JPH07211273A - Ｘ線発生装置用フィラメント - Google Patents
Ｘ線発生装置用フィラメントInfo
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- JPH07211273A JPH07211273A JP1991094A JP1991094A JPH07211273A JP H07211273 A JPH07211273 A JP H07211273A JP 1991094 A JP1991094 A JP 1991094A JP 1991094 A JP1991094 A JP 1991094A JP H07211273 A JPH07211273 A JP H07211273A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 面積が広く、しかも電子密度が均一であるＸ
線焦点をターゲット上に希望する形状に正確に形成でき
るＸ線発生装置用フィラメントを提供する。 【構成】 通電により発熱して熱電子を放出するＸ線発
生装置用フィラメントにおいて、対陰極３に対向する部
分に配置される棒状の電子放射部１ａを、対陰極３側へ
向けて凸となる凸曲面の断面形状に形成する。凸曲面か
ら発散する電子線により幅の広いＸ線焦点Ｆを形成で
き、Ｘ線焦点Ｆ内の電子密度も均一になる。また、電子
放射部１ａの長手方向（Ｘ−Ｘ方向）の中央部の厚さを
両端部の厚さに比べて厚く形成する。これにより、電子
放射部１ａの長手方向の温度分布が平滑になりＸ線焦点
Ｆの電子密度が均一になる。フィラメント１は、例えば
ＬａＢ6 によって形成される。
線焦点をターゲット上に希望する形状に正確に形成でき
るＸ線発生装置用フィラメントを提供する。 【構成】 通電により発熱して熱電子を放出するＸ線発
生装置用フィラメントにおいて、対陰極３に対向する部
分に配置される棒状の電子放射部１ａを、対陰極３側へ
向けて凸となる凸曲面の断面形状に形成する。凸曲面か
ら発散する電子線により幅の広いＸ線焦点Ｆを形成で
き、Ｘ線焦点Ｆ内の電子密度も均一になる。また、電子
放射部１ａの長手方向（Ｘ−Ｘ方向）の中央部の厚さを
両端部の厚さに比べて厚く形成する。これにより、電子
放射部１ａの長手方向の温度分布が平滑になりＸ線焦点
Ｆの電子密度が均一になる。フィラメント１は、例えば
ＬａＢ6 によって形成される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、Ｘ線発生装置に用いら
れて熱電子を放出するフィラメント、特にコイル状では
ない棒状のフィラメントに関する。
れて熱電子を放出するフィラメント、特にコイル状では
ない棒状のフィラメントに関する。
【０００２】
【従来の技術】一般にＸ線発生装置では、通電によって
フィラメントを加熱してそれから熱電子を放出させ、そ
の熱電子を対陰極、すなわちターゲットに高速で衝突さ
せることによってそのターゲットからＸ線を発生させ
る。従来より広く用いられるフィラメントとしてタング
ステン（Ｗ）をコイル状に巻くことによって形成したも
のがある。
フィラメントを加熱してそれから熱電子を放出させ、そ
の熱電子を対陰極、すなわちターゲットに高速で衝突さ
せることによってそのターゲットからＸ線を発生させ
る。従来より広く用いられるフィラメントとしてタング
ステン（Ｗ）をコイル状に巻くことによって形成したも
のがある。
【０００３】しかしながら、このコイル状のフィラメン
トに関しては、コイルの巻き線形状に応じてＸ線焦点内
に電子密度の不均一、すなわちムラが発生し、その結
果、発生するＸ線の強度が不均一になるという問題があ
った。また、フィラメントが高温に発熱する際にタング
ステンが蒸発し、そしてそのタングステンがターゲット
の表面に付着し、その結果、得られるＸ線の波長が予定
していたものと全く異なってしまうという問題もある。
トに関しては、コイルの巻き線形状に応じてＸ線焦点内
に電子密度の不均一、すなわちムラが発生し、その結
果、発生するＸ線の強度が不均一になるという問題があ
った。また、フィラメントが高温に発熱する際にタング
ステンが蒸発し、そしてそのタングステンがターゲット
の表面に付着し、その結果、得られるＸ線の波長が予定
していたものと全く異なってしまうという問題もある。
【０００４】上記のようなコイル状フィラメントに見ら
れる問題点を解消するため、例えばランタンヘキサボラ
イド（ＬａＢ6 ）等によって形成された棒状フィラメン
