JP2014527285A - 浮遊基板の監視制御デバイス、及びそのための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
(i)注入ガスの流れが搬送方向に接線成分を有するように、搬送方向Tに対して角度を持って配置されるガス注入流路122、132によって達成される、方向を持つガスの流れによる推進。このタイプの基板推進の例は国際公開第2009/142488号に記載されており、特に図8及び関連する説明の部分を参照されたい。
(ii)電気力及び/又は磁力による推進。
(iii)処理トンネル120の全部またはその一部を水平に対して傾斜させることにより達成できる重力による推進。重力駆動型推進システムは国際公開第2009/142488号により詳しく説明されている。
(iv)処理トンネルを長手方向に沿って複数の圧力セグメントに分割することによって達成できる、処理トンネルの長手方向の圧力差による推進。1つの圧力セグメント内の気体軸受に、隣接する圧力セグメント内の気体軸受の平均ガス圧力と異なる平均ガス圧力を与えると、隣接する圧力セグメント間の平均圧力の差により、処理トンネルの長手方向に沿って基板を移動させることができる。処理トンネルの気体軸受内の圧力差に基づく基板推進システムは、オランダ特許出願第2005049号により詳細に開示されている。
Claims (27)
- ‐長手方向(T)に延び且つ少なくとも第1及び第2の壁(120、130)で囲まれた処理トンネル(102)であって、前記壁は、前記壁に平行に向けられている実質的に平坦な基板(140)を前記壁の間に収容できるように、互いに平行で且つ離隔している、処理トンネル(102)と、
‐前記第1及び前記第2の壁の両方の中に設けられる複数のガス注入流路(122、132)であって、前記第1の壁(120)内の前記ガス注入流路(122)は、第1の気体軸受(124)を提供するように構成され、一方前記第2の壁(130)内の前記ガス注入流路(132)は、第2の気体軸受(134)を提供するように構成され、前記気体軸受は、前記気体軸受の間に前記基板(140)を浮遊状態で支持し収容するように構成された、複数のガス注入流路(122、132)と
を備える装置(100)であって、
‐前記処理トンネルの前記第1及び/又は第2の壁(120、130)には、それぞれの基板検出センサ位置に少なくとも1つの基板検出センサ(S’)が装着され、前記基板検出センサは、前記基板検出センサ位置の付近及び/又はその位置における前記第1及び第2の壁の間の基板の存在を表す参照信号を生成するように構成されることを特徴とし、
前記装置は、更に、
‐前記少なくとも1つの基板検出センサ(S’)に動作可能に接続され、前記参照信号を時間の関数として記録し且つ前記参照信号を処理するように構成される監視制御部(160)を備えることを特徴とする
装置(100)。 - 前記少なくとも1つの基板検出センサは、光学式センサ(S’3)を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの基板検出センサは、前記第1及び/又は第2の気体軸受のガス圧力を登録するように構成される圧力センサ(S’1、2)を含む、請求項1または2に記載の装置。
- 前記少なくとも1つの基板検出センサ(S’)は、それぞれの基板検出センサ位置が前記処理トンネル(102)の前記長手方向(T)に沿って離隔している2つの基板検出センサを含む、請求項1〜3のいずれかに記載の装置。
- 前記処理トンネル(102)は、更に、前記第1及び第2の壁(120、130)に相互接続する2つの横壁(108)で囲まれ、前記横壁(108)の各々は複数の長手方向に離隔しているガス排気流路(110)を画定し、
前記少なくとも1つの基板検出センサは、それぞれの基板検出センサ位置が前記処理トンネル(102)の前記横壁(108)に隣接し、且つ前記処理トンネル(102)の前記長手方向(T)に沿って離隔している2つの光学式センサ(S1、S2)を含む、請求項1に記載の装置。 - 前記少なくとも1つの基板検出センサ(S’)は、それぞれの基板検出センサ位置が前記処理トンネル(102)の前記横方向(L)に沿って離隔している2つの基板検出センサを含む、請求項1〜5のいずれかに記載の装置。
- 前記監視制御部(160)は、オペレータによる検査のために、前記少なくとも1つの基板検出センサ(S’)の前記参照信号に符号化されている情報をその上に表示するように構成されるディスプレイ(162)を含む、請求項1〜6のいずれかに記載の装置。
- 前記監視制御部(160)は、少なくとも1つの基板(140)の長手方向及び/又は横方向の位置に関連する少なくとも1つの特性を決定するように構成される、請求項1〜7のいずれかに記載の装置。
- 前記監視制御部(160)は、前記長手方向及び/又は横方向の位置に関連する特性を決定するために、複数の基板検出センサ(S’)の前記参照信号を使用するように構成される、請求項8に記載の装置。
- 前記制御部(160)によって決定される前記位置に関連する少なくとも1つの特性は、
‐時間の関数としての基板(140)の長手方向の位置と、
‐基板の長手方向の速度と、
‐前記処理トンネル内に存在する基板と別の基板との間の長手方向の距離と
の中の1つを含む、請求項7〜8のいずれかに記載の装置。 - 前記制御部(160)によって決定される前記位置に関連する少なくとも1つの特性は、
‐基板(140)の横並進収差と、
‐前記基板(140)の回転収差と
の中の1つを含む、請求項8〜10のいずれかに記載の装置。 - 前記監視制御部(160)によって決定される前記位置に関連する少なくとも1つの特性は、実質的に平坦な基板のおおよその外周形状を含む、請求項8〜11のいずれかに記載の装置。
