JPH0513191A - Ｘ線発生装置 - Google Patents
Ｘ線発生装置Info
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- JPH0513191A JPH0513191A JP18813191A JP18813191A JPH0513191A JP H0513191 A JPH0513191 A JP H0513191A JP 18813191 A JP18813191 A JP 18813191A JP 18813191 A JP18813191 A JP 18813191A JP H0513191 A JPH0513191 A JP H0513191A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 対陰極上に密度の均一な電子線焦点を結ぶこ
とのできるＸ線発生装置を提供する。 【構成】 陰極１から放射される電子をウエネルト２に
よって形成される電場を通過させて対陰極３に衝突さ
せ、その対陰極３からＸ線Ｒを放射するＸ線発生装置で
ある。上記陰極１は、対陰極３へ向けて電子Ｐを放射す
る部分である電子放射部６と、電子放射部６の両側に設
けられていて対陰極３から見て電子放射部６よりも後方
に退避した位置にある予備加熱部７とを有している。ウ
エネルト２は、陰極１の予備加熱部７を覆うように陰極
１に向かって張り出す張出し部１１を有している。ま
た、陰極１の側面全域に対向してわずかの間隙をおいて
近接ブロック１２が設けられている。
とのできるＸ線発生装置を提供する。 【構成】 陰極１から放射される電子をウエネルト２に
よって形成される電場を通過させて対陰極３に衝突さ
せ、その対陰極３からＸ線Ｒを放射するＸ線発生装置で
ある。上記陰極１は、対陰極３へ向けて電子Ｐを放射す
る部分である電子放射部６と、電子放射部６の両側に設
けられていて対陰極３から見て電子放射部６よりも後方
に退避した位置にある予備加熱部７とを有している。ウ
エネルト２は、陰極１の予備加熱部７を覆うように陰極
１に向かって張り出す張出し部１１を有している。ま
た、陰極１の側面全域に対向してわずかの間隙をおいて
近接ブロック１２が設けられている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、各種のＸ線利用機器の
Ｘ線源として用いられるＸ線発生装置に関する。
Ｘ線源として用いられるＸ線発生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来広く用いられているＸ線発生装置
は、図５に示すように、陰極としてのタングステンコイ
ルフィラメント５１と、そのフィラメント５１を包囲す
る円筒形状のウエネルト（ wehnelt ）５２と、フィラ
メント５１に対向して配置される対陰極５３とを有して
いる。フィラメント５１の下端部は、ウエネルト５２の
底面中央に開けられた開口５４内に、図６及び図７のよ
うに挿入されている。図６及び図７は、それぞれ、図５
におけるＶＩ−ＶＩ線及びＶＩＩ−ＶＩＩ線に従った断
面図である。
は、図５に示すように、陰極としてのタングステンコイ
ルフィラメント５１と、そのフィラメント５１を包囲す
る円筒形状のウエネルト（ wehnelt ）５２と、フィラ
メント５１に対向して配置される対陰極５３とを有して
いる。フィラメント５１の下端部は、ウエネルト５２の
底面中央に開けられた開口５４内に、図６及び図７のよ
うに挿入されている。図６及び図７は、それぞれ、図５
におけるＶＩ−ＶＩ線及びＶＩＩ−ＶＩＩ線に従った断
面図である。
【０００３】フィラメント５１は、図示しない電流供給
源によって通電されることによって発熱して熱電子Ｐを
放出する。ウエネルト５２とフィラメント５１との間に
は図示しない電圧供給源によって電圧が印加されてお
り、これにより、フィラメント５１のまわりに電場が形
成される。フィラメント５２から放出された熱電子は、
この電場を通過することにより発散が抑えられ、対陰極
５３上に必要な大きさの焦点Ｑを結んだ状態で対陰極５
３に衝突する。そして、この焦点Ｑの領域からＸ線Ｒが
放射される。もちろん、Ｘ線は対陰極５３からあらゆる
方向へ向かって放射されるのであるが、図５では便宜