トを用いることが提案されている。例えば、図４に示す
ように、Ｕ字形状に形成した棒状のフィラメント１を、
電子流を制御するための電極であるウエネルト（Wehnel
t ）２によって包囲した状態で対陰極、すなわちターゲ
ット３に対向して配置する。フィラメント１の電子放射
部１ａから放出された熱電子はターゲット３の表面に衝
突してＸ線焦点Ｆを形成し、そのＸ線焦点ＦからＸ線が
発生する。
れる問題点を解消するため、例えばランタンヘキサボラ
イド（ＬａＢ6 ）等によって形成された棒状フィラメン
トを用いることが提案されている。例えば、図４に示す
ように、Ｕ字形状に形成した棒状のフィラメント１を、
電子流を制御するための電極であるウエネルト（Wehnel
t ）２によって包囲した状態で対陰極、すなわちターゲ
ット３に対向して配置する。フィラメント１の電子放射
部１ａから放出された熱電子はターゲット３の表面に衝
突してＸ線焦点Ｆを形成し、そのＸ線焦点ＦからＸ線が
発生する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
棒状フィラメント１の断面形状、特にその電子放射部１
ａの断面形状は、図５に示すように、ほぼ正方形状に形
成され、ターゲット３に対向する面は平面であった。タ
ーゲット３上に形成されるＸ線焦点Ｆの形状は、そのフ
ィラメントの平面形状によって決定されるが、その平面
状フィラメントから出る電子は直進性が強く、その結
果、面積の広いＸ線焦点を形成することが困難であっ
た。
棒状フィラメント１の断面形状、特にその電子放射部１
ａの断面形状は、図５に示すように、ほぼ正方形状に形
成され、ターゲット３に対向する面は平面であった。タ
ーゲット３上に形成されるＸ線焦点Ｆの形状は、そのフ
ィラメントの平面形状によって決定されるが、その平面
状フィラメントから出る電子は直進性が強く、その結
果、面積の広いＸ線焦点を形成することが困難であっ
た。
【０００６】また、熱電子は電子放射部１ａの平面部分
以外の面からも飛び出し、その熱電子がターゲット３に
到達して主焦点Ｆのまわりに副焦点Ｆ’を形成する。こ
の副焦点Ｆ’は電子密度が低くて不均一であり、しかも
その形状も不安定である。よって、Ｘ線焦点全体の形状
が不均一で複雑になるという問題がある。
以外の面からも飛び出し、その熱電子がターゲット３に
到達して主焦点Ｆのまわりに副焦点Ｆ’を形成する。こ
の副焦点Ｆ’は電子密度が低くて不均一であり、しかも
その形状も不安定である。よって、Ｘ線焦点全体の形状
が不均一で複雑になるという問題がある。
【０００７】また、電子放射部１ａを長手方向、すなわ
ち図４のＸ−Ｘ方向に沿って見た場合、その断面の厚さ
は一定であった。断面厚さが一定であると電子放射部１
ａの発熱分布は長手方向に沿って正規分布を呈示し、そ
れ故、長手方向に見て電子放射部１ａの中央部分の発熱
温度は両端部分の発熱温度に比べて高くなる。このた
め、Ｘ線焦点Ｆにおける電子密度を考えた場合、その中
央部が高く、両端部が低くなり、均一な電子密度のＸ線
焦点が得られないという問題があった。
ち図４のＸ−Ｘ方向に沿って見た場合、その断面の厚さ
は一定であった。断面厚さが一定であると電子放射部１
ａの発熱分布は長手方向に沿って正規分布を呈示し、そ
れ故、長手方向に見て電子放射部１ａの中央部分の発熱
温度は両端部分の発熱温度に比べて高くなる。このた
め、Ｘ線焦点Ｆにおける電子密度を考えた場合、その中
央部が高く、両端部が低くなり、均一な電子密度のＸ線
焦点が得られないという問題があった。
【０００８】本発明は、従来のＸ線発生装置用フィラメ
ントにおける上記の問題点を解消するためになされたも
のであって、面積が広く、しかも電子密度が均一である
Ｘ線焦点を希望する形状に正確に形成できるＸ線発生装
置用フィラメントを提供することを目的とする。
ントにおける上記の問題点を解消するためになされたも
のであって、面積が広く、しかも電子密度が均一である
Ｘ線焦点を希望する形状に正確に形成できるＸ線発生装
置用フィラメントを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係るＸ線発生装置用フィラメントは、通電
により発熱して熱電子を放出するＸ線発生装置用フィラ
メントであって、対陰極に対向する部分に棒状の電子放
射部を有しており、その電子放射部は対陰極側へ向けて
凸となる凸曲面の断面形状を有することを特徴としてい
