JP2710913B2 - X線発生管 - Google Patents

X線発生管

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、固定陽極X線発生管、
特に透過型X線発生管のX線放射窓、ターゲット及びそ
れを用いたX線発生管に関するものである。
【0002】
【従来の技術】物質分析のための比較的微弱な特定波長
のX線を発生するX線発生管として、透過型のX線発生
管が知られている。この透過型X線発生管は、熱電子を
放出するカソード、その熱電子を制御するグリッド、そ
の熱電子を受け反対側の面からX線を放射する透過型の
ターゲット、及びそのX線を外部に放出するためのX線
透過用窓を基本要素として備えており、これらが一端に
開口部を有する円筒状の気密外囲器に収められている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような従
来からの透過型X線発生管では、カソードから放出され
る熱電子の一部はグリッドによっても制御しきれず、タ
ーゲット膜に到達しない場合があったので、熱電子の利
用効率が非常に悪かった。また、ターゲットがX線発生
管を構成する外囲器の開口部にしか設けられていないた
め、X線は外囲器に軸方向にのみ狭い範囲でしか放射さ
せることができなかった。このため、X線発生管を用い
る用途が限定されていた。
【0004】そこで、本発明は、熱電子の利用効率が高
く、X線を広範囲に放射することができるX線発生管を
提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに、本発明に係るX線発生管は、X線透過性の材料に
より球状部と筒状部とを一体成形することにより形成さ
れ、半球部で閉塞され、筒状部で開口端を有する基体
と、熱電子を受けてX線を放射する材料であって、基体
の内周面に形成されたターゲット膜と、基体の開口端に
設けられ、ステムピンを含んだ外囲器と、基体の中心軸
上に設けられ、ステムピンに支持され、熱電子を発生さ
せるカソードを備えることを特徴とする。
【0006】なお、基体は、ベリリウム、グラファイ
ト、ポリイミド、窒化ボロン又はアルミニウムのいずれ
かであることが望ましい。
【0007】さらに、カソードは螺旋状に形成されてい
ること、カソードを構成する物質としては、タングステ
ン又はバリウムの含浸させたタングステンを用いるか、
または、カソードは冷陰極材料であることが望ましい。
【0008】また、カソードは、金属又はセラミックか
らなる中空状の筒であり、前記筒の外周面には酸化物陰
極材が塗布されているとともに、筒の内部にはヒータが
設けられているものであってもよく、この場合、カソー
ドの周囲には、カソードを中心軸とした螺旋状にグリッ
ド電極が設けられていることが望ましい。
【0009】
【作用】上記の構成によれば、本発明に係るX線発生管
は、X線透過性の材料により球状部と筒状部とを一体成
形することにより形成され、半球部で閉塞され、筒状部
で開口端を有する基体の内周面に、X線を放射するター
ゲット膜を設け、基体の中心軸上に熱電子を発生させる
カソードを設けているので、カソードで発生した大部分
の熱電子を均一にターゲット膜へ衝突させることができ
るとともに、基体の外周面に沿った広い範囲でX線を放
射させることができる。
【0010】また、カソードを螺旋状に構成すれば、熱
電子を放出する面積を増やせるので、X線の発生量を増
加させることができる。カソードに冷陰極材料を用いれ
ば、他のカソード材料に比べてカソードの寿命を延ばす
ことができる。カソードとして、金属又はセラミックか
らなる中空状の筒の内部にヒータを設けていれば、カソ
ードを加熱することができるので、熱電子が発生しやす
くなる。さらに、カソードの周囲に、カソードを中心軸
とした螺旋状にグリッド電極を設けていれば、その電位
を制御することにより管電流及びX線量をコントロール
することができる。
【0011】
【実施例】以下、添付図面に基づいて本発明に係るX線
発生管のいくつかの実施例について説明する。図1に基
づいて、本発明の第1実施例に係るX線発生管について
説明する。図1に示すように、第1実施例に係るX線発
生管1は、基本的には、基体110と、この基体110
の内周面に形成されたターゲット膜と、基体の開口部に
設けられた外囲器120と、基体110の中心軸上であ
って、基体の内周面の任意の位置から略等距離に設けら
れたカソード130とから構成されている。なお、基体
110は、ターゲットとしての役割を有するとともにX
線透過用窓の役割をも有している。なお、X線発生管1
の内部は略真空の状態に保たれている。
【0012】基体110は、一端が開口した円筒部11
1と、円筒部111の他端を閉塞するように、他端に設
けられた半球部112とからなる。基体110を構成す
る材料としては、X線透過性及び熱伝導性に優れた材
料、例えば、ベリリウム、ガラス状カーボン(グラファ
イト)、ポリイミド、アルミニウム、窒化ボロン等で形
成されており、その厚さは、例えば、ベリリウムの場合
は、200μm〜1mm、カーボンやアルミニウムの場
合には、200μm〜500μmが有効である。このた
め、基体110は、適当な機械的強度を有している。ま
た、基体110の円筒部111の直径は25mm〜40
