JPH07188974A - 金合金メッキ液 - Google Patents

金合金メッキ液

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JPH07188974A
JPH07188974A JP33542193A JP33542193A JPH07188974A JP H07188974 A JPH07188974 A JP H07188974A JP 33542193 A JP33542193 A JP 33542193A JP 33542193 A JP33542193 A JP 33542193A JP H07188974 A JPH07188974 A JP H07188974A
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gold
plating
salt
soln
gold alloy
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Kazumasa Shoji
和正 正司
Toshiyuki Akaza
敏之 赤座
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BIKUTORIA KK
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 硬さ、耐摩耗性、光沢および延性の優れた金
合金メッキとすることができるメッキか液を得る。 【構成】 金属金をシアン化第一金アルカリ塩、シアン
化第二アルカリ塩から選ばれ、電導塩として酒石酸塩、
クエン酸塩のような弱有機酸を含有し、卑金属として鉄
塩とタングステン塩を添加した。 【効果】 金属アレルギーの心配がなく、密着の良好な
厚づけメッキが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光沢、延性のある金合
金メッキに関するものである。この電解液は金をシアン
化第一アルカリ塩、シアン化第二金アルカリ塩の形でか
つ、電導塩として酒石酸塩、クエン酸塩、リンゴ酸塩、
リン酸塩、シュウ酸塩のような弱有機酸を含有する。
【0002】さらに卑金属として鉄塩(Feとして)を
0.05g/L〜10g/Lとングステン塩(Wとし
て)を.01g/L〜10g/L添加することにより、
析出した金合金メッキ層の強度が増し光沢、延性のある
金合金メッキが得られる。
【0003】
【従来の技術】公知の金メッキには卑金属としてコバル
ト塩、ニッケル塩、インジウム塩などが使用されている
が析出物の硬さが150〜280Hv程度であり、さら
にメッキ層そのものに延性が少なく、2〜3μm(以下
μという)以上のメッキ厚さを付けるとメッキ層に割れ
が入り、安定して割れの無い、光沢のある金合金メッキ
を得ることが困難であった。
【0004】さらに金属アレルギーの主な原因であるニ
ッケル、コバルトなどを数%含有するため、金属アレル
ギーに敏感な人には利用できない状況であった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】金属アレルギーの原因
である卑金属としてのコバルト塩、ニッケル塩を除くと
得られるメッキが純金となり、硬さが低下し、色調も異
なり、さらに金属アレルギーに関係のないインジウム塩
だけでは色調が黄緑色となり、装飾品には用途が限定さ
れてしまうので新技術の開発が望まれていた。
【0006】本発明は卑金属に鉄とタングステンを含有
することで金属アレルギーの原因である金属を一切含ま
ないメッキが得られ、金属アレルギーに苦慮している人
にも安心して使用でき、硬さも硬く、耐摩耗性、光沢、
延性の優れた金合金メッキを得ることを目的としてい
る。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的で提供される
金メッキ液は主に次の組成により、なるものである。 金属金 0.2g/L 〜 20g/L 鉄塩(Feとして) 0.05g/L〜 10g/L タングステン塩(Wとして) 0.01g/L〜 10g/L 電導塩 10g/L 〜500g/L PH 0.5 〜 7.0 上記、金属金は塩化第二金ナトリウム、シアン化第一金
ナトリウム、シアン化第二ナトリウム、シアン化第一金
カリウム、シアン化第二カリウムからなる郡より選ば
れ、金属金として0.2g/L〜20g/Lを含有し、
さらに鉄塩、タングステン塩はシュウ酸塩、クエン酸
塩、グルコン酸塩、硫酸塩など(上記電導塩に溶解する
塩であればこの限りではない。)の化合物なる郡より選
ばれる。
【0008】電導塩は塩、クエン酸、酒石酸、グルコン
酸、シュウ酸、リン酸塩、ピロリン酸塩などのから選ば
れ10g/L〜500g/L含有する。
【0009】
【作用】電導塩は10g/L以下では鉄、タングステン
が安定して溶解せず、500g/L以上では過飽和にな
り、好ましくない。金属金含有量を0.2g/L〜20
g/Lとしたのは0.2g/Lより少ないと電流効率が
低く作業性が低下し、20g/Lより多いと作業での金
のロスが多くなりコスト的な負担が多くなり、好ましく
ない。
【0010】特に鉄塩(鉄として)は0.05g/L以
下、タングステン塩(Wとして)0.01g/L以下で
は添性、光沢性の効果が確保できず、さらに鉄塩(鉄と