る。また、その電子放射部は、長手方向に関して中央部
の厚さが両端部の厚さに比べて厚いことを特徴としてい
る。フィラメント、特にその電子放射部は、望ましく
は、ランタンへキサボライド（ＬａＢ6 ）によって形成
される。ここにいう棒状とは、コイル形状のように複雑
に湾曲させた形状を除くという意味であり、比較的断面
積の広い部材を直線状又は緩やかな曲線状に形成するこ
とである。
め、本発明に係るＸ線発生装置用フィラメントは、通電
により発熱して熱電子を放出するＸ線発生装置用フィラ
メントであって、対陰極に対向する部分に棒状の電子放
射部を有しており、その電子放射部は対陰極側へ向けて
凸となる凸曲面の断面形状を有することを特徴としてい
る。また、その電子放射部は、長手方向に関して中央部
の厚さが両端部の厚さに比べて厚いことを特徴としてい
る。フィラメント、特にその電子放射部は、望ましく
は、ランタンへキサボライド（ＬａＢ6 ）によって形成
される。ここにいう棒状とは、コイル形状のように複雑
に湾曲させた形状を除くという意味であり、比較的断面
積の広い部材を直線状又は緩やかな曲線状に形成するこ
とである。
【００１０】
【作用】フィラメントの電子放射部の断面形状を対陰極
側へ向けて凸となる凸曲面に形成すると、熱電子は凸曲
面の表面から直進放射、すなわち広い角度範囲で発散し
て放射されることになり、よって、電子放射部が平面で
ある従来のフィラメントと同じ大きさの電流を流す場合
にも、Ｘ線焦点の面積を拡大できる。また、凸曲面から
均一に放出される熱電子によってＸ線焦点が形成される
ので、主焦点Ｆと副焦点Ｆ’との区別が発生せず、よっ
て、Ｘ線焦点全体の電子密度が均一になり、しかもＸ線
焦点の形状も明確に区画形成される。
側へ向けて凸となる凸曲面に形成すると、熱電子は凸曲
面の表面から直進放射、すなわち広い角度範囲で発散し
て放射されることになり、よって、電子放射部が平面で
ある従来のフィラメントと同じ大きさの電流を流す場合
にも、Ｘ線焦点の面積を拡大できる。また、凸曲面から
均一に放出される熱電子によってＸ線焦点が形成される
ので、主焦点Ｆと副焦点Ｆ’との区別が発生せず、よっ
て、Ｘ線焦点全体の電子密度が均一になり、しかもＸ線
焦点の形状も明確に区画形成される。
【００１１】また、電子放射部の厚さを長手方向の中央
部が厚く、両端部が薄くなるように設定すると、電子放
射部の発熱分布が長手方向全体にわたって均一になり、
その結果、Ｘ線焦点Ｆにおける電子密度を長手方向に関
して均一にすることができる。
部が厚く、両端部が薄くなるように設定すると、電子放
射部の発熱分布が長手方向全体にわたって均一になり、
その結果、Ｘ線焦点Ｆにおける電子密度を長手方向に関
して均一にすることができる。
【００１２】
【実施例】図１は、本発明に係るフィラメントを用いた
Ｘ線発生装置の一実施例を示している。同図において、
例えばランタンヘキサボライド（ＬａＢ6 ）によって形
成された、コイル状でない棒状のフィラメント１がＵ字
状に形成され、その先端（図の下端）に直線的な電子放
射部１ａが設けられている。そして、この棒状フィラメ
ント１が取り付け具４によってウエネルト２の内部に収
容設置されている。ウエネルト２の底部２ａには長方形
状の穴５が形成され、この穴５を通じて電子放射部１ａ
が外部へ露出して、対陰極、すなわちターゲット３に対
向している。ターゲット３の表面は希望するＸ線波長に
対応した材料、例えば銅（Ｃｕ）によって構成される。
また、フィラメント１及びターゲット３のまわりは、異
常放電の発生を防止したり、ガスの発生を防止する等の
ために真空状態に排気される。
Ｘ線発生装置の一実施例を示している。同図において、
例えばランタンヘキサボライド（ＬａＢ6 ）によって形
成された、コイル状でない棒状のフィラメント１がＵ字
状に形成され、その先端（図の下端）に直線的な電子放
射部１ａが設けられている。そして、この棒状フィラメ
ント１が取り付け具４によってウエネルト２の内部に収
容設置されている。ウエネルト２の底部２ａには長方形
状の穴５が形成され、この穴５を通じて電子放射部１ａ
が外部へ露出して、対陰極、すなわちターゲット３に対
向している。ターゲット３の表面は希望するＸ線波長に
対応した材料、例えば銅（Ｃｕ）によって構成される。
また、フィラメント１及びターゲット３のまわりは、異
常放電の発生を防止したり、ガスの発生を防止する等の
ために真空状態に排気される。
【００１３】棒状フィラメント１には電流供給回路６が