mm、長さは30mm〜150mmが実用的であり、半
球部112の直径は25mm〜40mmが実用的であ
る。なお、半球部112を構成する半球状の形状は、球
状の形状に含まれるものであり、さらに、ここでいう球
状には、球体の一部を構成する形状も含まれている。
【0013】熱電子を受けてX線を放射するターゲット
膜140は、図2に示すように、基体110の内周面
に、真空蒸着法又はメッキ等により形成され、その厚み
は、ターゲット膜140を形成する材料によって異なる
が、X線を発生するに必要最小限の厚さとされることが
好ましい。このようにすることによって、ターゲット膜
140内でのX線の吸収を最少限に抑えることができる
からである。なお、このようにターゲット膜140の厚
さを必要最小限の厚さとしても、ターゲット膜140は
適当な機械的強度を有する基体110に担持されている
ので、撓みを生じ難く、発生するX線のユニフォーミテ
ィ(均等性)が向上する。また、基体110に熱伝導性
に優れた材料を用いたことにより、ターゲット膜140
の放熱性が向上している。
【0014】ターゲット膜140の材料としてタングス
テンを用いる。この場合には、その厚さは500オング
ストローム〜3000オングストロームである。なお、
タングステン以外に用いる材料として、例えば、チタ
ン、銅、鉄、クロム、ロジウム等がある。
【0015】開口端に設けられる外囲器120は、金属
からなり中央が円形にくりぬかれ、電極を兼ねた外枠1
21と、外枠のくりぬかれた部分に嵌め込まれ、中心部
に中空の凸部126を有するステム123とからなる。
ステム123の凸部126の周囲には、ステムピン12
4a及び124bが挿嵌されている。なお、凸部126
はX線発生管1の内部を略真空にする際に形成されたも
のである。
【0016】カソード130は、ステムピン124a及
び124bに支持され、基体110の中心軸上になるよ
うに設けられている。従って、ターゲット膜140上の
任意の点と、カソード130との距離は略等しくなって
いる。カソード130にはタングステンを用いている。
カソード130は、タングステン線を螺旋状に形成した
ものである。カソード130としては本実施例で示すも
のに限らず、タングステンにバリウムを含浸させたもの
を材料として用いてもよく、また、MgO等の冷陰極材
料を中空状の筒の外周面に塗布したものを用いてもよ
い。なお、カソード材料にMgO等の冷陰極材料を用い
た場合には、カソードの寿命を長くすることができる。
【0017】さらに、これらのほかにカソードとして
は、図3に示すように、ニッケル等の金属又はセラミッ
クからなる中空状の筒151の外周面に酸化物陰極材
(BaO−CaO−SrO−MgO)150が塗布され
ているとともに、筒151の内部にヒータ152を設け
たものを用いてもよい。なお、この場合は、ヒータ15
2に電力を供給するためのステムピン153を外囲器に
設ける必要がある。
【0018】また、図4に示すように、筒160の周囲
に、さらに、筒160を中心軸とした螺旋状にグリッド
電極161を設けてもよい。このようにグリッド電極1
61を設ければ、その電位を制御することにより管電流
及びX線量をコントロールすることができる。なお、こ
のようにグリッド電極161を設けた場合は、グリッド
電極161に電力を供給するためにステムピン162を
外囲器120に設ける必要がある。
【0019】X線発生管は、図1に示すようにソケット
210に嵌め込まれ、X線発生管にはソケット210に
設けられたプラグ221、222及び223を介して所
定の電力が与えられる。外枠121には、ソケット21
0に備えられたプラグ221を介して、直流電源171
から3kV〜20kVの直流電流が供給され、ステムピ
ン124a及び124bには、ソケット210に備えら
れたプラグ222及び223を介して、直流電源171
から通常数Vの直流電流が供給される。なお、本実施例
においてはこのように直流電源を用いているが、外枠1
21、ステムピン124a及び124bに電圧を印加す
る電源として交流電源を用いてもよい。
【0020】また、図1において外枠121に接続され
る側を接地しているが、ステムピン124a及び124
b側を接地してもよい。
【0021】次に、第1実施例に係るX線発生管の動作
について説明する。直流電源172からカソード130
に電力が供給され、カソード130が通電により熱せら
れると、熱電子が放出される。一方、ターゲット膜14
0は熱電子の加速器の役割をも兼ねており、直流電源1
72からターゲット膜140に電力が供給されると、タ
ーゲット膜140とカソード130との間に電位差が生
じ、この熱電子は加速され、矢印Aで示すようにターゲ
ット膜140に高速で衝突する。ターゲット膜140
は、この熱電子ビームを受けてその材料固有の特性X線
を放射する。基体110は、X線透過性のベリリウムで
できた円筒形状の管なので、X線は矢印Bで示すように
基体110の外周面の全面から外部に放射される。従っ
て、基体110の外周面に沿った広い範囲でX線を放射
させることができる。
【0022】また、垂直断面上において見た場合、ター
ゲット膜140上の任意の点と、カソード130との距
離は略等しくなっているので、カソードで発生した大部
分の熱電子を均一にターゲット膜へ衝突させることがで
き、熱電子の利用効率が高くなる。
【0023】次に図5に基づいて本発明の第2実施例に
ついて説明する。第2実施例と第1実施例とで大きく異
なる点は、第1実施例ではX線発生管としては基体11
0を半球部112と筒状部111とからなり、半球部1
12で閉塞され、筒状部111で開口端を有する形状に
構成したのに対し、第2実施例では図5に示すように、
基体310を筒状部312と球状部311とからなり、
筒状部312で開口端を有する形状に構成した点にあ
る。その他の点は基本的に同一であり、特に、ターゲッ
ト膜140上の任意の点と、カソード130との距離は
略等しくなっている点も共通している。また、基体31
0の材質にベリリウム、グラファイト、ポリイミド、窒
化ボロン又はアルミニウム等を用いる点も第1実施例と
共通する。なお、第2実施例に係るX線発生器の基体2
10の筒状部312の直径は25mm〜40mm、長さ
は30mm〜150mmが実用的であり、球状部311
の直径は25mm〜50mmが実用的である。
【0024】従って、第2実施例においても、その動作
は第1実施例と同様であり、基体310の球状部311
及び筒状部312の外周面に沿った広い範囲でX線を放
射させることができる。
【0025】なお、第2実施例においても、図5に示し
たように、カソードとして、タングステン線を螺旋状に
形成したものや、上記第1実施例と同様に、カソードの
材料としてタングステンにバリウムを含浸させたものを
用いてもよく、また、MgO等の冷陰極材料を中空状の
円筒の外周面に塗布したものを用いてもよい。さらに、
カソードとして、ニッケル等の金属又はセラミックから
なる中空状の円筒の外周面に酸化物陰極材(BaO−C
aO−SrO−MgO)が塗布されているとともに、筒
の内部にヒータを設けたものを用いてもよい。
【0026】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明に
よれば、カソードで発生した大部分の熱電子を均一にタ
ーゲット膜へ衝突させることができるので、熱電子の利
用効率が高くなる。また、基体の外周面に沿った広い範
囲でX線を放射させることができるので、X線を、蛍光
灯から照射される可視光のように利用することができ
る。この結果、周囲の空気やガスの電離などにX線を用
いた場合にも、効率よく空気やガスの電離を行うことが
できる。
【0027】さらに、効率を向上させることができるこ
とから、X線発生管を用いる装置の小型化及び小電力化
も容易に図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例に係るX線発生管の斜視断
面図である。
【図2】本発明の第1実施例に係るX線発生管の本体の
部分拡大図である。
【図3】第1実施例のX線発生管に係るカソードの他の
実施例を示す断面図である。
【図4】第1実施例のX線発生管に係るカソードの他の
実施例を示す断面図である。
【図5】本発明の第2実施例に係るX線発生管の断面図
である。
【符号の説明】
110、310…基体、120…外囲器、130、15
0、160…カソード、161…グリッド電極、210
…ソケット

Claims (7)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 X線透過性の材料により球状部と筒状部
    とを一体成形することにより形成され、半球部で閉塞さ
    れ、筒状部で開口端を有する基体と、 熱電子を受けてX線を放射する材料であって、前記基体
    の内周面に形成されたターゲット膜と、 前記基体の開口端に設けられ、ステムピンを含んだ外囲
    器と、 前記基体の中心軸上に設けられ、前記ステムピンに支持
    され、熱電子を発生させるカソードを備えることを特徴
    とするX線発生管。
  2. 【請求項2】 前記基体は、ベリリウム、グラファイ
    ト、ポリイミド、窒化ボロン又はアルミニウムのいずれ
    かであることを特徴とする請求項1に記載のX線発生
    管。
  3. 【請求項3】 前記カソードは螺旋状に形成されている
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のX線発
    生管。
  4. 【請求項4】 前記カソードを構成する物質としては、
    タングステン又はバリウムの含浸させたタングステンを
    用いることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の
    X線発生管。
  5. 【請求項5】 前記カソードは冷陰極材料であることを
    特徴とする請求項1又は請求項2に記載のX線発生管。
  6. 【請求項6】 前記カソードは、金属又はセラミックか
    らなる中空状の筒であり、前記筒の外周面には酸化物陰
    極材が塗布されているとともに、筒の内部にはヒータが
    設けられていることを特徴とする請求項1又は請求項2
    に記載のX線発生管。
  7. 【請求項7】 前記カソードの周囲には、前記カソード
    を中心軸とした螺旋状にグリッド電極が設けられている
    ことを特徴とする請求項6に記載のX線発生管。
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