JP4817352B2 - 鉄、コバルトまたはニッケルを含む三成分錫亜鉛合金、ガルバーニ溶液およびそれらを生成するガルバーニ法 - Google Patents
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Description
本発明は、第3の合金成分として、鉄、コバルトおよびニッケルからなる群より選択される金属を含む、特定の組成の、新規三成分錫亜鉛合金に関する。本発明は、さらに、ガルバーニ電解質溶液、およびこのような三成分錫亜鉛合金被膜を生成するガルバーニ法、ならびにこの被膜の防食被膜または装飾用被膜としての使用に関する。
【0002】
鉄材料は、錫によるコーティング、および、次に続く、表面が黄、青、黒または黄緑色に着色することによって認識可能である、例えば、クロメート処理(Cr6+ベースで)またはクロマイト処理(Cr3+ベースで)といった不動態化によって、腐蝕から守られ得る。この措置によって、塩水噴霧試験(Salznebelpruefung)(DIN50021−SS)において、赤錆の最初の出現が200〜600時間以降の保護時間が達成され得る(D.Grimme und J.Kruegerによる「Korrosionsschutz durch Beschichtungen und Ueberzuege」Weka Fachverlag fuer technische Fuehrungskraefte、Augsburg)。
【0003】
例えば、塩水噴霧試験において、赤錆の最初の出現が1000時間までである耐食性といった、より高い要求は、ニッケル、コバルトまたは鉄を合金成分として含む、亜鉛合金を用いてコーティングすることによって、および次に続くクロメート処理によって満たされ得る。合金要素の配分は、1重量%未満(例えば、ZnFe系のFe 0.4〜0.6重量%)〜15重量%(例えば、ZnNi系のNi 12〜15重量%)であり得る(Dr.A.Jimenez、B.Kerle、H.Schmidtらによる「Zinklegierungsverfahren:Eigenschaften und Anwendungen in der Technik」Galvanotechnik 89(1998年)4)。
【0004】
錫亜鉛合金被膜は、同様に、鉄の防食被膜として用いられ得る。塩水噴霧試験において、クロメート処理されたSnZn被膜を用いて、赤錆の最初の出現が1000時間までの値が達成される。有利な合金組成は、Sn70重量%およびZn30重量%である。不利な点とみなされるのは、SnZn被膜の硬さがわずか約50HVにすぎないことである(E.Budmann und D.Stevensらによる「Tin−Zinc−Plating」Trans IMF 76(1998年)3)。
【0005】
鉄材料の防食分野における発展を、例えば、自動車業界において考察すると、将来、防食系に対して、公知の方法では満たされ得ない、より高い要求がなされることが認識させられる。塩水噴霧試験における耐食性に対するこのような高い要求は、3000時間を超え得る。さらに、このような防食被膜は、可能な限り高い硬さを有し、耐磨耗性であり、かつ、特に、可能な限り、はんだ付け可能でもある必要がある。
【0006】
従って、本発明は、特に高い防食性を有する新しい合金系を発見し、防食効果に関して将来の要求を満たす、これらの合金を析出させるためにガルバーニ電解質を利用可能にするという課題に基づく。
【0007】
錫30〜65重量%、亜鉛30〜65重量%、および第3の合金成分として、鉄、コバルト、ニッケルの群からの金属0.1〜15重量%を含む三成分錫亜鉛合金は、好適にも、これらの要求を満たすことがここで見出された。
【0008】
従って、本発明の目的は、錫30〜65重量%、亜鉛30〜65重量%、および第3の合金成分として、鉄、コバルト、ニッケルの群からの金属0.1〜15重量%を含むことを特徴とする、三成分錫亜鉛合金である。
【0009】
本発明による三成分錫亜鉛合金は、好適には、第3の合金成分としてコバルトを含む。
【0010】
本発明による錫亜鉛コバルト合金は、好適には、錫40〜55重量%、亜鉛45〜55重量%、およびコバルト0.1〜5重量%を含む。本発明による錫亜鉛ニッケル合金は、好適は、錫35〜50重量%、亜鉛50〜65重量%、およびニッケル0.1〜5重量%を含む。本発明による錫亜鉛鉄合金は、好適には、錫40〜55重量%、亜鉛40〜60重量%、および鉄1〜8重量%を含む。
【0011】
本発明による三成分錫亜鉛合金は、融解冶金技術または粉末冶金技術を用いて個別の成分から製作され得る。