接続され、フィラメント１とターゲット３との間には管
電圧印加回路７が接続され、そして、ウエネルト２とタ
ーゲット３との間にはバイアス電圧印加回路８が接続さ
れる。ターゲット３はアースされており、よって、フィ
ラメント１及びウエネルト２には負の高電圧が印加され
る。
接続され、フィラメント１とターゲット３との間には管
電圧印加回路７が接続され、そして、ウエネルト２とタ
ーゲット３との間にはバイアス電圧印加回路８が接続さ
れる。ターゲット３はアースされており、よって、フィ
ラメント１及びウエネルト２には負の高電圧が印加され
る。
【００１４】棒状フィラメント１の断面形状、特にその
電子放射部１ａの断面形状は、図２に示すように、ター
ゲット３に対向する側が凸曲面Ｋとして形成されてい
る。また、フィラメント１を長手方向、すなわち図１の
Ｘ−Ｘ方向に見た場合、図３に示すように電子放射部１
ａの厚さＴに関しては、中央部Ｃで厚く、両端部Ｈで薄
くなるようにその断面積が徐々に変化する。
電子放射部１ａの断面形状は、図２に示すように、ター
ゲット３に対向する側が凸曲面Ｋとして形成されてい
る。また、フィラメント１を長手方向、すなわち図１の
Ｘ−Ｘ方向に見た場合、図３に示すように電子放射部１
ａの厚さＴに関しては、中央部Ｃで厚く、両端部Ｈで薄
くなるようにその断面積が徐々に変化する。
【００１５】本実施例のＸ線発生装置は以上のように構
成されているので、図１において、電流供給回路６によ
る通電により棒状フィラメント１に通電がなされてその
フィラメント１が発熱し、その電子放射部１ａから熱電
子が放出される。放出された熱電子は、管電圧印加回路
７の働きによってフィラメント１とターゲット３との間
に印加される高電圧、すなわち管電圧によって加速され
た状態でターゲット３に衝突して、ほぼ長方形状の領域
であるＸ線焦点Ｆを形成する。そして、そのＸ線焦点Ｆ
からＸ線が発生される。
成されているので、図１において、電流供給回路６によ
る通電により棒状フィラメント１に通電がなされてその
フィラメント１が発熱し、その電子放射部１ａから熱電
子が放出される。放出された熱電子は、管電圧印加回路
７の働きによってフィラメント１とターゲット３との間
に印加される高電圧、すなわち管電圧によって加速され
た状態でターゲット３に衝突して、ほぼ長方形状の領域
であるＸ線焦点Ｆを形成する。そして、そのＸ線焦点Ｆ
からＸ線が発生される。
【００１６】バイアス電圧印加回路８の働きによってウ
エネルト２とターゲット３との間に印加される高電圧、
すなわちバイアス電圧は、図２に示すように、ターゲッ
ト３上に希望形状のＸ線焦点Ｆが形成されるようにフィ
ラメント１の電子放出部１ａから放出される熱電子の進
行方向を制御する。
エネルト２とターゲット３との間に印加される高電圧、
すなわちバイアス電圧は、図２に示すように、ターゲッ
ト３上に希望形状のＸ線焦点Ｆが形成されるようにフィ
ラメント１の電子放出部１ａから放出される熱電子の進
行方向を制御する。
【００１７】本実施例では、電子放出部１ａの断面形状
がターゲット３側へ凸となる凸曲面Ｋとして形成される
ので、Ｘ線焦点Ｆを形成する電子線は比較的広い面積を
有する凸曲面Ｋから広い角度範囲内で均一に発散して放
出される。その結果、図５に示すような単なる平面から
成る従来の電子放射面から熱電子を放出する場合に比べ
て、Ｘ線焦点Ｆの幅を広く形成できる。
がターゲット３側へ凸となる凸曲面Ｋとして形成される
ので、Ｘ線焦点Ｆを形成する電子線は比較的広い面積を
有する凸曲面Ｋから広い角度範囲内で均一に発散して放
出される。その結果、図５に示すような単なる平面から
成る従来の電子放射面から熱電子を放出する場合に比べ
て、Ｘ線焦点Ｆの幅を広く形成できる。
【００１８】従来の電子放射面において平面の幅を広く
すれば幅の広いＸ線焦点Ｆを形成できるようにも考えら
れるが、例えばフィラメント１をＬａＢ6 によって形成
した場合には、その電気抵抗値が比較的低いため、電子
放射面の幅を広く、すなわち断面積を広くするときに
は、所定の発熱量を得るために極めて多量の電流をフィ
ラメント１に流さなければならない。これに対して本実
施例によれば、フィラメント１への通電量を多くしなく
ても幅の広いＸ線焦点Ｆを得ることができる。しかも、
凸曲面Ｋから出る電子線の密度は均一であり、さらに各
電子線が均等にＸ線焦点Ｆ内に到達するので、Ｘ線焦点
Ｆの電子線密度は均一となり、しかも従来のフィラメン
トにおいて見られたような副焦点Ｆ’（図４）は発生し
