NL8300443A - Module voor hoogvacuum processing. - Google Patents

Module voor hoogvacuum processing. Download PDF

Info

Publication number
NL8300443A
NL8300443A NL8300443A NL8300443A NL8300443A NL 8300443 A NL8300443 A NL 8300443A NL 8300443 A NL8300443 A NL 8300443A NL 8300443 A NL8300443 A NL 8300443A NL 8300443 A NL8300443 A NL 8300443A
Authority
NL
Netherlands
Prior art keywords
module according
passage
section
processing
substrates
Prior art date
Application number
NL8300443A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Integrated Automation
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Integrated Automation filed Critical Integrated Automation
Priority to NL8300443A priority Critical patent/NL8300443A/nl
Priority to EP19840900757 priority patent/EP0137008A1/en
Priority to JP50085684A priority patent/JPS60500932A/ja
Priority to PCT/NL1984/000001 priority patent/WO1984003195A1/en
Publication of NL8300443A publication Critical patent/NL8300443A/nl

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67784Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations using air tracks

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)

Description

i _ x -r* *
Nodule voor hoogvacuum processing
In de Nederlandse Octrooi-aanvrage No. 8 203 318 van de aanvrager zijn modules aangegeven, waarin processing onder hoogvacuum plaats vindt.
In deze modules bevinden zich een aantal transporteurs, waarin met 5 behulp van gasvormig medium een ’’floating” transport van substraten wordt verkregen en onderhouden.
Daarbij is aangegeven, dat aan de processing-zijde tenminste een groot gedeelte van het gasvormig medium in zijwaartse richting door een vacuum-pomp-opstelling wordt afgezogen.
10 De module volgens de uitvinding geeft nu nog enige aanvullende detail-constructies aan.
Bij de processing onder zeer hoog vacuum, zoals 10 bar, is het noodzakelijk, dat het transportmedium, hetwelk in de transporteurs wordt gebruikt voor het met behulp van gaskussens transporteren van de substraten 15 niet in ontoelaatbare mate de in deze module plaats vindende zeer critische processing kan verstoren.
De module volgens de uitvinding wordt nu daardoor gekenmerkt, dat in tenminste de transporteursecties, welke gelegen zijn aan de processing-zijde, aan weerszijde van het toevoerblok, waarin de toevoer van transport-20 medium naar de in deze transporteurs opgenomen centrale passage voor de substraten plaats vindt, afvoerkanalen zijn opgenomen, die aan de ingang ervan in open verbinding staan met deze passage en aan de andere zijde verbonden zijn met de moduleruimte opzij van de processing-ruimte.
Daarbij zijn deze kanalen met behulp van wanden opzij van zulk een 25 tranporteursectie nagenoeg lekdicht gescheiden van deze processing-ruimte, indien zich tijdens de processing in de transporteur-passge een substraat aanwezig is.
Deze ruimtes zijn elk door openingen in de zijwanden van de module en wijde afvoerleidingen aangesloten op een hoogvacuumpomp.
30 Aldus wordt aan deze processing-zijde de dan minimale hoeveelheid gasvormig transportmedium onmiddellijk afgezogen.
De zijwanden van de afvoerkanalen kunnen als kap met elkaar zijn verbonden en dienen dan als afschermkap voor zulk een toevoerblok voor het ermede opvangen van verontreinigingen en proces-materiaal, zoals metaal-35 deeltjes en verwijderde deeltjes van het substraat-oppervlak.
Een volgend zeer gunstig kenmerk van deze wanden is daarbij, dat zoals deze zich uitstrekken tot tenminste nabij het denkbeeldige verlengde van de passagewand van het toevoerblok, het gedeelte ervan, hetwelk een 8300443 i i
P
- 2 - passagewand-sectie vormt, is verbread ten opzichte van het eraan grenzende restgedeelte van deze wanden.
Aldus kan via deze wand .de aan de substraat gedurende de voorafgaande processing toegevoerde warmte worden afgevoerd, 5 Tevens wordt daardoor de doorstroomweerstand voor het uit zulk een kanaal lekkend medium sterk vergroot, en kan daardoor de spleetwijdte tussen de passagewanden van de transporteur en de zijwand van de substraat groter zijn.
Bij een doorlaatbreedte van 3 mm voor zulk een kanaal en een breedte 10 van 40 micrometer voor de passage tussen deze wand en de substraat kan aldus in deze passage een circa 10 000 voudig grotere doorstroomweerstand voor het gasvormig transportmedium worden verkregen.
Hierdoor wordt een weglekken van dit medium naar de procesruimte vrijwel geheel voorkomen en kan de minimale hoeveelheid weglekkend medium 15 gemakkelijk mede door de gemeenschappelijke af voeren opzij van de procesruimte worden afgezogen en zulks zonder verstoring van de processing.
Het in deze kanalen kunnen onderhouden van een ten opzichte van het proces-vacuum aanzienlijk hogere druk bewerkstelligt daarbij tevens, dat het weglekkende transportmedium belet, dat verontreinigingen en processing-20 deeltjes in deze passage-sectie terecht kunnen komen en op de passagewand van de afschermkap kunnen neerslaan.
Verder blijft aldus eveneens de uiterst critische passagewand-sectie van het toevoerblok vrij van zulk een verontreinigingen en metaal-neerslag.
Een gunstige vorm van de kanaalwand is, dat het brede passagewand- : 25 gedeelte ervan onder een kleine hellingshoek oploopt tot aan de aangren— · zende smalle zijwandsectie, ;
Hierdoor wordt verkregen, dat de afstand tussen deze passagewand-sectie en die van het toevoerblok gering kan zijn, bijvoorbeeld minder dan 1 mm. Zulks is van groot belang voor een zo beperkt mogelijk houden van de 30 afmetingen van de combinatie van toevoerblok en beschermkap in de bewegingsrichting van de substraten.
Het is van belang, dat de vervormingen van de transporteurs als gevolg van opwarming en afkoeling ervan tijdens de processing minimaal blijven,
Een volgend gunstig kenmerk is nu daarbij, dat de draagstukken, welke ? 35 opzij van de transporteurs zijn opgesteld, tevens als koel-element zijn uitgevoerd en tenminste mede voor de benodigde koeling van deze transporteurs zorg dragen, en bij tenminste de transporteursecties aan de processing-zijde de toevoer van warmte naar de passage-zijde via de substraten ongeveer gelijk is aan de warmte-toevoer naar de tegenover liggende niet-passage 8300443 j a - 3 - « 4 * zijde ervan.
Verder kunnen de transporteurs zich, gezien in de bewegingsrichting van de substraten, verbreden in de richting van de bevestiging ervan op de draagstukken als koel—element, waardoor enerzijds het warmte overdragend 5 vermogen wordt vergroot en anderzijds een doelmatige bevestiging wordt bewerkstelligd.
Bij de processing onder hoge temperatuur, 350 - 500° C, zoals bijvoorbeeld bij het anisotropisch etsen en magnetron metaal sputtering, moet de temperatuur van de substraat gedurende de processing aan zowel de proces-10 sing-zijde als de niet-processing zijde nagenoeg gelijk zijn om te grote vervormingen van deze substraten als gevolg van verschil in uitzettingen te voorkomen.
Een gunstig kenmerk van de module is nu verder, dat zoals tijdens de processing door het proces-medium de proces-zijde van de substraat wordt 15 verwarmd, tevens de niet-processing zijde van de substraat wordt verwarmd, waartoe bijvoorbeeld een microgolf— of infra-rood verwarming dienst kan doen.
Daarbij vindt dan in zowel de boven- als ondersecties van de transporteurs telkenmale na een kortstondige processing een afkoeling plaats.
20 Hierdoor wordt bewerkstelligd, dat bij toepassing van 30 - 100 trans porteurs met tussengelsgen processing-ruimtes de temperatuur schommelingen in de substraat zeer gering en volkomen toelaatbaar zijn.
Verder blijft mede de temperatuur van de transporteur-secties aan de processing- en niet-processing zijde nagenoeg gelijk.
