JPH08264141A - Ｘ線管 - Google Patents
Ｘ線管Info
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- JPH08264141A JPH08264141A JP8063183A JP6318396A JPH08264141A JP H08264141 A JPH08264141 A JP H08264141A JP 8063183 A JP8063183 A JP 8063183A JP 6318396 A JP6318396 A JP 6318396A JP H08264141 A JPH08264141 A JP H08264141A
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- JP
- Japan
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- ray tube
- emitter
- focus
- electron
- irradiation spot
- Prior art date
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- Withdrawn
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/153—Spot position control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/04—Electrodes ; Mutual position thereof; Constructional adaptations therefor
- H01J35/06—Cathodes
- H01J35/066—Details of electron optical components, e.g. cathode cups
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J35/00—X-ray tubes
- H01J35/02—Details
- H01J35/14—Arrangements for concentrating, focusing, or directing the cathode ray
- H01J35/147—Spot size control
Landscapes
- X-Ray Techniques (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガウス特性カーブ（曲線）の強度分布を有す
る照射スポット（ＢＦ）が得られるように構成されたＸ
線管を提供すること。 【構成】 陽極（７）及び陽極（７）から間隔を置いて
取り付けられている電子エミッタ（５）を有する陰極装
置（３）を有し、該陰極装置は電子ビーム（Ｅ）に対す
るフォーカシング手段を有し、上記電子ビーム（Ｅ）は
Ｘ線管の動作中電子エミッタ（５）から発せられて照射
スポット（ＢＦ）にて陽極（７）へ照射され、前記電子
ビームの焦点（Ｆ１）は電子エミッタ（５）と照射スポ
ット（ＢＦ）との間に位置するように構成されているこ
と。
る照射スポット（ＢＦ）が得られるように構成されたＸ
線管を提供すること。 【構成】 陽極（７）及び陽極（７）から間隔を置いて
取り付けられている電子エミッタ（５）を有する陰極装
置（３）を有し、該陰極装置は電子ビーム（Ｅ）に対す
るフォーカシング手段を有し、上記電子ビーム（Ｅ）は
Ｘ線管の動作中電子エミッタ（５）から発せられて照射
スポット（ＢＦ）にて陽極（７）へ照射され、前記電子
ビームの焦点（Ｆ１）は電子エミッタ（５）と照射スポ
ット（ＢＦ）との間に位置するように構成されているこ
と。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する分野】本発明は、陽極及び該陽極から間
隔を置いて取り付けられている電子エミッタを有する陰
極装置を有し、該陰極装置は電子ビームに対するフォー
カシング手段を有し、上記電子ビームはＸ線管の動作中
電子エミッタから発せられて照射スポットにて陽極へ照
射されるように構成されているＸ線管に関する。
隔を置いて取り付けられている電子エミッタを有する陰
極装置を有し、該陰極装置は電子ビームに対するフォー
カシング手段を有し、上記電子ビームはＸ線管の動作中
電子エミッタから発せられて照射スポットにて陽極へ照
射されるように構成されているＸ線管に関する。
【０００２】
【従来技術】その種Ｘ線管（例えば、ＥＰ０２１００７
６Ａ２参照）はＸ線管結像系中で使用される。従来Ｘ線
管では２つのピーク（隆起）部を有する照射スポットに
てＸ線（ビーム）の強度分布が生じる。そのような強度
分布は一方では画質に対して規定的な変調伝達関数に悪
影響を及ぼす（参照：Ａ．Ｇｅｂａｕｅｒ ｅｔ ａ
ｌ．，“Ｄａｓ Ｒｏｅｎｔｇｅｎｆｅｒｎｓｅｈｅ
ｎ”，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ− Ｖｅｒｌａｇ（版
元）、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ、１９７４、第２６〜３３
頁）。更に、２つのピーク（隆起）部の領域内にて出力
密度、ひいては陰極の温度が特に高い。ガウス特性カー
ブ（曲線）に類似の強度分布によっては変調伝達関数の
比較的有利な特性経過のみならず、理論的にほぼ１０％
だけ、一層より小さい陰極装置の最大値温度（ないし同
じ最大温度下での出力の相応の増大）が達せられ得る。
６Ａ２参照）はＸ線管結像系中で使用される。従来Ｘ線
管では２つのピーク（隆起）部を有する照射スポットに
てＸ線（ビーム）の強度分布が生じる。そのような強度
分布は一方では画質に対して規定的な変調伝達関数に悪
影響を及ぼす（参照：Ａ．Ｇｅｂａｕｅｒ ｅｔ ａ
ｌ．，“Ｄａｓ Ｒｏｅｎｔｇｅｎｆｅｒｎｓｅｈｅ
ｎ”，Ｇｅｏｒｇ Ｔｈｉｅｍｅ− Ｖｅｒｌａｇ（版
元）、Ｓｔｕｔｔｇａｒｔ、１９７４、第２６〜３３
頁）。更に、２つのピーク（隆起）部の領域内にて出力
密度、ひいては陰極の温度が特に高い。ガウス特性カー
ブ（曲線）に類似の強度分布によっては変調伝達関数の
比較的有利な特性経過のみならず、理論的にほぼ１０％
だけ、一層より小さい陰極装置の最大値温度（ないし同
じ最大温度下での出力の相応の増大）が達せられ得る。
【０００３】その種のＸ線管はＥＰ ０ １１５ ７３
１ Ａ２ 及び ＦＲ ２６ ５０７０３ Ａ１、ＵＳ
４ ６８９ ８０９、ＤＥ ４３ ０４ １４２ Ｃ
