JPH07228342A - 気流搬送装置およびその制御方法 - Google Patents
気流搬送装置およびその制御方法Info
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- JPH07228342A JPH07228342A JP2056194A JP2056194A JPH07228342A JP H07228342 A JPH07228342 A JP H07228342A JP 2056194 A JP2056194 A JP 2056194A JP 2056194 A JP2056194 A JP 2056194A JP H07228342 A JPH07228342 A JP H07228342A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体ウェハなどの板状物の搬送に使用する
気体の量を最少にする気流搬送装置およびその制御方法
を提供する。 【構成】 気流搬送装置の本体である気流搬送装置本体
部１と、窒素ガスなどの気体を噴流するノズル２と、ウ
ェハ３などの板状物が搬送される搬送路であるノズル板
４と、ノズル２へ供給する前記窒素ガスの量を調節する
バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと、前記バルブ５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄへ前記窒素ガスを供給するガス供給用配
管６と、ウェハ３の位置や移動速度を検知する板状物検
出手段であるセンサ７ａ，７ｂとから構成され、バルブ
５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄがそれぞれノズル２と１対１の
対応で設けられ、バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの開閉
およびノズル２に供給する気体の量の調節が、ノズル２
の個別ごとに行われるものである。
気体の量を最少にする気流搬送装置およびその制御方法
を提供する。 【構成】 気流搬送装置の本体である気流搬送装置本体
部１と、窒素ガスなどの気体を噴流するノズル２と、ウ
ェハ３などの板状物が搬送される搬送路であるノズル板
４と、ノズル２へ供給する前記窒素ガスの量を調節する
バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄと、前記バルブ５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄへ前記窒素ガスを供給するガス供給用配
管６と、ウェハ３の位置や移動速度を検知する板状物検
出手段であるセンサ７ａ，７ｂとから構成され、バルブ
５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄがそれぞれノズル２と１対１の
対応で設けられ、バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの開閉
およびノズル２に供給する気体の量の調節が、ノズル２
の個別ごとに行われるものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、板状物（例えば、半導
体ウェハや液晶基板あるいは磁気ディスクなど）を非接
触式で搬送する装置に関し、特に半導体製造技術におい
て用いられる気流搬送技術に関するものである。
体ウェハや液晶基板あるいは磁気ディスクなど）を非接
触式で搬送する装置に関し、特に半導体製造技術におい
て用いられる気流搬送技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェハ（以降、ウェハという）な
どの製造ラインにおいて、前記ウェハの搬送方法は、半
導体製造装置の内部ではロボット方式が中心であり、ま
た、前記半導体製造装置の装置間においては人間が専用
の箱に入れて行っている。
どの製造ラインにおいて、前記ウェハの搬送方法は、半
導体製造装置の内部ではロボット方式が中心であり、ま
た、前記半導体製造装置の装置間においては人間が専用
の箱に入れて行っている。
【０００３】しかし、前記ウェハを外気にさらすと、該
ウェハへの異物の付着や自然酸化膜の生成などの問題が
発生する。特に、近年、半導体デバイスの高集積化や微
細化が著しく進んでいるため、異物の付着と自然酸化膜
の生成は極力避けなければならない。
ウェハへの異物の付着や自然酸化膜の生成などの問題が
発生する。特に、近年、半導体デバイスの高集積化や微
細化が著しく進んでいるため、異物の付着と自然酸化膜