25 Aldus kan de processing-ruimte vrij blijven van koel-elementen, waarop verontreinigingen en metaaldeeltjes zouden kunnen neerslaan.
Indien een sterkere afkoeling van de transporteur-secties moet plaats vinden, dan kunnen de draagstukken als koel-element via in deze transporteur-secties opgenomen koelkanalen met elkaar zijn verbonden.
30 Daarbij de gebruikmaking van het transportmedium in gecomprimeerde vorm als koelend medium, met via nauwe injecteurkanalen het daarop aangesloten zijn van de medium toe voerkanalen in deze transporteurs.
Het aan de onderzijde van de passage toegevoerde transportmedium dient voornamelijk voor het onderhouden van het gaskussen, welke zulk een 35 substraat draagt met een relatief hoog verbruik ervan.
Door de sterk gereduceerde hoeveelheid weglekkend medium uit de transporteurkanalen naar de processingruimte en de sterk vergrootte rechtstreekse afvoer van dit medium kan de processing aan de onderzijde van de passge plaats vinden.
8300443
t F
·» - 4 -
Hierdoor wordt tijdens de processing het op het substraat-oppervlak terechtkomen van verontreinigingen vanuit de processing in hoge mate verminderd.
Verder kan in deze transporteurs gebruik worden gemaakt van de in de 5 Nederlandse Octrooi-aanvrage No. van de aanvrager aangegeven poreu ss segmenten ten behoeve van het toevoeren van het gasvormige medium naar de passage.
In de transporteurs kan met behulp van het gasvormige medium telkenmale een reiniging van het substraat-oppervlak plaats vinden. Door de pro-10 cessing aan de onderzijde van de substraat-passage vindt ook verwijdering van losse substraatdeeltjes door de zwaartekracht ervan plaats.
Aldus is het nu mede mogelijk, dat een aaneengesloten reeks van substraten door de module wordt gevoerd voor processing ervan en waarbij dan de losgeraakte deeltjes op de contact-oppervlakken van deze substraten op 15 doelmatige wijze worden af gevoerd en deze aldus niet in ongunstige zin de processing kunnen beïnvloeden.
Bij uiterst critische processing is het echter ook mogelijk, dat de substraten van elkaar gescheiden door de processing-ruimte van de module worden gevoerd, 2Q Daarbij is een gunstige uitvoering van de module die, waarbij telkens een aanslag in de passage wordt gebracht, waartegen een substraat komt te rusten, terwijl een voorgaande substraat door deze aanslag is losgelaten. j
Door een iets hogere snelheid van deze voorgaande substraat krijgt deze aanslag dan de gelegenheid om in de ontstane vrije ruimte voor de volgende 25 substraat naar zijn aanslag-positie te bewegen. [
Daarbij kan gebruik worden gemaakt van het poreuss materiaal en waarbij dan een gasstroom uit deze aanslag dient als buffer voor het vermijden van een mechanisch contact van de substraat met deze aanslag.
Volgende gunstige kenmerken volgen uit de beschrijving van de hier-30 onder aangegeven Figuren.
Figuur 1 toont de module volgens de uitvinding in een dwarsdoorsnede.
Figuur 2 is een gedeeltelijke dwarsdoorsnede van de module volgens de Figuur 1 over de processing-ruimte ervan.
Figuur 3 is een gedeeltelijke dwarsdoorsnede van de module volgens de 35 Figuur 1 over de transporteur-sectie ervan.
Figuur 4 is een gedeeltelijke langsdoorsnede 'van de module volgend de Figuur 1 over een aantal opvolgende transporteur-secties ervan.
Figuur 5 is een gedeeltelijke langsdoorsnede van de module volgens de 8300443 - 5 - m 4 Λ
Figuur 1 met toepassing van een aanvullende beschermkap-constructie voor de transporteurs.
Figuur 6 is een vergrootte dwarsdoorsnede van een tweetal opvolgende transporteurs , welke in de module volgens de Figuur 1 kunnen zijn opgenoman.
5 Figuur 7 is een vergroot detail ter plaatse van de passage van de transporteur-opsfcelling volgens de Figuur 6.
Figuur 8 is een vergroot detail van de bevestiging van de transporteurs volgens de Figuur 6 op de zijdragers.
Figuur 9 toont een detail van een transporteur-sectie met een po-10 reus segment.
Figuur 10 toont een vergroot detail van een transporteur-sectie met een andere uitvoering van het poreuse segment.
Figuur 11 toont een vergroot detail van een transporteur-sectie met een segment, waarin uitsluitend in de zijwand ervan toevoerkanalen voor het 15 transportmedium zijn geetst.
Figuur 12 is een langsdoorsnede van de transporteur-sectie volgens de Figuur 9.
Figuur 13 toont een detail van een transporteur ter plaatse van de montage ervan op de zijdrager.
20 Figuur 14 toont een detail van een transporteur-sectie, waarin toevoerkanalen in de zijwand van het poreuse segment zijn opgenomen. ί
Figuur 15 toont in een bovenaanzicht een transporteur-opstelling, · i waarbij tussen een tweetal opvolgende transporteurs zich een aanslag be- ; vindt met daartegen een substraat rustend. i 25 Figuur 16 is de opstelling volgens de Conclusie 15, waarbij de aan— · slag buiten de passage is gebracht. «
Figuur 17 toont de opstelling volgens de Figuur 15 in een langsdoor- · snede over opvolgende transporteurs. :-
In de Figuur 1 is de module 10 aangegeven. In deze module bevindt 30 zich de transporteur-opstelling 12 met onder-sectie 14 en boven-sectie 16 en tussengelegen passage 18 voor het er door heen transporteren van de substraten 20. ;
In het ondergedeelte 22 van deze module bevindt zich tenminste éln ' opwekker 24 van proces medium voor het verkrijgen van plasma, ionen, elec-35 tronen enzovoorts ten behoeve van de processing onder hoog vacuum, zoals ionen implantage, ionen milling, plasma etsen, electron beam metaal neerslag enzovoorts, met bijbehorende delen, zoals ''targets", geleidings-electroden 26, welke al dan niet geplaatst zijn in de processing-ruimte 28 8300443 ] * £
L
+ * i t - 6 - aan de onderzijde van de passage 18.
Daarbij is binnen het kader van de uitvinding elke vorm van hoog-vacuum - en andere processing met gebruikmaking van de aangegeven trans— port-opstelling voor de substraten mogelijk.
5 In de zijwanden 30 en 32 van de module 10 bevinden zich de openingen 34 en 36, waarop de leidingen 38 en 40 van de respectievelijke hoogvacuum-pompen 42 en 44 zijn aangesloten, zie tevens de Figuur 5. Via deze pompen wordt hoofdzakelijk transportmedium uit de processing-zijde van de module afgevoerd.
10 De niet-processing zijde 46 van de module is via de leiding 48, wand- doorvoer 5Q en leiding 52 verbonden met de hoogvacuumpomp 54 voor het eveneens hoofdzakelijk afvoeren van transportmedium.
In de Figuren 2, 3 en 4 zijn daarbij de transporteur-secties 14 meer gedetailleerd aangegeven.
15 In het transporteurhuis 56 bevindt zich het segment 156, hetwelk van poreus materiaal is vervaardigd voor het vanuit de zijdrager 58 en via in-jectiekanaal 60, toevoerleiding 62 en gemeenschappelijk kanaal 64 toevoeren van gasvormig medium 98 naar de passage 18,
Het transporteurhuis 56 is omgeven door de kap 66 met de zijwanden 20 68 en 70 onder de vorming van de respectievelijke afvoerkanalen 72 en 74.
Het naar de passage 18 gestuwde medium wordt door de hoogvacuumpom— pen 42 en 44 door deze kanalen langs de substraat 20 gezogen en gebracht naar de beide module-ruimtes 76 en 78 opzij van de processing-ruimte 28 voor verdere afzuiging ervan, 25 De verbreedde uiteinden 80 en 82 van het transporteurhuis 56 maken een goede bevestiging van dit huis mogelijk en dragen zorg voor een goede geleiding van warmte vanaf dit huis naar de zijdragers 58 en 84.
Deze dragers worden als koel-elementen onder hoge druk doorlopen door het transportmedium 98.
30 In de Figuur 6 is een transporteur-opstelling 12’ aangegeven met in het transporteurhuis 56 ’ het opgenomen zijn van het koelkanaal 86 voor het doorlopen ervan onder hoge druk van het gekoelde transportmedium 98. Het gemeenschappelijk kanaal 64 is daarbij via het injectiestuk 88 met een uiterst nauwe doorlaat 90 aangesloten op dit kanaal.