２及びＤＥ３０ ０１ １４１Ａ１に記載されている。
フォーカシング（集束）手段としては陰極ヘッドが設け
られており、該ヘッドは電子エミッタを収容する溝を有
する。上記陰極の相対向する壁部は３つの最初に述べた
３つの刊行物の場合異なった電位を印加されて、陰極の
照射面上で照射スポットのずれ（転位、移動）を可能に
することが図られている。これに反して、最後に述べた
２つの刊行物の場合において異なる大きさの照射スポッ
トを可調整にするものである。このことはＤＥ３０ ０
１ １４１Ａ１の場合では溝の方向での陰極ヘッドの複
数部分領域（セクション）への細分化により行われ、上
記複数部分領域（セクション）は異なった電位を印加さ
れる。ＤＥ４３ ０４ １４２Ｃ２の場合には電子エミ
ッタは奇数の部分領域（セクション）に細分化されてお
り、上記部分領域のうち唯一の中央部分領域のみか、又
は、相対応する外側部分領域の対もアクティブ状態にお
かれる。
１ Ａ２ 及び ＦＲ ２６ ５０７０３ Ａ１、ＵＳ
４ ６８９ ８０９、ＤＥ ４３ ０４ １４２ Ｃ
２及びＤＥ３０ ０１ １４１Ａ１に記載されている。
フォーカシング（集束）手段としては陰極ヘッドが設け
られており、該ヘッドは電子エミッタを収容する溝を有
する。上記陰極の相対向する壁部は３つの最初に述べた
３つの刊行物の場合異なった電位を印加されて、陰極の
照射面上で照射スポットのずれ（転位、移動）を可能に
することが図られている。これに反して、最後に述べた
２つの刊行物の場合において異なる大きさの照射スポッ
トを可調整にするものである。このことはＤＥ３０ ０
１ １４１Ａ１の場合では溝の方向での陰極ヘッドの複
数部分領域（セクション）への細分化により行われ、上
記複数部分領域（セクション）は異なった電位を印加さ
れる。ＤＥ４３ ０４ １４２Ｃ２の場合には電子エミ
ッタは奇数の部分領域（セクション）に細分化されてお
り、上記部分領域のうち唯一の中央部分領域のみか、又
は、相対応する外側部分領域の対もアクティブ状態にお
かれる。
【０００４】異なる大きさの照射スポットは、冒頭に述
べた形式のＤＥーＰＳ１５１ ２３７に記載のＸ線管に
おいても実現可能であり、ここで、相互に相対的に軸方
向に移動可能な２つの電子エミッター部分領域により実
現可能であり、上記部分領域のうち、移動位置に応じ
て、唯円形状の部分領域のみ又は付加的に外側のリング
状の部分領域がアクティブ状態におかれる。ここで、電
子ビームフォーカシングは電子エミッター部分領域の凹
面鏡状の湾曲部により行われ得る。
べた形式のＤＥーＰＳ１５１ ２３７に記載のＸ線管に
おいても実現可能であり、ここで、相互に相対的に軸方
向に移動可能な２つの電子エミッター部分領域により実
現可能であり、上記部分領域のうち、移動位置に応じ
て、唯円形状の部分領域のみ又は付加的に外側のリング
状の部分領域がアクティブ状態におかれる。ここで、電
子ビームフォーカシングは電子エミッター部分領域の凹
面鏡状の湾曲部により行われ得る。
【０００５】
【発明が解決すべき課題】本発明の基礎を成す目的ない
し課題とするところはガウス特性カーブ（曲線）の強度
分布を有する照射スポットが得られるように冒頭に述べ
た形式のＸ線管を構成することにある。
し課題とするところはガウス特性カーブ（曲線）の強度
分布を有する照射スポットが得られるように冒頭に述べ
た形式のＸ線管を構成することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記解決のため本発明に
よれば、陽極及び陽極から間隔を置いて取り付けられて
いる電子エミッタを有する陰極装置を有し、該陰極装置
は電子ビームに対するフォーカシング手段を有し、上記
電子ビームはＸ線管の動作中電子エミッタから発せられ
て照射スポットにて陽極へ照射され、前記電子ビームの
焦点は電子エミッタと照射スポットとの間に位置するよ
うに構成されているのである。
よれば、陽極及び陽極から間隔を置いて取り付けられて
いる電子エミッタを有する陰極装置を有し、該陰極装置
は電子ビームに対するフォーカシング手段を有し、上記
電子ビームはＸ線管の動作中電子エミッタから発せられ
て照射スポットにて陽極へ照射され、前記電子ビームの
焦点は電子エミッタと照射スポットとの間に位置するよ
うに構成されているのである。
【０００７】そのようなフォーカシング手段の設計構成
を行うと、照射スポットにてガウス特性カーブ（曲線）
類似の強度分布が得られることが判明している。ここ
で、概念“フォーカス（焦点）”は、主焦点、換言すれ
ば、照射スポットの強度に対して規定的な電子ビームの
各成分のフォーカス焦点と解せられるべきものであり、
ここで、上記ビーム成分は通常陽極に直ぐ隣接する電子
エミッタの領域から発せられるものである。照射スポッ
トの強度に対して規定的でない電子ビームの成分（該成
分は陰極から離反した方の電子エミッタ領域、たとえば
電子エミッタの後面（裏面）から発せられる）に関して
は場合により、主フォーカス焦点とは偏差（ずれ）のあ
る一層わずかな強度の副フォーカス焦点が存在し得る。
フォーカス焦点は電子エミッタの形態及びフォーカシン
グ手段の作用に応じて、少なくとの近似的に点状又は少
なくとも線状のフォーカス焦点であり得る。ここで、線
フォーカス焦点の場合は当該線フォーカス（焦点）に対
して横断方向のみにガウス特性カーブ（曲線）類似の強
度分布が生ぜしめられる。
を行うと、照射スポットにてガウス特性カーブ（曲線）
類似の強度分布が得られることが判明している。ここ
で、概念“フォーカス（焦点）”は、主焦点、換言すれ
ば、照射スポットの強度に対して規定的な電子ビームの
各成分のフォーカス焦点と解せられるべきものであり、
ここで、上記ビーム成分は通常陽極に直ぐ隣接する電子
エミッタの領域から発せられるものである。照射スポッ
トの強度に対して規定的でない電子ビームの成分（該成
分は陰極から離反した方の電子エミッタ領域、たとえば
電子エミッタの後面（裏面）から発せられる）に関して
は場合により、主フォーカス焦点とは偏差（ずれ）のあ
る一層わずかな強度の副フォーカス焦点が存在し得る。
フォーカス焦点は電子エミッタの形態及びフォーカシン
グ手段の作用に応じて、少なくとの近似的に点状又は少
なくとも線状のフォーカス焦点であり得る。ここで、線
フォーカス焦点の場合は当該線フォーカス（焦点）に対
して横断方向のみにガウス特性カーブ（曲線）類似の強
度分布が生ぜしめられる。
【０００８】本発明の特に有利な実施形態によれば、電
子エミッタとしてフラットエミッタが設けられる。而し
て、照射スポットにおいて、Ｘ線ビームのガウス特性カ
ーブ（曲線）状強度分布が達成され得る、それというの
はフラットエミッタにより生ぜしめられる照射スポット