の生成は極力避けなければならない。
【０００４】そこで、前記ウェハを非接触式で搬送する
手段の１つとして、高清浄な不活性ガス雰囲気におい
て、気体であるガスを用いて該ウェハの搬送を行う気流
搬送方法が挙げられる。
手段の１つとして、高清浄な不活性ガス雰囲気におい
て、気体であるガスを用いて該ウェハの搬送を行う気流
搬送方法が挙げられる。
【０００５】前記気流搬送においては、その制御性や異
物付着について課題が残されているが、今なお気流搬送
技術の研究が進められている。
物付着について課題が残されているが、今なお気流搬送
技術の研究が進められている。
【０００６】ここで、前記気流搬送で使用される気流搬
送装置におけるガスの供給経路について説明すると、ま
ず、ウェハを浮上させる搬送路であるノズル板が設置さ
れ、そこに複数のノズルが設けられている。さらに、前
記ノズルは前記ノズル板の下のバッファ室につながって
おり、前記ガスは、前記バッファ室から全てのノズルに
供給されている。
送装置におけるガスの供給経路について説明すると、ま
ず、ウェハを浮上させる搬送路であるノズル板が設置さ
れ、そこに複数のノズルが設けられている。さらに、前
記ノズルは前記ノズル板の下のバッファ室につながって
おり、前記ガスは、前記バッファ室から全てのノズルに
供給されている。
【０００７】つまり、前記気流搬送装置は、前記バッフ
ァ室と外部との気圧差によって、前記ガスをノズルを介
して噴流させるものである。
ァ室と外部との気圧差によって、前記ガスをノズルを介
して噴流させるものである。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところが、前記した技
術において、前記気流搬送装置のノズル噴流制御方式
は、ウェハの通路である搬送路（ノズル板）が数個並ん
でおり、各搬送路の下にバッファ室があり、バッファ室
から浮上用の全てのノズルにガスを供給する複数ノズル
制御方式である。
術において、前記気流搬送装置のノズル噴流制御方式
は、ウェハの通路である搬送路（ノズル板）が数個並ん
でおり、各搬送路の下にバッファ室があり、バッファ室
から浮上用の全てのノズルにガスを供給する複数ノズル
制御方式である。
【０００９】したがって、前記搬送路の全てのノズルか
らガスが噴流されるため、ウェハに直接ガスが当たらな
い場所であってもガスが噴流されていることから、ガス
の使用量が効率的でないことが問題とされており、前記
気流搬送の実用化を検討すると、コストやガス製造能力
から前記ガスの使用量を最少にする必要がある。
らガスが噴流されるため、ウェハに直接ガスが当たらな
い場所であってもガスが噴流されていることから、ガス
の使用量が効率的でないことが問題とされており、前記
気流搬送の実用化を検討すると、コストやガス製造能力
から前記ガスの使用量を最少にする必要がある。
【００１０】そこで、本発明の目的は、半導体ウェハな
どの板状物の搬送に使用する気体の量を最少にする気流
搬送装置およびその制御方法を提供することである。
どの板状物の搬送に使用する気体の量を最少にする気流
搬送装置およびその制御方法を提供することである。
【００１１】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【００１３】すなわち、本発明による気流搬送装置は、
気体を噴流するノズルと、前記ノズルが設置される搬送
路と、前記ノズルへ供給する気体の量を調節するバルブ
と、半導体ウェハなどの板状物の位置や移動速度を検知
する板状物検出手段とからなり、前記ノズルが前記搬送
路に対して垂直方向または斜め方向に設置され、前記バ
ルブが前記ノズルと１対１の対応で設けられているもの
であり、あるいは、前記ノズルの所定個数に対応して前
記バルブ１つが設けられているものである。
気体を噴流するノズルと、前記ノズルが設置される搬送
路と、前記ノズルへ供給する気体の量を調節するバルブ
と、半導体ウェハなどの板状物の位置や移動速度を検知
する板状物検出手段とからなり、前記ノズルが前記搬送
路に対して垂直方向または斜め方向に設置され、前記バ
ルブが前記ノズルと１対１の対応で設けられているもの
であり、あるいは、前記ノズルの所定個数に対応して前
記バルブ１つが設けられているものである。
【００１４】また、本発明による気流搬送装置の制御方
法は、前記バルブの開閉および前記ノズルに供給する気
体の量の調節を該ノズルの個別ごとにまたは所定個数ご
とに行うものである。
法は、前記バルブの開閉および前記ノズルに供給する気
体の量の調節を該ノズルの個別ごとにまたは所定個数ご
とに行うものである。
【００１５】さらに、前記ノズルを、該ノズルの設置さ
れた方向の種類によって、個別ごとにまたは所定個数ご