【0012】
好適には、特に、典型的な用途に関して、これらの合金の製作は、ガルバーニ法で、すなわち、溶解した形態で合金成分を含む、水性ガルバーニ電解質溶液からの電着による。三成分錫亜鉛合金は、アルカリ性、中性または弱酸性のガルバーニ電解質溶液から、下地上に析出され得る。ここで、アルカリ性電解質は、10より大きいpH値を有する電解質である。中性電解質は、6〜10のpHを有する電解質のことである。弱酸性電解質は、3〜6のpH値を有する電解質である。
【0013】
合金成分は、それらの成分それぞれの溶媒中にて可溶性のイオン性結合の形態で、水性電解質溶液に付加される。錫は、好適には、硫酸塩、塩化物、オキサレートとして、あるいは、錫酸ナトリウムまたは錫酸カリウムの形態で用いられる。亜鉛は、好適には、硫酸塩、塩化物、水酸化物、スルホン酸塩または酸化物として付加される。第3の合金成分として機能を果たす要素、金、コバルト、ニッケルは、好適には、それぞれ、硫酸塩、塩化物、水酸化物または炭酸塩として付加される。
【0014】
三成分錫亜鉛合金被膜を生成する、本発明によるガルバーニ電解質は、さらに、ガルバノ技術において一般的、かつ公知の添加剤および補助剤を含み得る。例えば、酸化ナトリウム、酸化カリウムまたは水酸化アンモニウム等のアルカリ、または、例えば、塩酸、硫酸、リン酸、ホウ酸、緩衝塩および/または導電塩としての、これらの酸のアルカリ塩等の無機酸、例えば、クエン酸等のヒドロキシカルボニル酸および/または、その塩類等の有機酸、例えばEDTA等の錯化剤、湿潤剤、光沢剤であり得る。このような添加剤および補助剤の質的および量的選択、およびガルバーニ電解質溶液中のこれらの機能は当業者に周知である。
【0015】
ガルバーニ法によって析出された合金被膜における金属の比率は、公知のように、溶液中の組成における金属の比率、さらなる溶液成分の種類と量、および析出パラメータの影響を受け得る。
【0016】
本発明による三成分の錫亜鉛合金を電着するために、コーティングされるべき下地、例えば、腐蝕から守られるべき鉄材料の部品は、対応するガルバーニ溶液中にて浸漬され、カソードとして接続される。
【0017】
逆の電極として、不溶性の材料、または、好適には、中性または弱酸性の電解質の場合、可溶性の材料を含むアノードが用いられ得る。不溶性アノードは、通常、グラファイトまたはプラチナめっきされたチタンを含む。可溶性アノードは、好適には、所望の組成の、析出されるべき合金被膜の金属を的確に含む。
【0018】
約20〜70℃の温度、および約0.1〜5A/dm2の電流密度が、本発明による電解質からの三成分錫亜鉛合金の析出についての枠組み条件として見なされ得、ここで、析出速度は、約0.05〜1μm/分である。
【0019】
本発明によるアルカリ電解質は、以下の典型的な枠組み組成を有し得る。
【0020】
10〜50g/lの錫(硫酸塩、硫酸塩、塩化物、錫酸ナトリウムまたは錫酸カリウムとして)
1〜10g/lの亜鉛(硫酸塩、塩化物、水酸化物または酸化物として)
0.1〜10g/lのコバルト、ニッケルまたは鉄(硫酸塩として)
1〜20g/lの水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウム
10〜200g/lの錯化剤
0.1〜10g/lの湿潤剤
0.1〜5g/lの光沢剤。
【0021】
合金のガルバーニ析出法は、40〜70℃の温度、1〜5A/dm2の電流密度にて、0.15〜0.3μm/分の析出速度で行われる。アノードとして、グラファイトまたはプラチナめっきされたチタンが用いられ得る。
【0022】
錯化剤として、有機酸およびその塩類、リン酸、ホスホネート、グルコナート、グルコヘプトン酸、グルコへプトネートおよびエチレンジアミン四酢酸が用いられ得る。浸潤剤として、および光沢剤として、対応する溶媒中にて耐性を有する界面活性剤、多価アルコールおよびベタインが用いられ得る。
【0023】
溶液中の個々の成分の比率を変更することによって、被膜の合金組成が変更され得る。従って、水酸化物含有量を増加させると、錫含有量が低減され、かつこれに対応して、被膜内の別の2つの金属が増加する。錯化剤の量が増加すると、亜鉛含有量が低減され、かつ被膜内の錫の配分が増加する。これらの変化は、第3の合金金属への影響を全く及ぼさない。
【0024】
本発明による中性電解質は、以下の典型的な枠組み組成を有する。
【0025】
10〜40g/lの錫(硫酸塩、錫酸ナトリウムまたは錫酸カリウムとして)
0.5〜10g/lの亜鉛(硫酸塩、塩化物、水酸化物または酸化物として)