はたとえばコイル状電子エミッタにより生ぜしめられる
照射スポットよりもガウス特性カーブ（曲線）状理想特
性カーブ（曲線）との離反の程度がわずかであるからで
ある。フラットエミッタとは次のような電子エミッタと
解せられるべきものである、即ち、それの、電子エミッ
ションに対して設けられた領域が、少なくとも実質的に
フラット（平坦）な表面を形成するような電子エミッタ
と解されるべきものである。もちろん、実際上、それ自
体電子エミッションのために設けられた平坦な面外でも
電子がエミッションされることが避けられない。然し乍
ら、その電子エミッションは実際上従属的、副次的重要
性しかない。但し、照射スポットにおける所期の強度分
布からの不都合な偏差を来し得る。従って、フラットエ
ミッタに次のように被覆を施すと特に有利である、即
ち、電子のエミッションが少なくとも実質的にもっぱら
フラットエミッタの陰極のほうに向いた面の領域にて行
われるように被覆を施すと特に有利である。このことは
次のようにして達せられる、即ち、エミッションのため
に設けられた面に、所定の材料を施し、該所定材料はフ
ラットエミッタのその他の（残りの）面に比して比較的
に高い電子エミッション能力を有するようにするか、及
び／又はフラットエミッタが、電子エミッションのため
に設けられた面外で比較的に小さい電子エミッション能
力を有する材料で被覆され、該材料は電子エミッション
のため設けられた面の領域にて存在する材料に比して比
較的小さい電子エミッション能力を有するようにするの
である。
子エミッタとしてフラットエミッタが設けられる。而し
て、照射スポットにおいて、Ｘ線ビームのガウス特性カ
ーブ（曲線）状強度分布が達成され得る、それというの
はフラットエミッタにより生ぜしめられる照射スポット
はたとえばコイル状電子エミッタにより生ぜしめられる
照射スポットよりもガウス特性カーブ（曲線）状理想特
性カーブ（曲線）との離反の程度がわずかであるからで
ある。フラットエミッタとは次のような電子エミッタと
解せられるべきものである、即ち、それの、電子エミッ
ションに対して設けられた領域が、少なくとも実質的に
フラット（平坦）な表面を形成するような電子エミッタ
と解されるべきものである。もちろん、実際上、それ自
体電子エミッションのために設けられた平坦な面外でも
電子がエミッションされることが避けられない。然し乍
ら、その電子エミッションは実際上従属的、副次的重要
性しかない。但し、照射スポットにおける所期の強度分
布からの不都合な偏差を来し得る。従って、フラットエ
ミッタに次のように被覆を施すと特に有利である、即
ち、電子のエミッションが少なくとも実質的にもっぱら
フラットエミッタの陰極のほうに向いた面の領域にて行
われるように被覆を施すと特に有利である。このことは
次のようにして達せられる、即ち、エミッションのため
に設けられた面に、所定の材料を施し、該所定材料はフ
ラットエミッタのその他の（残りの）面に比して比較的
に高い電子エミッション能力を有するようにするか、及
び／又はフラットエミッタが、電子エミッションのため
に設けられた面外で比較的に小さい電子エミッション能
力を有する材料で被覆され、該材料は電子エミッション
のため設けられた面の領域にて存在する材料に比して比
較的小さい電子エミッション能力を有するようにするの
である。
【０００９】本発明の変化形によれば電子エミッタはフ
ォーカシング手段のフォーカシング溝内に収容される。
ここで、フォーカシング溝の壁部のうち少なくとの１つ
がフォーカス焦点の位置状態に影響を及ぼす電位におか
れる。殊に、フラットエミッタ使用の場合にはフォーカ
シング溝は有利に階段ステップ（部）を付けて構成さ
れ、ここで、陽極に隣接するステップ（部）は陽極から
遠くの方のステップ（部）より幅広であり、ここで、フ
ラットエミッタは陽極から離反する（遠くの）方のステ
ップ（部）から陽極に隣接するステップ（部）への移行
部の領域内に配置される。ここにおいて、本発明の実施
形態によれば、フォーカシング溝の少なくとも１つのス
テップ（部）が矩形状の横断面を有すること及び／又は
フォーカシング溝の少なくとも１つが陽極の方向に向か
って分岐する壁部を有するのである。
ォーカシング手段のフォーカシング溝内に収容される。
ここで、フォーカシング溝の壁部のうち少なくとの１つ
がフォーカス焦点の位置状態に影響を及ぼす電位におか
れる。殊に、フラットエミッタ使用の場合にはフォーカ
シング溝は有利に階段ステップ（部）を付けて構成さ
れ、ここで、陽極に隣接するステップ（部）は陽極から
遠くの方のステップ（部）より幅広であり、ここで、フ
ラットエミッタは陽極から離反する（遠くの）方のステ
ップ（部）から陽極に隣接するステップ（部）への移行
部の領域内に配置される。ここにおいて、本発明の実施
形態によれば、フォーカシング溝の少なくとも１つのス
テップ（部）が矩形状の横断面を有すること及び／又は
フォーカシング溝の少なくとも１つが陽極の方向に向か
って分岐する壁部を有するのである。
【００１０】本発明の特に有利な実施例によれば、Ｘ線
管のフォーカシング溝が相対向する壁の相互に絶縁され
た対により形成されており、ここで、一方の対の壁部は
第１の電位におかれ、そして、他方の対の壁部は第２の
電位におかれ、ここで少なくとも１つの対に関して、電
位は次のように選定されており、即ち、相応のフォーカ
ス焦点が電子エミッタと照射スポットとの間に相応のフ
ォーカス焦点が位置するように選定されているのであ
る。要するにフォーカス焦点の位置状態を、２つの方向
で、たとえば照射スポットの長さの方向及び幅の方向で
相互に無関係に選定し得るようになる。
管のフォーカシング溝が相対向する壁の相互に絶縁され
た対により形成されており、ここで、一方の対の壁部は
第１の電位におかれ、そして、他方の対の壁部は第２の
電位におかれ、ここで少なくとも１つの対に関して、電
位は次のように選定されており、即ち、相応のフォーカ
ス焦点が電子エミッタと照射スポットとの間に相応のフ
ォーカス焦点が位置するように選定されているのであ
る。要するにフォーカス焦点の位置状態を、２つの方向
で、たとえば照射スポットの長さの方向及び幅の方向で
相互に無関係に選定し得るようになる。
【００１１】本発明の基礎を成すさらなる課題とすると
ころは簡単な手法で、照射スポットにてＸ線ビームのガ
ウス特性カーブ（曲線）類似の強度分布の維持下で、照
射スポットの大きさを調整し得ることである。上記課題
を解決する本発明の実施形態の構成要件によれば、フォ
ーカス焦点と照射スポットとの間の間隔が可調整である
ようにするのである。
ころは簡単な手法で、照射スポットにてＸ線ビームのガ
ウス特性カーブ（曲線）類似の強度分布の維持下で、照