上、Ｘ線回折装置などのＸ線装置に利用されるＸ線Ｒの
みを示してある。
源によって通電されることによって発熱して熱電子Ｐを
放出する。ウエネルト５２とフィラメント５１との間に
は図示しない電圧供給源によって電圧が印加されてお
り、これにより、フィラメント５１のまわりに電場が形
成される。フィラメント５２から放出された熱電子は、
この電場を通過することにより発散が抑えられ、対陰極
５３上に必要な大きさの焦点Ｑを結んだ状態で対陰極５
３に衝突する。そして、この焦点Ｑの領域からＸ線Ｒが
放射される。もちろん、Ｘ線は対陰極５３からあらゆる
方向へ向かって放射されるのであるが、図５では便宜
上、Ｘ線回折装置などのＸ線装置に利用されるＸ線Ｒの
みを示してある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来のＸ線発生装置に
おいては、陰極としてタングステンコイルフィラメント
５１が使用されていた。従って、図６及び図７に示すよ
うに、対陰極５３上の電子線焦点Ｑにおいてフィラメン
ト５１の長手方向に沿って、コイル形状に対応した縞状
の濃淡部が形成されてしまう。
おいては、陰極としてタングステンコイルフィラメント
５１が使用されていた。従って、図６及び図７に示すよ
うに、対陰極５３上の電子線焦点Ｑにおいてフィラメン
ト５１の長手方向に沿って、コイル形状に対応した縞状
の濃淡部が形成されてしまう。
【０００５】また、図６において、フィラメント５１の
両端部は中央部分に比べて温度が低いので、電子線焦点
Ｑの両端部Ｔ１及びＴ２の電子密度が中央部に比べて低
くなる。
両端部は中央部分に比べて温度が低いので、電子線焦点
Ｑの両端部Ｔ１及びＴ２の電子密度が中央部に比べて低
くなる。
【０００６】さらに、図７に示すように、フィラメント
５１の短手方向両端から放出される電子線は、ウエネル
ト５２によって形成される電界によって中央へ絞り込ま
れる。従って、対陰極５３上の電子線焦点Ｑの短手方向
の両端側Ｓ１及びＳ２は、中央部に比べて電子密度が高
くなる。
５１の短手方向両端から放出される電子線は、ウエネル
ト５２によって形成される電界によって中央へ絞り込ま
れる。従って、対陰極５３上の電子線焦点Ｑの短手方向
の両端側Ｓ１及びＳ２は、中央部に比べて電子密度が高
くなる。
【０００７】以上のように、陰極としてタングステンコ
イルフィラメントを用いた従来のＸ線発生装置において
は、対陰極５３上に形成される電子線焦点Ｑの電子線密
度が不均一になり、その結果、均一な強さのＸ線が得ら
れないという欠点があった。
イルフィラメントを用いた従来のＸ線発生装置において
は、対陰極５３上に形成される電子線焦点Ｑの電子線密
度が不均一になり、その結果、均一な強さのＸ線が得ら
れないという欠点があった。
【０００８】本発明は、従来のＸ線発生装置における上
記の問題点に鑑みてなされたものであって、対陰極上に
密度の均一な電子線焦点を結ぶことのできるＸ線発生装
置を提供することを目的とする。
記の問題点に鑑みてなされたものであって、対陰極上に
密度の均一な電子線焦点を結ぶことのできるＸ線発生装
置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成する、
請求項１記載のＸ線発生装置は、ランタンヘキサボライ
ド（ＬａＢ6）を含む断面方形状の線材によって形成さ
れた陰極と、該陰極を包囲するウエネルトと、陰極に対
向して配置される対陰極とを有しており、陰極から放射
される電子をウエネルトによって形成される電場を通過
させて対陰極に衝突させ、該対陰極からＸ線を放射する
Ｘ線発生装置である。陰極は、対陰極へ向けて電子を放
射する部分である電子放射部と、電子放射部の両側に設
けられていて対陰極から見て電子放射部よりも後方に退
避した位置にある予備加熱部とを有している。ウエネル
トは、上記陰極の予備加熱部を覆うように陰極に向かっ
て張り出す張出し部を有している。
請求項１記載のＸ線発生装置は、ランタンヘキサボライ
ド（ＬａＢ6）を含む断面方形状の線材によって形成さ
れた陰極と、該陰極を包囲するウエネルトと、陰極に対
向して配置される対陰極とを有しており、陰極から放射
される電子をウエネルトによって形成される電場を通過
させて対陰極に衝突させ、該対陰極からＸ線を放射する