35 De kap 66 is geklemd op het huis 56 vastgezet. De passagewand-secties 92 en 94 zijn daarbij met behulp van de zijwanden 68 en 70 verbonden met het klemgedeelte 96 van deze kap. De wandsecties zijn verder afgeschuind om een afvoer van medium vanuit de passage 18 naar de kanalen 72 en 74 te vergemakkelijken. Het kanaal 72 is daarbij ruim gehouden met een doorvoerbreedte 8300443 » Λ * - 7 - t van bijvoorbeeld 3 mm.
Door de afschuining van de passagewand-sectie 92 is daarin een zeer lage doorstroomweerstand voor het transportmedium mogelijk en zulks mede door de zeer geringe lengte van zulk een kanaal van bijvoorbeeld slechts 5 50 mm·
Tussen de passagewand-sectie 92 en de passerende substraat 20 kan sen nauwe spleet ter grootte van bijvoorbeeld 40 micrometer worden onderhouden, waarbij in combinatie met een relatief grote doorvoerlengte voor het gasvormig medium in de passage-sectie 100 een aanzienlijke doorstroomweerstand 10 voor het transportmedium 98 wordt bewerkstelligd.
Deze weerstand kan daarbij circa 10 000 voudig groter zijn dan de weerstand van kanaal 72, waardoor een weglekken van het transportmedium prac-tisch geheel wordt voorkomen, -4
Aldus kan in dit kanaal een onderdruk van bijvoorbeeld 10 bar wor- 15 den onderhouden, zonder dat zulks van nadelige invloed is op de processing in de ruimte 102, alwaar het hoogvacuum circa 10 bar kan bedragen en in -10 speciale gevallen zelfs 10 bar,
Via de kanalen in het poreuse segment156 en aangevuld met kanalen 104 vindt afvoer van dit medium vanuit het gemeenschappelijke kanaal 64 hoofd- , ï· 20 zakelijk naar de nauwe passage-sectie 106 plaats en vandaar naar het af- y voerkanaal 72, j *
Uia kanaal 74 vindt in meer beperkte mate afvoer van dit transport- ? medium 98 plaats, omdat ook passage-sectie 108 nauwer is dan de passage— i sectie 106. ? tr 25 Aldus wordt door het stuwen van het medium in de bewegingsrichting '
L
van de substraten door dit medium een stuwende krachtwerking op de door- | £ voerende substraat 20 uitgeoefend, | i/ia de grote oppervlakken van de passagewand-secties van kap 66 en ► transporteursectie 14 vindt warmte-overdracht vanaf het proces-oppervlak ï 30 110 van de substraat plaats, zoals dit oppervlak in de voorgaande proces-sing-ruimte door de daarin plaats vindende processing is opgewarmd.
Het ondergedeelte 112 van de transporteursectie 14 wordt eveneens j door dit procesmedium opgewarmd, waardoor van twee zijden warmte-overdracht f naar hst koelmedium 98 plaats vindt. ' 35 Door de uiterst geringe afstand voor de warmte-geleiding, bijvoor- : beeld slechts circa 6 mm, in combinatie met de warmte-geleiding over de gehele processing-lengte van deze sectie is de warmte-overdracht optimaal met aldus een uiterst gering temperatuurverschil tussen de passagewand-secties 92 en 94 en dit ondergedeelte 112.
8300443 F
k _ <' - 8 -
Hierdoor vindt in zowel de transporteursectie 14 als in kap 66 vrijwel geen vervormingen plaats als gevolg van temperatuursverschillen, hetgeen van zeer groot belang is voor de uiterst nauwe passage voor de substraten met de micro passage-spleten tussen deze substraten en de trans— 5 porteursecties.
Tegen de onderzijde van de kap 66 bevinden zich nog één of meerdere verwijderbare schilden 114 voor het daarmede opvangen van procesmedium, zoals metaaldeeltjes« Zulk een schild kan daarbij elke vorm hebben en indien nodig, zelfs de gehele kap tot op de passage 18 omhullen.
10 Tevens kan dit schild aan de zijkanten van de processing-ruimte dienen voor een gehele of gedeeltelijke afscherming van de er naast gelegen module-ruimtes 76 en 78 en aldus ook voor een gehele of gedeeltelijke afsluiting van deze ruimtes van de module-ruimte 22, zoals is aangegeven in de Figuur 5.
15 De boven gelegen transporteursectie 16 heeft nagenoeg dezelfde con structie met echter het toevoerkanaal-systeem 60, 62 en 64 voor de erin opgenomen segmenten 156.
Boven deze transporteursecties 16 is een electrode-plaat 116 aangebracht voor het daarop aantrekken van procesmedium, hetwelk de processing-20 ruimtes 102 heeft gepasserd, zonder een substraat te treffen, zie tevens de Figuur 1.
Bij hoge temperaturen voor de processing is het gewenst, dat tijdens deze processing de transporteursecties 14 en 16 een nagenoeg dezelfde temperatuur hebben in verband met het tegengaan van vervormingen in deze sec-25 ties.
Daartoe zijn in deze module één of meerdere ovens 170 opgenomen in de niet-processing zijde 46, die deze transporteursecties 16 zodanig verwarmen, dat de temperatuur daarvan ongeveer gelijk is aan die van de onder- transporteursecties 14.
30 Daarbij dan voor beide transporteursecties nagenoeg dezelfde koelme- thode met al dan niet koelkanaal 86 in deze secties.
In de Figuur 7 is nog wederom zulk een transporteur ter plaatse van de passage sterk vergroot aangegeven. Daarbij komen duidelijk de verschillen in afmetingen tussen de verschillende passage-spleten en kanalen tot uit-35 drukking.
De zich slechts relatief langzaam verplaatsende substraat 20, bijvoorbeeld 10 mm per seconde, maakt dat de substraatwand, welke door de voorgaande processings in andere processing equipment veelal geruwd is, eveneens dienst doet als afremmend oppervlak voor het via passage-sectiss 106 8300443 t -5 .
- 9 - ontsnappend medium.
Zelfs bij een ontsnappingssnelheid van 50 mm per seconde bij 10 bar is de hoeveelheid ontsnapte medium nog uiterst gering, bijvoorbeeld 3 200 mm per seconde, gevende de te verwaarlozen hoeveelheid van 0,2 liter —8 5 per seconde bij 10 bar per transporteursectie. Zulks gezien de beschikbare afzuigcapaciteit van de pompen van zelfs hoger dan 5000 liter per seconde,
In de Figuur 8 is nog wederom vergroot de bevestiging van zulk een transporteur-opstelling 12f op de zijdrager 58 aangegeven, 10 Net behulp van stromen medium uit de schuin geplaatste kanalen 118, zie tevens de Figuur 14, wordt daarbij de substraat 20 in de middenpositie van de passage 18 gehouden, omdat een uit het midden geraken ervan gelijk resulteert in vereffeningskrachten van deze stromen medium op de substraat,
In de zijwand 30’van de module is daarbij de doortocht 180 opgenomen, 15 waardoorheen een gedeelte van het transportmedium aan de niet- processing— zijde wordt af gezogen door een hoogvacuumpomp,
In de Figuur 9 is een andere vorm van het poreuse segment 156' aangegeven, waarbij deze voor een groter gedeelte 120 ervan een passagewand-sectie vormt, De erlangs bewegende substraat komt daarbij onmiddelijk te rus-20 ten op het gaskussen, welke door de stromen medium via het poreuse materiaal continue wordt onderhouden.
Daarbij kan het bovenvlak ervan gedeeltelijk bedekt zijn met een afdicht-laag 122, zoals tevens in de Figuur 12 is aangegeven. Hierdoor is het mogelijk om in de middensectie 124 ervan een maximale doorlaat voor het medi- : 25 urn te hebben, terwijl deze doorlaat geleidelijk afneemt naar de zijkanten 126 ; en 128.
Met behulp van zulk een doorlaat-beperking kan de consumptie van medium worden beperkt.
Door middel van de opsluitrand 130 van het huis 56' in combinatie met 30 de uitsparing 132, welke is opgenomen in de zijwand van het segment, is een opsluiting van dit segment in de richting naar de passage na het inbrengen ervan in het huis verkregen,
In de Figuur 10 is dit poreuse segment in nog een andere vorm 156” - ervan aangegeven en waarbij het kanaal 64” zich met een sectie 134 opzij van 35 het segment tot nabij het ondereinde 120" van dit segment uitstrekt.
Hierdoor kan via het korte stuk 136 van het poreuse materiaal gemakkelijker transportmedium worden afgevoerd met eventueel zelfs hulpstromen via kanalen 138, welke opzij van dit gedeelte 136 zijn opfenomen. Deze kanalen kunnen dan eveneens schuin zijn geplaatst, zoals de in de Figuur 14 aange- 8300443 ί - 10 - geven kanalen 118.