0.1〜10g/lのコバルト、ニッケルまたは鉄(硫酸塩、塩化物、水酸化物または酸化物として)
50〜200g/lのテトラナトリウムピロリン酸塩
1〜20g/lの水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウム
10〜200g/lの錯化剤
0.1〜10g/lの湿潤剤
0.1〜5g/lの光沢剤。
【0026】
合金のガルバーニ析出法は、40〜70℃の温度、0.5〜3A/dm2の電流密度にて、0.05〜0.3μm/分の析出速度で行われる。アノードとして、グラファイトまたはプラチナめっきされたチタンが用いられ得る。可溶性アノードの使用も同様に可能である。
【0027】
合金組成の比率は、コーティングパラメータの変動によって変化し得る。
【0028】
本発明による弱酸性電解質は、以下の典型的な枠組み組成を有する。
【0029】
1〜10g/lの錫(硫酸塩または塩化物として)
1〜10g/lの亜鉛(硫酸塩、塩化物、水酸化物または酸化物として)
1〜20g/lのコバルト、ニッケルまたは鉄(硫酸塩、塩化物、水酸化物または炭酸塩として)
5〜50g/lの緩衝塩
1〜30g/lの塩化ナトリウム
1〜20g/lの湿潤剤
0.1〜5g/lの光沢剤。
【0030】
合金のガルバーニ析出法は、20〜70℃の温度、0.5〜5A/dm2の電流密度にて、0.1〜1μm/分の析出速度で行われる。アノードとして、グラファイトまたはプラチナめっきされたチタンが用いられ得る。可溶性アノードの使用も同様に可能である。緩衝塩として、例えば、ホウ酸が用いられ得る。
【0031】
合金組成の比率は、コーティングパラメータ(成分の最初の量、作業パラメータ)を変更することによって設定され得る。従って、例えば、電流密度が上昇すると、亜鉛およびニッケル、コバルトまたは鉄の合金の配分が大きくなり、かつ錫の配分が低減される。上述の領域における温度の変動は、被膜の合金組成をほんのわずかにのみ変化させる。
【0032】
本発明による三成分錫亜鉛合金は、非常に有利な材料特性を有する。そのために、独立した材料としても、および、特に、下地のコーティングの形態で、種々の態様で用いられ得る。
【0033】
一般に、三成分錫亜鉛合金は、特に高い耐食性を有し、この耐食性は、SnZnNi系およびSnZnCo系において、最も際立っている。従って、これらの合金は、特に、鉄材料の表面を覆う防食被膜として適切である。従って、対応するガルバーニ電解質は、好適に、鉄材料の表面を覆う防食被膜を生成するために用いられ得る。この被膜によってコーティングされた鉄板は、クロメート処理またはクロマイト処理による通常の不動態化と組み合わせて、赤錆の出現に対する3000時間を超える耐食性を問題なく達成する。
【0034】
さらなる有利な特性は、それぞれの第3の合金要素を選択することによって制御され得る。本発明による三成分錫亜鉛合金被膜の特性は、第3の合金要素の洗濯に応じて最適化され得る。表1は、良好な防食性、硬さ、磨耗、またははんだ付け可能性のいずれかが所望される場合の、好適な第3の合金要素の一覧を提供する。
【0035】
【表1】
3つの合金系のうち、SnZnFe合金被膜およびSnZnCo合金被膜が最高の硬度の値に達する。最大の耐磨耗性を示すのはSnZnNi被膜である。従って、このような合金被膜は、機械的負荷における耐摩損被膜として有利に用いられ得る。SnZnFe被膜およびSnZnCo被膜は、特に、良好にはんだ付けされ得、従って、主に、電子機器におけるはんだ付け可能な被膜として、および接触面として適切である。表2は、例示として選択された合金系に関して、対応するデータを示す。
【0036】
【表2】
これらの機能的に特徴付けられた使用領域と並んで、本発明による三成分錫亜鉛合金は、さらに、装飾用の最終被膜としても用いられ得る。従って、3つの合金系は、第3の合金要素の選択に応じて、魅力的かつ感銘を与える青色領域に位置する色配列を有する。
【0037】
(実施例1)
Sn45重量%、Zn52重量%、およびコバルト3重量%の合金を析出させるためのアルカリ性電解質は、以下の組成を有する。
【0038】
30g/lの錫(錫酸ナトリウムとして)
2.4%/lの亜鉛(酸化亜鉛として)
1g/lのコバルト(硫酸コバルトとして)
8g/lの水酸化カリウム
50g/lのクエン酸ナトリウム
100ml/lのリン酸ナトリウム
2.5ml/lのアニオン系界面活性剤
1g/lのブチンジオール。
【0039】
pH値は11になる。上述の被膜組成は、この電解質を用いて、60℃の温度および1〜2A/dm2の電流密度にて達成され得る。この場合、毎分約0.2μmの合金被膜が形成される。合金被膜の密度は、7.27g/cm3である。
【0040】
クロメート処理された(Cr6+ベースで)8μmの厚さの合金を有する鉄板のコーティングは、DIN50021−SSによる塩水噴霧試験において、以下の耐食性を示す。
【0041】
1800〜3000時間の期間において白錆びが出現。
【0042】
3000時間後、試験を中止した。なぜなら、3000時間までは赤錆びが生じなかったためである。
【0043】
(実施例2)
Sn48重量%、Zn49重量%およびコバルト3重量%の合金を析出するための中性電解質は、以下の組成を有する。
【0044】
25g/lの錫(硫酸錫として)
2.4g/lの錫(酸化錫として)
1g/lのコバルト(硫酸コバルトとして)
130g/lのテトラナトリウムピロリン酸塩
2.5ml/lのアニオン系界面活性剤
1g/lのブチンジオール。
【0045】
pH値は8.5になる。上述の被膜組成は、60℃の温度および0.5〜1A/dm2の電流密度にて達成され得る。毎秒0.15μmの被膜が形成される。
合金被膜の密度は7.27g/cm3である。
【0046】
(実施例3)
Sn49.2重量%、Zn50.5重量%およびニッケル0.3重量%の合金を析出させるための弱酸性電解質は、以下の組成を有する。
【0047】
5g/lの錫(硫酸錫)
6.8g/lの亜鉛(硫酸亜鉛として)
12g/lのニッケル(硫酸ニッケルとして)
80g/lのクエン酸ナトリウム
25g/lのホウ酸
10ml/lのアニオン系界面活性剤
1ml/lのベータナフタレンエトキシレート。
【0048】
pH値は4.5になる。上述の被膜組成は、40℃の温度および1.5A/dm2の電流密度にて達成され得る。毎秒約0.4μmの被膜が形成される。合金被膜の密度は7.2g/cm3である。
【0049】
(実施例4)
Sn52重量%、Zn44重量%および鉄4重量%の合金を析出させるための弱酸性電解質は、以下の組成を有する。
【0050】
5g/lの錫(硫酸錫)
6.8g/lの亜鉛(硫酸亜鉛として)
10g/lの鉄(硫酸鉄として)
80g/lのクエン酸ナトリウム
25g/lのホウ酸
10ml/lのアニオン系界面活性剤
1ml/lのベータナフタレンエトキシレート。
【0051】
pH値は4.4になる。上述の被膜組成は、40℃の温度および1.5A/dm2の電流密度にて達成され得る。毎秒約0.4μmの被膜が形成される。合金被膜の密度は7.25g/cm3である。
Claims (8)
- 以下の組成:
10〜40g/lの錫(硫酸塩、錫酸ナトリウムまたは錫酸カリウムとして)
0.5〜10g/lの亜鉛(硫酸塩、塩化物、水酸化物または酸化物として)
0.1〜10g/lのコバルト(硫酸塩、塩化物、水酸化物または酸化物として)
50〜200g/lのテトラナトリウムピロリン酸塩
1〜20g/lの水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウム
10〜200g/lの錯化剤
0.1〜10g/lの湿潤剤
0.1〜5g/lの光沢剤
を有する、中性電解質溶液。 - 以下の組成:
10〜50g/lの錫(硫酸塩、塩化物、錫酸ナトリウムまたは錫酸カリウムとして)
1〜10g/lの亜鉛(硫酸塩、塩化物、水酸化物または酸化物として)
0.1〜10g/lのコバルト(硫酸塩として)
1〜20g/lの水酸化カリウムまたは水酸化ナトリウム
10〜200g/lの錯化剤
0.1〜10g/lの湿潤剤
0.1〜5g/lの光沢剤
を有する、アルカリ性電解質溶液。 - 前記錯化剤が、有機酸およびその塩類、リン酸、ホスホネート、グルコナート、グルコヘプトン酸、グルコへプトネートまたはエチレンジアミン四酢酸である、請求項1または2に記載の電解質溶液。
- 錫30〜65重量%、亜鉛30〜65重量%、ならびにコバルト0.1〜15重量%を含む三成分錫亜鉛コバルト合金の合金被膜を製作する方法であって、必要に応じてさらなる添加剤を含む請求項1〜3のいずれか1項に記載電解質溶液から、該被膜を電着することを特徴とする、方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記三成分錫亜鉛コバルト合金の合金被膜が、防食被膜として使用される、方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記三成分錫亜鉛コバルト合金の合金被膜が、不動態化され、そして、鉄材料の表面を覆う防食被膜として使用される、方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記三成分錫亜鉛コバルト合金の合金被膜が、はんだ付け可能な被膜として使用される、方法。
- 請求項4に記載の方法であって、前記三成分錫亜鉛コバルト合金の合金被膜が、装飾用最終被膜として使用される、方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10045991.9 | 2000-09-16 | ||
DE10045991A DE10045991A1 (de) | 2000-09-16 | 2000-09-16 | Ternäre Zinn-Zink-Legierungen, galvanische Bäder und galvanisches Verfahren zur Erzeugung von ternären Zinn-Zink-Legierungsschichten |
PCT/EP2001/009452 WO2002022913A2 (de) | 2000-09-16 | 2001-08-16 | Ternäre zinn-zink legierungen enthaltend eisen, kobalt oder nickel, galvanische bäder und galvanisches verfahren zu ihrer erzeugung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004509229A JP2004509229A (ja) | 2004-03-25 |
JP2004509229A5 JP2004509229A5 (ja) | 2008-10-02 |
JP4817352B2 true JP4817352B2 (ja) | 2011-11-16 |
Family
ID=7656548
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002527347A Expired - Fee Related JP4817352B2 (ja) | 2000-09-16 | 2001-08-16 | 鉄、コバルトまたはニッケルを含む三成分錫亜鉛合金、ガルバーニ溶液およびそれらを生成するガルバーニ法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20040091385A1 (ja) |
EP (1) | EP1319093B1 (ja) |
JP (1) | JP4817352B2 (ja) |
CN (1) | CN1239751C (ja) |
DE (2) | DE10045991A1 (ja) |
HK (1) | HK1054576A1 (ja) |
WO (1) | WO2002022913A2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3878978B2 (ja) | 2002-10-24 | 2007-02-07 | コーア株式会社 | 鉛非含有はんだ、および鉛非含有の継手 |
JP2005026188A (ja) | 2003-07-03 | 2005-01-27 | Koa Corp | 電流ヒューズ及び電流ヒューズの製造方法 |
JP4901120B2 (ja) * | 2005-03-29 | 2012-03-21 | 兵庫県 | 亜鉛を含むめっき皮膜 |
CN100554528C (zh) * | 2006-03-29 | 2009-10-28 | 哈尔滨工业大学 | 具有良好耐化学性及粘结力的电解铜箔镀层表面处理方法 |
EP2085502A1 (en) * | 2008-01-29 | 2009-08-05 | Enthone, Incorporated | Electrolyte composition and method for the deposition of a tin-zinc alloy |
KR20110028010A (ko) * | 2009-09-11 | 2011-03-17 | 삼성전기주식회사 | 미립 주석 분말 및 그 제조 방법 |
EP2531632A2 (en) * | 2010-02-01 | 2012-12-12 | Crucible Intellectual Property, LLC | Nickel based thermal spray powder and coating, and method for making the same |
CN102212809B (zh) * | 2011-05-12 | 2012-07-18 | 北京化工大学 | 一种镍基合金加热管的防腐蚀方法 |
US20130098691A1 (en) | 2011-10-25 | 2013-04-25 | Longyear Tm, Inc. | High-strength, high-hardness binders and drilling tools formed using the same |
CN102690975B (zh) * | 2012-06-11 | 2014-12-03 | 东莞市闻誉实业有限公司 | 一种三元锡-锌合金及其电镀方法 |
CN103849912A (zh) * | 2012-11-29 | 2014-06-11 | 沈阳工业大学 | 一种电镀光亮锡锌镍合金工艺 |
EP2936946A4 (en) * | 2012-12-18 | 2016-08-17 | Lanxess Butyl Pte Ltd | ELECTRONIC DEVICES WITH BUTYL RUBBER |
CN103436825A (zh) * | 2013-08-23 | 2013-12-11 | 哈尔滨理工大学 | 纳米氧化锡涂覆陶瓷相增强体/铝基复合材料的制备方法 |
CN106521580A (zh) * | 2016-11-02 | 2017-03-22 | 苏州市汉宜化学有限公司 | 四价锡Sn‑Co‑Zn三元合金代铬电镀液及电镀方法 |
CN112779576B (zh) * | 2020-12-25 | 2022-06-21 | 南通正海磁材有限公司 | 一种钕铁硼磁体复合镀层及其制备方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51131427A (en) * | 1975-05-05 | 1976-11-15 | Whyco Chromium Co | Ternary alloy |
JPS57161080A (en) * | 1981-02-25 | 1982-10-04 | Hooker Chemicals Plastics Corp | Metal plating composition and method |
JPS5848694A (ja) * | 1981-09-16 | 1983-03-22 | Nippon Steel Corp | アルコ−ルを含有もしくはアルコ−ル系燃料容器用Sn−Zn系合金電気メツキ鋼板 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH103474A (fr) * | 1923-04-13 | 1924-02-16 | Enrico Scala Giuseppe | Soudure pour aluminium et procédé de fabrication de celle-ci. |
US3791801A (en) * | 1971-07-23 | 1974-02-12 | Toyo Kohan Co Ltd | Electroplated steel sheet |
US3881919A (en) * | 1974-01-07 | 1975-05-06 | Whyco Chromium Co | Ternary alloys |
SU670638A1 (ru) * | 1977-02-14 | 1979-06-30 | Ярославский политехнический институт | Электролит дл нанесени покрытий из сплавов на основе олова |
JPS58153796A (ja) * | 1982-03-05 | 1983-09-12 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 電気メツキ鋼板 |
JPS59170289A (ja) * | 1983-03-15 | 1984-09-26 | Sumitomo Metal Ind Ltd | 鉄系電気メツキ法 |
US4488942A (en) * | 1983-08-05 | 1984-12-18 | Omi International Corporation | Zinc and zinc alloy electroplating bath and process |
JPS63186860A (ja) * | 1987-01-27 | 1988-08-02 | Nippon Steel Corp | 耐錆性、溶接性に優れた表面処理鋼板の製造方法 |
JPH01172593A (ja) * | 1987-12-25 | 1989-07-07 | Kawasaki Steel Corp | 塗装後密着性が優れたZn−Ni−Sn合金めっき鋼板の製造方法 |
US5429882A (en) * | 1993-04-05 | 1995-07-04 | The Louis Berkman Company | Building material coating |
DE19644235C1 (de) * | 1996-10-24 | 1998-02-12 | Grillo Werke Ag | Schrot für Munitionszwecke |
-
2000
- 2000-09-16 DE DE10045991A patent/DE10045991A1/de not_active Ceased
-
2001
- 2001-08-16 WO PCT/EP2001/009452 patent/WO2002022913A2/de active Application Filing
- 2001-08-16 DE DE50114623T patent/DE50114623D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-08-16 CN CN01816986.4A patent/CN1239751C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-16 JP JP2002527347A patent/JP4817352B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2001-08-16 US US10/380,212 patent/US20040091385A1/en not_active Abandoned
- 2001-08-16 EP EP01969597A patent/EP1319093B1/de not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-09-25 HK HK03106913.8A patent/HK1054576A1/xx not_active IP Right Cessation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS51131427A (en) * | 1975-05-05 | 1976-11-15 | Whyco Chromium Co | Ternary alloy |
JPS57161080A (en) * | 1981-02-25 | 1982-10-04 | Hooker Chemicals Plastics Corp | Metal plating composition and method |
JPS5848694A (ja) * | 1981-09-16 | 1983-03-22 | Nippon Steel Corp | アルコ−ルを含有もしくはアルコ−ル系燃料容器用Sn−Zn系合金電気メツキ鋼板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE10045991A1 (de) | 2002-04-04 |
CN1468327A (zh) | 2004-01-14 |
EP1319093A2 (de) | 2003-06-18 |
WO2002022913A3 (de) | 2002-07-25 |
HK1054576A1 (en) | 2003-12-05 |
US20040091385A1 (en) | 2004-05-13 |
JP2004509229A (ja) | 2004-03-25 |
CN1239751C (zh) | 2006-02-01 |
WO2002022913A2 (de) | 2002-03-21 |
EP1319093B1 (de) | 2008-12-31 |
DE50114623D1 (de) | 2009-02-12 |
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A521 | Written amendment |
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A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |