JPH07192478A - メモリアレイ内のメモリセルによって記憶される複数個の可能な状態における1つの状態を定めるための基準、メモリ、アレイセルのしきい値電圧を読出すのに用いられる複数個の基準セルをプログラムするための装置、n個の基準セルをプログラムする方法、およびアレイセルを読出す方法 - Google Patents
メモリアレイ内のメモリセルによって記憶される複数個の可能な状態における1つの状態を定めるための基準、メモリ、アレイセルのしきい値電圧を読出すのに用いられる複数個の基準セルをプログラムするための装置、n個の基準セルをプログラムする方法、およびアレイセルを読出す方法Info
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Abstract
Mメモリアレイにおけるアレイセルの状態を認識するの
に用いられるプログラム可能基準を提供する。 【構成】 プログラム可能基準は1つ以上の基準セルを
含む。アレイセルはアレイセルと基準セルとのゲートに
同一の電圧を与え、出力を比較してアレイセルの状態を
判断することによって読出される。読出中、プログラム
可能基準セルはアレイセルと同じようにバイアスされる
ので、基準セルとアレイセルとの間のしきい値の差はV
CCの変化とともに一定のままである。単純な抵抗器の
比を用いて基準セルをプログラムするために回路が含ま
れる。プログラミングはVCCを厳密な許容誤差内に保
つため、好ましくは製造者によってテスト時間に行なわ
れる。アレイセルは抵抗器をバイアスすることなく、か
つより緩やかな許容誤差内で後に基準セルを用いてプロ
グラムされかつ読出される。
Description
の基準化方式に関し、より特定的には低電圧源および多
密度メモリアレイで使用される一括電気的消去可能プロ
グラム可能リードオンリメモリ(EEPROM)セルの
しきい値を決定するのに用いられる基準化方式に関す
る。
に用いられる伝統的な基準化方式の1つは、センス比と
結合されたプログラムされていない基準セルを含む。図
1はセンス比と結合されてアレイセル102のための基
準を提供するそのような基準セル100を示す。センス
比は、VCCとアレイセル100のドレインとの間に接
続された同一の値Rを有する2つの並列の抵抗素子11
2および114、ならびにVCCとアレイセル102の
ドレインとの間に接続された値Rの付加的な抵抗素子1
16によって提供される。基準セル100のドレインは
コンパレータ104の1つの入力に基準出力を与える。
アレイセル102のドレインはコンパレータ104の第
2の入力にアレイセル出力を与える。コンパレータ10
4の出力はアレイセル102のしきい値状態を示す。
出すため、基準セル100とアレイセル102とのゲー
トにVCCが与えられる。VCCが与えられると、セン
ス比はコンパレータ104が基準セル100のドレイン
に見る電圧を、アレイセル102のドレインと比べて変
動させる。コンパレータ104が基準セル100のドレ
インに見る電圧は、したがってVCC−1/2RID で
あり、コンパレータがアレイセル102のドレインに見
る電圧はVCC−ID Rである。ID はMOSトランジ
スタのための飽和領域の式ID =K(VGS−Vt )2 か
らわかるように基準セル100およびアレイセル102
のしきい値Vt によって制御される。ここでVGSはVC
Cに等しい。基準セル100とアレイセル102との両
方がプログラムされていない、または同一のしきい値V
t を有している場合、センス比はアレイセル出力よりも
コンパレータ104への基準出力においてより高い電圧
を与え、それによりコンパレータ104が第1の状態を
出力することになる。アレイセルがある一定のレベルま
で高められたしきい値を有するようにプログラムされて
いれば、そのアレイセルのためのID は低減され、アレ
イセル出力の電圧は基準セル出力における電圧を超えて
上昇し、これによりコンパレータ104は第2の状態を
出力するようになる。
セルのドレインに接続された異なる抵抗器の比を用いる
ので、このセンス比の方法は抵抗素子の温度およびプロ
セスの変動によってもVCCの変動によってもアレイセ
ル出力に関して変動する基準出力を提供する。
れる別の伝統的な基準化方式を示す。バイアスゲート方
法はセンス比の方法よりも正確な基準を提供するが、こ
れはセンス比の方法と比べてプロセスや温度やVCCの
変動の影響が低減されているからである。図3の回路
は、図1のセンス比回路に類似のプログラムされていな
い基準セル100、アレイセル102、およびコンパレ
ータ104を含む。便宜上、図3およびそれ以降の図面
では、前の図面から引継がれる構成要素を示すために使
用されている参照番号は、同様に引継がれている。
レインに直接接続された抵抗器の比を提供する、図1の
センス比の方法とは違って、図3の回路は基準セル10
0のゲートに接続されてVGSを変動させる抵抗器の比を
有する。抵抗器の比は、VCCと基準セル100のゲー
トとの間に接続された抵抗素子302、ならびに基準セ
ル100のゲートを接地する抵抗素子304によって提
供される。基準セル100のドレインはコンパレータ1
04の1つの入力に基準出力を与える。アレイセル10
2のドレインはコンパレータ104の第2の入力にアレ
イセル出力を与える。同じものである抵抗素子306お
よび308がVCCを基準およびアレイセル出力に接続
して、それらのID 出力をコンパレータ104の入力に
おける電圧に変換する。直接ID を変える代わりに、V
GSを変動させることによって、抵抗素子に対するプロセ
スおよび温度の影響、ならびにVCCの変動が基準セル
とアレイセルとの出力間にもたらす変動は、センス比の
方法における場合よりも少なくなる。
出すために、電圧VCCがアレイセル102のゲートに
は直接に与えられる一方で、基準セル100のゲートに
は抵抗素子302および304を介して与えられる。基
準セル100とアレイセル102とが双方ともプログラ
ムされていない、または同一のVt を有している場合、
抵抗素子302および304はより低いVGSを与え、し
たがってコンパレータ104への基準セル出力において
アレイセル出力における電流よりも低いID を与える。
それによりコンパレータ104は第1の状態を示すよう
になる。アレイセルがある一定のレベルまで高められた
しきい値を有するようにプログラムされていれば、アレ
イセル出力は基準セル出力を超えて上昇し、コンパレー
タ104に第2の状態を出力させる。
方式では、アレイセル出力に関してのプロセス、温度、
およびVCCの変動による基準出力の変動は、読出エラ
ーを生じることがあり得る。エラーの起こる可能性は、
多密度の、または低電圧源のメモリなどアレイセルのし
きい値状態間の動作マージンが低いメモリで、より著し
い。図2は、単一密度、3/2密度、および2倍密度と
なるように構成された典型的な多密度メモリのための基
準レベルおよびアレイセルのしきい値状態を示す。示さ
れるように、密度が高まるにつれ、基準レベルとアレイ
セル状態との間の動作マージンは減少する。たとえば、
単一密度を用いるなら、ゼロ状態と基準状態との間のマ
ージンは(4.00−2.9V=1.10V)である。
3/2密度では、マージンは50%低減されて(4.0
0V−3.45V=0.55V)となり、2倍密度では
マージンは0.33Vまで低減される。低電圧源メモリ
における動作マージンが制限されているのは、VCCの
低減がアレイセルのしきい値状態に利用可能な範囲を制
限するからである。動作マージンが低ければ、起こるか
もしれないエラーを低減するため、アレイセルの電気的
特性における変動に追随する基準が必要である。
おける変動に追随する基準を備えた基準化方式を提供す
る。
1つまたはそれ以上の基準セルを含み、各基準セルはそ
のしきい値を設定するために制御された環境の中でプロ
グラムされたフローティングゲートを有する。アレイセ
ルの状態を読出すために、アレイセルおよび基準セルの
ゲートに同一の電圧VCCが与えられる。加えて、アレ
イセルおよび基準セルの出力は同じバイアス条件下に維
持される。読出中、基準セルのドレインは、基準セルの
しきい値に対するアレイセルのしきい値を決定するため
にアレイセルのドレイン出力と比較される出力を提供す
る。
いセルに関してバイアスを行なうためのバイアスゲート
方法を用いる基準セルをプログラムするための回路を含
む。基準セルは好ましくは製造者によってテスト時間に
プログラムされ、それにより確実にVCCおよび温度が
厳密な許容誤差内に留まって、バイアスゲート方法を用
いて基準しきい値をプログラムするときの変動が排除さ
れる。アレイセルは次により緩やかなVCCおよび温度
の許容誤差のもとでプログラムされ読出されて、その後
基準セルが使用される。
イセルはセンス比またはバイアスされたゲートの方法を
用いるのではなく、むしろ同じバイアス条件下に維持さ
れ、それにより基準およびアレイセル出力に対するプロ
セス変動の影響が低減される。VCCは基準セルのゲー
トにもアレイセルのゲートにも同じように読出電圧とし
て与えられるので、基準セルおよびアレイセルの出力間
の動作マージンはVCCの変化に対して実質的に一定を
維持する。しきい値の変化が確実に温度に対し一定に留
まるようにするため、アレイセルおよび基準セルはま
た、好ましくは同じ集積回路上のコアセルとして含まれ
る。
の助けを借りて説明される。
セル400を読出すのに用いられる本発明のプログラム
可能基準セル402−1から402−(n−1)ととも
に示す。アレイセル400は、ワード選択回路404で
デコードされるワードアドレスを与えかつアレイセル4
00のゲートに選択電圧VSEL を印加することによって