Voor het poreuse segment is elk soort van materiaal toepasbaar, zoals teflon voor lage proces-temperaturen en roestvrij staal voor processing onder hoge temperatuur, zoals 500°C.
5 In de Figuur 11 bestaat het segment 156111 uit massief metaal of an der materiaal, waarbij in de zijwand ervan de kanalen 118T * * zijn geetst, met de uitmonding van deze kanalen in het toevoerkanaal 64M'.
In de Figuur 13 strekken de poreuse segmenten 140 en 142 zich uit tot aan de zijdragers* Daarbij vullen de zijwandsecties 144 de passageruimte 146 10 aan weerszijde van het centraal gelegen passage-gedeelte 18.
De door deze segmenten 140 en 142 toegevoerde medium 98 stroomt in versterkte mate via de wandsectie 148 in de passagesectie 18 en bewerkstelligt daardoor een zodanig voldoend gaskussen voor de substraten, dat een mechanisch contact van deze substraten met de wandsectie 148 vermeden 15 wordt.
In de Figuur 15 is tussen de opvolgende transporteur-opstellingen 12 de buffer-aanslag 150 opgenomen, zie tevens de Figuur 17.
In de aangegeven rustpositie komt substraat 152 tegen het gaskussen van de bufferwanden 154 en 156 te rusten. Zulk een kussen wordt daarbij op 20 commando bewerkstelligd en onderhouden via het poreuse materiaal van deze aanslag.
De gasstroom via deze buffer is daarbij dermate groot en geconcentreerd, dat geen mechanisch contact van de substraat met deze buffer mogelijk is, 25 In plaats van het poreuse materiaal is ook een aanslag mogelijk, waar in een segment met in de zijwand ervan opgenomen kanalen is opgesteld.
De voorliggende substraat 158 krijgt daarbij gelegenheid om zich van deze substraat 152 te verplaatsen. Na het bereiken van een bepaalde tussenafstand wordt vervolgens de aanslag over enige afstand in opwaartse rich— 30 ting verplaatst, waardoor substraat 152 de voorgaande substraat 158 kan volgen.
In een andere uitvoering vindt deze verplaatsing in zijwaartse richting plaats.
Zulk een verplaatste aanslag is in de Figuur 16 aangegeven, waarbij 35 na enige tijd deze substraat 152 onder de aanslag door is verplaatst, zodat de aanslag wederom naar zijn rustpositie gebracht kan worden voor het tegenhouden van de daaro volgende substraat.
Doordat de substraten zich met behulp van het via de transporteurs toegevoerde transportmedium zelfstandig met een in geringe mate hogere ;
8300443 I
< - 11 - snelheid kunnen verplaatsen, wordt aldus een van elkaar gescheiden doorvoer van deze substraten door de processingruimte van de module verkregen.
Zulk een aanslag-opstelling bevindt zich dus op enige afstand voör de module-sectie, waarin de processing plaats vindt.
5 Het is van belang, dat de afvoer voor het transportmedium van de transporteursectie aan de processing-zijde niet tevens dient voor de afvoer van het transportmedium van de transporteursecties aan de niet— processingzijde.
Zulks, omdat de consumptie van deze tweede secties aan gasvormig 10 medium aanmerkelijk groter kan zijn en deze de afvoercapaciteit van de afvoerkanalen dermate ongunstig kan beïnvloeden, dat bij critische processing onder zeer hoog vacuum dit vacuum niet bereikt kan worden.
In de Figuur 1 is daartoe mede met behulp van de wanden 162 en 164 al dan niet in combinatie met zijwandsecties 144 van de segmenten 140, zie 15 Figuur 13, een toereikende scheiding van de processing-zijde van de niet-processingzijde verkregen.
Oe in Figuur 8 getoonde af zuiging aan weerszijden van de passage bewerkstelligt ook zulk een voldoende scheiding.
Binnen het kader van de uitvinding is elk type van processing moge— 20 lijk met eveneens variaties in koeling, afvoer en reiniging van het procesen transportmedium, De verwijdering van verontreinigingen kan bijvoorbeeld geschieden met behulp van waterschermen of soortgelijke constructies, die : geplaatst zijn in de afvoerkanalen naar de al- dan niet hoogvacuumpompen. i
Verder kan in de module ook processing van tape als een ononderbro- ! » 25 ken reeks van substraten plaats vinden, j
Tevens kan daarin meer dan één type van processing in opvolgende ; secties ervan plaats vinden.
Ook is het mogelijk, dat in de module, of in de toe- of afvoer ervan ; een substraat in een sectie ervan in zijwaartse richting uit de passage kan 30 worden gebracht, waartoe stromen gasvormig transportmedium dienstig kunnen zijn al dan niet in combinatie met een geleidingswand, die vanuit zijn rust-positie met geopende passage op commando gebracht kan worden in een ge-leidingspositie ervan in deze passage.
Hiertoe kan via deze geleidingswand eveneens, indien gewenst, ten-35 minste tijdelijk een groot aantal gasstromen vanuit toevoerblokken, welke zich bevinden tussen opvolgende transporteursecties, op de substraat inwerken.
Binnen het kader van de uitvinding kunnen deze substraten met behulp van daarop uitgeoefende krachtwerkingen van de stromen transport- f __[ 8300443 | ( t - 12 - medium in de opvolgende transporteurs zelfstandig worden verplaatst, met systemen in deze module en mogelijk toe- en af voer ervan aanwezig, om de snelheid van verplaatsing ervan te regelen per groep van transporteurs.
In tenminste enkele transporteursecties kan daartoe door een aange— 5 paste vorm ervan het er door heen naar de passage stromende transportmedium een resulterende krachtwerking op de door deze passage—sectie bewegende substraat uitoefenen, welke tegengesteld is aan de bewegingsrichting van deze substraat.
Daarbij is zulk een krachtwerking regelbaar door regeling van de toe-10 voer van het transportmedium. In de module zijn dan sensoren opgenomen, die de snelheid van zulk een substraat controleren met het geven van corrigerende signalen naar de ventielen in de toevoer van het transportmedium.
Om de substraten tijdens hun verplaatsing goed te kunnen volgen, kunnen op deze substraten tenminste plaatselijk een oriëntatiemiddel, zoals een 15 laagje metaal, zijn aangebracht voor het in samenwerking met de sensoren nauwkeurig vaststellen van de opvolgende posities ervan per tijdseenheid. Aldus kan, indien nodig, aanpassing van de doorvoersnelheid van de substraat plaats vinden.
Zulk een oriëntatiemiddel kan op de niet vlakke, dunne zijwanden van 20 de substraat zijn aangebracht en verstoren aldus niet de processing.
De sensoren voor de snelheidsregeling en andere sensoren kunnen in de niet-processingzijde van de module en/of ds toe- en af voer zijn aange— bracht, met een werkgebied ervan tussen de opvolgende transporteursecties.
Om verontreinigingen van deze sensoren zoveel mogelijk tegen te gaan, 25 kunnen deze dan bij voorkeur een positie hebben in de ruimtes opzij van het verlengde van de processingruimte.
Verder kan in deze module het testen en meten van de substraten ook bij stilstand ervan plaats vinden, waartoe dan ook de in Figuur 15 aangegeven bufferaanslagen gebruik kunnen worden in aangepaste vorm ervan.
30 Zulk een testen of meten kan dan plaats vinden in bijvoorbeeld 0,5 seconde, zonder dat de opvolgende substraten , die op enige afstand van elkaar bewegen, elkaar zullen raken.
De test- en meetsectie, welke gezien in de bewegingsrichting van de substraten, voor de processingruimte is gelegen, bevindt zich dan echter 35 wel op tenminste een substraat-lengte van deze ruimte, om niet de processing in ongunstige zin te beïnvloeden.
Binnen het kader van de uitvinding zijn ook andere en eventueel aanvullende systemen voor regeling, testen en meten en sortering mogelijk.
Ook kan in de module tenminste plaatselijk een ’'floting’1 transport 8300443 - 13 - worden bewerkstelligd met behulp van een transporteur-opstelling aan slechts één zijde van de passage, 8300443