Ｘ線発生装置である。陰極は、対陰極へ向けて電子を放
射する部分である電子放射部と、電子放射部の両側に設
けられていて対陰極から見て電子放射部よりも後方に退
避した位置にある予備加熱部とを有している。ウエネル
トは、上記陰極の予備加熱部を覆うように陰極に向かっ
て張り出す張出し部を有している。
【００１０】請求項２記載のＸ線発生装置は、ランタン
ヘキサボライド（ＬａＢ6）を含む断面方形状の線材に
よって形成された陰極と、該陰極を包囲するウエネルト
と、陰極に対向して配置される対陰極とを有しており、
陰極から放射される電子をウエネルトによって形成され
る電場を通過させて対陰極に衝突させ、該対陰極からＸ
線を放射するＸ線発生装置であって、陰極の側面全域に
対向してがわずかの間隙をおいて近接ブロックが設けら
れている。
ヘキサボライド（ＬａＢ6）を含む断面方形状の線材に
よって形成された陰極と、該陰極を包囲するウエネルト
と、陰極に対向して配置される対陰極とを有しており、
陰極から放射される電子をウエネルトによって形成され
る電場を通過させて対陰極に衝突させ、該対陰極からＸ
線を放射するＸ線発生装置であって、陰極の側面全域に
対向してがわずかの間隙をおいて近接ブロックが設けら
れている。
【００１１】請求項３記載のＸ線発生装置は、ランタン
ヘキサボライド（ＬａＢ6）を含む断面方形状の線材に
よって形成された陰極と、該陰極を包囲するウエネルト
と、陰極に対向して配置される対陰極とを有しており、
陰極から放射される電子をウエネルトによって形成され
る電場を通過させて対陰極に衝突させ、該対陰極からＸ
線を放射するＸ線発生装置であって、上記陰極のうち対
陰極へ向けて電子を放射する部分である電子放射部が、
１本の真っ直ぐな直線状の線材によって構成されてい
る。
ヘキサボライド（ＬａＢ6）を含む断面方形状の線材に
よって形成された陰極と、該陰極を包囲するウエネルト
と、陰極に対向して配置される対陰極とを有しており、
陰極から放射される電子をウエネルトによって形成され
る電場を通過させて対陰極に衝突させ、該対陰極からＸ
線を放射するＸ線発生装置であって、上記陰極のうち対
陰極へ向けて電子を放射する部分である電子放射部が、
１本の真っ直ぐな直線状の線材によって構成されてい
る。
【００１２】
【作用】請求項１記載のＸ線発生装置においては、陰極
の長手方向側の端部が予備加熱部によって加熱されて陰
極の中央部と同じ温度に維持される。これにより、陰極
の長手方向に関して均一な密度の電子線が放射され、対
陰極上に均一な電子線焦点が形成される。
の長手方向側の端部が予備加熱部によって加熱されて陰
極の中央部と同じ温度に維持される。これにより、陰極
の長手方向に関して均一な密度の電子線が放射され、対
陰極上に均一な電子線焦点が形成される。
【００１３】請求項２記載のＸ線発生装置においては、
陰極側面に近接して配置した近接ブロックのために陰極
側面からの熱電子の発生が抑えられる。従って、対陰極
上における電子線焦点の短手方向から見た場合の両端部
（Ｓ１，Ｓ２）に電子線が集中して照射されることが防
止され、電子線焦点の電子線密度が均一となる。
陰極側面に近接して配置した近接ブロックのために陰極
側面からの熱電子の発生が抑えられる。従って、対陰極
上における電子線焦点の短手方向から見た場合の両端部
（Ｓ１，Ｓ２）に電子線が集中して照射されることが防
止され、電子線焦点の電子線密度が均一となる。
【００１４】請求項３記載のＸ線発生装置においては、
１本の真っ直ぐな直線状の線材から長手方向に一様な密
度の電子線が放出される。従って、対陰極上には密度の
濃淡のない均一な電子線焦点が得られる。
１本の真っ直ぐな直線状の線材から長手方向に一様な密
度の電子線が放出される。従って、対陰極上には密度の
濃淡のない均一な電子線焦点が得られる。
【００１５】
【実施例】図１は請求項１及び請求項２記載のＸ線発生
装置の一実施例を示している。同図において、円筒状の
ウエネルト２の中央に設けられた断面長方形状の貫通穴
５の中に、波状にくねった形状を有する陰極１が挿入さ
れている。陰極１の両端には電流供給回路８が接続さ
れ、陰極１とウエネルト２との間には、電圧印加回路９
が接続されている。また、陰極１に対向して配置された
対陰極３と陰極１との間には、別の電圧印加回路１０が