- 前記監視制御部(160)は、前記長手方向及び/又は横方向の位置に関連する少なくとも1つの特性が所定の特性固有の許容範囲内にあるか否かを決定するように構成される、請求項8〜12のいずれかに記載の装置。
- 前記監視制御部(160)は、前記長手方向及び/又は横方向の位置に関連する少なくとも1つの特性が前記所定の特性固有の許容範囲内にないことを検出すると、是正措置を開始するように構成され、前記是正措置は、前記特性を前記許容範囲内に戻すように、前記装置(100)の動作パラメータを適合させることを含む、請求項13に記載の装置。
- ‐長手方向(T)に延び且つ少なくとも第1及び第2の壁(120、130)で囲まれた処理トンネル(102)であって、前記壁は、前記壁に平行に向けられている実質的に平坦な基板(140)を前記壁の間に収容できるように、互いに平行で且つ離隔している、処理トンネル(102)を提供するステップと、
‐前記第1の壁(120)に沿って流れるガスを供給することによって第1の気体軸受(124)を提供し、前記第2の壁(130)に沿って流れるガスを供給することによって第2の気体軸受(134)を提供するステップと、
‐各基板が前記第1及び第2の気体軸受(124、134)の間に浮遊状態で収容されるように、前記第1の壁(120)及び第2の壁(130)の間に複数の基板(140)を次々に導入するステップと、
‐前記処理トンネル(102)の前記長手方向(T)に沿って前記基板(134)を次々に移動するステップと
を備える方法であって、
前記方法は、更に、
‐基板(140)が、前記処理トンネル内の少なくとも1つの基板検出位置の付近及び/又はその位置における前記第1及び第2のトンネル壁(120、130)の間に存在するかどうかを繰り返し登録し、それによって前記少なくとも1つの基板検出位置の付近及び/又はその位置における前記第1及び第2の壁の間の基板の存在を表す少なくとも1つの参照信号を時間の関数として記録するステップと、
‐前記少なくとも1つの記録された参照信号を処理するステップと
を備えることを特徴とする方法。 - 前記少なくとも1つの記録された参照信号は、異なる時間において、前記少なくとも1つの基板検出位置における前記複数の基板の中の複数の異なる基板(140)の存在を表す、請求項15に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの記録された参照信号を処理するステップは、オペレータによる検査のためにディスプレイ(162)上に、前記参照信号に符号化されている情報を表示するステップを含む、請求項15または16に記載の方法。
- 表示されている前記情報は、前記基板検出位置からの前記参照信号の振幅対時間のグラフを含み、前記グラフは、前記処理トンネル内の前記それぞれの基板検出位置の付近における及び/又はその位置における前記複数の基板の中の前記基板間の相互作用を明らかにするのに適している、請求項16及び17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの記録された参照信号を処理するステップは、
‐前記複数の基板の中の少なくとも1つの基板(140)の長手方向及び/又は横方向の位置に関連する少なくとも1つの特性を決定するステップを含む、請求項15〜18のいずれかに記載の方法。 - 前記長手方向及び/又は横方向の位置に関連する少なくとも1つの特性の前記決定は、複数の長手方向及び/又は横方向に離隔している基板検出位置からの参照信号の使用を伴う、請求項19に記載の方法。
- 前記位置に関連する少なくとも1つの特性は、単一の基板(140)の特性であり、
‐時間の関数として基板(140)の長手方向の位置と、
‐基板の長手方向の速度と
の中の1つを含む、請求項19または20に記載の方法。 - 前記位置に関連する少なくとも1つの特性は、基板(140)の前記長手方向の速度であり、前記参照信号は、少なくとも1つの圧力センサ(S’1、2)によって生成され、前記基板の前記長手方向の速度は、前記基板の通過を指し示す前記参照信号の中のピークの立ち上がりまたは立ち下がり傾斜の勾配から、少なくとも部分的に決定される、請求項21に記載の方法。
- 前記位置に関連する少なくとも1つの特性は、基板(140)の前記長手方向の速度であり、前記参照信号は、少なくとも1つの光学式基板検出センサ(S’3)によって生成され、前記基板の前記長手方向の速度は、前記基板の通過を指し示す前記参照信号の中のピークの幅から、少なくとも部分的に決定される、請求項21に記載の方法。
- 前記位置に関連する少なくとも1つの特性は、単一の基板(140)の特性であり、
‐基板(140)の横方向の並進収差と、
‐前記基板(140)回転収差(α)と
の中の1つを含む、請求項19〜20のいずれかに記載の方法。 - 前記位置に関連する少なくとも1つの特性は、例えば、
‐2つの基板間の長手方向の距離、
‐少なくとも2つの基板間の平均長手方向の距離、及び
‐トラフィック波の発生の可能性を示す複数の連続する基板間の長手方向の距離の変動
のような複数の基板(140)の共通の特性である、請求項19〜20のいずれかに記載の方法。 - ‐前記長手方向及び/又は横方向の位置に関連する少なくとも1つの特性が、所定の特性固有の許容範囲内にあるか否かを判定するステップ
を更に備える、請求項19〜25のいずれかに記載の方法。 - ‐前記それぞれの基板(群)の前記長手方向及び/又は横方向の位置に関連する少なくとも1つの特性が、前記許容範囲内に入っていないことが検出されると、前記特性を前記許容範囲内に戻すように前記処理トンネル(102)の動作パラメータを適応させることを含む是正措置を開始するステップ
を更に備える、請求項26に記載の方法。
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