Claims (92)

1. Nodule ten behoeve van processing van toegevoerde substraten of tape en tenminste bestaande uit een serie transporteurs voor een "floating” transport in een passage van deze substraten en die opvolgend in de bewegingsrichting van de substraten zijn opgesteld met tussengelegen secties 5 van de in deze module opgenomen processingruimte, met het kenmerk, dat daarin verder middelen zijn opgenomen voor het in zijwaartse richting verwijderen van tenminste een gedeelte van het via deze transporteurs naar deze processingruimte—sectiBs ontsnapte gasvormige transportmedium·
2. Nodule volgens de Conclusie 1, met het kenmerk, dat daarbij zulk -jQ een transporteur-opstelling bestaat uit tenminste een transporteursectie aan de processing-zijde van deze passage.
3. Nodule volgens de Conclusie 1, met het kenmerk, dat daarbij zulk een transporteur-opstelling bestaat uit tenminste een transporteursectie aan de niet-processingzijde van deze passage. 15 4· Nodule volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij zulk een transporteur-opstelling bestaat uit tenminste een · toevoerblok voor het toevoeren van een gasvormig medium naar de daarmede . corresponderende passage-sectie, zodanig, dat tenminste tijdens de. processing tussen deze transporteursecties en de er langs bewegende substraten . 2Q een "floating" gaskussen voor deze substraten wordt bewerkstelligd en onderhouden.
5. Nodule volgens één de voorgaande Conclusies, met het kenmerk, · dat daarbij in deze transporteur-opstelling een transporteursectie is opgenomen aan de processingzijde van de passage, tevens een tweede transportaur-25 sectie is opgenomen aan de niet-processing zijde van deze passage en elk bevattende tenminste een toevoerblok voor het toevoeren van gasvormig medium naar de tussen deze secties gelegen passage-sectie, zodanig, dat tenminste tijdens de processing tussen deze transporteursecties aan weerszijde van de er langs bewegende substraat een "floating gaskussen voor deze i 30 substraat wordt bewerkstelligd·
6. Nodule volgens een der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij tenminste één afvoer voor het afvoeren van gasvormig medium uit deze module is aangesloten op de module-sectie, hetwelk zich aan de processingzijde bevindt, . 35
7. Nodule volgens de Conclusie 6, met het kenmerk, dat daartoe aan de processing-zijde van de passage aan weerszijde van de processingruimte zich een communicatie-ruimte bevindt voor het er door heen afvoeren van het gasvormige medium, 8300443 - 15 -
8. Nodule volgens de Conclusie 7, met het kenmerk, dat deze daarbij verder zodanige middelen bevat, dat tijdens de processing de afvoer van het aan de processing-zijde via de daarin gelegen transporteur-secties toege— voerde gasvormige transportmedium eveneens voor tenminste het grootste ge- deelte ervan aan deze zijde in zijwaartse richting plaats vindt. 5
9. Werkwijze van de module volgens de Conclusie 8, met het kenmerk, dat daarbij de afvoer van het via de transporteursecties aan de processing-zijde toegevoerde gasvormige medium voor tenminste het grootste gedeelte ervan in zijwaartse richting geschiedt via tenminste één afvoer, welke is aangesloten op de module-sectie, hetwelk zich aan de processing-zijde bevindt.
10. Nodule volgens de Conclusie 8, met het kenmerk, dat zoals daarbij aan de processing-zijde van de passage zich aan weerszijde van de processing-ruimte een communicatie-ruimte bevindt, daarin de afvoeren van de trans- ^ porteursecties, welke aan de processing-zijde zijn gelegen, uitmonden.
11. Nodule volgens de Conclusie 10, met het kenmerk, dat deze verder zodanig is uitgevoerd, dat daarbij tevens de afvoer van de processingruimte— secties uitmonden in deze communicatieruimtes.
12. Nodule volgens de Conclusie 10, met het kenmerk, dat deze commu-nicatieruimtes zijn aangesloten op doortochten, welke zijn opgenomen in de zijwanden van de module-sectie aan de processing-zijde van de passage.
13. Nodule volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, : dat zulk een doortocht aan de andere zijde ervan is aangesloten op een volgende afvoersectie.
14. Nodule volgens de Conclusie 13, met het kenmerk, dat daarbij in 25 deze afvoer middelen zijn opgenomen voor het verwijderen van verontreinigingen uit het afgevoerde gasvormige medium.
15. Nodule volgens de Conclusie 12, met het kenmerk, dat de afvoer via leidingen is aangesloten op tenminste één hoogvacuumpomp, 3Q 16. Nodule volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij in de niet-processingzijde ervan zodanige middelen zijn opgenomen, dat daarbij tijdens de processing afvoer van tenminste het via de transporteursecties aan deze zijde toegevoerd gasvormig transportmedium plaats vindt.
17. Nodule volgens de Conclusie 16, met het kenmerk, dat daartoe het 33 afvoersysteem tenminste bestaat uit één communicatieruimte, waarin ten tenminste de af voer van de aan deze niet-processingzijde gelegen transporteursecties uitmondt en deze communicatieruimte via afvoerleidingen is aangesloten op tenminste één vacuumpomp. ____ 8300443 - 16 -
18. Module volgens de Conclusie 17, met het kenmerk, dat in deze leidingen middelen zijn opgenomen voor afscheiding van verontreinigingen.
19. Werkwijze van de module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat tijdens de processing van de substraten de afvoer van 5 medium aan de processingzijde zodanig groot is, dat tenminste nagenoeg geen afvoer van medium naar de niet-processingzijde plaats vindt.
20. Module volgens de Conclusie 8, met het kenmerk, dat daarbij in deze module aan weerszijde van de centrale passagesectie een zodanige wand is opgenomen, dat daarmede tenminste de afscheiding van de processing—zijde 10 van de niet-processingzijde wordt .
21. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij in deze module verder zodanige middelen zijn opgenomen, dat de afvoer van het transportmedium van de in de processing-zijde aanwezige transporteursecties tenminste plaatselijk en afhankelijk van de positie van 15 de doorvoerende substraten nagenoeg gescheiden is van de afvoer van het gasvormige medium, welke zich in de processingruimte-secties bevindt.
22. Module volgens de Conclusie 21, dat bij tenminste de transporteur- i secties aan de processingzijde het toevoerblok verder voorzien is van zoda- ; t nige wanden aan weerszijde ervan, welke in open verbinding zijn met de passa- t t 20 ge, dat daarmede opzij van dit blok afvoerkanalen ten behoeve van tenminste een gedeeltelijk afvoeren van het gasvormig transportmedium zijn verkregen.
23. Module volgens de Conclusie 22, met het kenmerk, dat daarbij deze , wanden zich over enige afstand tot in de opzij van de processingruimte gelegen communicatie-ruimtes uitstrekken. ‘ * 25 24, Module volgens de Conclusie 23, met het kenmerk, dat de afvoer kanalen opzij van het toevoerblok in open verbinding staan met deze communicatie-ruimtes.
25. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat de wanden opzij van het toevoerblok zich uitstrekken tot tenminste nabij 30 het denkbeeldige verlengde van de passagewand-sectie van dit toevoerblok onder de vorming van aanvullende passagewand-sacties»
26. Module volgens de Conclusie 25, met het kenmerk, dat daarbij van tenminste de wand, welke gezien in de bewegingsrichting van de substraat, gelegen is voor zulk een toevoerblok, het gedeelte, welke de passagewand- 35 sectie bevat, een grotere breedte heeft dan het aangrenzende wandgedeelte.
27. Module volgens de Conclusie 26, met het kenmerk, dat daarbij de wand—opstelling in combinatie met het toevoerblok verder zodanig is uitge— voerd, dat gezien in de bewegingsrichting van de substraten het kanaal vbèr het toevoerblok breder is dan het kanaal na dit blok. 8300443“ - 17 -
28. Module volgens de Conclusie 26, met het kenmerk, dat daarbij het wandgedeelte, welke de passagewandsectie bevat, is verbreed in de richting naar dit blok toe.
29. Module volgens de Conclusie 28, met het kenmerk, dat dit mand— 5 gedeelte is af geschuind met een begin van de afschuining, welke tenminste nabij deze passagewand-sectie is gelegen,
30. Module volgens de Conclusie 29, met het kenmerk, dat daarbij de communicatie—opening tussen het wandgedeelte, welke de passagewand-sectie bevat, en het toevoerblok groter is dan 0,3 mm. Ί0 31. Module volgens de Conclusie 30, met het kenmerk, dat de grootste breedte van het afvoerkanaal, welke gezien in de bewegingsrichting van de substraten, gelegen is vèèr het toevoerblok, groter is dan 1 mm.
32. Module volgens de Conclusie 31, met het kenmerk, dat deze verder zodanig is uitgevoerd, dat daarbij bij elke opstelling van de beide transports teursecties aan weerszijde van de passage de tussengelegen passage ter plaatse van de toevoerblokken een zodanige hoogte heeft, dat de spleetwijd-te tussen de passagewand-secties en de substraat kleiner is dan 0,1 mm.
33. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat de wanden opzij van het toevoerblok deel uitmaken van een kap, welke op 20 dit blok is vastgezet.
34. Module volgens de Conclusie 33, met het kenmerk, dat daarbij het blok ten behoeve van het er op kunnen plaatsen van deze kap ter plaatse van deze bevestiging een breedte heeft, welke geringer is dan de breedte van de passagewandsectie van het blok tezamen met de beide communicatie— 25 openingen opzij ervan.
35. Module volgens de Conclusie 34, met het kenmerk, dat daarbij in dit verbreedde gedeelte een kanaal voor het gasvormige transportmedium is opgenomen.
36. Module volgens de Conclusie 35, met het kenmeik, dat deze verder 30 zodanig is uitgevoerd, dat vanuit een kanaal in een draagstuk opzij van de transporteursecties medium via het transporteurkanaal stroomt naar een kanaal, welke is opgenomen in het draagstuk, welke aan de andere zijde van deze secties is gelegen.
37. Werkwijze van de module volgens de Conclusie 36, met het kenmerk, 35 dat daarbij tijdens de processing transportmedium, welke via tenminste het in zulk een transporteursectie opgenomen kanaal stroomt, zorg draagt voor de koeling van deze sectie.