接続されている。
装置の一実施例を示している。同図において、円筒状の
ウエネルト２の中央に設けられた断面長方形状の貫通穴
５の中に、波状にくねった形状を有する陰極１が挿入さ
れている。陰極１の両端には電流供給回路８が接続さ
れ、陰極１とウエネルト２との間には、電圧印加回路９
が接続されている。また、陰極１に対向して配置された
対陰極３と陰極１との間には、別の電圧印加回路１０が
接続されている。
【００１６】電流供給回路８により陰極１に電流が流さ
れると、陰極１が発熱し、その発熱に伴って熱電子線Ｐ
が放射される。この熱電子線Ｐは、対陰極３上に焦点Ｑ
を結び、その焦点ＱからＸ線Ｒが放射される。この放射
されたＸ線Ｒが、Ｘ線回折装置その他のＸ線装置に利用
される。
れると、陰極１が発熱し、その発熱に伴って熱電子線Ｐ
が放射される。この熱電子線Ｐは、対陰極３上に焦点Ｑ
を結び、その焦点ＱからＸ線Ｒが放射される。この放射
されたＸ線Ｒが、Ｘ線回折装置その他のＸ線装置に利用
される。
【００１７】陰極１は、図２に示すように、ランタンヘ
キサボライド（ＬａＢ6）から成る断面方形状の線材に
よって形成されている。また陰極１は、図３に示すよう
に、対陰極３へ向けて電子を放射する部分である電子放
射部６と、電子放射部６の両側に設けられていて対陰極
３から見て電子放射部６よりも後方に退避した位置にあ
る予備加熱部７とを有している。また、予備加熱部７と
対陰極３との間には、ウエネルト２の一部である張出し
部１１が電子照射部６へ向かって張り出している。
キサボライド（ＬａＢ6）から成る断面方形状の線材に
よって形成されている。また陰極１は、図３に示すよう
に、対陰極３へ向けて電子を放射する部分である電子放
射部６と、電子放射部６の両側に設けられていて対陰極
３から見て電子放射部６よりも後方に退避した位置にあ
る予備加熱部７とを有している。また、予備加熱部７と
対陰極３との間には、ウエネルト２の一部である張出し
部１１が電子照射部６へ向かって張り出している。
【００１８】陰極１が通電によって発熱することは前述
の通りであるが、陰極１の両端部、すなわち予備加熱部
７が設けられた部分は、中央部、すなわち電子照射部６
に比べてその温度が低い。そのため、予備加熱部７から
放射される電子線の密度は、電子照射部６から放射され
る電子線の密度よりも低い。従って、仮に、予備加熱部
７から放射された電子をそのまま対陰極３に衝突させる
ようにしておくと、電子線焦点Ｑにおいて、長手方向か
ら見た場合の両端域Ｔ１，Ｔ２（図６参照）の電子線密
度が中央領域の電子電密度に比べて低くなり、電子照射
領域Ｑの電子線密度が不均一になる。
の通りであるが、陰極１の両端部、すなわち予備加熱部
７が設けられた部分は、中央部、すなわち電子照射部６
に比べてその温度が低い。そのため、予備加熱部７から
放射される電子線の密度は、電子照射部６から放射され
る電子線の密度よりも低い。従って、仮に、予備加熱部
７から放射された電子をそのまま対陰極３に衝突させる
ようにしておくと、電子線焦点Ｑにおいて、長手方向か
ら見た場合の両端域Ｔ１，Ｔ２（図６参照）の電子線密
度が中央領域の電子電密度に比べて低くなり、電子照射
領域Ｑの電子線密度が不均一になる。
【００１９】これに対して本実施例では、予備加熱部７
の前方にウエネルト張出し部１１を設け、予備加熱部７
から放射される熱電子が対陰極３へ向かうのを防止して
いる。すなわち、予備加熱部７は、対陰極３に対して熱
電子を供給する働きはしておらず、電子照射部６を予備
的に加熱するという働きをしている。これにより、電子
照射部６の両端部６ａ及び６ｂは中央部に比べて低温に
なることがなく、よって、対陰極３上に電子密度の均一
な電子焦点Ｑが得られる。
の前方にウエネルト張出し部１１を設け、予備加熱部７
から放射される熱電子が対陰極３へ向かうのを防止して
いる。すなわち、予備加熱部７は、対陰極３に対して熱
電子を供給する働きはしておらず、電子照射部６を予備
的に加熱するという働きをしている。これにより、電子
照射部６の両端部６ａ及び６ｂは中央部に比べて低温に
なることがなく、よって、対陰極３上に電子密度の均一
な電子焦点Ｑが得られる。
【００２０】Ｘ線用フィラメントとしてタングステン
（Ｗ）とＬａＢ6 とを比べた場合、その断面積は、タン