読出される。選択電圧は基準セル402−1から402
−(n−1)のゲートに同じように与えられる。VSEL
は、1993年12月1日に提出された本件の発明者ら
による「多密度および低電圧源メモリのための基準トラ
ッキングを備える昇圧・安定化ゲート電源(Boosted an
d Regulated Gate Power Supply With Reference Track
ing for Multi-Density and Low Voltage Supply Memor
ies )」と題されここに引用により援用される米国特許
出願連続番号08/160,578号で開示されるよう
にVCCでも、VDDでも、または昇圧ゲート電圧でもよ
い。アレイセル400の出力は、本発明の基準セル40
2−1から402−(n−1)の1つまたはそれ以上の
出力に接続され、比較回路406に至る。比較回路40
6は、アレイセル400の状態を示す信号を出力する。
い値を有するフローティングゲートを備えたトランジス
タとして示されているが、アレイセル400がしきい値
の固定されたROMトランジスタであってもよい。アレ
イセル400は、図2に示されるように3/2密度セル
の0 0状態、0 0.5状態、または1 1状態など
の状態を示すn個のしきい値の1つを記憶する。
1)は、各々フローティングゲートを有しており、この
フローティングゲートは基準しきい値を設定するべくプ
ログラムされてもよい電荷を蓄積する。合計n−1個の
基準セルが用いられ、これらは各々が図2の3/2密度
セルにおける基準状態AおよびBなどの連続的なしきい
値レベルにプログラムされる。基準セル402−1から
402−(n−1)とアレイセル400とを同様にバイ
アスし、それらのゲートに同一の電圧VSEL を印加する
ことにより、基準セル402−1から402−(n−
1)のしきい値を、アレイセル400のしきい値と比較
することができる。
されたときにアレイセル400の出力を基準セル402
−1から402−(n−1)の出力と比較することによ
ってしきい値の比較を行なう。比較回路406のための
典型的な回路構成は、「メモリセル1つあたりNビット
を備える電気的に書換え可能な不揮発性メモリ(Electr
ically Alterable Non-volatile Memory)」と題された
バンクス(Banks )による米国特許第5,218,56
9号、および「多ビットリードオンリメモリ回路(Mult
i-bit Read Only Memory Circuit)」と題されたシェパ
ード(Sheppard)による米国特許第4,495,602
号に示されており、これらは双方ともここに引用によっ
て援用される。比較回路406は、アレイセル400に
よって記憶可能なしきい値の状態により示されることの
できる数のビットを有するデジタル信号として比較結果
を出力する。
るため、およびアレイセル400をプログラムするのに
用いられる本発明の基準セル402−1から402−
(n−1)および502−1から502−nをプログラ
ムするために接続される回路のブロック図である。アレ
イセル400をプログラムするためにはアレイセルプロ
グラムベリファイ回路504が設けられており、その一
方で基準セルをプログラムするためには基準セルプログ
ラムベリファイ回路506が設けられている。基準セル
502−1から502−nは、図2で3/2密度セルに
ついて示されたような0 0状態、0 0.5状態、ま
たは1 1状態などのn個の状態のうちの1つに各々が
プログラムされたプログラム可能しきい値を有してお
り、これらの状態は3/2密度設計における状態Aおよ
びBなどの状態間のものであって、基準セル402−1
から402−(n−1)によって記憶可能である。
4はアレイセル400のゲートおよびドレインに接続さ
れて、アレイセル400をプログラムする。アレイセル
プログラムベリファイ回路504はまた、基準セル50
2−1から502−nのドレインにも接続されて、アレ
イセルの出力と基準セルの出力とを比較し、アレイセル
400が適正にプログラムされているかどうかを判断す
る。アレイセルプログラムベリファイ回路504のため
の典型的な回路構成は、多密度セルをプログラムするの
に用いられる方法とともに、前に引用したバンクスによ
る米国特許第5,218,569号で示され、説明され
ている。
は、ゲートおよびドレインに接続されて、基準セル40
2−1から402−(n−1)および基準セル502−
1から502−nのプログラムができるようにする。基
準セルプログラムベリファイ回路506は、伝統的な方
法を用いてプログラムおよびベリファイ電圧を供給し、
基準セルのプログラミングを可能にする。基準プログラ
ムベリファイ回路506はさらに、適正なプログラミン
グをベリファイするのにバイアスゲート方法を用いるプ
ログラムされていないセルに関して各基準をバイアスす
るための回路を用いる。回路はさらに、基準ビットの各
々を最後まで順序付けて、プログラムされている基準セ
ルの適正なビットラインおよびワードラインを能動化す
るためにも設けられる。
好ましくは製造者がテスト時間に基準をプログラムする
のに用いられ、それによりVCCおよび温度はバイアス
されたゲートの方法を使用している場合に基準しきい値
を設定する際の変動を排除するべく厳密な許容誤差内に
留まる。アレイプログラムベリファイ回路504は、後
にVCCおよび温度のより緩やかな許容誤差を用いたア
レイセルをプログラムするのに利用される。
2密度のメモリアレイのために設計された本発明のプロ
グラムされた基準の一実施例を表わす。図6および7
は、図5の基準セルプログラムベリファイ回路506を
構成する構成要素を、プログラムされるべき基準セルを
含む基準アレイ600とともに含む。基準セルをプログ
ラムするのに必要とされる回路の量および複雑さを低減
するため、図6および7の回路は基準セルを1度に1つ
ずつプログラムするように設計される。
イ信号回路602を含み、これは基準がプログラムされ
るべきであるということを示すPRREF信号を受取る
と、プログラム信号とベリファイ信号とを交互に生成し
て個々の基準セルをプログラムする。プログラム中、基
準セルのドレインに与えられるプログラム電圧は、信号
VPROGとして供給される。信号VPXは基準セルの
ゲートにプログラム電圧とベリファイ電圧とを交互に与
えて、基準セルをプログラムする。VPXはアレイセル
のプログラミングを読出している、またはベリファイし
ている間、読出電圧を与える。ベリファイの間、信号V
ERIFYがアサートされる。プログラム中は、信号P
GMがアサートされる。プログラムベリファイ信号回路
602を設けるには、単一フローティングゲートメモリ
セルをプログラムするための伝統的な回路を用いること
ができる。そのような伝統的な回路は一般的に前述のバ
ンクスによる米国特許第5,218,569号に記載さ
れている。
択されたセルにプログラムおよびベリファイ電圧を送る
には、制御論理が設けられて適正な基準ビットラインお
よび基準ワードラインを能動化する。制御論理は、基準
カウント回路604およびそれに伴ういくらかの混合論
理からなる。基準カウント回路604は、PRREF信
号を受取ると順序付を始め、列信号(COL0〜COL
3)および行信号(ROW0〜ROW5)を与えて、プ
ログラムおよびベリファイ電圧をどの基準セルが受取る
のかを示す。基準カウント回路604は前のセルが適正
にプログラムされたことを示す信号RDSO0〜RDS
O3およびVERIFYが与えられると、次の順序の基
準セルビットに進む。
ス回路608とは、基準カウント回路604によって出
力された列および行信号をデコードして、選択された基
準セルにプログラムおよびベリファイ電圧を与える。デ
ータバッファ基準606はPRREFとPGMとを受取
ると、列信号(COL0〜COL3)をデコードして、
基準ビットライン(REFBL0〜REFBL3)の1
つにおけるプログラム電圧信号VPROGを基準アレイ
600における基準セルの列のドレインに向ける。セン
スバイアス回路608はPRREFを受取ると、行信号
(ROW0〜ROW3)をデコードして、基準ワードラ
イン(REFWL0〜REFWL5)の1つにおけるプ
ログラムおよびベリファイ電圧信号VPXを基準アレイ
600内の基準セルの列のゲートに送る。センスバイア
ス回路608は読出信号をも受取り、アレイセルの読出
またはベリファイ中に、すべてのワードラインへVPX
を与える。PGMは、アレイセルのプログラム中に、セ
ンスバイアス回路608を不能化するために受取られ
る。
基準ビットをプログラムするための基準として設けられ
る。このビットを黄金基準と呼ぶ。バイアスゲート方法
を用いてこの黄金基準のゲートをバイアスするために、
基準バイアス回路610によって提供されるいくつかの
抵抗器の比の1つを、黄金基準のゲートへのマスタワー
ドライン(MSTRWL)に接続することができる。基
準バイアス回路610の特定の抵抗器の比が、基準カウ
ント回路604から受取られる列信号(COL0〜CO
L3)によって制御される。
かをベリファイするため、プログラム基準は基準センス
回路612、カスコードプリアンプ614、およびセン
スアンプ616を含む。VERIFYとPRREFとが
アサートされたときに、基準センス回路612は列信号
(COL0〜COL3)をデコードしてイネーブル信号
(REFSEN0〜REFSEN4)を与え、適正な回
路614のカスコードプリアンプと回路616のセンス
アンプとを能動化する。回路614の能動化されたカス
コードプリアンプは、プログラムされている基準セルの
ビットライン(REFBL0〜REFBL3)からの電
流を受取るように接続され、能動化された基準セル出力
