JPH0750594B2 - Ｘ線発生管用ターゲットおよびｘ線発生管 - Google Patents
Ｘ線発生管用ターゲットおよびｘ線発生管Info
- Publication number
- JPH0750594B2 JPH0750594B2 JP1220849A JP22084989A JPH0750594B2 JP H0750594 B2 JPH0750594 B2 JP H0750594B2 JP 1220849 A JP1220849 A JP 1220849A JP 22084989 A JP22084989 A JP 22084989A JP H0750594 B2 JPH0750594 B2 JP H0750594B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- ray
- film
- ray generation
- generation tube
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、固定陽極Ｘ線発生管、特に透過型Ｘ線発生管
のターゲットおよびそのターゲットを用いたＸ線発生管
に関するものである。
のターゲットおよびそのターゲットを用いたＸ線発生管
に関するものである。
物質分析のための比較的微弱な特定波長のＸ線を発生す
るＸ線発生管として、透過型のＸ線発生管が知られてい
る。（例えば、実開昭54−163885など）。この透過型Ｘ
線発生管は、電子ビームを放出するカソード、その電子
ビームを制御するグリッド、その電子ビームを受け反対
側の面からＸ線を放射する透過型のターゲット、および
そのＸ線を外部に放出するためのＸ線透過用窓を基本要
素として備えており、これらが気密外囲器内に収められ
ている。
るＸ線発生管として、透過型のＸ線発生管が知られてい
る。（例えば、実開昭54−163885など）。この透過型Ｘ
線発生管は、電子ビームを放出するカソード、その電子
ビームを制御するグリッド、その電子ビームを受け反対
側の面からＸ線を放射する透過型のターゲット、および
そのＸ線を外部に放出するためのＸ線透過用窓を基本要
素として備えており、これらが気密外囲器内に収められ
ている。
ところで、この種のＸ線発生管に用いられるターゲット
としては、一般に安定な単体金属または合金を薄膜化し
たものが用いられている（例えば、実開昭54−163885、
特開昭62−255900など）。このように、単体金属または
合金の薄膜をターゲットとして用いた場合には、ターゲ
ットに撓みが生じ易く、ターゲットに撓みが生じると、
発生するＸ線のユニフォーミティ（均等性）が悪くな
る。このため、ターゲットの機械的強度を保つ必要があ
り、その膜厚を電子を受けてＸ線を発生するに最低限必
要とされる厚みよりもこれを大幅に上回った厚みにしな
ければならなかった。
としては、一般に安定な単体金属または合金を薄膜化し
たものが用いられている（例えば、実開昭54−163885、
特開昭62−255900など）。このように、単体金属または
合金の薄膜をターゲットとして用いた場合には、ターゲ
ットに撓みが生じ易く、ターゲットに撓みが生じると、
発生するＸ線のユニフォーミティ（均等性）が悪くな
る。このため、ターゲットの機械的強度を保つ必要があ
り、その膜厚を電子を受けてＸ線を発生するに最低限必
要とされる厚みよりもこれを大幅に上回った厚みにしな
ければならなかった。
しかし、ターゲットの厚みを厚くすると、一旦発生した
Ｘ線がターゲット内部で吸収されてしまい、Ｘ線の放射
効率が低下してしまう。
Ｘ線がターゲット内部で吸収されてしまい、Ｘ線の放射
効率が低下してしまう。
そこで、上述した事情に鑑み、本発明はＸ線の放射効率
を向上させることを目的としている。
を向上させることを目的としている。
上述の目的を達成するため、本発明によるＸ線発生管用
ターゲットにおいては、Ｘ線透過性の基体と、電子を受
けてＸ線を放射する材料で前記基体上に形成されたター
ゲット膜と、ターゲット膜の表面に形成された導電性薄
膜とを備えた構成となっている。
ターゲットにおいては、Ｘ線透過性の基体と、電子を受
けてＸ線を放射する材料で前記基体上に形成されたター
ゲット膜と、ターゲット膜の表面に形成された導電性薄
膜とを備えた構成となっている。
また、本発明によるＸ線発生管においては、このＸ線発
生管用ターゲットを用いたものである。