グステンが０．１〜０．３ｍｍであるのに対してＬａＢ
6 は０．７〜０．９ｍｍと太くなっている。これは、Ｌ
ａＢ6 が脆いので、これ以上細くすると機械的強度を維
持することが困難になるからである。一般に、抵抗値は
断面積に反比例するので、特に断面積の太いＬａＢ6 に
おいてはその長さ方向にわたって温度分布を均一にする
ことが難しい。この面からも特にＬａＢ6 を使用した場
合に、予備加熱部７を設けることが、電子照射部６の温
度を均一に維持する上で好都合である。
（Ｗ）とＬａＢ6 とを比べた場合、その断面積は、タン
グステンが０．１〜０．３ｍｍであるのに対してＬａＢ
6 は０．７〜０．９ｍｍと太くなっている。これは、Ｌ
ａＢ6 が脆いので、これ以上細くすると機械的強度を維
持することが困難になるからである。一般に、抵抗値は
断面積に反比例するので、特に断面積の太いＬａＢ6 に
おいてはその長さ方向にわたって温度分布を均一にする
ことが難しい。この面からも特にＬａＢ6 を使用した場
合に、予備加熱部７を設けることが、電子照射部６の温
度を均一に維持する上で好都合である。
【００２１】また、陰極１はランタンヘキサボライド
（ＬａＢ6)によって形成されている。このＬａＢ6 は所
定量の熱電子を放射する上で、タングステン（Ｗ）に比
べて、発熱温度が低く、また気化蒸発量も小さい。タン
グステン（Ｗ）を用いた従来装置においては、蒸発した
タングステン（Ｗ）が対陰極３に付着して該対陰極表面
が汚染されてしまい、純粋な対陰極材料、例えば銅（Ｃ
ｕ）、モリブデン（Ｍｏ）からの特性Ｘ線強度が著しく
減少したり、白色Ｘ線にタングステンの特性Ｘ線が多数
現れて測定に大きな支障となる。これに対して、ＬａＢ
6 を用いた本実施例では、対陰極３の汚染がきわめて少
なくなるので、所望とする特性のＸ線が長期間にわたっ
て確実に得られる。
（ＬａＢ6)によって形成されている。このＬａＢ6 は所
定量の熱電子を放射する上で、タングステン（Ｗ）に比
べて、発熱温度が低く、また気化蒸発量も小さい。タン
グステン（Ｗ）を用いた従来装置においては、蒸発した
タングステン（Ｗ）が対陰極３に付着して該対陰極表面
が汚染されてしまい、純粋な対陰極材料、例えば銅（Ｃ
ｕ）、モリブデン（Ｍｏ）からの特性Ｘ線強度が著しく
減少したり、白色Ｘ線にタングステンの特性Ｘ線が多数
現れて測定に大きな支障となる。これに対して、ＬａＢ
6 を用いた本実施例では、対陰極３の汚染がきわめて少
なくなるので、所望とする特性のＸ線が長期間にわたっ
て確実に得られる。
【００２２】図１及び図２に示すように、陰極１の両側
面の全域に対向して、わずかな間隔Ｌ、例えば０．５ｍ
ｍ以下の間隔をおいて、近接ブロック１２，１２が設け
られている。これらの近接ブロック１２は、ウエネルト
２と一体に形成しても良く、あるいは別体の近接ブロッ
クをウエネルトに接合しても良い。
面の全域に対向して、わずかな間隔Ｌ、例えば０．５ｍ
ｍ以下の間隔をおいて、近接ブロック１２，１２が設け
られている。これらの近接ブロック１２は、ウエネルト
２と一体に形成しても良く、あるいは別体の近接ブロッ
クをウエネルトに接合しても良い。
【００２３】このような近接ブロック１２を設けたこと
により、陰極１の両側面から電子線が放射されることが
なくなり、それ故、電子線焦点Ｑの短手側両端部Ｓ１及
びＳ２に必要以上の電子線が集中することがなくなる。
その結果、電子線焦点Ｑの密度がより一層均一になる。
また、近接ブロック１２を陰極１に近接させて設けたこ
とにより、陰極１内の温度分布が均一となり、発熱ム
ラ、従って陰極１からの電子線の放射ムラがなくなる。
により、陰極１の両側面から電子線が放射されることが
なくなり、それ故、電子線焦点Ｑの短手側両端部Ｓ１及
びＳ２に必要以上の電子線が集中することがなくなる。
その結果、電子線焦点Ｑの密度がより一層均一になる。
また、近接ブロック１２を陰極１に近接させて設けたこ
とにより、陰極１内の温度分布が均一となり、発熱ム
ラ、従って陰極１からの電子線の放射ムラがなくなる。
【００２４】図４は他の実施例、特に請求項３に記載の
Ｘ線発生装置の実施例を示している。この実施例が図１
に示した実施例と異なる点は、陰極２１の電子照射部１
６を、１本の真っ直ぐな直線状の線材によって構成した