電圧(SAREF0〜SAREF3)を印加する。回路
614における付加的なカスコードプリアンプは、黄金
基準のビットライン(GOLBL)からの電流を受取る
ように接続されて、イネーブル信号(REFSEN0〜
REFSEN4)が受取られると黄金基準出力電圧(S
AREF4)を与える。回路616の能動化されたセン
スアンプは、能動化された基準セル出力電圧(SARE
F0〜SAREF3)を黄金基準出力電圧(SAREF
4)と比較し、能動化された基準セル出力電圧と黄金基
準セル出力電圧とが実質的に等しいかどうかを示す信号
(RDSO0〜RESO3)を出力する。
路構成は、後続する図面に示されており、それらは以下
で説明される。
た基準アレイ600の基準セルおよび黄金基準のための
回路を示す。基準セルのゲートにはワードライン接続
(REFWL0〜REFWL5)が提供され、基準セル
のドレインにはビットライン接続(REFBL0〜RE
FBL3)が提供される。基準セルは、予め定められた
しきい値にプログラムされてよいフローティングゲート
を有する。
2密度設計に必要とされる合計24個の基準セルを含
む。図2の3/2密度設計の値からわかるように、1つ
のアレイセルに4つの基準セルビットライン出力を与え
るには4つの基準セルが必要である。2つの基準セル
は、アレイセルのしきい値状態を定めるために読出中に
必要な基準状態AおよびB値を提供する。2つの付加的
な基準セルが、アレイセルの適正なプログラミングをベ
リファイするのに必要な0 0状態および0 0.5状
態を提供する。ここで1 1状態はプログラムされてい
ない状態である。4ビットライン出力のそれぞれ異なっ
た6つの組を6つの異なったアレイセルに与えて8ビッ
ト出力を提供するには、4つの基準セルが6組必要であ
る。3/2密度設計で8ビット出力を提供するのに6個
のアレイセルが使用されているのは、各アレイセルが3
つの可能な状態のうち単一密度設計でのように2つでは
なく1つの状態を記憶している場合には、8ビットを表
わすのに必要とされる可能な値を記憶するのに要求され
るセルは6個だけだからである。
(MSTRWL)とビットライン接続(GOLBL)と
を備える黄金基準セルを含む。黄金ビットはプログラム
されないままのUV(紫外線)消去されたフローティン
グゲートを有する。図8の基準セルは好ましくはアレイ
セルと同じ集積回路上にコアセルとして含まれ、アレイ
セルはプログラムおよび読出にこの基準セルを用いるの
で、温度およびプロセスが変動しても、基準セルとアレ
イセルとの間での変動は実質的に均一なもののままとな
る。
0は、図6の基準カウント回路604のための回路を示
す。カウンタを提供するため、図9および10の回路は
複数個のシフトレジスタ801〜806を含む。カウン
トを同期させるため、VERIFY信号が、シフタ80
1のCLK入力と、インバータ810を介してシフタ8
01のCLKB入力とに与えられる。RDSO0〜RD
SO3信号がNORゲート812およびインバータ81
4によって受取られてOR処理され、シフタ801のD
ATA入力を提供する。ビットがプログラムされるべく
ベリファイされると、RDSO0〜RDSO3信号の1
つがアサートされ、それによりVERIFYの立下がり
端縁で、シフタ801のQおよびQBが状態を変える。
ぞれシフタ802のCLKBおよびCLK入力に接続さ
れる。さらに、シフタ802および803のQおよびQ
B出力がシフタ803および804のそれぞれのCLK
およびCLKB入力に接続され、その一方でシフタ80
2、803、および804のQB出力がそれらのDAT
A入力それぞれにフィードバックされる。シフタ80
2、803、および804のQおよびQB出力は、それ
ぞれQ0、QB0、Q1、QB1、Q2、およびQB2
出力を形成する。Q1およびQ2出力はシフタ805の
CLK入力に至るNANDゲート816に接続され、そ
の一方でNANDゲート816の出力はインバータ81
8を介してシフタ805のCLKB入力に接続される。
シフタ805のQおよびQB出力はシフタ806のCL
KおよびCLKB入力に接続され、シフタ805および
806のQB出力はそれらのDATA入力それぞれにフ
ィードバックされる。シフタ805および806のQお
よびQB出力は、それぞれQ3、QB3、Q4、および
QB4出力を形成する。
L3出力信号を与えるためには、論理回路がシフタ80
2〜806のQ1〜Q4およびQB1〜QB4出力に接
続されるように設けられる。論理回路820は、図示さ
れているようにQ0〜Q2およびQB0〜QB2出力の
いくつかの組合せに接続されて行ビット(ROW0〜R
OW5)を最後まで順序付し、その一方で作用される列
(COL0〜COL3)は論理822に接続されたQ
3、QB3、Q4、およびQB4の出力の組合せによっ
て制御されるにつれ更新される。
ジスタをリセットするため、シフトレジスタ801、8
05、および806には、インバータ810を介してP
RREF信号の補信号を受取るべく接続されたリセット
がある。さらに、シフトレジスタ802〜804はプロ
グラム基準モードに入る際にNANDゲート824を介
してPRREF信号の補信号を受取る。NANDゲート
816の出力はさらに、作用される列が更新されるとき
にシフトレジスタ802〜804をリセットするようN
ANDゲート824を介して接続される。
タ801〜806のための回路を示す。図11のシフト
レジスタは、2つのラッチ902および904を含む。
トランジスタ906はDATA入力信号をラッチ902
の入力に結合する電流経路を有する。トランジスタ90
6はCLK入力に接続されるゲートを有する。ラッチ9
02の入力はさらにトランジスタ908を介して接地さ
れ、トランジスタ908はRESET入力に接続された
ゲートを有する。トランジスタ910は、そのゲートに
接続されたCLKB入力によって制御され、ラッチ90
2の出力をラッチ904の入力に結合する電流経路を有
する。ラッチ904はさらにRESET入力によって制
御されるトランジスタ912を介してVCCに接続され
る。ラッチ904の出力はシフタのQ出力を提供し、そ
の一方でQB出力がラッチ904の出力からインバータ
914を介して提供される。
は、図6に示したデータバッファ基準回路606のため
の回路構成を示す。図12の回路はプログラム基準モー
ドに入るとPRREF信号を受取り、プログラムベリフ
ァイ信号回路602からのPGM信号はプログラム信号
が与えられたことを示し、COL0〜COL3信号は図
6に示されるように基準カウント回路604から出力さ
れる。PRREFおよびPGM信号はCOL0〜COL
3信号の各々とともにそれぞれのNANDゲート100
1〜1004の入力に接続されて、PRREF、PG
M、およびそれぞれのCOL0〜COL3入力が能動化
されるとバッファ1011〜1014の1つを能動化す
る。バッファ1011〜1014は、図6のプログラム
ベリファイ信号回路602から高電圧VPROG信号を
受取り、VPROGをそれぞれの基準セルビットライン
(REFBL0〜REFBL3)にそのバッファそれぞ
れが能動化されたときに与える。VPROGが与えられ
ていないときには、REFBL0〜REFBL3出力は
ハイインピーダンスを与える。
構成を有しているので、バッファ1011の回路だけを
説明する。バッファ1011はNANDゲート1001
の出力からの選択入力信号をpチャネルトランジスタ1
022のゲートで受取り、このpチャネルトランジスタ
1022はVPROGをREFBL0に結合する電流経
路を有する。したがって、バッファが選択されていない
とき、トランジスタ1022はラインREFBL0にハ
イインピーダンス出力を与える。nチャネルトランジス
タ1024がトランジスタ1022のゲートとNAND
ゲート1001の出力との間で接続され、このnチャネ
ルトランジスタ1024のゲートはVPROGに接続さ
れて、VPROGがVCCより下まで降下することがあ
れば保護を提供する。VPROGはVCCよりも著しく
高い値を有しているので、VPROGのフィードバック
を阻止するため、nチャネルトランジスタ1026がト
ランジスタ1022のゲートとNANDゲート1001
の出力との間に接続され、このnチャネルトランジスタ
1026のゲートはVCCに接続される。別のpチャネ
ルトランジスタ1028がVPROGをトランジスタ1
022の入力に結合し、バッファ1011が非選択のと
きトランジスタ1022が確実にオフに留まるようにす
る。トランジスタ1028は、インバータ1030によ
って制御されるゲートを有しており、インバータ103
0はトランジスタ1022の入力とVPROGによって
供給される電力とに接続された入力を有する。図12、
およびそれ以降の図面では、トランジスタ1022での
ようにトランジスタのドレインからソースにかけて引か
れた斜めの線はpチャネルトランジスタを表わし、線が
なければnチャネルトランジスタを表わす。
6に示したセンスバイアス回路608のための回路を示
す。図13の回路は、プログラム基準モードに入り、R
OW0〜ROW5信号が図6に示した基準カウント回路
604から出力されると、PRREF信号を受取る。P
RREF信号はROW0〜ROW5信号の各々とともに
それぞれのNANDゲート1101〜1106の入力に
接続されて、PRREF信号とそれぞれのROW0〜R
OW5入力とが能動化されると、バッファ1111〜1
116の1つを能動化する。バッファ1111〜111
6は、図6のプログラムベリファイ信号回路602から
VPXを介してプログラム電圧とベリファイ電圧とを交
互に受取り、そのそれぞれのバッファが能動化されたと
きにVPXをそれぞれの基準セルワードライン(REF