ない。
すれば幅の広いＸ線焦点Ｆを形成できるようにも考えら
れるが、例えばフィラメント１をＬａＢ6 によって形成
した場合には、その電気抵抗値が比較的低いため、電子
放射面の幅を広く、すなわち断面積を広くするときに
は、所定の発熱量を得るために極めて多量の電流をフィ
ラメント１に流さなければならない。これに対して本実
施例によれば、フィラメント１への通電量を多くしなく
ても幅の広いＸ線焦点Ｆを得ることができる。しかも、
凸曲面Ｋから出る電子線の密度は均一であり、さらに各
電子線が均等にＸ線焦点Ｆ内に到達するので、Ｘ線焦点
Ｆの電子線密度は均一となり、しかも従来のフィラメン
トにおいて見られたような副焦点Ｆ’（図４）は発生し
ない。
【００１９】さらに、図３に示すように、電子放射面１
ａの中央部Ｃの肉厚Ｔを厚くしたことにより、電子放射
面１ａの長さ方向Ｘ−Ｘの温度分布が正規分布ではなく
て平滑になる。よって、Ｘ線焦点Ｆの長手方向の電子線
密度も均一にできる。
ａの中央部Ｃの肉厚Ｔを厚くしたことにより、電子放射
面１ａの長さ方向Ｘ−Ｘの温度分布が正規分布ではなく
て平滑になる。よって、Ｘ線焦点Ｆの長手方向の電子線
密度も均一にできる。
【００２０】フィラメント１をＬａＢ6 によって形成
し、管電圧として２０Ｋｖを印加し、フィラメント１の
温度をほぼ１６００゜Ｃに設定し、そして熱電子の放射
量を管電流として測定したとき、管電流として１Ａ（ア
ンペア）が得られた。
し、管電圧として２０Ｋｖを印加し、フィラメント１の
温度をほぼ１６００゜Ｃに設定し、そして熱電子の放射
量を管電流として測定したとき、管電流として１Ａ（ア
ンペア）が得られた。
【００２１】以上、好ましい実施例をあげて本発明を説
明したが、本発明はその実施例に限られることなく、請
求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改変できる。
例えば、ウエネルト２及びターゲット３の材質及び形状
は図１に示したものに限られず他の任意のものとするこ
とができる。また、フィラメント１の材質もＬａＢ6以
外の材料によって形成できる。また、フィラメント１の
形状に関しては、電子放射部１ａが凸曲面Ｔの断面形状
を有すること又は電子放射部１ａの長手方向に関する中
央部Ｃの厚さを両端部Ｈの厚さに比べて厚くすることを
除いた他の形状は、任意に設定できる。
明したが、本発明はその実施例に限られることなく、請
求の範囲に記載した技術的範囲内で種々に改変できる。
例えば、ウエネルト２及びターゲット３の材質及び形状
は図１に示したものに限られず他の任意のものとするこ
とができる。また、フィラメント１の材質もＬａＢ6以
外の材料によって形成できる。また、フィラメント１の
形状に関しては、電子放射部１ａが凸曲面Ｔの断面形状
を有すること又は電子放射部１ａの長手方向に関する中
央部Ｃの厚さを両端部Ｈの厚さに比べて厚くすることを
除いた他の形状は、任意に設定できる。
【００２２】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線発生装置用フィラメ
ントによれば、フィラメントへの通電量を多くしなくて
も、平面状の電子放射部に比べて面積の広いＸ線焦点を
得ることができ、しかも副焦点の発生を防止してＸ線焦
点の電子密度を均一にできる。
ントによれば、フィラメントへの通電量を多くしなくて
も、平面状の電子放射部に比べて面積の広いＸ線焦点を
得ることができ、しかも副焦点の発生を防止してＸ線焦
点の電子密度を均一にできる。
【００２３】請求項２記載のＸ線発生装置用フィラメン
トによれば、フィラメントの電子放射部の温度分布を長
手方向に関して平滑にすることができ、従って、Ｘ線焦
点の電子密度を均一にできる。
トによれば、フィラメントの電子放射部の温度分布を長
手方向に関して平滑にすることができ、従って、Ｘ線焦
点の電子密度を均一にできる。
【００２４】
【図１】本発明に係るＸ線発生装置用フィラメントの一
実施例を示す斜視図である。
実施例を示す斜視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に従ってフィラメントの電
子放射部の断面形状を示す断面図である。
子放射部の断面形状を示す断面図である。
【図３】フィラメントの一実施例の側面図である。
【図４】従来のＸ線発生装置用フィラメントの一例を示
す斜視図である。
す斜視図である。
【図５】従来のフィラメントの一例の断面形状を示す断