38. Module volgens de Conclusie 35, met het kenmerk, dat daarbij in dit blok een segment is vastgezet, waarvan een wandgedeelte een passagewandsectie vormt, in dit segment kanalen zijn opgenomen, die uitmonden in de passage en aan de ingang ervan zijn aangesloten op een gemeenschappelijk 8300443 - 18 - toevoerkanaal, hetwelk in dit blok is opgenomen en waarbij dit kanaal in verbinding staat met het kanaal in het verbreedde gedeelte van deze sectie. 39. nodule volgens de Conclusie 38, met het kenmerk, dat daarbij deze verbinding bestaat uit een zeer nauw kanaal, welke in een buis is opgeno- 5 men. 40. nodule volgens de Conclusie 34, met het kenmerk, dat daarbij in dit blok een segment is vastgezet, waarvan een wandgedeelte een passage-wandsectie vormt, in dit segment kanalen zijn opgenomen, die uitmonden in de passage en aan de ingang ervan zijn aangesloten op een gemeenschappelijk 10 toevoerkanaal, hetwelk eveneens in dit blok is opgenomen en waarbij dit kanaal in verbinding staat met een toevoerkanaal, welke in een draagstuk voor de transporteursectie is gelegen.
41. Nodule volgens de Conclusie 38 of 40, met het kenmerk, dat dit segment bestaat uit poreus materiaal.
42. Nodule volgens de Conclusie 41, met het kenmerk, dat dit materi aal roestvrij staal is.
43. Nodule volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat, gezien in de bewegingsrichting van de substraten, dit segment aan de voorzijde ervan is voorzien van zodanige middelen, dat daardoor het trans- 20 portmedium gemakkelijker via deze voorzijde naar de passage stroomt dan via de rest van het segment.
44. Nodule volgens de Conclusie 43, met het kenmerk, dat daartoe het gemeenschappelijke toevoerkanaal zich aan deze zijde met een gedeelte ervan over enige afstand opzij van dit segment in de richting van de passagewand- 25 sectie uitstrekt.
45. Nodule volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat het toevoerblok aan weerszijde van het segment eveneens een wandpassage-sectie vormt en waarbij, gezien in de bewegingsrichting van de substraten tenminste de wandsectie voor het segment over enige afstand verwijderd is 30 van het denkbeeldige verlengde van de passagewand-sectie van het segment.
46. Nodule volgens de Conclusie 45, met het kenmerk, dat deze wandsectie van het toevoerblok verder zodanig is uitgevoerd, dat deze van het segment af een tenminste plaatselijk toenemende passage-breedte voor de passerende substraat biedt.
47. Nodule volgens de Conclusie 46, met het kenmerk, dat daarbij de wandsectie voor het segment over enige afstand verder van het denkbeeldige verlengde van de passagewand-sectie van het segment uitstrekt dan de wand— CO ^ sectie na dit segment. O 48, Werkwijze van de module volgens één der voorgaande Conclusies, ^ met het kenmerk, dat daarbij in het afvoerkanaal, welke gezien in de bewe-gingsrichting van de substraten, gelegen is voor het toevoerblok, tijdens ^ de processing tenminste tijdelijk de druk van het transportmedium lager is dan in het afvoerkanaal aan de achterzijde van het toevoerblok. - 19 -
49. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij de constructie van de transporteurs verder zodanig is, dat in beide secties ervan de doorstroomweerstand groter is dan de doorstroom-u/eerstand van de maximale afvoerspleet, tussen de passagewandsectie van het 5 er in opgenomen toevoerblok en de substraat.
50. Module volgens de Conclusie 49, met het kenmerk, dat daarbij de doorstroomueerstand voor het gasvormige medium in zulk een sectie groter is dan die van een afvoerspleet tussen de passagewandsectie van het erin opgenomen toevoerblok en de substraat met een wijdte van 10 micrometer. jg 51. Module volgens de Conclusie 50, met het kenmerk, dat deze weer stand zodanig groot is, dat in het gemeenschappelijke toe voerkanaal van medium voor het in het blok opgenomen segment met daarin opgenomen afvoerkanalen naar de passage een druk van tenminste 0,005 bar wordt onderhouden.
52. Werkwijze van de module volgens de Conclusie 51, met het kenmerk, Ί5 dat tijdens het transporteren van substraten door de transporteurs bij een plaatselijk minimale spleetwijdte tussen transporteurs-secties en de substraat van 2 micrometer de stuwdruk in de spleetsectie, grenzende aan het segment, oploopt tot tenminste 0,005 bar.
53. Werkwijze van de module volgens de Conclusie 51, met het kenmerk, 20 dat daarbij de stuwdruk in het gemeenschappelijke toevoerkanaal van medium in het toevoerblok, welke is opgenomen in de transporteursectie aan de niet-processingzijde, groter is dan die in het toevoerblok, welke is opge— nomen in de transporteursectie aan de processing-zijde.
54. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, 25 dat deze verder zodanig is uitgevoerd, dat de passage in de transporteurs een relatief ruime doorgang biedt voor de substraten met een totaalhoogte ervan, welke tenminste 50 micrometer groter is dan die van de door te voeren substraten,
55. Module volgens de Conclusie 54, met het kenmerk, dat daarbij ge-30 zien in de bewegingsrichting van de substraten, de breedte van de passage- wandsectie van het toevoerblok aan de niet-processingzijde groter is dan de breedte van het toevoerblok aan de processing-zijde.
56. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat de processing-zijde van de module zich onder de passage voor de substra— 35 ten bevindt.
57. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat deze verder zodanig is uitgevoerd, dat zoals tijdens de processing warmte naar de substraat wordt gevoerd, de opvolgende transporteurs voor een zodanige koeling van deze substraten zorg draagt, dat de temperatuur ervan binnen toelaatbare grenzen blijft. _ 8300443 - 20 - 58« Module volgens ds Conclusie 57, met het kenmerk, dat daartoe de draagstukken aan weerszijde van de transporteurs zodanig zijn uitgevoerd, dat deze als koelelement fungeren.
59, Module volgens de Conclusie 58, met het kenmerk, dat zoals de 5 toevoerblokken van de transporteurs bevestigd zijn op deze draagstukken, deze blokken ter plaatse van deze bevestiging zijn verbreed in tenminste, de lengterichting van de passage,
60, Module volgens de Conclusie 58, met het kenmerk, dat daarbij in tenminste één van de draagstukken een ruimte is opgenomen met toe— en af— -)0 voer voor het doorlopen ervan door het gasvormige transportmedium onder hoge druk als koelmedium.
61, Module volgens de Conclusie 60, met het kenmerk, dat daarbij in zulk een transporteursectis een doorverbindingskanaal is opgenomen, welke het gemeenschappelijke toevoerkanaal voor het daarin opgenomen segment ver— 15 bindt met een kanaal in dit draagstuk, welke uitmondt in deze koelruimte,
62, Module volgens de Conclusie 61, met het kenmerk, dat daarbij dit kanaal in het draagstuk uiterst nauw is en is opgenomen in een buisstuk,
63, Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij bij de transporteursecties aan tenminste de processing-zijde, ge- 20 zien in de lengterichting van de passage, de kappen, welke op de toevoerblokken ervan zijn bevestigd, een zodanige breedte ten opzichte van die tussen deze transporteursecties gelegen processingruimte-secties hebben, dat tijdens de processing de warmte-overdracht naar deze kappen door het proces-madium nagenoeg gelijk is aan de warmte-toevoer van dit medium naar de sub- 25 straten,
64, Module volgens de Conclusie 63, met het kenmerk, dat daarbij zulk een transporteursectie verder zodanig is uitgevoerd, dat daarbij de warmte-overdragende capaciteit van de passagewand—secties van deze kap groter is dan die van het toevoerblok, 30 65, Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat zoals daarin aan de processing-zijde tijdens de processing warmte wordt toegevoerd aan de substraten, aan de niet-processingzijde eveneens tenminste één warmtebron is opgenomen voor verwarming van de transporteursecties aan deze zijde, 35 66, Module volgens de Conclusie 65, met het kenmerk, dat deze warm tebron een infra-rood of microgolf oven is,
67, Werkwijze van de module volgens de Conclusie 66, met het kenmerk, dat daarbij tijdens de processing door deze oven(s) tenminste nagenoeg de— ; zelfde hoeveelheid warmte naar de transporteurs wordt gevoerd als door het procesmedium. _ 8300443 ------- - 21 -
68. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat aan de processing-zijde in de onmiddelijke nabijheid van de transporteur— secties een verwijderbare afschermkap-constructie is aangebracht voor het leiden van het procesmedium naar de processingruimte-secties tussen de 5 transporteursecties en het erop neerslaan van procesmedium. 69. nodule volgens de Conclusie 68, met het kenmerk, dat deze af-schermkap-constructia zich in dwarsrichting van de passage zover uitstrekt, dat procesmedium tenminste nagenoeg niet terecht kan komen op de transporteursecties· jO 70. nodule volgens de Conclusie 69, met het kenmerk, dat deze kap een gesloten wand is met openingen daarin aangebracht ten behoeve van het doorlaten van het procesmedium naar de processingruimte-secties tussen de transporteursecties. 71· nodule volgens de Conclusie 70, met het kenmerk, dat deze kap 15 zich in dwarsrichting uitstrekt tot in de communicatieruimtes aan weerszijde van de processingruimte. 72. nodule volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat deze kap zodanig op de transporteursecties is bevestigd, dat warmteoverdracht ervan naar deze transporteursecties kan plaats vinden. 20 73, nodule volgens één de voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat zoals in het toevoerblok van een transporteursectie een poreus segment is opgenomen, deze zich uitstrekt tot aan de draagstukken en gedeeltes ervan de passageruimte opzij van de substraatdoorvoer over tenminste enige afstand opvullen, 74. nodule volgens de Conclusie 73, met het kenmerk, dat daarbij zul ke passagegedeeltes van het segment eveneens zijn aangesloten op het gemeenschappelijke toevoerkanaal voor dit segment.
75, Plodule volgens de Conclusie 74, met het kenmerk, dat daarbij tussen deze passage—gedeeltes zich een nauwe doorgang voor de substraten be— 30 vindt.
76. Werkwijze van de module volgens de Conclusie 75, met het kenmerk, dat daarbij de tijdens de processing uit de passage—zijwand stromende gasvor— mige transportmedium zorg draagt voor een voldoende geleiding van de substraten zonder mechanisch contact ermede. 77. nodule volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarin middelen zijn opgenomen voor het correct functinneren van tenminste één van de navolgende processings: 3300443 - 22 - ionen beam depositie, plasma dspositie, plasma etsen, sputter etsen, sputter depositie, ionen milling, CVD systemen, chroom etsen, electron beam annealing? ionen implantage, electron beam depositie, hoog vacuum verdamping, reactive ion etsen enzovoort. 5 78, Module volgens de Conclusie 77, met het kenmerk, dat daarin mid delen zijn opgenomen voor het correct leiden van het procesmedium of meerdere procesmedia naar de substraten, zoals electroden en dergelijke.
79. Module volgens lln der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat aan de niet-processing zijde tenminste lln electrode-plaat is opganomen voor het er op aantrekken van proces medium, hetwelk via de procesruimte-sectie tussen de opvolgende transporteurs is doorgeslagen.
80. Module volgens de Conclusie 79, met het kenmerk, dat in deze plaat spleten zijn opgenomen ten behoeve van het afvoeren van tenminste het j gasvormig transportmedium. >12 81. Module volgens de Conclusie 80, met het kenmerk, dat deze spleten verder zodanig groot zijn, dat voldoende stralen vanuit de oven(s) er : door heen worden gelaten voor verwarming van de transporteurssecties.
82. Module volgens lln der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij de segmenten van de transporteurs aan tenminste de processing— 20 zijde zodanig zijn uitgevoerd, dat gezien in dwarsrichting van de passage de doorstroom-weerstand ervan voor het gasvormige transportmedium vanuit het middengedeelte ervan in zijwaartse richting afneemt.
83. Module volgens de Conclusie 82, met het kenmerk, dat zoals daarbij voor deze segmenten gebruik wordt gemaakt van poreus materiaal, dit seg— 25 ment aan de zijde ervan, welke is aangesloten op het gemeenschappelijke toe-voerkanaal, daartoe plaatselijk voorzien is van een afsluitende deklaag, waardoor tenminste ter plaatse de doorgang van medium door het poreuse materiaal tenminste wordt bemoeilijkt.
84. Module volgens de Conclusie 83, met het ksnmerk, dat daarbij deze 30 laag zich, gezien in de bewegingsrichting van de substraten, bevindt op het achtergedeelte van zulk een segment.
85. Module volgens lln der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat in de zijwand van het al dan niet poreuse segment kanalen zijn geetst, welke schuin zijn geplaatst in de richting van het centrum van de passage 35 voor de substraten.
86. Module volgens lln der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij in tenminste lln sectie ervan of in de toe- of afvoer van deze module middelen zijn opgenomen om ter plaatse tenminste tijdelijk een stilstand van een substraat te bewerkstelligen. 8300443 - 23 -
87· Module volgens de Conclusie 86, met het kenmerk, dat daarbij in zulk een sectie tussen opvolgende transporteurs een bufferblok-opstelling is aangebracht voor het daarmede tïjdelijk afsluiten van tenminste een gedeelte van deze passage,
88. Module volgens de Conclusie 87, met het kenmerk, dat daarbij zich aan weerszijden van het centrum van de passage een bufferblok-sectie bevindt, elke buiten de passage met elkaar zijn verbonden, 89. nodule volgens de Conclusie 88, met het kenmerk, dat daarbij in zulk een bufferblok-sectie kanalen voor gasvormig medium zijn aangebrachr <jg en deze kanalen via een commando ventiel zijn aangesloten op een toevoer voor het gasvormige medium, 90, nodule volgens de Conclusie 89, met het kenmerk, dat zulk een sectie bestaat uit poreus materiaal. 91» nodule volgens de Conclusie 86, met het kenmerk, dat daarin mid- <15 delen zijn opgenomen voor het in hoogterichting verplaatsen van deze buffer-blok-opstelling*
92. Werkwijze van de module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij na een passerende substraat dit bufferblok de doorgang voor de volgende substraat blokkeert, gelijktijdig een stroom gas— 20 vormig medium via dit blok in de richting van de volgende substraat wordt gestuwd voor afbuffering van deze substraat totdat deze in een rustpositie ervan ligt tegen dit blok en waarbij dan tussen dit blok en de substraat een mini gaskussen onder hoge druk wordt onderhouden en vervolgens na het bereiken van een voldoende tussenafstand tot de voorgaande substraat deze 25 substraat door verplaatsing van dit bufferblok zelfstandig kan verplaatsen.
93. Werkwijze van de Conclusie 92, met het kenmerk, dat daarbij de stuwkracht van het transportmedium in de transporteurs, welke zich gezien in de bewegingsrichting van de substraten vdar deze bufferblok-opstelling bevinden, een grotere bewegingssnelheid van de er door heen gevoerde sub- 30 straten bewerkstelligen dan de snelheid van de achter deze opstelling verplaatsende substraten.
94. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarin in tenminste een sectie ervan middelen zijn opgenomen om, indien gewenst, een verplaatsing van een substraat in zijwaartse richting uit de 35 passage magelijk te doen zijn,
95. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarbij in de toe en/of afvoersecties ervan middelen zijn opgenomen om, indien gewenst, een verplaatsing van een substraat in zijwaartse richting uit de passage mogelijk te doen zijn. 8300443 - 24 -
96. Module volgens de Conclusie 94 of 95, met het kenmerk, dat daarbij tussen een aantal opvolgende transporteurs aan tenminste êên zijde van de passage zodanige opstellingen zijn opgenomen, dat daarin medium naar de passage kan morden gestuwd, welke in zijwaartse richting op een doorvoerende 5 substraat kunnen inwerken,
97. Werkwijze van de module volgens de Conclusie 96, met het kenmerk, dat daarbij tenminste tijdelijk stromen transportmedium op zulk een substraat inwerken en aldus een verplaatsing ervan in zijwaartse richting bewerkstelligen. 10 98, Module volgens de Conclusie 96, met het kenmerk, dat daartoe in deze sectie tevens schuin ten opzichte van de doorvoerpassage een gelei-dingswand is opgesteld, welke zodanig is uitgevoerd, dat deze vanuit een rustpositie met een vrije doorgang van de passage, gebracht kan worden naar een positie ervan in de passage,
99. Module volgens de Conclusie 98, met het kenmerk, dat in deze ge- leidingswand een groot aantal stuwkanalen voor gasvormig medium zijn opgesteld.
100. Module volgens de Conclusie 99, met het kenmerk, dat daartoe in deze geleidingswand wederom poreusmateriaal is toegepast,
101. Module volgens êên der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat de transporteurs aan êên zijde ervan opzij van de passage over enige afstand zodanig open zijn, dat daarheen af voer in zijwaartse richting van de substraat kan plaats vinden, 102,.Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, 25 dat daarbij de uitvoering ervan verder zodanig is, dat de stuwkracht op de substraten regelbaar is.
103. Module volgens de Conclusie 102, met het kenmerk, dat daarbij deze stuwkracht op de substraten in groepen van transporteursecties regelbaar is,
104. Module volgens de Conclusie 102, met het kenmerk, dat daarbij tenminste enkele transporteursecties een zodanige opbouw hebben, dat stromen transportmedium vanuit zulk een transporteursectie resulteren in een krachtwerking op de substraat, die tegengesteld is aan de bewegingsrichting van de substraat.
105. Werkwijze van de module volgens de Conclusie 104, met het ken merk, dat daarbij tijdens de processing met behulp van sensors, die ten minste plaatselijk de snelheid van de substraten vaststellen, regel-impulsen worden gegeven aan ventielen, die zijn opgenomen in de toevoer van tenminste êên van de transporteursecties. 8300443 - 25 -
106. Substraat, welke dient voor processing ervan in de module volgens de Conclusie 105,' met het kenmerk, dat daarop een oriëntatiemiddel is aangebracht voor het daarmede in samenwerking met de sensoren regelen van zulk een toevoer.
107. Substraat volgens de Conclusie 106, met het kenmerk, dat daarbij zulk een oriëntatiemiddel is aangebracht* op de zijkant ervan met de geringste hoogte.
108. Substraat volgens de Conclusie 106, met het kenmerk, dat daarbij zulk een oriëntatiemiddel is aangebracht op de niet-processing zijde ervan.
109. Module volgens één der voorgaande Conclusies, mat het kenmerk, J dat de sensoren zijn opgenomen in de niet-processing zijde opzij van het verlengde van de processing-ruimte,
110. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarin een sectie is opgenomen voor het testen, inspecteren of meten 15 van de substraten. ί 111· Module volgens de Conclusie 110, met het kenmerk, dat daarbij da module zodanig is uitgevoerd, dar zulks kan geschieden bij een tijdelijke stilstand van de substraat.
112. Module volgens de Conclusie 111, met het kenmerk, dat daartoe 20 in deze sectie een bufferblok-opstelling is opgenomen, welke op commando J de passage tijdelijk kan versperren.
113. Werkwijze van de module volgens de Conclusie 112, met het kenmerk, dat de tijdsduur van stilstand daarbij minder dan 0,5 seconde is.
114. Module volgens ééπ der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, 25 dat daarin meerdere opstellingen voor processing zijn opgenomen.
115. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarin middelen zijn aangebracht voor een gelijktijdige processing van gezien in dwarsrichting van de passage tenminste een tweetal substraten.
116. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, 30 dat de transporteursectie aan tenminste de processingzijd® zich in de richting van de processingbron vernauwt.
117. Module volgens één der voorgaande Conclusies, met het kenmerk, dat daarin middelen ten behoevs van temperatuur-regeling zijn opgenomen, die bewerkstelligen, dat de temperatuur van da substraat aan de niet- 35 processing zijde lager is dan aan de processing-zijde,
118. Module volgens de Conclusie 117, met het kenmerk, dat daarbij de afstelling zodanig is, dat het temperatuur-verschil maximaal 10° C is. 8300443
NL8300443A 1983-02-04 1983-02-04 Module voor hoogvacuum processing. NL8300443A (nl)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8300443A NL8300443A (nl) 1983-02-04 1983-02-04 Module voor hoogvacuum processing.
EP19840900757 EP0137008A1 (en) 1983-02-04 1984-02-03 Module for high vacuum processing
JP50085684A JPS60500932A (ja) 1983-02-04 1984-02-03 高真空処理のためのモジュ−ル
PCT/NL1984/000001 WO1984003195A1 (en) 1983-02-04 1984-02-03 Module for high vacuum processing