WL0〜REFWL5)に結合する。選択されないワー
ドラインは、典型的には接地される。
イモードに入るとREAD信号を受取って、アレイセル
の状態を判断する。PGM信号もインバータ1108を
介して受取られ、これはアレイセルをプログラムするま
たは消去するためにVPX信号が与えられてはいないと
いうことを示す。PRREF信号がさらにインバータ1
109を介して受取られ、これは基準セルのベリファイ
が行なわれていないということを示す。READ信号と
インバータ1108および1109の出力とはNAND
ゲート1110の入力に与えられる。アレイセルの読出
中、バッファ1111〜1116はVPXを介して読出
電圧またはベリファイ電圧を受取り、VPX信号をすべ
ての基準セルワードライン(REFWL0〜REFWL
5)に与える。
構成を有しているので、バッファ1111の回路のみを
説明する。バッファ1111はNANDゲート1118
の入力でNANDゲート1101および1110の出力
からの選択入力信号を受取る。NANDゲート1118
の出力はインバータ1120を介してトランジスタ11
22および1124によって形成されるインバータの入
力に与えられる。インバータ1122・1124の出力
はREFWL0信号を与える。プルアップトランジスタ
1122は出力インバータ1120がローであるとき
に、REFWL0出力にVPX信号を結合する。プルダ
ウントランジスタ1124はインバータ1120の出力
がハイであるときにREFWL0出力を接地する。トラ
ンジスタ1126は、VPXとインバータ1122・1
124の入力との間に接続された電流経路を有してお
り、かつREFWL0出力に接続されたゲートを有して
いて、それによりバッファ1111が非選択のときトラ
ンジスタ1122は確実にオフとなる。VPXはプログ
ラム中、VCCよりも著しく高い値を有しているので、
フィードバックを阻止するため、インバータ1122・
1124の入力とインバータ1120の出力との間にn
チャネルトランジスタ1128が接続され、そのゲート
がVCCに接続される。
6に示した基準バイアス回路610のための回路を示
す。図14の回路は図6に示した基準カウント回路60
4から出力されるCOL0〜COL3信号を受取る。C
OL0〜COL3信号はインバータ1211〜1214
を介してpチャネルトランジスタ1201〜1204の
ゲートに接続され、抵抗器の比をCOL0〜COL3信
号によって選択された黄金基準MSTRWLのゲートに
結合する。抵抗器の比は、トランジスタ1201〜12
04の電流経路をそれぞれ抵抗器1221〜1225の
連続するそれぞれのものとMSTRWLとの間で結合す
ることによって形成される。
バイアスゲート方法を用いて適正にプログラムされたも
のとしてベリファイされることを可能にする。バイアス
ゲート方法は、抵抗器の比を黄金基準のゲートに結合
し、黄金基準出力をプログラムされている基準セルの出
力と比較して、基準セルのフローティングゲートが適正
なしきい値のレベルまで充電されているかどうかを判断
する。この方法は、黄金ビットがMOSトランジスタの
飽和領域の式ID =K(VGS−Vt )2 に従って飽和さ
せられるため、ゲート電圧VGSを抵抗器の比を用いて固
定された量だけ低減することにより、所望のしきい値V
t にプログラムされた基準セルと同じだけの電流がもた
らされるということを利用するものである。
合、しきい値間の0.55Vの差が4.0Vから1.8
Vのプログラム可能なしきい値電圧の最大範囲の間に留
まることが要求されるならば、図2に示すように4つの
基準しきい値が3/2密度アレイで3.45V、2.9
0V、2.35V、および1.80Vにプログラムされ
るだろう。第1の基準を3.45Vのレベルにプログラ
ムするためには、抵抗器の比が黄金基準のゲートをVC
C−0.55Vにバイアスするよう選択される。続いて
異なった抵抗器の比が黄金基準のゲートをバイアスする
ために選択され、残りの基準セルがプログラムされる。
前述のように、バイアスゲート方法ではVCCが変動す
るにつれ、プログラムされるしきい値は互いに関して変
動するので、VCCを厳密な許容誤差の範囲内に維持す
るために製造者によってプログラミングは好ましくはテ
スト時間中に行なわれるということに注意されたい。同
様に、しきい値が互いに関して一定に維持されることを
確実にするために、製造者は好ましくは温度を厳密な許
容誤差の範囲内に制御する。
に示した基準センス回路612のための回路構成を示
す。図15の回路は、回路614のカスコードプリアン
プと回路616のセンスアンプとを能動化するためのイ
ネーブル信号(REFSEN0〜REFSEN4)を与
えて、現在選択されている基準が適正にプログラムされ
ているかどうかをベリファイする。REFSEN0〜R
EFSEN4信号は、VERIFYがアサートされPR
REF信号が受取られると与えられる。電力を保存する
ため、基準カウント回路604からの列信号(COL0
〜COL3)を用いて必要なREFSEN0〜REFS
EN4出力だけが選択され、選択された基準セルが適正
にプログラムされているかをベリファイするのに必要な
カスコードプリアンプとセンスアンプとを能動化する。
入力でVERIFYおよびPRREF信号を受取る。N
ANDゲート1302の出力は、インバータ1321〜
1324を介して与えられるCOL0〜COL3のそれ
ぞれとともにNORゲート1311〜1314の入力に
接続される。NORゲート1311〜1314の出力は
REFSEN0〜REFSEN3出力信号を与える。N
ORゲート1311〜1314の出力はさらにNORゲ
ート1326およびインバータ1328によってOR処
理されてREFSEN4信号を与え、このREFSEN
4信号はカスコードプリアンプを能動化するために与え
られるものであって、カスコードプリアンプはREFS
EN0〜REFSEN3信号の1つが能動化されたとき
に黄金基準に接続される。
は、図7に示したカスコードプリアンプ614で用いら
れるカスコードプリアンプの1つのための回路を示す。
図7のカスコードプリアンプ614は、図16に示すよ
うなカスコードプリアンプを5つ含む。4つのカスコー
ドプリアンプはビットライン出力REFBL0〜REF
BL3の各々を受取るために設けられており、付加的な
カスコードプリアンプがGOLBL出力を受取る。カス
コードプリアンプは受取られたビットラインからの電流
をベリファイのプロセスの間に出力電圧SAREF1〜
SAREF4に変換する。各カスコードプリアンプは基
準センス回路612から前述のベリファイプロセスを能
動化するためのイネーブル信号REFSEN0〜REF
SEN4のそれぞれを受取る。
ビットライン信号(REFBL0〜REFBL3または
GOLBL)を表わすREFBLi信号、およびREF
SEN0〜REFSEN4のイネーブル信号を表わすR
EFSENi信号を受取る。出力SAREFiは、特定
のSAREF0〜SAREF4信号出力を表わす。ドレ
インがSAREFi出力に接続されたカスコードトラン
ジスタ1402によって図16の回路にはカスコード増
幅器が実現される。
てイネーブルトランジスタ1404のゲートに与えられ
るREFSENiの補信号によって能動化される。イネ
ーブルトランジスタ1404はVCCとSAREFi出力
との間でnチャネルレベルシフトトランジスタ1418
およびpチャネルロードトランジスタ1406に直列に
接続される。カスコード1402のためのバイアスを提
供するために、REFSENiの補数はさらにインバー
タ1408を介してスイッチングトランジスタ1410
のゲートに与えられる。トランジスタ1410は、VC
Cとカスコード1402のゲートとの間でフィードバッ
クロードトランジスタ1420へ直列に接続される。プ
リアンプを不能化するために、nチャネルスイッチング
トランジスタ1412がゲートをインバータ1408の
出力に接続されて設けられ、REFSENiの補数が提
供されていないときにカスコード1402のゲートを接
地する。
を介してカスコード1402のソースに与えられ、SA
REFi出力で増幅される。トランジスタ1414のゲ
ートは、プリアンプが能動化されたときにREFSEN
iによって能動化される。カスコード1402のための
さらなるバイアスは、トランジスタ1416によるカス
コード1402のソースからのフィードバックによって
もたらされる。トランジスタ1416はトランジスタ1
402のソースに接続されたゲートと、トランジスタ1
402のゲートに接続されたドレインと、接地されたソ
ースとを有する。
したセンスアンプ616で用いられるセンスアンプの1
つのための回路を示す。図7のセンスアンプ616は、
図17に示すようなセンスアンプを4つ含む。4つのセ
ンスアンプは能動化された基準セル出力電圧(SARE
F0〜SAREF3)を黄金基準出力電圧(SAREF
4)に比較するために設けられる。センスアンプ出力信
号(RDSO0〜RDSO3)は、プログラムされてい
るセルが完全にプログラムされているかどうかを示す。
れた基準セルからの特定のカスコードプリアンプ出力
(SAREF0〜SAREF3)を表わすSAREFi
信号と、黄金基準に接続されたカスコードプリアンプか
らのSAREF4信号とを受取る。図17の回路はさら
に、REFSEN0〜REFSEN3イネーブル信号を
表わすREFSENi信号を受取り、特定のRDSO1
〜RDSO3出力を表わすRDSOi信号を出力する。
00であって、REFSENi信号によって能動化され
る。センスアンプはSAREFi信号とSAREF4信
号とを比較し、SAREFiの値がSAREF4を上回
ったときにRDSOi信号を出力する。
