴は水素原子またはアルキル基を示
   す。）、カルボニル基、式Ｃ＝ＮＯＲ¹⁵（式中、Ｒ¹⁵は
   アルキル基を示す。）、ヒドロキシメチレン基で表され
   る基を示し、Ｑ¹はメチレン基、カルボニル基、式Ｃ＝
   Ｃ＜Ｒ¹⁶Ｒ¹⁷ （式中、Ｒ¹⁶及びＲ¹⁷は同一または相異
   なり、シアノ基、シクロアルキルカルボニル基、ベンゾ
   イル基、アルコキシカルボニル基を示す。）を示し、Ｑ
   ²、Ｑ³は同一または相異なり、式Ｃ＜Ｒ¹⁸Ｒ¹⁹［式中、
   Ｒ¹⁸及びＲ¹⁹は同一または相異なり、水素原子、アルキ
   ル基、アルコキシカルボニルアルキル基を示す。また、
   Ｒ¹⁸及びＲ¹⁹は一つになり、カルボニル基または式Ｃ＝
   ＣＨＲ²⁰（式中、Ｒ²⁰は水素原子またはアルキル基を示
   す。）を示す。］を示し、ａ、ｂ、ｄ及びｅは窒素原子
   またはメチン基を示し、少なくとも１つは窒素原子を表
   す。（但し、ａとｂとｄがメチン基でｅが窒素原子を示
   し、化１が８−キノリンカルボン酸誘導体を示す場合は
   除く。）Ｙはハロゲン原子、置換されていてもよいアル
   キル基、アルコキシ基、置換されていてもよいフェニル
   基、ニトロ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基
   を示し、ｎは０〜２の整数を示し、ｎが２のときは相異
   なる基の組合せであってもよい。Ｗは酸素原子、硫黄原
   子、Ｎ−ホルミル基、メチレン基、カルボニル基、シア
   ノメチレン基を示し、Ｚはメチン基または窒素原子を示
   す。｝で表される縮合ヘテロ環誘導体及びその塩。
2. 【請求項２】請求項１に記載の縮合ヘテロ環誘導体及び
   その塩を有効成分として含有する除草剤。