ことである。符号１７は、図１における予備加熱部７と
同じ働きをする予備加熱部である。
Ｘ線発生装置の実施例を示している。この実施例が図１
に示した実施例と異なる点は、陰極２１の電子照射部１
６を、１本の真っ直ぐな直線状の線材によって構成した
ことである。符号１７は、図１における予備加熱部７と
同じ働きをする予備加熱部である。
【００２５】図１に示した実施例では、電子照射部６の
中央部に波状湾曲部１３が形成されていたので、該部か
らの電子線放射量が少なくなり、対陰極３上の電子線焦
点Ｑの中央部の電子密度が低くなり、図示のように電子
線焦点Ｑの中央部が途中で切れた形になるおそれがあっ
た。これに対し、図４の実施例では、電子照射部６が１
本の真っ直ぐな直線状の線材によって形成されているの
で、上記のような電子線焦点Ｑの切れ部の発生がなく、
非常に均一な電子焦点Ｑが得られる。もちろん、図６に
示したような、コイルフィラメント５１のコイル形状に
対応した電子線密度の濃淡も発生しない。
中央部に波状湾曲部１３が形成されていたので、該部か
らの電子線放射量が少なくなり、対陰極３上の電子線焦
点Ｑの中央部の電子密度が低くなり、図示のように電子
線焦点Ｑの中央部が途中で切れた形になるおそれがあっ
た。これに対し、図４の実施例では、電子照射部６が１
本の真っ直ぐな直線状の線材によって形成されているの
で、上記のような電子線焦点Ｑの切れ部の発生がなく、
非常に均一な電子焦点Ｑが得られる。もちろん、図６に
示したような、コイルフィラメント５１のコイル形状に
対応した電子線密度の濃淡も発生しない。
【００２６】以上、好ましい実施例をあげて本発明を説
明したが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
はない。例えば、ウエネルト２の全体形状は円筒形状に
限らず、角筒形状その他任意の形状とすることができ
る。
明したが、本発明はそれらの実施例に限定されるもので
はない。例えば、ウエネルト２の全体形状は円筒形状に
限らず、角筒形状その他任意の形状とすることができ
る。
【００２７】
【発明の効果】請求項１記載のＸ線発生装置によれば、
予備加熱部によって電子照射部の両端部が予備的に加熱
されるので、電子照射部の発熱温度が全面にわたって均
一となり、その結果、対陰極上に密度の均一な電子線焦
点を結ぶことが可能となった。
予備加熱部によって電子照射部の両端部が予備的に加熱
されるので、電子照射部の発熱温度が全面にわたって均
一となり、その結果、対陰極上に密度の均一な電子線焦
点を結ぶことが可能となった。
【００２８】請求項２記載のＸ線発生装置によれば、陰
極側面の全域にわたってわずかの間隙を設けて近接ブロ
ックを配設したので、陰極の側面から回り込むようにし
て対陰極上の電子線焦点の短手方向両端部（Ｓ１，Ｓ
２）に集中して向かう電子線が発生しなくなる。その結
果、対陰極上に密度の均一な電子線焦点を結ぶことが可
能となった。また、近接ブロックを設けたことにより、
陰極の発熱温度が全域にわたって均一となり、その面か
らも密度の均一な電子線焦点を結ぶことが可能となっ
た。
極側面の全域にわたってわずかの間隙を設けて近接ブロ
ックを配設したので、陰極の側面から回り込むようにし
て対陰極上の電子線焦点の短手方向両端部（Ｓ１，Ｓ
２）に集中して向かう電子線が発生しなくなる。その結
果、対陰極上に密度の均一な電子線焦点を結ぶことが可
能となった。また、近接ブロックを設けたことにより、
陰極の発熱温度が全域にわたって均一となり、その面か
らも密度の均一な電子線焦点を結ぶことが可能となっ
た。
【００２９】請求項３記載のＸ線発生装置によれば、途
中で途切れることのない均一な電子線焦点を対陰極上に
得ることができる。
中で途切れることのない均一な電子線焦点を対陰極上に
得ることができる。
【図１】本発明に係るＸ線発生装置の一実施例を示す斜
視図である。
視図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線に従った断面図である。
【図３】図１のＩＩＩ−ＩＩＩ線に従った断面図であ
る。
る。
【図４】本発明に係るＸ線発生装置の他の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図５】従来のＸ線発生装置の一例を示す斜視図であ