して)が10g/L以上、タングステン塩(Wとして)
10g/L以上ではこれらの金属が安定して溶解せず、
不安定となりあまり好ましくない。この金メッキはPH
が7.0以下で調整するものでなる。本発明に係る金メ
ッキ浴の使用は既知の方法で、条件で行うことができ
る。例えば電圧1〜15V、電流密度0.1〜10A/
2 等の条件で使用できる。
【0011】
【実施例】次に本発明の実施例についてあげるが本発明
はこれによって制限されるものではない。 (実施例1) 金メッキ浴 シアン化第二金カリウム(Auとして) 1g/L シュウ酸 30g/L シュウ酸第一鉄(Feとして) 0.05g/L タングステン酸カリ(Wとして) 0.01g/L PH(KOHで) 2.5 上記の組成の金メッキ浴を温度40°Cとし、電圧3
V、電流密度2A/d2で黄銅素材10cm×15cm
×0.1cmの板に銅合金用の一般の前処理[アルカリ
脱脂(マクダミット社 WSP)→電解脱脂(マクダミ
ット社 DEW)→酸浸漬(5%Wt H2 SO4 )]
で処理した後、20分間メッキしたところ、光沢のある
割れのない厚さ5μのメッキが得られ、金相は23.2
Ktであった。試験を実施したところ密着性も良好であ
った。
【0012】(実施例2) 金メッキ浴 シアン化第一金カリウム(Auとして) 5g/L 酒石酸 80g/L 酒石酸第一鉄(Feとして) 3.0g/L タングステン酸ナトリウム(Wとして) 1.0g/L PH(KOHで) 3.5 上記の組成の金メッキ浴を温度35°Cとし、電圧3
V、電流密度1A/d290分間実施例1と同様に黄銅
にメッキ処理したところ、厚さ18μの金メッキが得ら
れ、光沢、色調とも良好であった。金相は22.1K
t、硬さ320Hvであった。さらに180度折り曲げ
たところ、割れも入らず、密着性が良好であった。
【0013】(実施例3)実施例1の液からタングステ
ン酸カリを除いたメッキ液を使用し、実施例1と同様の
方法でメッキしたところ厚さ5μ得られたが金相が2
3.9Ktと高く、色調も純金色であり、硬さも150
Hvと低く実施例1とは大きく異なる結果であった。
【0014】(実施例4)実施例1の液からシュウ酸第
一鉄を除いたメッキ液を使用し、実施例1と同様の方法
でメッキしたところ、外観光沢がなく、実施例1とは大
きく異なる結果であった。
【0015】(実施例5)実施例2の液からタングステ
ン酸ナトリウムを除いたメッキ液を使用し、実施例2と
同様の方法でメッキしたところ厚さ5μ得られたが金相
が23.8Ktと高く、色調も純金色であり、硬さも1
90Hvと低く実施例2とは大きく異なる結果であっ
た。
【0016】(実施例6)実施例2の液から酒石第一鉄
を除いたメッキ液を使用し、実施例2と同様の方法でメ
ッキしたところ、光沢のないメッキが得られ、実施例2
の結果とは大きく異なる結果であった。
【0017】
【発明の効果】本方式を用いることにより、金属アレル
ギーの心配の少ないタングステン、鉄との金合金メッキ
がえられる。さらに従来の金メッキ液では得ることがで
きなかった割れの入らない、密着の良好な厚づけメッキ
が容易に得ることができる等の効果がある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 PHを1〜7になるように弱有機酸とア
    ルカリで中和した10〜500g/Lの電導塩と金属金
    をシアン化第一アルカリ塩、シアン化第二金アルカリ塩
    からなる郡より、選ばれ、金属金として0.2g/L〜
    20g/Lを含有し、さらに卑金属として鉄塩(Feと
    して)を0.05g/L〜10g/L、タングステン塩
    (Wとして)0.01g/L〜10g/L含有したメッ
    キ液。
JP33542193A 1993-12-28 1993-12-28 金合金メッキ液 Expired - Lifetime JP3262929B2 (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006241594A (ja) * 2005-02-04 2006-09-14 Univ Waseda 金−ニッケル系アモルファス合金めっき皮膜、電気めっき液及び電気めっき方法
JP2007092157A (ja) * 2005-09-30 2007-04-12 Univ Waseda 金−コバルト系アモルファス合金めっき皮膜、電気めっき液及び電気めっき方法
JP2007169706A (ja) * 2005-12-21 2007-07-05 Univ Waseda アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法
CN112118669A (zh) * 2019-06-19 2020-12-22 金居开发股份有限公司 进阶反转电解铜箔及应用其的铜箔基板

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JP2007169706A (ja) * 2005-12-21 2007-07-05 Univ Waseda アモルファス金−ニッケル系合金めっき皮膜形成用電気めっき液及び電気めっき方法
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