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NL8300443 1983-02-04
NL8300443A NL8300443A (nl) 1983-02-04 1983-02-04 Module voor hoogvacuum processing.

Publications (1)

Publication Number Publication Date
NL8300443A true NL8300443A (nl) 1984-09-03

Family

ID=19841362

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
NL8300443A NL8300443A (nl) 1983-02-04 1983-02-04 Module voor hoogvacuum processing.

Country Status (4)

Country Link
EP (1) EP0137008A1 (nl)
JP (1) JPS60500932A (nl)
NL (1) NL8300443A (nl)
WO (1) WO1984003195A1 (nl)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016128581A1 (de) * 2015-02-13 2016-08-18 Bühler Alzenau Gmbh Verfahren zum betrieb einer inline-beschichtungsanlage und inline-beschichtungsanlage

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL8400658A (nl) * 1984-03-01 1985-10-01 Bok Edward Verbeterde installatie voor vacuum processing van substraten.
NL1037065C2 (nl) * 2009-06-23 2010-12-27 Edward Bok Stripvormige transducer-opstelling, welke is opgenomen in een stripvormig gedeelte van een tunnelblok van een semiconductor substraat transfer/behandelings-tunnelopstelling ten behoeve van het daarmede tenminste mede plaatsvinden van een semiconductor behandeling van de opvolgende semiconductor substraat-gedeeltes, welke gedurende de werking ervan ononderbroken erlangs verplaatsen.
NL2005049C2 (en) * 2010-07-07 2012-01-10 Levitech B V Method and apparatus for contactlessly advancing substrates.
NL2007114C2 (en) * 2011-07-14 2013-01-15 Levitech B V Floating substrate monitoring and control device, and method for the same.
NL2013739B1 (en) * 2014-11-04 2016-10-04 Asm Int Nv Atomic layer deposition apparatus and method for processing substrates using an apparatus.

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3588176A (en) * 1968-11-13 1971-06-28 Ibm Article transport system and method

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2016128581A1 (de) * 2015-02-13 2016-08-18 Bühler Alzenau Gmbh Verfahren zum betrieb einer inline-beschichtungsanlage und inline-beschichtungsanlage
CN107429397A (zh) * 2015-02-13 2017-12-01 布勒阿尔策瑙股份有限公司 用于运行在线涂覆设备的方法和在线涂覆设备
US10150139B2 (en) 2015-02-13 2018-12-11 Bühler Alzenau Gmbh Method for operating an inline coating system and inline coating system
EA034259B1 (ru) * 2015-02-13 2020-01-22 Бюлер Альценау Гмбх Способ эксплуатации поточной установки для нанесения покрытия и поточная установка для нанесения покрытия

Also Published As

Publication number Publication date
JPS60500932A (ja) 1985-06-20
WO1984003195A1 (en) 1984-08-16
EP0137008A1 (en) 1985-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
NL8300443A (nl) Module voor hoogvacuum processing.
US5538610A (en) Vacuum coating system
CZ579688A3 (en) Method of coating glass by deposition of chemical vapors and apparatus for making the same
EP0277615B1 (en) Fine particle collector arrangement for vacuum pumps
US5170714A (en) Vacuum processing apparatus and transportation system thereof
WO2013163623A1 (en) Narrow source for physical vapor deposition processing
EP1120815A2 (en) Free floating shield and semiconductor processing system
JP5194209B2 (ja) 半導体処理ユニット及び半導体製造装置
CN107567653B (zh) 负载锁定腔室、真空处理系统和抽空负载锁定腔室的方法
US6056824A (en) Free floating shield and semiconductor processing system
WO1998031458A1 (en) System and method for processing sheet glass
US4478174A (en) Vacuum coating vessel with movable shutter plate
JP2008100822A (ja) 搬送装置および被搬送体
JP2003505881A (ja) 基板を処理するための装置
US20090218214A1 (en) Backside coating prevention device, coating chamber comprising a backside coating prevention device, and method of coating
KR900006016B1 (ko) 기판의 진공가공을 위한 장치 및 방법
EP2103709A1 (en) Backside coating prevention device and method.
US20130000556A1 (en) Apparatus for the deposition of semiconductor material on a glass sheet
JP5194208B2 (ja) 半導体処理ユニット及び半導体製造装置
JP2002507527A (ja) 板状の工作物、特にプリント配線板の処理装置
US20140230728A1 (en) Vacuum processing apparatus
JP5230165B2 (ja) 半導体処理ユニット及び半導体製造装置
NL8600947A (nl) Verbeterde inrichting voor wafer transport en processing.
KR20230063008A (ko) 기판 처리 장치
JPH07147263A (ja) ウエハ搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
A85 Still pending on 85-01-01
BV The patent application has lapsed