とに使い分けるものである。
れた方向の種類によって、個別ごとにまたは所定個数ご
とに使い分けるものである。
【００１６】また、前記板状物検出手段が検知した情報
により、使用する前記ノズルを選択し、前記ノズルから
噴流させる気体の量を制御するものである。
により、使用する前記ノズルを選択し、前記ノズルから
噴流させる気体の量を制御するものである。
【００１７】つまり、前記板状物の搬送時に、前記板状
物検出手段により、前記板状物の位置または移動速度の
検知を行い、前記板状物の搬送方向に向かって順次前記
バルブを開け、前記板状物の通過後に該バルブを閉じる
ものである。
物検出手段により、前記板状物の位置または移動速度の
検知を行い、前記板状物の搬送方向に向かって順次前記
バルブを開け、前記板状物の通過後に該バルブを閉じる
ものである。
【００１８】
【作用】前記した手段によれば、ノズルへ供給する気体
の量を調節するバルブが前記ノズルと１対１の対応で設
けられ、また、前記板状物検出手段によって前記板状物
の位置を検知し、さらに、前記ノズルを個別ごとに制御
することによって、前記板状物の下面とその周辺の最小
限の部分のノズルだけを使用することが可能となる。
の量を調節するバルブが前記ノズルと１対１の対応で設
けられ、また、前記板状物検出手段によって前記板状物
の位置を検知し、さらに、前記ノズルを個別ごとに制御
することによって、前記板状物の下面とその周辺の最小
限の部分のノズルだけを使用することが可能となる。
【００１９】したがって、搬送や静止などに必要なノズ
ルからだけ気体を噴流させることができるため、前記気
体の使用量を大幅に低減することができ、その結果、コ
ストを低減することができる。
ルからだけ気体を噴流させることができるため、前記気
体の使用量を大幅に低減することができ、その結果、コ
ストを低減することができる。
【００２０】さらに、前記ノズルを該ノズルの設置され
た方向の種類によって、個別ごとにまたは所定個数ごと
に使い分けることにより、前記板状物を搬送したりまた
は浮上させたりあるいは静止させたり、さらに回転させ
ることができる。
た方向の種類によって、個別ごとにまたは所定個数ごと
に使い分けることにより、前記板状物を搬送したりまた
は浮上させたりあるいは静止させたり、さらに回転させ
ることができる。
【００２１】また、前記ノズルを個別に制御することに
より、前記ノズルの制御体系が細かくなるため、板状物
搬送時の前記板状物の位置精度を向上させることがで
き、さらに、板状物静止時の前記板状物の位置精度も向
上させることができる。
より、前記ノズルの制御体系が細かくなるため、板状物
搬送時の前記板状物の位置精度を向上させることがで
き、さらに、板状物静止時の前記板状物の位置精度も向
上させることができる。
【００２２】なお、半導体ウェハなどの板状物の製造ラ
インにおいて、前記板状物の自動搬送を実現することが
できるため、前記気流搬送装置の自動化を促進すること
が可能となる。
インにおいて、前記板状物の自動搬送を実現することが
できるため、前記気流搬送装置の自動化を促進すること
が可能となる。
【００２３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
に説明する。
【００２４】図１は本発明の一実施例である気流搬送装
置における板状物の搬送状態の一例を示す部分断面図、
図２は本発明の一実施例である気流搬送装置における板
状物の静止状態の一例を示す部分断面図である。
置における板状物の搬送状態の一例を示す部分断面図、
図２は本発明の一実施例である気流搬送装置における板
状物の静止状態の一例を示す部分断面図である。
【００２５】まず、図１を用いて、本発明による気流搬
送装置の構成について説明すると、前記気流搬送装置の
本体である気流搬送装置本体部１と、窒素(N2)ガスなど
の気体を噴流するノズル２と、ウェハ３などの板状物が
搬送される搬送路であるノズル板４と、前記ノズル２へ
供給する前記窒素ガスの量を調節するバルブ５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄと、前記バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ
へ前記窒素ガスを供給するガス供給用配管６と、ウェハ
３の位置や移動速度を検知する板状物検出手段であるセ
ンサ７ａ，７ｂとから構成されている。
送装置の構成について説明すると、前記気流搬送装置の
本体である気流搬送装置本体部１と、窒素(N2)ガスなど
の気体を噴流するノズル２と、ウェハ３などの板状物が
搬送される搬送路であるノズル板４と、前記ノズル２へ