生管用ターゲットを用いたものである。
この様な構成とするようにしたことにより、電子を受け
てＸ線を放射する材料で形成されたターゲット膜の厚さ
を、Ｘ線を発生するに必要最低限の厚さとすることが可
能となり、これにより、ターゲット膜内でのＸ線の吸収
が最小限に抑えられる。
てＸ線を放射する材料で形成されたターゲット膜の厚さ
を、Ｘ線を発生するに必要最低限の厚さとすることが可
能となり、これにより、ターゲット膜内でのＸ線の吸収
が最小限に抑えられる。
また、ターゲット膜の表面に導電性薄膜を形成するよう
にしたことにより、ターゲット膜を絶縁物から形成した
場合にも、Ｘ線出力が安定する。
にしたことにより、ターゲット膜を絶縁物から形成した
場合にも、Ｘ線出力が安定する。
さらに、基体を熱伝導性の良好な材料で形成することに
より、ターゲット膜の温度上昇が抑制される。
より、ターゲット膜の温度上昇が抑制される。
第１図は、本発明によるＸ線発生管用ターゲットの一実
施例の製造過程における原部材５を示した部分断面斜視
図である。
施例の製造過程における原部材５を示した部分断面斜視
図である。
本実施例のＸ線発生管用ターゲットの原部材５は、基本
的には、円盤状の基体１と、この基体１上にその外周部
を除いて形成されたターゲット膜２とから構成されてい
る。
的には、円盤状の基体１と、この基体１上にその外周部
を除いて形成されたターゲット膜２とから構成されてい
る。
基体１は、Ｘ線透過性及び熱伝導性に優れた材料、例え
ば、ベリリウムで形成されており、その厚さは、約100
μｍである。このため、基体１は適当な機械的強度を有
している。
ば、ベリリウムで形成されており、その厚さは、約100
μｍである。このため、基体１は適当な機械的強度を有
している。
ターゲット膜２は、電子を受けてＸ線を放射する材料で
真空蒸着等の方法により形成され、その厚みは、ターゲ
ット膜２を形成する材料によって異なるが、Ｘ線を発生
するに必要最小限の厚さとされることが好ましい。この
ようにすることによって、ターゲット膜２内でのＸ線の
吸収を最少限に抑えることができるからである。なお、
このようにターゲット膜２の厚さを必要最小限の厚さと
しても、ターゲット膜２は適当な機械的強度を有する基
体１に担持されているので、撓みを生じ難く、発生する
Ｘ線のユニフォーミティ（均等性）が向上する。また、
基体１に熱伝導性に優れた材料を用いたことにより、タ
ーゲット膜２の放熱性が向上している。したがって、タ
ーゲットに照射される電子ビームの直径を小さく絞るこ
とが可能となると共に、従来よりも大きなターゲット電
流が流れても、ターゲットが赤熱して穴が開くことがな
くなり、Ｘ線の最大発生線量が増大する。また、ターゲ
ットの機械的強度及び放熱性の向上により、ターゲット
面積を大きくすることが可能となっている。
真空蒸着等の方法により形成され、その厚みは、ターゲ
ット膜２を形成する材料によって異なるが、Ｘ線を発生
するに必要最小限の厚さとされることが好ましい。この
ようにすることによって、ターゲット膜２内でのＸ線の
吸収を最少限に抑えることができるからである。なお、
このようにターゲット膜２の厚さを必要最小限の厚さと
しても、ターゲット膜２は適当な機械的強度を有する基
体１に担持されているので、撓みを生じ難く、発生する
Ｘ線のユニフォーミティ（均等性）が向上する。また、
基体１に熱伝導性に優れた材料を用いたことにより、タ
ーゲット膜２の放熱性が向上している。したがって、タ
ーゲットに照射される電子ビームの直径を小さく絞るこ
とが可能となると共に、従来よりも大きなターゲット電
流が流れても、ターゲットが赤熱して穴が開くことがな
くなり、Ｘ線の最大発生線量が増大する。また、ターゲ
ットの機械的強度及び放熱性の向上により、ターゲット
面積を大きくすることが可能となっている。
ターゲット膜２の材料として安定な単体金属であるチタ
ンを用いた場合には、その厚さは約300Åとされる。な
お、チタン以外に、かかる材料として、例えば、鉄、
金、タンタル、タングステン等を用いることができる。
また、これらの化合物を用いてもよいし、合金を用いて
もよい。
ンを用いた場合には、その厚さは約300Åとされる。な
お、チタン以外に、かかる材料として、例えば、鉄、
金、タンタル、タングステン等を用いることができる。
また、これらの化合物を用いてもよいし、合金を用いて
もよい。
更に、単体では不安定なカルシウム等の元素をターゲッ