が、これはこの発明をどのように作り上げ利用するかを
当業者に教示するためにすぎない。多くの変形がこの発
明の範囲内に包含され、この範囲は前掲の特許請求の範
囲によって規定されるものである。
基準を提供するための回路の図である。
リのために必要とされる基準レベルを示す図である。
準を提供するための回路の図である。
いられるこの発明のプログラム可能基準セルとともに示
す図である。
路を、そのアレイセルのプログラムおよび読出中に用い
られる基準セルとともに示したブロック図である。
この発明のプログラムされた基準の一実施例を示す図で
ある。
この発明のプログラムされた基準の一実施例を示す図で
ある。
基準のための回路図である。
る。
る。
のための回路図である。
図である。
路図である。
図である。
である。
リアンプの1つのための回路図である。
の1つのための回路図である。
Claims (25)
- 【請求項1】 予め定められたレベルにプログラムされ
る、電荷を蓄積するフローティングゲートを有するプロ
グラム可能基準セルを含む、 メモリアレイ内のメモリセルによって記憶される複数個
の可能な状態における1つの状態を定めるための基準。 - 【請求項2】 基準セルとアレイセルとは実質的に同じ
ようにバイアスされる、請求項1に記載の基準。 - 【請求項3】 アレイセルのゲートに与えられて、アレ
イセルによって記憶される状態を定めるための選択電圧
は、基準セルのゲートにも与えられる、請求項1に記載
の基準。 - 【請求項4】 選択電圧が変動する場合、複数個の可能
なアレイセルの状態間の動作マージンは実質的に変動し
ない、請求項3に記載の基準。 - 【請求項5】 基準セルとアレイセルとは、単一の集積
回路上にコアセルとして含まれており、これにより基準
セルとアレイセルとは実質的に同じ熱膨張率を有する、
請求項1に記載の基準。 - 【請求項6】 ゲート、出力、およびn個のアレイしき
い値の1つに設定されたアレイしきい値を有するアレイ
セルと、 n−1個のプログラム可能基準セルとを含み、各基準セ
ルはゲート、出力、および電荷を蓄積して基準しきい値
がプログラムできるようにするフローティングゲートを
有し、各基準セルはそれぞれ基準しきい値がn個のアレ
イしきい値のうちの連続する2つの異なったものの間に
プログラムされており、さらに選択電圧をアレイセルの
ゲートおよび基準セルのゲートに供給するためのセレク
タと、 アレイセル出力および基準セル出力を受取るよう結合さ
れた比較手段とを含み、この比較手段はn個のアレイし
きい値のうちどれがアレイセルによって保持されるかを
示す信号を与える、メモリ。 - 【請求項7】 プログラム可能基準セルおよびアレイセ
ルは、実質的に同じようにバイアスされる、請求項6に
記載のメモリ。 - 【請求項8】 アレイセルのゲートに与えられる選択電
圧は、プログラム可能基準セルのゲートに与えられる選
択電圧と実質的に同じ値を有する、請求項6に記載のメ
モリ。 - 【請求項9】 プログラム可能基準セルとアレイセルと
は、単一の集積回路上にコアセルとして含まれており、
これによりプログラム可能基準セルとアレイセルとは実
質的に同じ熱膨張率を有する、請求項6に記載のメモ
リ。 - 【請求項10】 選択電圧の値が変動する場合、アレイ
セル出力と基準セル出力との間の動作マージンは一定の
ままである、請求項6に記載のメモリ。 - 【請求項11】 ゲート、および電荷を蓄積してアレイ
しきい値がプログラムできるようにするフローティング
ゲートを有するアレイセルと、 n個のプログラム基準セルとを含み、各プログラム基準
セルはゲート、および電荷を蓄積して基準しきい値がプ
ログラムできるようにするフローティングゲートを有
し、さらにn−1個の読出基準セルを含み、各読出基準
セルは、ゲート、および電荷を蓄積して読出基準しきい
値のプログラムを可能にするフローティングゲートを有
し、さらにプログラムおよび基準ベリファイ電圧をn個
のプログラム基準セルに交互に与えてn個のプログラム
基準セルを異なったn個のプログラム基準しきい値にプ
ログラムし、かつプログラムおよび基準ベリファイ電圧
をn−1個の読出基準セルに交互に与えてプログラム基
準しきい値の連続する2つのものの間の連続する読出基
準セルの各々のための読出基準しきい値をプログラムす
るための、基準プログラムベリファイ手段と、 プログラムおよびアレイベリファイ電圧を、アレイしき
い値がn個のプログラム基準セルの所与の1つのプログ
ラム基準しきい値に等しくなるようにプログラムされる
までアレイセルのフローティングゲートに交互に与える
ためのアレイプログラムベリファイ手段と、 選択電圧をアレイセルのゲートおよび読出基準セルのゲ
ートに供給して読出基準セルの各々からアレイセル出力
および読出基準セル出力を得るためのセレクタと、 アレイセル出力および読出基準セル出力を受取るよう結
合された比較手段とを含み、比較手段はアレイセルをプ
ログラムするのに用いられるn個のプログラム基準セル
の所与の1つを示す信号を与える、メモリ。 - 【請求項12】 基準ベリファイ電圧は、アレイベリフ
ァイ電圧よりも著しく変動の少ない値を有する、請求項
11に記載のメモリ。 - 【請求項13】 アレイセルが読出されている、または
プログラムされているとき、読出基準セル、プログラム
基準セル、およびアレイセルは実質的に同じようにバイ
アスされる、請求項11に記載のメモリ。 - 【請求項14】 アレイセルのゲートに与えられる選択
電圧は、読出基準セルのゲートに与えられる選択電圧と
実質的に同じ値を有する、請求項11に記載のメモリ。 - 【請求項15】 プログラム基準セル、読出基準セル、
およびアレイセルは単一の集積回路上にコアセルとして
含まれ、これによりプログラム基準セル、読出基準セ
ル、およびアレイセルは実質的に同じ熱膨張率を有す
る、請求項11に記載のメモリ。 - 【請求項16】 選択電圧の値が変動する場合、プログ
ラム基準セルの出力と読出基準セル出力とアレイセル出
力との間の動作マージンは一定のままである、請求項1
1に記載のメモリ。 - 【請求項17】 アレイセルのしきい値電圧を読出すの
に用いられる複数個の基準セルをプログラムするための
装置であって、複数個の基準セルにおける各基準セルは
ゲートにREFWL接続を、ドレインにREFBL接続
を有し、装置は、 複数個の基準セルにおける特定の基準セルを順次的に選
択するための基準カウント回路を含み、基準カウント回
路はCOL信号およびROW信号を出力して、RDSO
信号が受取られると次の順序の基準セルに順序付を行な
うことによって選択される特定の基準セルを示し、さら
に特定の基準セルのゲートに与えてその特定の基準セル
を交互にプログラムし、その特定の基準セルが完全にプ
ログラムされたかどうかをベリファイするためのプログ
ラムベリファイ電圧を供給し、かつプログラム中に特定
の基準セルのドレインに与えるためのプログラム電圧を
供給し、かつベリファイ中にベリファイ信号を供給する
ための、プログラムベリファイ信号回路と、 ROW信号およびプログラムベリファイ電圧を受取り、
プログラムベリファイ電圧をROW信号によって制御さ
れる特定の基準セルのREFWL接続に結合するための
センスバイアス回路と、 COL信号およびプログラム電圧を受取り、プログラム
電圧をCOL信号によって制御される特定の基準セルの
REFBL接続に結合するためのデータバッファ基準回
路と、 ゲートにMSTRWL接続を、ドレインにGOLBL接
続を有する黄金ビットセルと、 複数個の抵抗比を有する基準バイアス回路とを含み、各
抵抗比は読出電圧とCOL信号によって制御されるMS
TRWL接続との間に結合され、さらにCOL信号、ベ
リファイ信号、GOLBL接続からのGOLBL信号、
および特定の基準セルのREFBL接続からのREFB
L信号を受取り、GOLBL信号をベリファイ信号が与
えられている間にREFBL信号と比較して、GOLB
L信号がREFBL信号の電圧に実質的に等しいときに
RDSO信号を出力するための比較回路を含む、装置。 - 【請求項18】 複数個の基準セルは、アレイセルのし
きい値電圧をプログラムするためにも用いられる、請求
項17に記載の装置。 - 【請求項19】 比較回路は、 COL信号およびベリファイ信号を受取り、ベリファイ
信号が与えられるときにCOL信号を示すREFSEN
信号を出力するための基準センス回路と、 REFSEN信号およびREFBL信号を受取り、RE
FSEN信号が与えられるときにREFBL信号を示す
SAREF電圧を出力する第1のプリアンプと、 REFSEN信号およびGOLBL信号を受取り、RE
FSEN信号が与えられるときにGOLBL信号を示す
SAREFGB電圧を出力する第2のプリアンプと、 SAREF電圧およびSAREFGB電圧を受取り、S
AREF電圧とSAREFGB電圧とが実質的に等しい
ときにRDSO信号を出力するセンスアンプとを含む、
請求項17に記載の装置。 - 【請求項20】 n個の基準セルをプログラムする方法
であって、 (a) n個の基準セルのうち第1のものを選択された
基準セルとして、かつn個の抵抗器の比の第1のものを
選択された抵抗器の比として選択するステップと、 (b) 選択された抵抗器の比を黄金ビットセルのゲー
トに結合するステップと、 (c) プログラム電圧を与えて選択された基準セルの
フローティングゲートに蓄積されている電荷を増大させ
るステップと、 (d) 基準ベリファイ電圧を選択された基準セルのゲ
ートに、および選択された抵抗器の比を介して黄金ビッ
トのゲートに与えて、選択された基準セル出力および黄
金ビットセル出力を作出すステップと、 (e) 選択された基準セル出力と黄金ビットセル出力