供給する前記窒素ガスの量を調節するバルブ５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄと、前記バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ
へ前記窒素ガスを供給するガス供給用配管６と、ウェハ
３の位置や移動速度を検知する板状物検出手段であるセ
ンサ７ａ，７ｂとから構成されている。
【００２６】ここで、前記センサ７ａ，７ｂは、例えば
光や超音波などを利用した非接触式のものである。
光や超音波などを利用した非接触式のものである。
【００２７】また、ノズル２はノズル板４に対して垂直
方向または斜め方向に向けられて該ノズル板４に設置さ
れている。
方向または斜め方向に向けられて該ノズル板４に設置さ
れている。
【００２８】さらに、バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄが
それぞれノズル２と１対１の対応で設けられている。
それぞれノズル２と１対１の対応で設けられている。
【００２９】なお、前記窒素ガスの供給経路について説
明すると、図示しない供給源から供給された前記窒素ガ
スは、ガス供給用配管６を通り、さらにバルブ５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄによってその流量が調節され、ノズル２
を介してウェハ３に到達する。
明すると、図示しない供給源から供給された前記窒素ガ
スは、ガス供給用配管６を通り、さらにバルブ５ａ，５
ｂ，５ｃ，５ｄによってその流量が調節され、ノズル２
を介してウェハ３に到達する。
【００３０】次に、図１および図２を用いて、本発明の
気流搬送装置におけるウェハ搬送時の制御方法と、ウェ
ハ静止時の制御方法とについて説明する。
気流搬送装置におけるウェハ搬送時の制御方法と、ウェ
ハ静止時の制御方法とについて説明する。
【００３１】まず、前記気流搬送装置における全般的な
制御方法は、バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄがそれぞれ
ノズル２と１対１の対応で設けられることにより、バル
ブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの開閉、およびノズル２に供
給する気体である窒素ガスの噴流量の調節をノズル２の
個別ごとに行うものである。
制御方法は、バルブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄがそれぞれ
ノズル２と１対１の対応で設けられることにより、バル
ブ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄの開閉、およびノズル２に供
給する気体である窒素ガスの噴流量の調節をノズル２の
個別ごとに行うものである。
【００３２】なお、前記窒素ガスの噴流量の調節と使用
するノズル２の選択は、板状物検出手段であるセンサ７
ａ，７ｂが検知したウェハ３の位置と搬送速度の情報に
よって制御を行っている。
するノズル２の選択は、板状物検出手段であるセンサ７
ａ，７ｂが検知したウェハ３の位置と搬送速度の情報に
よって制御を行っている。
【００３３】さらに、前記ノズル２の設置された方向の
種類によって、前記ノズル２を個別ごとにまたは所定個
数ごとに使い分ける制御を行っている。
種類によって、前記ノズル２を個別ごとにまたは所定個
数ごとに使い分ける制御を行っている。
【００３４】つまり、前記ウェハ３を搬送する時または
浮上させる時あるいは静止させる時、さらに回転させる
時には、前記センサ７ａ，７ｂによって得られる情報か
ら、ノズル２の設置された方向の種類によって使用する
ノズル２を選択し、前記ノズル２の使い分けを該ノズル
２の個別ごとに制御している。
浮上させる時あるいは静止させる時、さらに回転させる
時には、前記センサ７ａ，７ｂによって得られる情報か
ら、ノズル２の設置された方向の種類によって使用する
ノズル２を選択し、前記ノズル２の使い分けを該ノズル
２の個別ごとに制御している。
【００３５】続いて、図１を用いて、ウェハ搬送時の制
御方法について説明すると、ウェハ３を搬送方向８の方
向に搬送する場合、まず、ウェハ３の位置とその速度と
をセンサ７ａによって検知する。これにより、センサ７
ａがＯＮし、さらに、ウェハ３の移動方向前方のバルブ
５ａ，５ｂが時間差で開になり、それによってノズル２
から窒素ガスを噴流する。
御方法について説明すると、ウェハ３を搬送方向８の方
向に搬送する場合、まず、ウェハ３の位置とその速度と
をセンサ７ａによって検知する。これにより、センサ７
ａがＯＮし、さらに、ウェハ３の移動方向前方のバルブ