ト膜２の材料として用いることも可能である。カルシウ
ムは、単体では反応性が強く不安定であるが、弗素等と
結合して弗化カルシウム（CaF2）等の安定な化合物を形
成する。そこで、この様な安定な化合物でターゲット膜
２を形成すれば、カルシウム等の単体では不安定な元素
の特性Ｘ線を安定して得ることができる。この場合、弗
化カルシウムで形成されるターゲット膜２の厚さは、約
３〜10μｍとされる。なお、カルシウムをターゲット材
料として用いるために、弗化カルシウムを用いる以外
に、その他の安定な化合物、例えば、酸化カルシウム
（CaO）を用いることができる。また、同様にして、カ
ルシウム以外の、単体では不安定な元素をターゲット材
料として用いることができる。たとえば、マグネシウム
（Mg）、バリウム（Ba）、リチウム（Li）、ナトリウム
（Na）などをターゲット材料としたい場合には、それぞ
れの弗化物である弗化マグネシウム（MgF2）、弗化バリ
ウム（BaF2）、弗化リチウム（LiF）、弗化ナトリウム
（NaF）や、それぞれの酸化物である酸化マグネシウム
（MgO）、酸化バリウム（BaO）、酸化リチウム（Li
2O）、酸化ナトリウム（Na2O）などをターゲット膜とし
て用いることができる。
ト膜２の材料として用いることも可能である。カルシウ
ムは、単体では反応性が強く不安定であるが、弗素等と
結合して弗化カルシウム（CaF2）等の安定な化合物を形
成する。そこで、この様な安定な化合物でターゲット膜
２を形成すれば、カルシウム等の単体では不安定な元素
の特性Ｘ線を安定して得ることができる。この場合、弗
化カルシウムで形成されるターゲット膜２の厚さは、約
３〜10μｍとされる。なお、カルシウムをターゲット材
料として用いるために、弗化カルシウムを用いる以外
に、その他の安定な化合物、例えば、酸化カルシウム
（CaO）を用いることができる。また、同様にして、カ
ルシウム以外の、単体では不安定な元素をターゲット材
料として用いることができる。たとえば、マグネシウム
（Mg）、バリウム（Ba）、リチウム（Li）、ナトリウム
（Na）などをターゲット材料としたい場合には、それぞ
れの弗化物である弗化マグネシウム（MgF2）、弗化バリ
ウム（BaF2）、弗化リチウム（LiF）、弗化ナトリウム
（NaF）や、それぞれの酸化物である酸化マグネシウム
（MgO）、酸化バリウム（BaO）、酸化リチウム（Li
2O）、酸化ナトリウム（Na2O）などをターゲット膜とし
て用いることができる。
このように、単体では不安定な元素を安定な化合物の形
でターゲット材料として用いることにより、従来は、反
応性が強く単体として扱いが困難な元素や、不安定な高
温に耐えられない元素であって、ターゲットとして利用
することが困難であった元素の特性Ｘ線を得ることがで
きるようになる。したがって、得られる特性Ｘ線の種類
が豊富となる。
でターゲット材料として用いることにより、従来は、反
応性が強く単体として扱いが困難な元素や、不安定な高
温に耐えられない元素であって、ターゲットとして利用
することが困難であった元素の特性Ｘ線を得ることがで
きるようになる。したがって、得られる特性Ｘ線の種類
が豊富となる。
第２図は、第１図の原部材のターゲット膜２の表面及び
基体１の外周部表面に、導電性薄膜３として、アルミニ
ウムの蒸着膜を約1000〜2000Aの厚さで形成して、本発
明の実施例のＸ線発生管用ターゲットの完成品を示した
部分断面斜視図である。本実施例のように、ターゲット
膜２の表面及び基体１の外周部表面に導電性薄膜３を形
成したＸ線発生管用ターゲットは、上述のようにターゲ
ット膜２が絶縁性の化合物で形成された場合には特に有
効であり、Ｘ線出力が安定する。なお、ターゲット膜２
が導電性の金属等で形成された場合にも、導電性薄膜３
を形成することは可能である。
基体１の外周部表面に、導電性薄膜３として、アルミニ
ウムの蒸着膜を約1000〜2000Aの厚さで形成して、本発
明の実施例のＸ線発生管用ターゲットの完成品を示した
部分断面斜視図である。本実施例のように、ターゲット
膜２の表面及び基体１の外周部表面に導電性薄膜３を形
成したＸ線発生管用ターゲットは、上述のようにターゲ
ット膜２が絶縁性の化合物で形成された場合には特に有
効であり、Ｘ線出力が安定する。なお、ターゲット膜２
が導電性の金属等で形成された場合にも、導電性薄膜３
を形成することは可能である。