る。
る。
【図６】図５のＶＩ−ＶＩ線に従った断面図である。
【図７】図５のＶＩＩ−ＶＩＩ線に従った断面図であ
る。
る。
１ 陰極 ２ ウエネルト
３ 対陰極 ６ 電子照射部
７ 予備加熱部 １１ ウエネルト張出
し部 １２ 近接ブロック
し部 １２ 近接ブロック
Claims (3)
- 【請求項１】 ランタンヘキサボライド（ＬａＢ6）を
含む断面方形状の線材によって形成された陰極と、該陰
極を包囲するウエネルトと、陰極に対向して配置される
対陰極とを有しており、陰極から放射される電子をウエ
ネルトによって形成される電場を通過させて対陰極に衝
突させ、該対陰極からＸ線を放射するＸ線発生装置にお
いて、 上記陰極は、対陰極へ向けて電子を放射する部分である
電子放射部と、電子放射部の両側に設けられていて対陰
極から見て電子放射部よりも後方に退避した位置にある
予備加熱部とを有しており、 上記ウエネルトは、上記陰極の予備加熱部を覆うように
陰極に向かって張り出す張出し部を有していることを特
徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項２】 ランタンヘキサボライド（ＬａＢ6）を
含む断面方形状の線材によって形成された陰極と、該陰
極を包囲するウエネルトと、陰極に対向して配置される
対陰極とを有しており、陰極から放射される電子をウエ
ネルトによって形成される電場を通過させて対陰極に衝
突させ、該対陰極からＸ線を放射するＸ線発生装置にお
いて、 上記陰極の側面全域に対向してわずかの間隙をおいて近
接ブロックを設けたことを特徴とするＸ線発生装置。 - 【請求項３】 ランタンヘキサボライド（ＬａＢ6）を
含む断面方形状の線材によって形成された陰極と、該陰
極を包囲するウエネルトと、陰極に対向して配置される
対陰極とを有しており、陰極から放射される電子をウエ
ネルトによって形成される電場を通過させて対陰極に衝
突させ、該対陰極からＸ線を放射するＸ線発生装置にお
いて、 上記陰極のうち対陰極へ向けて電子を放射する部分であ
る電子放射部は、１本の真っ直ぐな直線状の線材によっ
て構成されていることを特徴とするＸ線発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18813191A JPH0513191A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | Ｘ線発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18813191A JPH0513191A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | Ｘ線発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0513191A true JPH0513191A (ja) | 1993-01-22 |
Family
ID=16218277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18813191A Pending JPH0513191A (ja) | 1991-07-02 | 1991-07-02 | Ｘ線発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0513191A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07211273A (ja) * | 1994-01-20 | 1995-08-11 | Rigaku Corp | Ｘ線発生装置用フィラメント |
-
1991
- 1991-07-02 JP JP18813191A patent/JPH0513191A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07211273A (ja) * | 1994-01-20 | 1995-08-11 | Rigaku Corp | Ｘ線発生装置用フィラメント |
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