５ａ，５ｂが時間差で開になり、それによってノズル２
から窒素ガスを噴流する。
【００３６】また、ウェハ３がセンサ７ｂの下を通過終
了後、前記センサ７ｂはＯＦＦする。これにより、ウェ
ハ３以降のバルブ５ｃ、５ｄが閉になり、前記バルブ５
ｃ，５ｄからの窒素ガスの噴流が止まる。
了後、前記センサ７ｂはＯＦＦする。これにより、ウェ
ハ３以降のバルブ５ｃ、５ｄが閉になり、前記バルブ５
ｃ，５ｄからの窒素ガスの噴流が止まる。
【００３７】さらに、図２を用いて、ウェハ静止時の制
御方法について説明すると、前記ウェハ３の静止場所に
設置されているノズル２は、四方から、それぞれウェハ
位置決めの中心を向いた状態で設置されている。すなわ
ち、それぞれのノズル２が前記中心に向かって斜めに傾
いた状態で設置されている。
御方法について説明すると、前記ウェハ３の静止場所に
設置されているノズル２は、四方から、それぞれウェハ
位置決めの中心を向いた状態で設置されている。すなわ
ち、それぞれのノズル２が前記中心に向かって斜めに傾
いた状態で設置されている。
【００３８】そのため、ウェハ３の静止場所において
は、ノズル２から噴流される窒素ガスがウェハ位置決め
の中心に向かって噴流され、搬送されてきたウェハ３
は、該ウェハ３の静止場所で揺れながら静止していく。
は、ノズル２から噴流される窒素ガスがウェハ位置決め
の中心に向かって噴流され、搬送されてきたウェハ３
は、該ウェハ３の静止場所で揺れながら静止していく。
【００３９】ここで、ウェハ３が前記静止場所に搬送さ
れてきた直後は、前記ウェハ３は大きく揺れているた
め、センサ７ｃ，７ｄの両者がＯＮの状態となってい
る。その後、ウェハ３の揺れが小さくなり、前記ウェハ
３がウェハ位置決めの中心に収束されるにしたがい、セ
ンサ７ｄの下からウェハ３が外れると、センサ７ｄがＯ
ＦＦとなり、バルブ５ｅが閉じられる。
れてきた直後は、前記ウェハ３は大きく揺れているた
め、センサ７ｃ，７ｄの両者がＯＮの状態となってい
る。その後、ウェハ３の揺れが小さくなり、前記ウェハ
３がウェハ位置決めの中心に収束されるにしたがい、セ
ンサ７ｄの下からウェハ３が外れると、センサ７ｄがＯ
ＦＦとなり、バルブ５ｅが閉じられる。
【００４０】したがって、ウェハ３直下以外のノズル２
からの窒素ガスの噴流が止まり、ウェハ３はセンサ７ｃ
の下で静止することができる。
からの窒素ガスの噴流が止まり、ウェハ３はセンサ７ｃ
の下で静止することができる。
【００４１】また、ウェハ３を前記静止場所において方
向転換のために回転させる場合は、ウェハ３を回転させ
るために設けられた他のノズル２を用いて、ウェハ３を
回転させる。前記ノズル２は、ノズル板４に対して傾い
て設置されているものであり、前記ノズル２から噴流さ
れる窒素ガスは、ウェハ３を回転させるように噴流され
るものである。
向転換のために回転させる場合は、ウェハ３を回転させ
るために設けられた他のノズル２を用いて、ウェハ３を
回転させる。前記ノズル２は、ノズル板４に対して傾い
て設置されているものであり、前記ノズル２から噴流さ
れる窒素ガスは、ウェハ３を回転させるように噴流され
るものである。
【００４２】次に、図１および図２を用いて、本実施例
の気流搬送装置の作用について説明すると、ノズル２へ
供給する気体である窒素ガスの量を調節するバルブ５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅが前記ノズル２と１対１の
対応で設けられ、また、板状物であるウェハ３の位置や
搬送速度を検知する板状物検出手段であるセンサ７ａ，
７ｂ，７ｃ，７ｄによって前記ウェハ３の位置を検知
し、さらに、ノズル２を個別ごとに制御することによっ
て、ウェハ３の下面とその周辺の最小限の部分のノズル
２だけを使用することが可能となる。
の気流搬送装置の作用について説明すると、ノズル２へ
供給する気体である窒素ガスの量を調節するバルブ５
ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅが前記ノズル２と１対１の
対応で設けられ、また、板状物であるウェハ３の位置や
搬送速度を検知する板状物検出手段であるセンサ７ａ，
７ｂ，７ｃ，７ｄによって前記ウェハ３の位置を検知
し、さらに、ノズル２を個別ごとに制御することによっ
て、ウェハ３の下面とその周辺の最小限の部分のノズル
２だけを使用することが可能となる。
【００４３】したがって、搬送や静止などに必要なノズ
ル２からだけ窒素ガスを噴流させることができるため、
前記窒素ガスの使用量を大幅に低減することができ、そ
の結果、コストを低減することが可能となる。
ル２からだけ窒素ガスを噴流させることができるため、
前記窒素ガスの使用量を大幅に低減することができ、そ