面図である。
面図である。
１ フィラメント １ａ 電子放射部 ２ ウエネルト ３ ターゲット ４ 取り付け具 ５ 穴 Ｆ Ｘ線焦点
Claims (4)
- 【請求項１】 通電により発熱して熱電子を放出するＸ
線発生装置用フィラメントにおいて、対陰極に対向する
部分に棒状の電子放射部を有しており、その電子放射部
は対陰極側へ向けて凸となる凸曲面の断面形状を有する
ことを特徴とするＸ線発生装置用フィラメント。 - 【請求項２】 通電により発熱して熱電子を放出するＸ
線発生装置用フィラメントにおいて、対陰極に対向する
部分に棒状の電子放射部を有しており、その電子放射部
は長手方向に関して中央部の厚さが両端部の厚さに比べ
て厚いことを特徴とするＸ線発生装置用フィラメント。 - 【請求項３】 通電により発熱して熱電子を放出するＸ
線発生装置用フィラメントにおいて、対陰極に対向する
部分に棒状の電子放射部を有しており、その電子放射部
は、対陰極側へ向けて凸となる凸曲面の断面形状を有す
ると共に、長手方向に関して中央部の厚さが両端部の厚
さに比べて厚いことを特徴とするＸ線発生装置用フィラ
メント。 - 【請求項４】 請求項１、請求項２又は請求項３記載の
Ｘ線発生装置用フィラメントにおいて、上記電子放射部
はランタンへキサボライド（ＬａＢ6 ）によって形成さ
れることを特徴とするＸ線発生装置用フィラメント。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6019910A JP2804713B2 (ja) | 1994-01-20 | 1994-01-20 | Ｘ線発生装置用フィラメント |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6019910A JP2804713B2 (ja) | 1994-01-20 | 1994-01-20 | Ｘ線発生装置用フィラメント |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07211273A true JPH07211273A (ja) | 1995-08-11 |
| JP2804713B2 JP2804713B2 (ja) | 1998-09-30 |
Family
ID=12012376
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6019910A Expired - Fee Related JP2804713B2 (ja) | 1994-01-20 | 1994-01-20 | Ｘ線発生装置用フィラメント |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2804713B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007115551A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Rigaku Corp | Ｘ線管用フィラメント及びｘ線管 |
| US7907700B2 (en) | 2006-04-11 | 2011-03-15 | Casio Computer Co., Ltd. | Soft X-ray generation apparatus and static elimination apparatus |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0513191A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Rigaku Corp | Ｘ線発生装置 |
-
1994
- 1994-01-20 JP JP6019910A patent/JP2804713B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0513191A (ja) * | 1991-07-02 | 1993-01-22 | Rigaku Corp | Ｘ線発生装置 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2804713B2 (ja) | 1998-09-30 |
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