とを比較して、選択された基準セル出力が黄金ビットセ
ル出力に実質的に等しくなければステップ(c)に進む
ステップと、 (f) n個の基準セルにおいて次に続く基準セルを選
択された基準セルとして選択し、n個の抵抗器の比にお
いて次に続く抵抗器の比を選択された抵抗器の比として
選択して、n個の基準セルにおけるn番目の基準セルが
以前に選択されていなければステップ(b)に進むステ
ップとを連続的に含む、方法。 - 【請求項21】 アレイセルをプログラムする方法であ
って、 (a) アレイセルがプログラムされるべき値を表わす
電荷を蓄積するフローティングゲートを有する、複数個
の基準セル内の1つの基準セルを選択するステップと、 (b) プログラム電圧を与えてアレイセルのフローテ
ィングゲートに蓄積された電荷を増大させるステップ
と、 (c) アレイベリファイ電圧を基準セルのゲートおよ
びアレイセルのゲートに与えて、基準セル出力およびア
レイセル出力を形成するステップと、 (d) 基準セル出力とアレイセル出力とを比較して、
アレイセル出力が基準セル出力に実質的に等しくなけれ
ばステップ(b)に進むステップとを含む、方法。 - 【請求項22】 基準セルは請求項20の方法に従って
プログラムされる、請求項21に記載の方法。 - 【請求項23】 基準ベリファイ電圧は、アレイベリフ
ァイ電圧よりも著しく変動が少ない値を有する、請求項
22に記載の方法。 - 【請求項24】 n個のアレイしきい値の1つを記憶す
るアレイセルを読出す方法であって、 読出電圧をアレイセルのゲートに与えてアレイセル出力
を発生するステップと、 読出電圧を複数個の基準セルのゲートに与えてそれぞれ
の基準セル出力を発生するステップとを含み、各基準セ
ルは異なった電荷を蓄積して基準しきい値がプログラム
できるようにするフローティングゲートを有し、連続す
る基準セルの各々は、基準しきい値をn個のアレイしき
い値のうち異なった連続する2つのものの間にプログラ
ムされており、さらにアレイセル出力と基準セル出力と
を比較して、n個のアレイしきい値のどれがアレイセル
によって保持されるかを示す信号を与えるステップとを
含む、方法。 - 【請求項25】 アレイセルのゲートに与えられる読出
電圧は、基準セルのゲートに与えられる選択電圧と実質
的に同じ値を有する、請求項1に記載のプログラム可能
基準。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007164934A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-28 | Fujitsu Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR100772389B1 (ko) * | 2006-01-12 | 2007-11-01 | 삼성전자주식회사 | 메모리 인식 장치 |
JP2009529203A (ja) * | 2006-03-06 | 2009-08-13 | ラマト アット テル アビブ ユニバーシティ リミテッド | 非全単射写像を使用するマルチビットセルフラッシュメモリ装置 |
US8848442B2 (en) | 2006-03-06 | 2014-09-30 | Sandisk Il Ltd. | Multi-bit-per-cell flash memory device with non-bijective mapping |
Families Citing this family (67)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69033438T2 (de) * | 1989-04-13 | 2000-07-06 | Sandisk Corp | Austausch von fehlerhaften Speicherzellen einer EEprommatritze |
US6222762B1 (en) * | 1992-01-14 | 2001-04-24 | Sandisk Corporation | Multi-state memory |
US7071060B1 (en) | 1996-02-28 | 2006-07-04 | Sandisk Corporation | EEPROM with split gate source side infection with sidewall spacers |
JP3336813B2 (ja) * | 1995-02-01 | 2002-10-21 | ソニー株式会社 | 不揮発性半導体メモリ装置 |
FR2745114B1 (fr) * | 1996-02-20 | 1998-04-17 | Sgs Thomson Microelectronics | Memoire non volatile multiniveau modifiable electriquement avec rafraichissement autonome |
IL125604A (en) | 1997-07-30 | 2004-03-28 | Saifun Semiconductors Ltd | Non-volatile electrically erasable and programmble semiconductor memory cell utilizing asymmetrical charge |
KR100339023B1 (ko) | 1998-03-28 | 2002-09-18 | 주식회사 하이닉스반도체 | 문턱전압을조절할수있는플래쉬메모리장치의센싱회로 |
FR2786910B1 (fr) * | 1998-12-04 | 2002-11-29 | St Microelectronics Sa | Memoire a grille flottante multiniveau |
KR100295361B1 (ko) * | 1998-12-30 | 2001-07-12 | 윤종용 | 불 휘발성 반도체 메모리 장치 |
FR2794277B1 (fr) * | 1999-05-25 | 2001-08-10 | St Microelectronics Sa | Memoire morte a faible consommation |
US6215702B1 (en) | 2000-02-16 | 2001-04-10 | Advanced Micro Devices, Inc. | Method of maintaining constant erasing speeds for non-volatile memory cells |
JP3776307B2 (ja) * | 2000-04-26 | 2006-05-17 | 沖電気工業株式会社 | 不揮発性メモリアナログ電圧書き込み回路 |
US6396741B1 (en) | 2000-05-04 | 2002-05-28 | Saifun Semiconductors Ltd. | Programming of nonvolatile memory cells |
US6490204B2 (en) * | 2000-05-04 | 2002-12-03 | Saifun Semiconductors Ltd. | Programming and erasing methods for a reference cell of an NROM array |
US6538922B1 (en) * | 2000-09-27 | 2003-03-25 | Sandisk Corporation | Writable tracking cells |
US6449190B1 (en) * | 2001-01-17 | 2002-09-10 | Advanced Micro Devices, Inc. | Adaptive reference cells for a memory device |
US6538923B1 (en) * | 2001-02-26 | 2003-03-25 | Advanced Micro Devices, Inc. | Staircase program verify for multi-level cell flash memory designs |
US6466480B2 (en) | 2001-03-27 | 2002-10-15 | Micron Technology, Inc. | Method and apparatus for trimming non-volatile memory cells |
US6584017B2 (en) | 2001-04-05 | 2003-06-24 | Saifun Semiconductors Ltd. | Method for programming a reference cell |
IL148960A (en) * | 2001-04-05 | 2005-09-25 | Saifun Semiconductors Ltd | Method for programming a reference cell |
TW504702B (en) * | 2001-04-13 | 2002-10-01 | Amic Technology Corp | Circuit and method for correcting overerased flash memory cells |
US6643169B2 (en) * | 2001-09-18 | 2003-11-04 | Intel Corporation | Variable level memory |
US6678192B2 (en) | 2001-11-02 | 2004-01-13 | Sandisk Corporation | Error management for writable tracking storage units |
EP1324342B1 (en) | 2001-12-28 | 2008-07-16 | STMicroelectronics S.r.l. | Programming method for a multilevel memory cell |
US6975536B2 (en) * | 2002-01-31 | 2005-12-13 | Saifun Semiconductors Ltd. | Mass storage array and methods for operation thereof |
US6917544B2 (en) | 2002-07-10 | 2005-07-12 | Saifun Semiconductors Ltd. | Multiple use memory chip |
US6826107B2 (en) | 2002-08-01 | 2004-11-30 | Saifun Semiconductors Ltd. | High voltage insertion in flash memory cards |
US6963505B2 (en) * | 2002-10-29 | 2005-11-08 | Aifun Semiconductors Ltd. | Method circuit and system for determining a reference voltage |
US7136304B2 (en) | 2002-10-29 | 2006-11-14 | Saifun Semiconductor Ltd | Method, system and circuit for programming a non-volatile memory array |
US6992932B2 (en) | 2002-10-29 | 2006-01-31 | Saifun Semiconductors Ltd | Method circuit and system for read error detection in a non-volatile memory array |
US6967896B2 (en) | 2003-01-30 | 2005-11-22 | Saifun Semiconductors Ltd | Address scramble |
US7178004B2 (en) | 2003-01-31 | 2007-02-13 | Yan Polansky | Memory array programming circuit and a method for using the circuit |
US7142464B2 (en) * | 2003-04-29 | 2006-11-28 | Saifun Semiconductors Ltd. | Apparatus and methods for multi-level sensing in a memory array |
US7237074B2 (en) * | 2003-06-13 | 2007-06-26 | Sandisk Corporation | Tracking cells for a memory system |
US7123532B2 (en) | 2003-09-16 | 2006-10-17 | Saifun Semiconductors Ltd. | Operating array cells with matched reference cells |
US6954393B2 (en) * | 2003-09-16 | 2005-10-11 | Saifun Semiconductors Ltd. | Reading array cell with matched reference cell |
US7301807B2 (en) | 2003-10-23 | 2007-11-27 | Sandisk Corporation | Writable tracking cells |
US7652930B2 (en) | 2004-04-01 | 2010-01-26 | Saifun Semiconductors Ltd. | Method, circuit and system for erasing one or more non-volatile memory cells |
US7755938B2 (en) * | 2004-04-19 | 2010-07-13 | Saifun Semiconductors Ltd. | Method for reading a memory array with neighbor effect cancellation |
US7095655B2 (en) | 2004-08-12 | 2006-08-22 | Saifun Semiconductors Ltd. | Dynamic matching of signal path and reference path for sensing |
ITMI20041927A1 (it) * | 2004-10-12 | 2005-01-12 | Atmel Corp | Sistema e metodo pee evitare l'offset e ridurre il footprint di una memoria non volatile |
US7638850B2 (en) | 2004-10-14 | 2009-12-29 | Saifun Semiconductors Ltd. | Non-volatile memory structure and method of fabrication |
US7257025B2 (en) * | 2004-12-09 | 2007-08-14 | Saifun Semiconductors Ltd | Method for reading non-volatile memory cells |
WO2006071402A1 (en) * | 2004-12-23 | 2006-07-06 | Atmel Corporation | System for performing fast testing during flash reference cell setting |
US8053812B2 (en) * | 2005-03-17 | 2011-11-08 | Spansion Israel Ltd | Contact in planar NROM technology |
US8400841B2 (en) | 2005-06-15 | 2013-03-19 | Spansion Israel Ltd. | Device to program adjacent storage cells of different NROM cells |
US7184313B2 (en) | 2005-06-17 | 2007-02-27 | Saifun Semiconductors Ltd. | Method circuit and system for compensating for temperature induced margin loss in non-volatile memory cells |
US7786512B2 (en) | 2005-07-18 | 2010-08-31 | Saifun Semiconductors Ltd. | Dense non-volatile memory array and method of fabrication |
US7668017B2 (en) | 2005-08-17 | 2010-02-23 | Saifun Semiconductors Ltd. | Method of erasing non-volatile memory cells |
US7221138B2 (en) * | 2005-09-27 | 2007-05-22 | Saifun Semiconductors Ltd | Method and apparatus for measuring charge pump output current |
US7808818B2 (en) | 2006-01-12 | 2010-10-05 | Saifun Semiconductors Ltd. | Secondary injection for NROM |
US7692961B2 (en) | 2006-02-21 | 2010-04-06 | Saifun Semiconductors Ltd. | Method, circuit and device for disturb-control of programming nonvolatile memory cells by hot-hole injection (HHI) and by channel hot-electron (CHE) injection |
US8253452B2 (en) | 2006-02-21 | 2012-08-28 | Spansion Israel Ltd | Circuit and method for powering up an integrated circuit and an integrated circuit utilizing same |
US7760554B2 (en) | 2006-02-21 | 2010-07-20 | Saifun Semiconductors Ltd. | NROM non-volatile memory and mode of operation |