の結果、コストを低減することが可能となる。
【００４４】さらに、前記ノズル２を、該ノズル２の設
置された方向の種類によって、個別ごとに使い分ける制
御を行うことから、必要最小限のノズル２だけを用いて
前記ウェハ３を搬送したりまたは浮上させたりあるいは
静止させたり、さらに回転させることができる。
置された方向の種類によって、個別ごとに使い分ける制
御を行うことから、必要最小限のノズル２だけを用いて
前記ウェハ３を搬送したりまたは浮上させたりあるいは
静止させたり、さらに回転させることができる。
【００４５】したがって、前記同様に、前記窒素ガスの
使用量を大幅に低減することができ、その結果、コスト
を低減することが可能となる。
使用量を大幅に低減することができ、その結果、コスト
を低減することが可能となる。
【００４６】また、ノズル２を個別に制御することによ
り、ノズル２の制御体系が細かくなるため、ウェハ３の
搬送時や静止時あるいは回転時におけるウェハ３の位置
精度を向上させることができる。
り、ノズル２の制御体系が細かくなるため、ウェハ３の
搬送時や静止時あるいは回転時におけるウェハ３の位置
精度を向上させることができる。
【００４７】なお、ウェハ３などの板状物の製造ライン
において、前記ウェハ３の自動搬送を実現することがで
きるため、気流搬送装置の自動化を促進することが可能
となる。
において、前記ウェハ３の自動搬送を実現することがで
きるため、気流搬送装置の自動化を促進することが可能
となる。
【００４８】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることは言うまでもない。
【００４９】例えば、本実施例において説明した気流搬
送装置は、ノズルとバルブとが１対１の対応によって個
別制御されるものであるが、図３、図４および図５の本
発明の他の実施例に示すように、所定個数のノズルが１
つのバルブに対応することによって、前記ノズルが所定
個数ごとに制御されるものであってもよい。
送装置は、ノズルとバルブとが１対１の対応によって個
別制御されるものであるが、図３、図４および図５の本
発明の他の実施例に示すように、所定個数のノズルが１
つのバルブに対応することによって、前記ノズルが所定
個数ごとに制御されるものであってもよい。
【００５０】ここで、図３に示す本発明の他の実施例で
ある気流搬送装置は、ノズル板４に設置されるノズル
（図１に示すノズル２と同じもの）が、前記ノズル板４
内で１列ごとに１つのバルブ５ｆと対応するものであ
り、したがって、前記ノズルが１列ごとに制御されるも
のである。
ある気流搬送装置は、ノズル板４に設置されるノズル
（図１に示すノズル２と同じもの）が、前記ノズル板４
内で１列ごとに１つのバルブ５ｆと対応するものであ
り、したがって、前記ノズルが１列ごとに制御されるも
のである。
【００５１】また、図４に示す本発明の他の実施例であ
る気流搬送装置は、ノズル板４に設置されるノズル（図
１に示すノズル２と同じもの）が、前記ノズル板４内に
設けられた前記ノズルの各列において、前記ノズルを板
状物（図１に示すウェハ３）の搬送方向８に対して左右
に分けて制御するものであり、１つの列に設けられた前
記ノズルの右半分が１つのバルブ５ｇと対応し、左半分
の前記ノズルが他の１つのバルブ５ｇと対応しているも
のである。
る気流搬送装置は、ノズル板４に設置されるノズル（図
１に示すノズル２と同じもの）が、前記ノズル板４内に
設けられた前記ノズルの各列において、前記ノズルを板
状物（図１に示すウェハ３）の搬送方向８に対して左右
に分けて制御するものであり、１つの列に設けられた前
記ノズルの右半分が１つのバルブ５ｇと対応し、左半分
の前記ノズルが他の１つのバルブ５ｇと対応しているも
のである。
【００５２】さらに、図５に示す本発明の他の実施例で
ある気流搬送装置は、ノズル板４の板状物（図１に示す
ウェハ３）を静止させる静止場所において、ノズル（図
１に示すノズル２と同じもの）の制御体系が８分割され
ているものである。つまり、前記板状物の位置決め中心
に向けて４方向から気体を噴流するように前記ノズルが
設けられているが、前記４方向を前記板状物の直下と、
さらにその周辺部とに分けることにより、前記静止場所
を合計８つのブロックに分け、８つのバルブ５ｈによっ
て制御するものである。
ある気流搬送装置は、ノズル板４の板状物（図１に示す
ウェハ３）を静止させる静止場所において、ノズル（図
１に示すノズル２と同じもの）の制御体系が８分割され
ているものである。つまり、前記板状物の位置決め中心
に向けて４方向から気体を噴流するように前記ノズルが
設けられているが、前記４方向を前記板状物の直下と、
さらにその周辺部とに分けることにより、前記静止場所
を合計８つのブロックに分け、８つのバルブ５ｈによっ
て制御するものである。
【００５３】なお、図３、図４および図５に示した本発
明の他の実施例で説明した気流搬送装置から得られる作
用および効果は、図１および図２を用いて説明した本発
明の実施例による気流搬送装置から得られる作用および
効果と同様であるため、その説明は省略する。
明の他の実施例で説明した気流搬送装置から得られる作
用および効果は、図１および図２を用いて説明した本発
明の実施例による気流搬送装置から得られる作用および
効果と同様であるため、その説明は省略する。
【００５４】また、本発明による気流搬送装置は、その
実施例において、半導体ウェハを搬送する気流搬送装置
として説明したが、液晶基板や磁気ディスクなどを搬送
する気流搬送装置であってもよい。
実施例において、半導体ウェハを搬送する気流搬送装置
として説明したが、液晶基板や磁気ディスクなどを搬送
する気流搬送装置であってもよい。
【００５５】さらに、本発明による気流搬送装置は、そ
の実施例において、ノズルから噴流させる気体を窒素ガ
スとして説明したが、アルゴンガスなどであってもよ
い。
の実施例において、ノズルから噴流させる気体を窒素ガ
スとして説明したが、アルゴンガスなどであってもよ
い。
【００５６】
【発明の効果】本願において開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【００５７】（１）．ノズルへ供給する気体の量を調節
するバルブが前記ノズルと１対１の対応で設けられ、ま
た、搬送する板状物の位置や搬送速度を検知する板状物
検出手段によって前記板状物の位置を検知し、さらに、
前記ノズルを個別ごとに制御することによって、前記板
状物の下面とその周辺の最小限の部分のノズルだけを使
用することが可能となる。
するバルブが前記ノズルと１対１の対応で設けられ、ま
た、搬送する板状物の位置や搬送速度を検知する板状物
検出手段によって前記板状物の位置を検知し、さらに、
前記ノズルを個別ごとに制御することによって、前記板
状物の下面とその周辺の最小限の部分のノズルだけを使
用することが可能となる。
【００５８】したがって、搬送や静止などに必要な前記
ノズルからだけ気体を噴流させることができるため、前
記気体の使用量を大幅に低減することができ、その結
果、コストを低減することが可能となる。
ノズルからだけ気体を噴流させることができるため、前
記気体の使用量を大幅に低減することができ、その結
果、コストを低減することが可能となる。
【００５９】（２）．前記ノズルを、該ノズルの設置さ
れた方向の種類によって、個別ごとに使い分ける制御を
行うことから、必要最小限のノズルだけを用いて前記板
状物を搬送したり、また、静止させたりすることができ
る。
れた方向の種類によって、個別ごとに使い分ける制御を
行うことから、必要最小限のノズルだけを用いて前記板
状物を搬送したり、また、静止させたりすることができ
る。
【００６０】したがって、前記と同様に、前記気体の使
用量を大幅に低減することができ、その結果、コストを
低減することが可能となる。
用量を大幅に低減することができ、その結果、コストを
低減することが可能となる。
【００６１】（３）．前記ノズルを個別に制御すること
により、前記ノズルの制御体系が細かくなるため、前記
板状物の搬送時や静止時あるいは回転時における該板状
物の位置精度を向上させることができる。
により、前記ノズルの制御体系が細かくなるため、前記
板状物の搬送時や静止時あるいは回転時における該板状
物の位置精度を向上させることができる。
【００６２】（４）．前記板状物の製造ラインにおい
て、前記板状物の自動搬送を実現することができるた
め、気流搬送装置の自動化を促進することが可能とな
る。
て、前記板状物の自動搬送を実現することができるた
め、気流搬送装置の自動化を促進することが可能とな
る。
【図１】本発明の一実施例である気流搬送装置における
板状物の搬送状態の一例を示す部分断面図である。
板状物の搬送状態の一例を示す部分断面図である。
【図２】本発明の一実施例である気流搬送装置における
板状物の静止状態の一例を示す部分断面図である。
板状物の静止状態の一例を示す部分断面図である。
【図３】本発明の他の実施例である気流搬送装置の構造
の一例を示す部分概略斜視図である。
の一例を示す部分概略斜視図である。
【図４】本発明の他の実施例である気流搬送装置の構造
の一例を示す部分概略斜視図である。
の一例を示す部分概略斜視図である。
【図５】本発明の他の実施例である気流搬送装置の構造
の一例を示す部分概略斜視図である。
の一例を示す部分概略斜視図である。
１ 気流搬送装置本体部 ２ ノズル ３ ウェハ（板状物） ４ ノズル板（搬送路） ５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ，５ｅ，５ｆ，５ｇ，５ｈ バ
ルブ ６ ガス供給用配管 ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ センサ（板状物検出手段） ８ 搬送方向
ルブ ６ ガス供給用配管 ７ａ，７ｂ，７ｃ，７ｄ センサ（板状物検出手段） ８ 搬送方向
Claims (6)
- 【請求項１】 気体の流体力によって半導体ウェハなど
の板状物を浮上させ、前記板状物を非接触状態で搬送す
る気流搬送装置であって、前記気体を噴流するノズル
と、前記板状物の通路であり、前記ノズルが設置される
搬送路と、前記ノズルへ供給する気体の量を調節するバ
ルブと、前記板状物の位置や移動速度を検知する板状物
検出手段とからなり、前記ノズルが前記搬送路に対して
垂直方向または斜め方向に設置され、前記バルブが前記
ノズルと１対１の対応で設けられていることを特徴とす
る気流搬送装置。 - 【請求項２】 気体の流体力によって半導体ウェハなど
の板状物を浮上させ、前記板状物を非接触状態で搬送す
る気流搬送装置であって、前記気体を噴流するノズル
と、前記板状物の通路であり、前記ノズルが設置される
搬送路と、前記ノズルへ供給する気体の量を調節するバ
ルブと、前記板状物の位置や移動速度を検知する板状物
検出手段とからなり、前記ノズルが前記搬送路に対して
垂直方向または斜め方向に設置され、前記ノズルの所定
個数に対応して前記バルブ１つが設けられていることを
特徴とする気流搬送装置。 - 【請求項３】 請求項１または２記載の気流搬送装置の
制御方法であって、前記バルブの開閉および前記ノズル
に供給する気体の量の調節を該ノズルの個別ごとにまた
は所定個数ごとに行うことを特徴とする気流搬送装置の
制御方法。 - 【請求項４】 請求項３記載の気流搬送装置の制御方法
であって、前記ノズルを、該ノズルの設置された方向の
種類によって、個別ごとにまたは所定個数ごとに使い分
けることを特徴とする気流搬送装置の制御方法。 - 【請求項５】 請求項３または４記載の気流搬送装置の
制御方法であって、半導体ウェハなどの板状物の位置や
移動速度を検知する板状物検出手段が検知した情報によ
り、使用する前記ノズルを選択し、前記ノズルから噴流
させる気体の量を制御することを特徴とする気流搬送装
置の制御方法。 - 【請求項６】 請求項５記載の気流搬送装置の制御方法
であって、前記板状物の搬送時に、前記板状物検出手段
により、前記板状物の位置または移動速度の検知を行
い、前記板状物の搬送方向に向かって順次前記バルブを
開け、前記板状物の通過後に該バルブを閉じることを特
徴とする気流搬送装置の制御方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2056194A JPH07228342A (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 気流搬送装置およびその制御方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2056194A JPH07228342A (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 気流搬送装置およびその制御方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07228342A true JPH07228342A (ja) | 1995-08-29 |
Family
ID=12030584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2056194A Pending JPH07228342A (ja) | 1994-02-17 | 1994-02-17 | 気流搬送装置およびその制御方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07228342A (ja) |
Cited By (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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-
1994
- 1994-02-17 JP JP2056194A patent/JPH07228342A/ja active Pending
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