第３図は、上述したＸ線発生管用ターゲット４を用いた
Ｘ線発生管の断面図である。ガラスからなる有底円筒状
の外囲器11の端部には、電子ビームを放出するカソード
としてのフィラメント12が取り付けられている。その前
方には、電子ビームを制御するための円筒状の第１グリ
ッド13、第２グリッド14、及びホーカス用グリッド15が
順に配置されている。そして、ホーカス用グリッド15の
さらに前方には、第１図又は第２図に示したターゲット
４が取り付けられている。ターゲット４は、コバール合
金製のリング16の内側にステンレス製のリング17が取り
付けられた保持体に、嵌め込まれ保持されている。この
保持体の外周にコバール合金製のリングが用いられてい
るのは、膨脹係数が外囲器11の材料であるガラスとほぼ
等しいためであり、これによって外囲器11との接合が容
易となる。また、ターゲット４には、正の電圧が印加さ
れており、ホーカス用グリッド15と電気的に接続されて
いる。ターゲット４のさらに前方には、Ｘ線透過性の優
れたベリリウムでできたＸ線透過窓18が設けられてい
る。なお、外囲器11はその内部が真空状態になってい
る。
Ｘ線発生管の断面図である。ガラスからなる有底円筒状
の外囲器11の端部には、電子ビームを放出するカソード
としてのフィラメント12が取り付けられている。その前
方には、電子ビームを制御するための円筒状の第１グリ
ッド13、第２グリッド14、及びホーカス用グリッド15が
順に配置されている。そして、ホーカス用グリッド15の
さらに前方には、第１図又は第２図に示したターゲット
４が取り付けられている。ターゲット４は、コバール合
金製のリング16の内側にステンレス製のリング17が取り
付けられた保持体に、嵌め込まれ保持されている。この
保持体の外周にコバール合金製のリングが用いられてい
るのは、膨脹係数が外囲器11の材料であるガラスとほぼ
等しいためであり、これによって外囲器11との接合が容
易となる。また、ターゲット４には、正の電圧が印加さ
れており、ホーカス用グリッド15と電気的に接続されて
いる。ターゲット４のさらに前方には、Ｘ線透過性の優
れたベリリウムでできたＸ線透過窓18が設けられてい
る。なお、外囲器11はその内部が真空状態になってい
る。
つぎに、第３図に示したＸ線発生管の動作を説明する。
フィラメント12が通電により熱せられると、電子ビーム
が放出される。この電子ビームは、ホーカス用グリッド
15などにより加速され、矢印Ａで示すようにターゲット
４に高速で衝突する。ターゲット４のターゲット膜２
は、この電子ビームを受けてその材料固有の特性Ｘ線を
放射する。ここで、基体１がＸ線透過性のベリリウムで
できているため、Ｘ線は主として矢印Ｂで示すように前
方に放射され、さらにＸ線透過窓18から外部に放射され
る。
フィラメント12が通電により熱せられると、電子ビーム
が放出される。この電子ビームは、ホーカス用グリッド
15などにより加速され、矢印Ａで示すようにターゲット
４に高速で衝突する。ターゲット４のターゲット膜２
は、この電子ビームを受けてその材料固有の特性Ｘ線を
放射する。ここで、基体１がＸ線透過性のベリリウムで
できているため、Ｘ線は主として矢印Ｂで示すように前
方に放射され、さらにＸ線透過窓18から外部に放射され
る。
なお、ターゲット膜２を弗化カルシウム等の化合物で形
成した場合には、電子ビームがターゲット４に衝突した
ときに、カルシウム固有の特性Ｘ線が放射されると同時
に、弗素固有の特性Ｘ線も同時に放射されることにな
る。しかし、両者の波長は比較的離れているので、カル
シウムの特性Ｘ線だけを後で抽出することは容易であ
る。
成した場合には、電子ビームがターゲット４に衝突した
ときに、カルシウム固有の特性Ｘ線が放射されると同時
に、弗素固有の特性Ｘ線も同時に放射されることにな
る。しかし、両者の波長は比較的離れているので、カル
シウムの特性Ｘ線だけを後で抽出することは容易であ
る。
また、弗化カルシウム等の化合物は絶縁物であるので、
なんら対策を施さなければ、電子ビームの衝突によりそ
の表面がチャージアップされ、そのためにＸ線出力が変
動してしまう。しかし、本実施例のターゲット４は、タ
ーゲット膜２の表面がアルミニウム蒸着膜等の導電性薄
膜３が被覆され、さらに導電性薄膜３が外周部で基体１
と電気的に接続されているので表面がチャージアップさ
れることがなく、Ｘ線出力が安定している。