US7638835B2 (en) * | 2006-02-28 | 2009-12-29 | Saifun Semiconductors Ltd. | Double density NROM with nitride strips (DDNS) |
US7701779B2 (en) | 2006-04-27 | 2010-04-20 | Sajfun Semiconductors Ltd. | Method for programming a reference cell |
ITMI20062211A1 (it) * | 2006-11-17 | 2008-05-18 | St Microelectronics Srl | Circuito e metodo per generare una tensione di riferimento in dispositivi di memoria a matrice di celle non volatili |
US7590001B2 (en) | 2007-12-18 | 2009-09-15 | Saifun Semiconductors Ltd. | Flash memory with optimized write sector spares |
US7778098B2 (en) * | 2007-12-31 | 2010-08-17 | Cypress Semiconductor Corporation | Dummy cell for memory circuits |
US20090219776A1 (en) * | 2008-02-29 | 2009-09-03 | Xian Liu | Non-volatile memory device with plural reference cells, and method of setting the reference cells |
KR101055568B1 (ko) | 2009-06-17 | 2011-08-08 | 한양대학교 산학협력단 | 플래시 메모리 장치의 센싱 회로 및 플래시 메모리 장치의 센싱 방법 |
US9424946B2 (en) * | 2013-02-08 | 2016-08-23 | Seagate Technology Llc | Non-volatile buffering to enable sloppy writes and fast write verification |
KR102111510B1 (ko) * | 2014-04-10 | 2020-05-19 | 에스케이하이닉스 주식회사 | 전자 장치 |
US11822358B2 (en) * | 2018-08-27 | 2023-11-21 | Sigmasense, Llc. | Drive-sense circuit to determine effects of different electrical characteristics on load |
CN115240735A (zh) | 2020-04-06 | 2022-10-25 | 昕原半导体(上海)有限公司 | 利用芯片上电阻存储器阵列的不可克隆特性的独特芯片标识符 |
US11727986B2 (en) * | 2020-04-06 | 2023-08-15 | Crossbar, Inc. | Physically unclonable function (PUF) generation involving programming of marginal bits |
US11823739B2 (en) * | 2020-04-06 | 2023-11-21 | Crossbar, Inc. | Physically unclonable function (PUF) generation involving high side programming of bits |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4449203A (en) * | 1981-02-25 | 1984-05-15 | Motorola, Inc. | Memory with reference voltage generator |
US4495602A (en) * | 1981-12-28 | 1985-01-22 | Mostek Corporation | Multi-bit read only memory circuit |
FR2599176A1 (fr) * | 1986-05-23 | 1987-11-27 | Eurotechnique Sa | Memoire morte programmable electriquement |
JPH02260298A (ja) * | 1989-03-31 | 1990-10-23 | Oki Electric Ind Co Ltd | 不揮発性多値メモリ装置 |
US5172338B1 (en) * | 1989-04-13 | 1997-07-08 | Sandisk Corp | Multi-state eeprom read and write circuits and techniques |
US5258958A (en) * | 1989-06-12 | 1993-11-02 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor memory device |
JPH0346197A (ja) * | 1989-07-13 | 1991-02-27 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
FR2650109B1 (fr) * | 1989-07-20 | 1993-04-02 | Gemplus Card Int | Circuit integre mos a tension de seuil ajustable |
JP2853217B2 (ja) * | 1989-11-21 | 1999-02-03 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ |
JP3454520B2 (ja) * | 1990-11-30 | 2003-10-06 | インテル・コーポレーション | フラッシュ記憶装置の書込み状態を確認する回路及びその方法 |
US5218569A (en) * | 1991-02-08 | 1993-06-08 | Banks Gerald J | Electrically alterable non-volatile memory with n-bits per memory cell |
-
1993
- 1993-12-01 US US08/160,582 patent/US5828601A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-03-10 TW TW083102080A patent/TW302479B/zh not_active IP Right Cessation
- 1994-11-10 DE DE69432452T patent/DE69432452T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1994-11-10 EP EP94308288A patent/EP0656628B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1994-11-25 KR KR1019940031281A patent/KR100357444B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1994-11-29 JP JP29465394A patent/JP3813640B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-04-18 JP JP2006114736A patent/JP2006196184A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007164934A (ja) * | 2005-12-16 | 2007-06-28 | Fujitsu Ltd | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR100772389B1 (ko) * | 2006-01-12 | 2007-11-01 | 삼성전자주식회사 | 메모리 인식 장치 |
JP2009529203A (ja) * | 2006-03-06 | 2009-08-13 | ラマト アット テル アビブ ユニバーシティ リミテッド | 非全単射写像を使用するマルチビットセルフラッシュメモリ装置 |
US8804423B2 (en) | 2006-03-06 | 2014-08-12 | Ramot At Tel-Aviv University Ltd. | Multi-bit-per-cell flash memory device with non-bijective mapping |
US8848442B2 (en) | 2006-03-06 | 2014-09-30 | Sandisk Il Ltd. | Multi-bit-per-cell flash memory device with non-bijective mapping |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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