射スポットの大きさを調整し得ることである。上記課題
を解決する本発明の実施形態の構成要件によれば、フォ
ーカス焦点と照射スポットとの間の間隔が可調整である
ようにするのである。
【００１２】上記手段の認識の立脚するところは照射ス
ポットサイズ（大きさ）に対して規定的であるのは照射
スポットからのフォーカス焦点の間隔である。ここで、
フォーカス焦点が照射スポットから離れていればいるほ
ど、照射スポットは益々大になる。フォーカス焦点はど
のような照射スポットサイズがセッティングされるかに
無関係に電子エミッタと照射スポットとの間に位置する
のでセッティングされた照射スポットサイズに無関係に
照射スポットにおけるガウス特性カーブ（曲線）類似の
強度分布が得られる。
ポットサイズ（大きさ）に対して規定的であるのは照射
スポットからのフォーカス焦点の間隔である。ここで、
フォーカス焦点が照射スポットから離れていればいるほ
ど、照射スポットは益々大になる。フォーカス焦点はど
のような照射スポットサイズがセッティングされるかに
無関係に電子エミッタと照射スポットとの間に位置する
のでセッティングされた照射スポットサイズに無関係に
照射スポットにおけるガウス特性カーブ（曲線）類似の
強度分布が得られる。
【００１３】フォーカス焦点の位置状態は次のようにし
て調整し得る、即ち、フォーカス焦点の位置状態に影響
を与える電位ないし第１及び／又は第２電位を調整する
のである。亦、次のようにしてフォーカス焦点の位置に
影響を及ぼすこともできる、即ち、フォーカシング溝内
における電子エミッタの位置状態が電子エミッタの中心
軸線の方向で調整されるようにするのである。
て調整し得る、即ち、フォーカス焦点の位置状態に影響
を与える電位ないし第１及び／又は第２電位を調整する
のである。亦、次のようにしてフォーカス焦点の位置に
影響を及ぼすこともできる、即ち、フォーカシング溝内
における電子エミッタの位置状態が電子エミッタの中心
軸線の方向で調整されるようにするのである。
【００１４】電気的調整の場合、第１、第２電位双方が
調整可能であるケース（事例）に対して第１、第２電位
が相互に無関係に調整可能である。
調整可能であるケース（事例）に対して第１、第２電位
が相互に無関係に調整可能である。
【００１５】
【実施例】本発明の実施例を図を用いて説明する。
【００１６】図１中では、１は、Ｘ線管の管球を示す。
該管球は、ここで記載の実施例（実施形態）の場合で
は、公知のように（常法で）、セラミック，及び金属又
はガラス−他の材料も可能である−から作製される。管
球内部では支持（体）部分２にて陰極装置３が取り付け
られており、該陰極装置は、電子エミッタを有する。該
電子エミッタは、フォーカシング手段として設けられた
陰極部材（本体）内に収容されている。上記電子エミッ
タは、ヒータ（加熱）陰極として構成されている。前記
ヒータ（加熱）陰極に対向して、全体を７で示す回転陽
極が設けられている。該回転陽極は、シャフト（軸）８
を介してロータ９に連結されている。ロータ９は図１に
は示していない形式で、管球１に連結された軸１１上に
回転可能に支承されている。ロータ９の領域内にて管球
の外壁上にステータ１２が載置されており、該ステータ
は回転陽極の駆動に用いられるモータの形成のためロー
タ９と共働する。
該管球は、ここで記載の実施例（実施形態）の場合で
は、公知のように（常法で）、セラミック，及び金属又
はガラス−他の材料も可能である−から作製される。管
球内部では支持（体）部分２にて陰極装置３が取り付け
られており、該陰極装置は、電子エミッタを有する。該
電子エミッタは、フォーカシング手段として設けられた
陰極部材（本体）内に収容されている。上記電子エミッ
タは、ヒータ（加熱）陰極として構成されている。前記
ヒータ（加熱）陰極に対向して、全体を７で示す回転陽
極が設けられている。該回転陽極は、シャフト（軸）８
を介してロータ９に連結されている。ロータ９は図１に
は示していない形式で、管球１に連結された軸１１上に
回転可能に支承されている。ロータ９の領域内にて管球
の外壁上にステータ１２が載置されており、該ステータ
は回転陽極の駆動に用いられるモータの形成のためロー
タ９と共働する。
【００１７】Ｘ線管の作動の際ステータ１２にはＸ線管
１３、１４を介して交流が供給され、その結果軸１１を
介してロータ９と連結された陽極皿状体１０は回転す
る。
１３、１４を介して交流が供給され、その結果軸１１を
介してロータ９と連結された陽極皿状体１０は回転す
る。
【００１８】管電圧は線路１５、１６を介して印加さ
れ、ここで線路１６はヒータ陰極５の一方の端子に接続
されており、該線路を介してヒータ電極に加熱電流が供
給され得る。そのように供給されると、ヒータ電極５か
ら電子ビームが発せられる。
れ、ここで線路１６はヒータ陰極５の一方の端子に接続
されており、該線路を介してヒータ電極に加熱電流が供
給され得る。そのように供給されると、ヒータ電極５か
ら電子ビームが発せられる。
【００１９】上記電子ビームは図１で破線で示すように
ＢＦで示す照射スポットにて陽極皿状体１０の照射面１
９に照射される。照射スポットＢＦから発せられるＸ線
ビームはビーム出射窓２０を通って出射する。
ＢＦで示す照射スポットにて陽極皿状体１０の照射面１
９に照射される。照射スポットＢＦから発せられるＸ線
ビームはビーム出射窓２０を通って出射する。
【００２０】図１及び図２から明らかなように、ヒータ
電極５はフラットエミッタであり、該フラットエミッタ
は陰極部材（本体）の階段状ステップ（部）付きフォー
カシング溝内に収容されている。
電極５はフラットエミッタであり、該フラットエミッタ
は陰極部材（本体）の階段状ステップ（部）付きフォー
カシング溝内に収容されている。
【００２１】陰極部材（本体）４は、４つの壁部分２２
ａ，２２ｂ及び２３ａ，２３ｂを有し、該壁部分によっ
てはフォーカシング溝２１が形成される。
ａ，２２ｂ及び２３ａ，２３ｂを有し、該壁部分によっ
てはフォーカシング溝２１が形成される。
【００２２】壁部分２２ａ，２２ｂ及び２３ａ，２３ｂ
はそれぞれ相互に並行に対向し合って配置されている。
はそれぞれ相互に並行に対向し合って配置されている。
【００２３】壁部分２２ａ，２２ｂ及び２３ａ，２３ｂ
はそれぞれ共通電位ＵＩないしＵ２におかれている。上
記壁部分は線路２６、２７を介して電源２４、２５に接
続されている。壁部分２２ａ、２２ｂは図１及び図２に
は示してない手法で、壁部分２３ａ、２３ｂから絶縁さ
れている。
はそれぞれ共通電位ＵＩないしＵ２におかれている。上
記壁部分は線路２６、２７を介して電源２４、２５に接
続されている。壁部分２２ａ、２２ｂは図１及び図２に