なんら対策を施さなければ、電子ビームの衝突によりそ
の表面がチャージアップされ、そのためにＸ線出力が変
動してしまう。しかし、本実施例のターゲット４は、タ
ーゲット膜２の表面がアルミニウム蒸着膜等の導電性薄
膜３が被覆され、さらに導電性薄膜３が外周部で基体１
と電気的に接続されているので表面がチャージアップさ
れることがなく、Ｘ線出力が安定している。
また、Ｘ線透過用窓18および基体１の材料として、ベリ
リウムを用いたがその他のＸ線透過材料、たとえば雲母
などを用いても良い。
リウムを用いたがその他のＸ線透過材料、たとえば雲母
などを用いても良い。
また、チャージアップ防止用としての導電性薄膜３とし
て、アルミニウム蒸着膜を用いたが、その他の導電性薄
膜、たとえば金の薄膜でも良い。
て、アルミニウム蒸着膜を用いたが、その他の導電性薄
膜、たとえば金の薄膜でも良い。
ここで、チタンでターゲット膜２を形成した上述の実施
例たるターゲット４を用いたＸ線発生管と、厚さ８μｍ
のチタン薄膜をターゲットとして用いた従来のＸ線発生
管とを比較すると、通常動作条件で、従来のものに比べ
３倍のＸ線出力が得られた。また、従来に比し、ターゲ
ット電流を２桁以上大きくすることができた。また、従
来のＸ線発生管では、ターゲット電流30μＡ時、電子ビ
ーム径を300μｍ程度しか絞れなかったが、これを数μ
ｍまで絞ることができるようになった。
例たるターゲット４を用いたＸ線発生管と、厚さ８μｍ
のチタン薄膜をターゲットとして用いた従来のＸ線発生
管とを比較すると、通常動作条件で、従来のものに比べ
３倍のＸ線出力が得られた。また、従来に比し、ターゲ
ット電流を２桁以上大きくすることができた。また、従
来のＸ線発生管では、ターゲット電流30μＡ時、電子ビ
ーム径を300μｍ程度しか絞れなかったが、これを数μ
ｍまで絞ることができるようになった。
以上説明したように、本発明のＸ線発生管用ターゲット
およびＸ線発生管によれば、電子を受けてＸ線を放射す
る材料で形成されたターゲット膜の厚さを、Ｘ線を発生
するに必要最低限の厚さとすることが可能となり、これ
により、ターゲット膜内でのＸ線の吸収が最小限に抑え
られ、Ｘ線の放射効率が向上するとともに、ターゲット
膜の表面に導電性薄膜を形成することにより、ターゲッ
ト膜を絶縁物から形成した場合にも、Ｘ線出力を安定し
て得ることができる。
およびＸ線発生管によれば、電子を受けてＸ線を放射す
る材料で形成されたターゲット膜の厚さを、Ｘ線を発生
するに必要最低限の厚さとすることが可能となり、これ
により、ターゲット膜内でのＸ線の吸収が最小限に抑え
られ、Ｘ線の放射効率が向上するとともに、ターゲット
膜の表面に導電性薄膜を形成することにより、ターゲッ
ト膜を絶縁物から形成した場合にも、Ｘ線出力を安定し
て得ることができる。
さらに、基体を熱伝導性の良好な材料で形成することに
より、ターゲット膜の温度上昇が抑制される。これによ
り、ターゲット電流を増大させることが可能となり、Ｘ
線の最大発生線量を増大させることが可能となると共
に、ターゲットに照射される電子ビーム径を小さく絞る
ことが可能となる。
より、ターゲット膜の温度上昇が抑制される。これによ
り、ターゲット電流を増大させることが可能となり、Ｘ
線の最大発生線量を増大させることが可能となると共
に、ターゲットに照射される電子ビーム径を小さく絞る
ことが可能となる。
第１図は本発明の一実施例であるＸ線発生管用ターゲッ
トの原部材を示す斜視断面図、第２図は本発明の一実施
例であるＸ線発生管用ターゲットを示す斜視断面図、第
３図は本発明の一実施例であるＸ線発生管を示す断面図
である。 １……基体、２……ターゲット膜、３……導電性薄膜、
４……Ｘ線発生管用ターゲット、５……Ｘ線発生管用タ
ーゲットの原部材、11……外囲器、12……フィラメン
ト、18……Ｘ線透過用窓。
トの原部材を示す斜視断面図、第２図は本発明の一実施
例であるＸ線発生管用ターゲットを示す斜視断面図、第
３図は本発明の一実施例であるＸ線発生管を示す断面図
である。 １……基体、２……ターゲット膜、３……導電性薄膜、
４……Ｘ線発生管用ターゲット、５……Ｘ線発生管用タ
ーゲットの原部材、11……外囲器、12……フィラメン
ト、18……Ｘ線透過用窓。
Claims (7)
- 【請求項１】Ｘ線透過性の基体と、 電子を受けてＸ線を放射する材料で前記基体上に形成さ
れたターゲット膜と、 前記ターゲット膜の表面に形成された導電性薄膜と、 を備えたＸ線発生管用ターゲット。 - 【請求項２】前記材料は合金である請求項１記載のＸ線
発生管用ターゲット。 - 【請求項３】前記材料は安定な単体金属もしくはこれの
化合物である請求項１記載のＸ線発生管用ターゲット。 - 【請求項４】前記材料は単体では不安定な元素の安定な
化合物である請求項１記載のＸ線発生管用ターゲット。 - 【請求項５】前記単体では不安定な元素がカルシウム、
マグネシウム、バリウム、リチウムまたはナトリウムで
あるときに、これらの安定な化合物がそれらの弗化物ま
たは酸化物である請求項４記載のＸ線発生管用ターゲッ
ト。 - 【請求項６】前記基体は熱伝導性が良いものである請求
項１、２、３、４または５記載のＸ線発生管用ターゲッ
ト。 - 【請求項７】請求項１、２、３、４、５または６記載の
Ｘ線発生管用ターゲットを用いた透過型Ｘ線発生管。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1220849A JPH0750594B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-08-28 | Ｘ線発生管用ターゲットおよびｘ線発生管 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1-39628 | 1989-02-20 | ||
| JP3962889 | 1989-02-20 | ||
| JP1220849A JPH0750594B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-08-28 | Ｘ線発生管用ターゲットおよびｘ線発生管 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02297850A JPH02297850A (ja) | 1990-12-10 |
| JPH0750594B2 true JPH0750594B2 (ja) | 1995-05-31 |
Family
ID=26379016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1220849A Expired - Fee Related JPH0750594B2 (ja) | 1989-02-20 | 1989-08-28 | Ｘ線発生管用ターゲットおよびｘ線発生管 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0750594B2 (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2710914B2 (ja) * | 1993-06-18 | 1998-02-10 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生管 |
| JP2710913B2 (ja) * | 1993-06-18 | 1998-02-10 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生管 |
| JP4026976B2 (ja) | 1999-03-02 | 2007-12-26 | 浜松ホトニクス株式会社 | Ｘ線発生装置、ｘ線撮像装置及びｘ線検査システム |
| JP2006189350A (ja) * | 2005-01-06 | 2006-07-20 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 軟ｘ線発生装置 |
| JP5670111B2 (ja) * | 2009-09-04 | 2015-02-18 | 東京エレクトロン株式会社 | Ｘ線発生用ターゲット、ｘ線発生装置、及びｘ線発生用ターゲットの製造方法 |
| JP5901180B2 (ja) * | 2011-08-31 | 2016-04-06 | キヤノン株式会社 | 透過型ｘ線発生装置及びそれを用いたｘ線撮影装置 |
| JP5871529B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-03-01 | キヤノン株式会社 | 透過型ｘ線発生装置及びそれを用いたｘ線撮影装置 |