は示してない手法で、壁部分２３ａ、２３ｂから絶縁さ
れている。
【００２４】フラットエミッタの比較的長い側に隣接す
る壁部分２２ａ、２２ｂに加わる電位Ｕ１は次のように
選定されている、即ち陽極皿状体１０の方に向いたフラ
ットエミッタ側から発する電子ビームがフォーカシング
され、ここでフォーカス焦点（Ｆ１）がフラットエミッ
タと照射スポットＢＦとの間に生ぜしめられるように選
定されている（図３）。
る壁部分２２ａ、２２ｂに加わる電位Ｕ１は次のように
選定されている、即ち陽極皿状体１０の方に向いたフラ
ットエミッタ側から発する電子ビームがフォーカシング
され、ここでフォーカス焦点（Ｆ１）がフラットエミッ
タと照射スポットＢＦとの間に生ぜしめられるように選
定されている（図３）。
【００２５】上記の手段によってはフラットエミッタの
長手軸に対して横断方向でみて、照射スポットから発せ
られるＸ線ビームの冒頭に述べた理由により好適なガウ
ス特性カーブ（曲線）類似の強度分布が得られ、上記Ｘ
線ビームはフォーカス焦点（Ｆ１）と照射スポットＢＦ
との間に位置するという事情に基づき、次のような場合
におけるよりもガウス特性カーブ（曲線）状の理想特性
により一層近似せしめられる、即ち、フォーカス焦点Ｆ
１が従来技術におけるように、フラットエミッタからみ
て照射スポットＢＦの向こう側、即ち陽極皿状体１０内
に位置する場合におけるよりも一層理想特性に近似せし
められる。
長手軸に対して横断方向でみて、照射スポットから発せ
られるＸ線ビームの冒頭に述べた理由により好適なガウ
ス特性カーブ（曲線）類似の強度分布が得られ、上記Ｘ
線ビームはフォーカス焦点（Ｆ１）と照射スポットＢＦ
との間に位置するという事情に基づき、次のような場合
におけるよりもガウス特性カーブ（曲線）状の理想特性
により一層近似せしめられる、即ち、フォーカス焦点Ｆ
１が従来技術におけるように、フラットエミッタからみ
て照射スポットＢＦの向こう側、即ち陽極皿状体１０内
に位置する場合におけるよりも一層理想特性に近似せし
められる。
【００２６】照射スポットＢＦの幅を可変にし得るため
壁部分２２ａ，２２ｂのおかれる電位をシフトし得る。
この目的のため、電圧源２４から供給される電位が可調
整であり、このことは、図２中で調整矢印で示されてい
る。ここで、正及び負電位の双方をセッティングし得る
ようになっている。
壁部分２２ａ，２２ｂのおかれる電位をシフトし得る。
この目的のため、電圧源２４から供給される電位が可調
整であり、このことは、図２中で調整矢印で示されてい
る。ここで、正及び負電位の双方をセッティングし得る
ようになっている。
【００２７】ここで、フォーカス焦点Ｆ１は正の電位Ｕ
Ｉの増大と共に照射スポットのほうへ移動し、従って、
上記照射スポットＢＦの幅Ｂはより小になる。負の電位
Ｕ１の増大と共にフォーカス焦点Ｆ１は図３に示す位置
から出発してフラットエミッタの方に向かって移動し、
その結果照射スポットＢＦの幅Ｂは増大する。
Ｉの増大と共に照射スポットのほうへ移動し、従って、
上記照射スポットＢＦの幅Ｂはより小になる。負の電位
Ｕ１の増大と共にフォーカス焦点Ｆ１は図３に示す位置
から出発してフラットエミッタの方に向かって移動し、
その結果照射スポットＢＦの幅Ｂは増大する。
【００２８】フラットエミッタの狭幅側に隣接する壁部
分２３ａ，２３ｂに関連して当該配置構成は次のように
なされている、即ち、壁部分２３ａ，２３ｂがＯＶの電
位Ｕ２におかれる場合、上記壁部分２３ａ，２３ｂに所
属するフォーカス焦点Ｆ２が図４に示すように陽極皿状
体１０ないしその向こう側に位置するように配置構成が
なされている。フラットエミッタの長手軸の方向でみ
て、ガウス特性カーブ（曲線）への近似化が比較的良好
でないＸ線ビームの強度分布（照射スポットＢＦ内で
の）が生じるが、このことはさして重要でない、それと
いうのは、照射スポットＢＦの長手軸線と照射スポット
ＢＦから発せられるＸ線ビーム束の中央ビームＺとが図
３（図１）に示すように回転陽極７の照射面のさい頭円
錐（切頭錐体）形態に基づき鋭角αを成すからである。
ビーム受信機たとえば、Ｘ線フィルタ又はＸ線イメージ
インテシファイヤから見て、照射スポットＢＦの長手軸
の方向で、Ｘ線ビームの強度分布におけるピーク（隆
起）部が特別にひどくは現れない。
分２３ａ，２３ｂに関連して当該配置構成は次のように
なされている、即ち、壁部分２３ａ，２３ｂがＯＶの電
位Ｕ２におかれる場合、上記壁部分２３ａ，２３ｂに所
属するフォーカス焦点Ｆ２が図４に示すように陽極皿状
体１０ないしその向こう側に位置するように配置構成が
なされている。フラットエミッタの長手軸の方向でみ
て、ガウス特性カーブ（曲線）への近似化が比較的良好
でないＸ線ビームの強度分布（照射スポットＢＦ内で
の）が生じるが、このことはさして重要でない、それと
いうのは、照射スポットＢＦの長手軸線と照射スポット
ＢＦから発せられるＸ線ビーム束の中央ビームＺとが図
３（図１）に示すように回転陽極７の照射面のさい頭円
錐（切頭錐体）形態に基づき鋭角αを成すからである。
ビーム受信機たとえば、Ｘ線フィルタ又はＸ線イメージ
インテシファイヤから見て、照射スポットＢＦの長手軸
の方向で、Ｘ線ビームの強度分布におけるピーク（隆
起）部が特別にひどくは現れない。
【００２９】基本的には壁部分２３ａ，２３ｂに関して
配置構成を次のように行い得る、即ち、照射スポットＢ
Ｆとフラットエミッタとの間にフォーカス焦点Ｆ２が位
置するように配置構成を行い得る。壁部分２３ａ，２３
ｂの場合においても、フォーカス焦点（Ｆ１）の位置を
移す（変化させる）可能性が存し、それにより照射スポ
ットＢＦの長さＬの調整が可能になる。このために電位
Ｕ２が調整される。その際電位Ｕ２が正になればなる程
照射スポットＢＦは益々それだけ長くなる（フラットエ
ミッタからのフォーカス焦点Ｆ２の距離はより大にな
る）。
配置構成を次のように行い得る、即ち、照射スポットＢ
Ｆとフラットエミッタとの間にフォーカス焦点Ｆ２が位
置するように配置構成を行い得る。壁部分２３ａ，２３
ｂの場合においても、フォーカス焦点（Ｆ１）の位置を
移す（変化させる）可能性が存し、それにより照射スポ
ットＢＦの長さＬの調整が可能になる。このために電位
Ｕ２が調整される。その際電位Ｕ２が正になればなる程
照射スポットＢＦは益々それだけ長くなる（フラットエ
ミッタからのフォーカス焦点Ｆ２の距離はより大にな
る）。
【００３０】電位Ｕ２が負になればなる程照射スポット
ＢＦの長さＬが益々小になる（フォーカス焦点Ｆ２は照
射スポットＢＦに近づく）。
ＢＦの長さＬが益々小になる（フォーカス焦点Ｆ２は照
射スポットＢＦに近づく）。
【００３１】試行により明らかになったところによれ
ば、照射スポットＢＦの長さＬの調整の際実際上照射ス
ポットＢＦのその都度調整される幅Ｂの何等の変化も起
こらない。同じことはその逆についても成立つ。
ば、照射スポットＢＦの長さＬの調整の際実際上照射ス
ポットＢＦのその都度調整される幅Ｂの何等の変化も起
こらない。同じことはその逆についても成立つ。
【００３２】図３及び図４に示す軸表示呼称は図２に示
す空間座標系の座標軸に係わる。
す空間座標系の座標軸に係わる。
【００３３】図１のＸ線管には制御ユニット２８が配属
されており、該制御ユニットはＸ選管の作動に必要なす
べての電圧及び電流を生成し、更に、フォーカス焦点Ｆ
の位置の調整、もって照射スポットＢＦの幅Ｂ及び長さ
Ｌの調整を引き受ける。照射スポットＢＦの寸法の調整
は操作者により制御ユニット２８に接続された操作装置
２９を用いて行われ得、上記操作装置は照射スポットＢ
Ｆの幅Ｂ及び長さＬに対して相応に示した回転ノブＢな
いしＬを有する。当該調整は自動的にも行われ得、たと
えば、照射スポットＢＦとビーム受信器間ないしビーム
受信器と対象物間の間隔に依存して行われ得る。当該間
隔はその都度の拡大率に対して規定的である。
されており、該制御ユニットはＸ選管の作動に必要なす
べての電圧及び電流を生成し、更に、フォーカス焦点Ｆ
の位置の調整、もって照射スポットＢＦの幅Ｂ及び長さ
Ｌの調整を引き受ける。照射スポットＢＦの寸法の調整
は操作者により制御ユニット２８に接続された操作装置
２９を用いて行われ得、上記操作装置は照射スポットＢ
Ｆの幅Ｂ及び長さＬに対して相応に示した回転ノブＢな
いしＬを有する。当該調整は自動的にも行われ得、たと
えば、照射スポットＢＦとビーム受信器間ないしビーム
受信器と対象物間の間隔に依存して行われ得る。当該間
隔はその都度の拡大率に対して規定的である。
【００３４】図５の実施例が前述のものと異なっている
点は、電位Ｕ１，Ｕ２の可調整性の代わりにフラットエ
ミッタ及びフォーカシング溝２１相互間の相対的な移動
可能性（可調整性）が与えられており、ここで、フォー
カシング溝の低位置の可変のなされるようにセッティン
グされている（与えられている）。
点は、電位Ｕ１，Ｕ２の可調整性の代わりにフラットエ
ミッタ及びフォーカシング溝２１相互間の相対的な移動
可能性（可調整性）が与えられており、ここで、フォー
カシング溝の低位置の可変のなされるようにセッティン
グされている（与えられている）。
【００３５】図５の実施例の場合、このことは次のよう
にして達成される、即ち、フラットエミッタはセラミッ
ク部分３４に取り付けられ、該セラミック部分３４は第
２セラミック部分３５に開口部を介して取り付けられて
いるのである。上記第２セラミック部分３５は壁部分２
２ａ，２２ｂ（これは図５では不可視）を支持する。セ
ラミック部分３４には略示した調整手段３６が作用し、
該調整手段はたとえばピエゾトランスレータ（直行ない
し並進運動機構）又は振動コイル（スピーカにおけるボ
イスコイルと類似のもの）であり得る。調整手段３６は
電子ビームＥの中心軸線の方向でのフラットエミッタの
直線的調整を可能にする。調整方向Ｚは図５では相応に
示す２重矢印で示す。
にして達成される、即ち、フラットエミッタはセラミッ
ク部分３４に取り付けられ、該セラミック部分３４は第
２セラミック部分３５に開口部を介して取り付けられて
いるのである。上記第２セラミック部分３５は壁部分２
２ａ，２２ｂ（これは図５では不可視）を支持する。セ
ラミック部分３４には略示した調整手段３６が作用し、
該調整手段はたとえばピエゾトランスレータ（直行ない
し並進運動機構）又は振動コイル（スピーカにおけるボ
イスコイルと類似のもの）であり得る。調整手段３６は
電子ビームＥの中心軸線の方向でのフラットエミッタの
直線的調整を可能にする。調整方向Ｚは図５では相応に
示す２重矢印で示す。
【００３６】Ｚ方向でのフラットエミッタのシフト（移
動）により照射スポットＢＦの幅を良好に制御し得る
が、照射スポットＢＦの長さＬはほぼ一定である。図５
による十しれの場合において照射スポットＢＦの長さも
変化させようとする場合、壁部分２３ａ，２３ｂのおか
れる電位Ｕ２を変化させることが必要であり、このこと
は図２では次のようにして示されている、即ち、電圧源
２５は線路２７を介して壁部分２３ａ，２３ｂと接続さ
れているようにして示されている。
動）により照射スポットＢＦの幅を良好に制御し得る
が、照射スポットＢＦの長さＬはほぼ一定である。図５
による十しれの場合において照射スポットＢＦの長さも
変化させようとする場合、壁部分２３ａ，２３ｂのおか
れる電位Ｕ２を変化させることが必要であり、このこと
は図２では次のようにして示されている、即ち、電圧源
２５は線路２７を介して壁部分２３ａ，２３ｂと接続さ
れているようにして示されている。
【００３７】図示の配置構成によっては同時に次のよう
な利点が得られる、即ち図５の実施例の場合においても
照射スポットＢＦの幅Ｂ及び長さＬが相互に無関係に可
調整である、それというのは、そのことは一方では電位
Ｕ２の調整により、他方ではフラットエミッタのＺ方向
移動（シフト）により行われるからである。
な利点が得られる、即ち図５の実施例の場合においても
照射スポットＢＦの幅Ｂ及び長さＬが相互に無関係に可
調整である、それというのは、そのことは一方では電位
Ｕ２の調整により、他方ではフラットエミッタのＺ方向
移動（シフト）により行われるからである。
【００３８】両実施例の場合フォーカシング溝２１は次
のように階段ステップ（部）を以て構成されている、即
ち、回転陽極に隣接するステップ（部）が回転陽極７か
ら遠いステップ（部）より幅広になるように階段ステッ
プ部を以て構成されている。フラットエミッタは図２に
示すように回転陽極７から遠いステップ（部）の、回転
陽極７に隣接するステップ（部）への移行の領域内に配
置されている。フォーカシング溝２１は回転陽極７から
遠いステップ（部）領域において長手方向断面（縦断
面）及び横断面にて矩形の輪郭を有する。回転陽極７に
隣接するステップ（部）の領域においてフォーカシング
溝２１は長手方向断面（縦断面）及び横断面にて矩形の
輪郭を有する。Ｖ字状の輪郭は回転陽極７の方向で拡大
する。矩形状輪郭はフォーカシング溝２３の縦断面にて
直接的にＶ字状輪郭に移行するがフォーカシング溝２１
の横断面内に段状部が設けられる。
のように階段ステップ（部）を以て構成されている、即
ち、回転陽極に隣接するステップ（部）が回転陽極７か
ら遠いステップ（部）より幅広になるように階段ステッ
プ部を以て構成されている。フラットエミッタは図２に
示すように回転陽極７から遠いステップ（部）の、回転
陽極７に隣接するステップ（部）への移行の領域内に配
置されている。フォーカシング溝２１は回転陽極７から
遠いステップ（部）領域において長手方向断面（縦断
面）及び横断面にて矩形の輪郭を有する。回転陽極７に
隣接するステップ（部）の領域においてフォーカシング
溝２１は長手方向断面（縦断面）及び横断面にて矩形の
輪郭を有する。Ｖ字状の輪郭は回転陽極７の方向で拡大
する。矩形状輪郭はフォーカシング溝２３の縦断面にて
直接的にＶ字状輪郭に移行するがフォーカシング溝２１
の横断面内に段状部が設けられる。
【００３９】フラットエミッタないしヒータ陰極５は図
２〜図４に示すように回転陽極７から離れた比較的より
狭いステップ（部）内に配置されるべきである（負方向
の取り付け）。それによりフラットエミッタの後面及び
側縁から発せられる電子のうちのくわずかなもののみ
が、照射面１９に達し得、その結果小さなシャープな照
射スポットＢＦが得られることが達成される。
２〜図４に示すように回転陽極７から離れた比較的より
狭いステップ（部）内に配置されるべきである（負方向
の取り付け）。それによりフラットエミッタの後面及び
側縁から発せられる電子のうちのくわずかなもののみ
が、照射面１９に達し得、その結果小さなシャープな照
射スポットＢＦが得られることが達成される。
【００４０】同じ理由によりフラットエミッタの側縁と
それを収容するフォーカシング溝のステップ（部）との
間の間隔をわずかにするとよい（オーダ０．１〜０．３
ｍｍ）。
それを収容するフォーカシング溝のステップ（部）との
間の間隔をわずかにするとよい（オーダ０．１〜０．３
ｍｍ）。
【００４１】同様に同じ理由から、フラットエミッタな
いしヒータ陰極５はできるだけ薄くすべきである（フラ
ットエミッタの側縁の領域にてたんにわずかに電子がエ
ミッションされるのを達成するために）。
いしヒータ陰極５はできるだけ薄くすべきである（フラ
ットエミッタの側縁の領域にてたんにわずかに電子がエ
ミッションされるのを達成するために）。
【００４２】選択的に、又は付加的に、図６中フラット
エミッタとして構成されたヒータ陰極５の例に即して示
された要領でフラットエミッタを基本部材（本体）３０
と、被覆３１（これは、電子エミッションのため設けら
れた面の領域内に基本部材（本体）状に取り付けられて
いる）とを構成することも可能である。ここにおいて、
上記被覆３１は所定材料からなり、該所定材料は基本部
材（本体）３０の材料に比して高い電子エミッション能
力を有する。基本部材（本体）３０に対する材料として
たとえばタングステン又はモリブデンが使用され、被覆
３１の材料として６ホウ化ランタン（ＬａＢ６）が使用
される。
エミッタとして構成されたヒータ陰極５の例に即して示
された要領でフラットエミッタを基本部材（本体）３０
と、被覆３１（これは、電子エミッションのため設けら
れた面の領域内に基本部材（本体）状に取り付けられて
いる）とを構成することも可能である。ここにおいて、
上記被覆３１は所定材料からなり、該所定材料は基本部
材（本体）３０の材料に比して高い電子エミッション能
力を有する。基本部材（本体）３０に対する材料として
たとえばタングステン又はモリブデンが使用され、被覆
３１の材料として６ホウ化ランタン（ＬａＢ６）が使用
される。
【００４３】図７にて同様にフラットエミッタとして構
成されたヒーター陰極の例において示されたように、フ
ラットエミッタを基本部材（本体）３２と被覆３３から
構成可能であり、上記被覆は、電子エミッションのため
に設けられた面の他に基本部材（本体）３２を被うもの
であり、そして、基本部材（本体）３２の材料に比して
より小さい電子エミッション能力を有する材料からな
る。付加的に図７に破線で示す手法で、電子エミッショ
ンのために設けられた面の領域にて被覆３１を設けるこ
とも可能であり、該被覆は基本部材（本体）３２の材料
に比してより高い電子エミッション能力を有する。
成されたヒーター陰極の例において示されたように、フ
ラットエミッタを基本部材（本体）３２と被覆３３から
構成可能であり、上記被覆は、電子エミッションのため
に設けられた面の他に基本部材（本体）３２を被うもの
であり、そして、基本部材（本体）３２の材料に比して
より小さい電子エミッション能力を有する材料からな
る。付加的に図７に破線で示す手法で、電子エミッショ
ンのために設けられた面の領域にて被覆３１を設けるこ
とも可能であり、該被覆は基本部材（本体）３２の材料
に比してより高い電子エミッション能力を有する。
【００４４】基本部材（本体）３２に対する材料として
例えばＬａＢ６が適し、被覆３３に対する材料としては
タングステン又はモリブデンが適する。
例えばＬａＢ６が適し、被覆３３に対する材料としては
タングステン又はモリブデンが適する。
【００４５】更に。図１及び図２に示すように構成され
たＸ線管についても、図５に示すように構成されたＸ線
管についても試行が実施された。双方の場合において、
電極間隔は１３ｍｍ、陽極電圧は５ｋＹ，加熱電流は
９．５Ａ、管電流は数μＡであった。管内にそれぞれ使
用されたフラットエミッタは幅２ｍｍ、長さ１０ｍｍ、
厚さ５０μｍを有していた。電圧Ｕ１を４０〜−４０Ｖ
で変化させることにより、照射スポットＢＦの幅Ｂをほ
ぼ０．３５〜ほぼ１．３ｍｍで調整し得た。電位Ｕ２を
１００〜−１００Ｖで変化することにより、照射スポッ
トＢＦの長さＬを７〜４．３ｍｍに調整し得た。Ｚ方向
でのフラットエミッタの０．５５ｍｍだけの移動によ
り、照射スポットＢＦの幅は、０．４〜１．５ｍｍで調
整され得た。ここにおいて、フラットエミッタがフォー
カシング溝２１内に深く位置すればするほど、照射スポ
ットＢＦの幅Ｂはそれだけ益々大になる。照射スポット
ＢＦの長さの変化は無視可能であった。
たＸ線管についても、図５に示すように構成されたＸ線
管についても試行が実施された。双方の場合において、
電極間隔は１３ｍｍ、陽極電圧は５ｋＹ，加熱電流は
９．５Ａ、管電流は数μＡであった。管内にそれぞれ使
用されたフラットエミッタは幅２ｍｍ、長さ１０ｍｍ、
厚さ５０μｍを有していた。電圧Ｕ１を４０〜−４０Ｖ
で変化させることにより、照射スポットＢＦの幅Ｂをほ
ぼ０．３５〜ほぼ１．３ｍｍで調整し得た。電位Ｕ２を
１００〜−１００Ｖで変化することにより、照射スポッ
トＢＦの長さＬを７〜４．３ｍｍに調整し得た。Ｚ方向
でのフラットエミッタの０．５５ｍｍだけの移動によ
り、照射スポットＢＦの幅は、０．４〜１．５ｍｍで調
整され得た。ここにおいて、フラットエミッタがフォー
カシング溝２１内に深く位置すればするほど、照射スポ
ットＢＦの幅Ｂはそれだけ益々大になる。照射スポット
ＢＦの長さの変化は無視可能であった。
【００４６】試行においては照射スポットＢＦのその都
度調整された幅Ｂないし長さＬに無関係に、照射スポッ
トＢＦのＸ線ビームの強度分布は良好な近似でガウス特
性カーブ（曲線）類似の強度分布を有していた。
度調整された幅Ｂないし長さＬに無関係に、照射スポッ
トＢＦのＸ線ビームの強度分布は良好な近似でガウス特
性カーブ（曲線）類似の強度分布を有していた。
【００４７】前述の実施例は回転陽極ーＸ線管に関わ
る。本発明は固定陽極付きのＸ線管においても適用でき
る。
る。本発明は固定陽極付きのＸ線管においても適用でき
る。
【００４８】上述の実施例の場合、電子エミッタ装置は
直接加熱されるヒータ陰極により形成され、該ヒータ陰
極は照射面に照射される電極ビームを生じさせる。但
し、ヒータ加熱陰極の代わりに他の電子エミッタ、例え
ば間接加熱陰極又は電子銃を使用することもできる。電
子エミッタとして直接加熱ヒータ陰極を使用する場合、
当該ヒータ陰極は前述の実施例の場合におけるように必
ずしもフラットエミッタとして構成する必要はない。寧
ろ、例えばＤＥー０Ｓ２７ ２７ ９０７にて記載され
ているようなミアンダ状（ジグザグ状）の帯状エミッタ
であってもよい。又は従来のワイヤコイルを使用しなく
てもよく、ここで、特に後者は上述の理由によりあまり
有利ではない。
直接加熱されるヒータ陰極により形成され、該ヒータ陰
極は照射面に照射される電極ビームを生じさせる。但
し、ヒータ加熱陰極の代わりに他の電子エミッタ、例え
ば間接加熱陰極又は電子銃を使用することもできる。電
子エミッタとして直接加熱ヒータ陰極を使用する場合、
当該ヒータ陰極は前述の実施例の場合におけるように必
ずしもフラットエミッタとして構成する必要はない。寧
ろ、例えばＤＥー０Ｓ２７ ２７ ９０７にて記載され
ているようなミアンダ状（ジグザグ状）の帯状エミッタ
であってもよい。又は従来のワイヤコイルを使用しなく
てもよく、ここで、特に後者は上述の理由によりあまり
有利ではない。
【００４９】
【発明の効果】本発明によれば、ガウス特性カーブ（曲
線）の強度分布を有する照射スポットＢＦ得られるよう
に冒頭に述べた形式のＸ線管を実現できたという効果が
得られる。
線）の強度分布を有する照射スポットＢＦ得られるよう
に冒頭に述べた形式のＸ線管を実現できたという効果が
得られる。
【図１】本発明のＸ線管の実施例の縦断面略図である。
【図２】図１のＸ線管の陰極装置の重要部分の斜視図で
ある。
ある。
【図３】図１及び図２のＸ線管の動作を明示するための
電気力線及び電子ビーム路を示す概念図である。
電気力線及び電子ビーム路を示す概念図である。
【図４】図１及び図２のＸ線管の動作を明示するため陽
極皿状体の向こう側に位置するフォーカス（焦点）の様
子を示す電気力線及び電子ビーム路を示す概念図であ
る。
極皿状体の向こう側に位置するフォーカス（焦点）の様
子を示す電気力線及び電子ビーム路を示す概念図であ
る。
【図５】本発明の別のＸ線管の重要部分の縦断面図であ
る。
る。
【図６】本発明のＸ線管の電子エミッタの断面図であ
る。
る。
【図７】電子エミッタの変化形を図６におけると類似に
示す断面図である。
示す断面図である。
１ 管球 ２ 支持体部分 ３ 陰極装置 ４ 陰極部材（本体） ５ ヒータ陰極 ７ 回転陽極 ８ シャット ９ ロータ １０ 陽極皿状体 １１ 軸 １２ ステータ １３ 線路 １４ 線路 １５ 線路 １６ 線路 １７ 線路 １９ 照射面 ２０ ビーム出射窓 ２１ フォーカシング溝 ２２ａ，２２ｂ 壁部分 ２３ａ，２３ｂ 壁部分 ２４、２５ 電圧源 ２６、２７ 線路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ゲールハルト レーフ ドイツ連邦共和国 バイアースドルフ ユ ーデンガッセ 17 (72)発明者 ベルンハルト ツィオレク ドイツ連邦共和国 シュタイン ボーゲン シュトラーセ 22
Claims (9)
- 【請求項１】 陽極（７）及び陽極（７）から間隔を置
いて取り付けられている電子エミッタ（５）を有する陰
極装置（３）を有し、該陰極装置は電子ビーム（Ｅ）に
対するフォーカシング手段（４、２２ａ、２２ｂ，２３
ａ，２３ｂ，２４，２５；４，２２ａ，２２ｂ，２３
ａ，２３ｂ，３６）を有し、上記電子ビーム（Ｅ）はＸ
線管の動作中電子エミッタ（５）から発せられて照射ス
ポット（ＢＦ）にて陽極（７）へ照射され、前記電子ビ
ームのフォーカス（焦点）（Ｆ１）は電子エミッタ
（５）と照射スポット（ＢＦ）との間に位置するように
構成されていることを特徴とするＸ線管。 - 【請求項２】 電子エミッタ（５）として、フラットエ
ミッタを有する請求項１記載のＸ線管。 - 【請求項３】 電子エミッタ（５）はフォーカシング手
段（４、２２ａ、２２ｂ，２３ａ，２３ｂ，２４，２
５；４，２２ａ，２２ｂ，２３ａ，２３ｂ，３６）のフ
ォーカシング（集束）溝（２１）内に収容されており、
ここで、前記フォーカシング溝（２１）の少なくとも１
つの壁（２２ａ，２２ｂ）がフォーカス焦点（Ｆ１）の
位置状態に影響を及ぼす電位（Ｕ１）下におかれている
請求項１又は２記載のＸ線管。 - 【請求項４】 Ｘ線管のフォーカシング溝（２１）が相
対向する壁（２２ａ，２２ｂないし２３ａ，２３ｂ）の
相互に絶縁された壁（部分）対により形成されており、
ここで、一方の対の壁部（２２ａ，２２ｂ）は第１の電
位におかれ、そして、他方の対の壁部（２３ａ，２３
ｂ）は第２の電位（Ｕ１ないしＵ２）におかれ、ここで
少なくとも１つの対に関して、当該電位（Ｕ１）は次の
ように選定されており、即ち、相応のフォーカス焦点
（Ｆ１）が電子エミッタ（５）と照射スポット（ＢＦ）
との間に位置するように選定されていることを特徴とす
るＸ線管。 - 【請求項５】 フォーカス焦点（Ｆ１）と照射スポット
（ＢＦ）との間の間隔が可調整である請求項１から４ま
でのうちいずれか１項記載のＸ線管。 - 【請求項６】 フォーカシング溝（２１）の壁部（２２
ａ，２２ｂないし（２３ａ，２３ｂ）は可調整電位（Ｕ
１ないしＵ２）におかれている請求項３及び５記載のＸ
線管。 - 【請求項７】 第１及び／又は第２電位（Ｕ１ないしＵ
２）は可調整である請求項４及び５記載のＸ線管。 - 【請求項８】 第１電位（Ｕ１）は第２電位（Ｕ２）に
無関係に可調整である請求項７記載のＸ線管。 - 【請求項９】 電子エミッタ（５）及びフォーカシング
溝（２１）は該フォーカシング溝（２１）内で電子エミ
ッタ（５）の低位置（Ｘ）の可変調節の行われるように
相互に相対的に（移動）調整可能である請求項３から８
までのうち１項記載のＸ線管。
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