| JP5984403B2 (ja) * | 2012-01-31 | 2016-09-06 | キヤノン株式会社 | ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS54163885U (ja) * | 1978-05-09 | 1979-11-16 | ||
| JPS62255900A (ja) * | 1986-04-30 | 1987-11-07 | 理学電機工業株式会社 | Ｘ線光電子分光装置の試料励起用ｘ線源 |
-
1989
- 1989-08-28 JP JP1220849A patent/JPH0750594B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02297850A (ja) | 1990-12-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4065689A (en) | Dual filament X-ray tube | |
| JPH06162972A (ja) | 透過型陽極を有するｘ線管 | |
| US3919124A (en) | X-ray tube anode | |
| JP3105292B2 (ja) | 単色ｘ線放射用放射線源 | |
| US2665391A (en) | X-ray tube having a mica window | |
| JPH0750594B2 (ja) | Ｘ線発生管用ターゲットおよびｘ線発生管 | |
| US3539859A (en) | X-ray generator tube with graphite rotating anode | |
| GB1232160A (ja) | ||
| GB1000832A (en) | Low temperature thermionic energy converter | |
| US3372967A (en) | Method of making a multi-alkali cathode | |
| US3719847A (en) | Liquid cooled x-ray tube anode | |
| US20070274454A1 (en) | X-ray radiator with a thermionic photocathode | |
| JP2002298772A (ja) | 透過放射型ｘ線管およびその製造方法 | |
| US2316276A (en) | Electron discharge apparatus | |
| US4002938A (en) | X-ray or γ-ray image tube | |
| JP2710914B2 (ja) | Ｘ線発生管 | |
| US1953813A (en) | X-ray tube | |
| JP2002042705A (ja) | 透過放射型ｘ線管およびその製造方法 | |
| JP2000082430A (ja) | Ｘ線発生用ターゲット及びこれを用いたｘ線管 | |
| US3884539A (en) | Method of making a multialkali electron emissive layer | |
| JP2004235113A (ja) | 軟ｘ線発生管 | |
| US3543034A (en) | X-ray image transducer tube having crenelated fluorescent layer ahead of solid-state image intensifier | |
| US3258713A (en) | Cesium beam tube detector with niobium ionizer | |
| JPH07169422A (ja) | Ｘ線管 | |
| US6147446A (en) | Image converter tube with means of prevention for stray glimmer |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313532 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531 Year of fee payment: 14 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |