JPH07188722A - 冷鉄源溶解処理時における同時脱ｐ処理方法 - Google Patents
冷鉄源溶解処理時における同時脱ｐ処理方法Info
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- JPH07188722A JPH07188722A JP33522293A JP33522293A JPH07188722A JP H07188722 A JPH07188722 A JP H07188722A JP 33522293 A JP33522293 A JP 33522293A JP 33522293 A JP33522293 A JP 33522293A JP H07188722 A JPH07188722 A JP H07188722A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
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- Refinement Of Pig-Iron, Manufacture Of Cast Iron, And Steel Manufacture Other Than In Revolving Furnaces (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】酸素精錬設備を用い且つＣ：３％以上の溶銑に
対して配合率１５％以下の冷鉄源の完全溶解処理中に同
時脱Ｐ処理する方法を提供する。 【構成】冷鉄源溶解期には，底吹きガスによる鉄浴強攪
拌下で，脱Ｓｉ反応と脱Ｐ反応を進行させる固体酸素源
を鉄浴中に連続的に供給し，脱Ｓｉ反応完了后のカバー
スラグの塩基度を１．５〜２．５になるように調整した
脱Ｐフラックスを脱Ｓｉ反応が完了するまでに添加し，
上吹き酸素は，冷鉄源の溶解と固体酸素源の分解反応に
よる吸熱を保障しつつ，鉄浴温度が１３００〜１３５０
℃になるに必要な量だけ供給され，冷鉄源溶解完了後，
脱Ｐ反応が完了するまでの期間中は，上吹き酸素の供給
量をカバースラグのＴ．Ｆｅが５％以下にならように低
下し，脱Ｐ処理中の脱炭量を最少限度に抑える。
対して配合率１５％以下の冷鉄源の完全溶解処理中に同
時脱Ｐ処理する方法を提供する。 【構成】冷鉄源溶解期には，底吹きガスによる鉄浴強攪
拌下で，脱Ｓｉ反応と脱Ｐ反応を進行させる固体酸素源
を鉄浴中に連続的に供給し，脱Ｓｉ反応完了后のカバー
スラグの塩基度を１．５〜２．５になるように調整した
脱Ｐフラックスを脱Ｓｉ反応が完了するまでに添加し，
上吹き酸素は，冷鉄源の溶解と固体酸素源の分解反応に
よる吸熱を保障しつつ，鉄浴温度が１３００〜１３５０
℃になるに必要な量だけ供給され，冷鉄源溶解完了後，
脱Ｐ反応が完了するまでの期間中は，上吹き酸素の供給
量をカバースラグのＴ．Ｆｅが５％以下にならように低
下し，脱Ｐ処理中の脱炭量を最少限度に抑える。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、酸素精錬設備を用いた
冷鉄源溶解装置において、冷鉄源溶解処理中に同時脱Ｐ
処理をする方法に関する。
冷鉄源溶解装置において、冷鉄源溶解処理中に同時脱Ｐ
処理をする方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】通常、転炉等の酸素精錬設備を使用し
て、少量のスクラップ等の冷鉄源を溶解する場合、熱源
として脱Ｓｉ反応や脱Ｃ反応の酸化反応熱を利用してい
る。一方、溶銑と接触する状態における冷鉄源の溶解
は、溶銑中のＣが冷鉄源中に拡散して冷鉄源の融点を低
下させることにより進行する。そこで、冷鉄源溶解を進
行させるためには、鉄浴の強撹拌により絶えず冷鉄源表
面にＣを供給することが必要である。
て、少量のスクラップ等の冷鉄源を溶解する場合、熱源
として脱Ｓｉ反応や脱Ｃ反応の酸化反応熱を利用してい
る。一方、溶銑と接触する状態における冷鉄源の溶解
は、溶銑中のＣが冷鉄源中に拡散して冷鉄源の融点を低
下させることにより進行する。そこで、冷鉄源溶解を進
行させるためには、鉄浴の強撹拌により絶えず冷鉄源表
面にＣを供給することが必要である。
【０００３】この強撹拌の結果、上吹き酸素等により酸
化度を高められたカバースラグへ溶銑中のＣが絶えず供
給され、カバースラグの酸化度が低下し、冷鉄源溶解中
には脱Ｐ反応が殆ど進行しない。そのために、冷鉄源溶
解完了後、上吹き酸素等により酸化度を高められたカバ
ースラグが、溶銑中のＣにより還元されない程度まで鉄
浴の撹拌を低下させることで脱Ｐ処理を実施している。
化度を高められたカバースラグへ溶銑中のＣが絶えず供
給され、カバースラグの酸化度が低下し、冷鉄源溶解中
には脱Ｐ反応が殆ど進行しない。そのために、冷鉄源溶
解完了後、上吹き酸素等により酸化度を高められたカバ
ースラグが、溶銑中のＣにより還元されない程度まで鉄
浴の撹拌を低下させることで脱Ｐ処理を実施している。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】前記のように、冷鉄源
溶解を進行させるためには、鉄浴の強撹拌により、絶え
ず冷鉄源表面にＣを供給することが必要である。鉄浴の
強撹拌により、上吹き酸素等により酸化度を高められた
カバースラグへ溶銑中のＣが絶えず供給され、冷鉄源溶
解中には脱Ｓｉ反応が緩やかに進行する程度にしかカバ
ースラグの酸化度が増加しない。
溶解を進行させるためには、鉄浴の強撹拌により、絶え
ず冷鉄源表面にＣを供給することが必要である。鉄浴の
強撹拌により、上吹き酸素等により酸化度を高められた
カバースラグへ溶銑中のＣが絶えず供給され、冷鉄源溶
解中には脱Ｓｉ反応が緩やかに進行する程度にしかカバ
ースラグの酸化度が増加しない。
【０００５】すなわち、低酸素ポテンシャルのスラグで
は、脱Ｓｉ反応が完了するまでは、脱Ｐは殆ど進行しな
い。また、同時脱Ｓｉ脱Ｐ反応を進行させるためには、
上方からの酸素供給速度を０．８Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔ以
上に確保すればよいといわれているが、上方から供給さ
れる酸素は、相応の脱Ｃ反応を引き起こすために後工程
である転炉精錬において必要な熱量を確保できないとい
う問題点がある。
は、脱Ｓｉ反応が完了するまでは、脱Ｐは殆ど進行しな
い。また、同時脱Ｓｉ脱Ｐ反応を進行させるためには、
上方からの酸素供給速度を０．８Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔ以
上に確保すればよいといわれているが、上方から供給さ
れる酸素は、相応の脱Ｃ反応を引き起こすために後工程
である転炉精錬において必要な熱量を確保できないとい
う問題点がある。
【０００６】そのため、現状は上方からの酸素供給速度
を過度な脱Ｃ反応が生じない程度まで抑えて脱Ｐ処理を
行なうために、脱Ｐ処理時間が長引いている。
を過度な脱Ｃ反応が生じない程度まで抑えて脱Ｐ処理を
行なうために、脱Ｐ処理時間が長引いている。
【０００７】本発明は、前記従来技術の問題点を解消
し、酸素精錬設備を用いた冷鉄源溶解装置において、冷
鉄源溶解処理中に同時脱Ｐ処理する方法を提供すること
を目的としている。
し、酸素精錬設備を用いた冷鉄源溶解装置において、冷
鉄源溶解処理中に同時脱Ｐ処理する方法を提供すること
を目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、脱Ｓｉ反応
と脱Ｐ反応を進行させるために必要十分な量の固体酸素
源を鉄浴中に連続的に供給するとともに、カバースラグ
の塩基度および上吹き酸素量を制御することによりカバ
ースラグ中のＴ．Ｆｅが５％以下にならないことが重要
であることを知見し、本発明を完成するに至った。
め、本発明者等は、鋭意研究を重ねた結果、脱Ｓｉ反応
と脱Ｐ反応を進行させるために必要十分な量の固体酸素
源を鉄浴中に連続的に供給するとともに、カバースラグ
の塩基度および上吹き酸素量を制御することによりカバ
ースラグ中のＴ．Ｆｅが５％以下にならないことが重要
であることを知見し、本発明を完成するに至った。
【０００９】すなわち、上記知見に基づいた本発明は、
酸素精錬設備を使用し、且つ、Ｃ濃度が３％以上の溶銑
に対して配合率１５％以下の冷鉄源の完全溶解を目的と
する冷鉄源溶解装置において、冷鉄源溶解期において、
冷鉄源溶解のための鉄浴強撹拌下（底吹きガス流量０．
２Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔ以上の撹拌条件）で、底吹き羽口
あるいは炉内に存在している冷鉄源に衝突しない深さま
で浸漬した耐火物ランスから脱Ｓｉ反応と脱Ｐ反応を進
行させるために必要十分な量の固体酸素源を鉄浴中に連
続的に供給し、脱Ｓｉ反応完了後の溶銑表面に生成する
カバースラグの塩基度が１．５〜２．５になるように調
整した脱Ｐフラックスを脱Ｓｉ反応が完了するまでに添
加し、上吹き酸素は、冷鉄源の溶解と固体酸素源の分解
反応による吸熱を保障しつつ、冷鉄源溶解期中の鉄浴温
度が１３００〜１３５０℃になるために必要な量だけ供
給され、冷鉄源溶解が完了した後、脱Ｐ反応が完了する
までの期間中は、上吹き酸素の供給量をカバースラグ中
のＴ．Ｆｅが５％以下にならないために必要な量まで低
下し、脱Ｐ処理中の脱炭量を最少限度に抑えることを特
徴とする冷鉄源溶解処理時における同時脱Ｐ処理方法を
要旨としている。
酸素精錬設備を使用し、且つ、Ｃ濃度が３％以上の溶銑
に対して配合率１５％以下の冷鉄源の完全溶解を目的と
する冷鉄源溶解装置において、冷鉄源溶解期において、
冷鉄源溶解のための鉄浴強撹拌下（底吹きガス流量０．
２Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔ以上の撹拌条件）で、底吹き羽口
あるいは炉内に存在している冷鉄源に衝突しない深さま
で浸漬した耐火物ランスから脱Ｓｉ反応と脱Ｐ反応を進
行させるために必要十分な量の固体酸素源を鉄浴中に連
続的に供給し、脱Ｓｉ反応完了後の溶銑表面に生成する
カバースラグの塩基度が１．５〜２．５になるように調
整した脱Ｐフラックスを脱Ｓｉ反応が完了するまでに添
加し、上吹き酸素は、冷鉄源の溶解と固体酸素源の分解
反応による吸熱を保障しつつ、冷鉄源溶解期中の鉄浴温
度が１３００〜１３５０℃になるために必要な量だけ供
給され、冷鉄源溶解が完了した後、脱Ｐ反応が完了する
までの期間中は、上吹き酸素の供給量をカバースラグ中
のＴ．Ｆｅが５％以下にならないために必要な量まで低
下し、脱Ｐ処理中の脱炭量を最少限度に抑えることを特
徴とする冷鉄源溶解処理時における同時脱Ｐ処理方法を
要旨としている。
【００１０】
【作用】本発明の構成と作用を説明する。本発明におい
ては、冷鉄源溶解期において、冷鉄源溶解のための鉄浴
強撹拌下で、底吹き羽口あるいは耐火物ランスから固体
酸素源を鉄浴中に連続的に供給することにより、冷鉄源
溶解完了以前に溶銑中Ｓｉは完全に除去される。
ては、冷鉄源溶解期において、冷鉄源溶解のための鉄浴
強撹拌下で、底吹き羽口あるいは耐火物ランスから固体
酸素源を鉄浴中に連続的に供給することにより、冷鉄源
溶解完了以前に溶銑中Ｓｉは完全に除去される。
【００１１】その結果、脱Ｓｉ反応が完了した冷鉄源溶
解期後半においては、鉄浴強撹拌によりＴ．Ｆｅが５％
程度まで低下した低酸素ポテンシャルスラグを用いても
十分に脱Ｐ反応が生ずる。その結果、冷鉄源溶解以後の
脱Ｐ処理時間が短縮でき、脱Ｐ処理中の脱Ｃ量の低減お
よび耐火物損失の低減が図れる。
解期後半においては、鉄浴強撹拌によりＴ．Ｆｅが５％
程度まで低下した低酸素ポテンシャルスラグを用いても
十分に脱Ｐ反応が生ずる。その結果、冷鉄源溶解以後の
脱Ｐ処理時間が短縮でき、脱Ｐ処理中の脱Ｃ量の低減お
よび耐火物損失の低減が図れる。
【００１２】
【実施例】本発明の実施例を図面を参照しながら説明す
るが、これによって本発明は何ら限定されるものではな
い。 実施例 図１は底吹機能を有する転炉タイプの精錬装置の側断面
図である。また、図２は本発明を適用した場合の処理パ
ターンの一例を示したものである。
るが、これによって本発明は何ら限定されるものではな
い。 実施例 図１は底吹機能を有する転炉タイプの精錬装置の側断面
図である。また、図２は本発明を適用した場合の処理パ
ターンの一例を示したものである。
【００１３】まず、Ｓｉを０．２５％含有する溶銑９０
ｔと５ｔのスクラップを冷鉄源溶解装置に装入し、底吹
き羽口より０．３Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔのＮ2 ガスを流
し、同時に上方より耐火物ランスを浸漬し、溶銑中に固
体酸素源を３．３ｋｇ／ｍｉｎ・ｔの割合で４分間連続
して吹き込んだ。
ｔと５ｔのスクラップを冷鉄源溶解装置に装入し、底吹
き羽口より０．３Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔのＮ2 ガスを流
し、同時に上方より耐火物ランスを浸漬し、溶銑中に固
体酸素源を３．３ｋｇ／ｍｉｎ・ｔの割合で４分間連続
して吹き込んだ。
【００１４】また、固体酸素源吹き込み開始と同時に上
方よりカバースラグ形成用フラックス（塊状の石灰１
１．５ｋｇ／ｔ、塊状のＭｎ鉱石３．０ｋｇ／ｔ）を溶
銑に投入した。また、固体酸素源吹き込み開始と同時に
酸素ランスを介して、酸素ガスを１．５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ
・ｔの割合で４分間連続して吹き付けた。さらに脱Ｓｉ
反応が完了した時点で耐火物ランスからの固体酸素源の
吹き込みを中止し、同時に酸素ランスを介して吹き付け
ている酸素ガスの供給速度を０．５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔ
まで低下し、更に４分間脱Ｐ処理を実施した。
方よりカバースラグ形成用フラックス（塊状の石灰１
１．５ｋｇ／ｔ、塊状のＭｎ鉱石３．０ｋｇ／ｔ）を溶
銑に投入した。また、固体酸素源吹き込み開始と同時に
酸素ランスを介して、酸素ガスを１．５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ
・ｔの割合で４分間連続して吹き付けた。さらに脱Ｓｉ
反応が完了した時点で耐火物ランスからの固体酸素源の
吹き込みを中止し、同時に酸素ランスを介して吹き付け
ている酸素ガスの供給速度を０．５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔ
まで低下し、更に４分間脱Ｐ処理を実施した。
【００１５】図３に本実施例の溶銑成分の経時変化を示
す。図に示すように固体酸素源を吹き始めてから４分で
溶銑中のSi濃度が0.05％まで低下し、溶銑表面に形成さ
れた低酸素ポテンシャルスラグによる脱Ｐ反応が進行始
める。その結果、処理開始８分後には溶銑中のＰ濃度が
0.080％から 0.015％まで低下している。
す。図に示すように固体酸素源を吹き始めてから４分で
溶銑中のSi濃度が0.05％まで低下し、溶銑表面に形成さ
れた低酸素ポテンシャルスラグによる脱Ｐ反応が進行始
める。その結果、処理開始８分後には溶銑中のＰ濃度が
0.080％から 0.015％まで低下している。
【００１６】図４は比較例として冷鉄源溶解後に底吹き
ガス流量を低下させ、意識的に脱Ｐ処理を行なうパター
ンを示す。図５に比較例の溶銑成分の経時変化を示す。
比較例においてもSiを0.25％含有する溶銑90ｔと５ｔの
スクラップを冷鉄源溶解装置に装入し、底吹き羽口より
０．３Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔのＮ2 ガスを流した。
ガス流量を低下させ、意識的に脱Ｐ処理を行なうパター
ンを示す。図５に比較例の溶銑成分の経時変化を示す。
比較例においてもSiを0.25％含有する溶銑90ｔと５ｔの
スクラップを冷鉄源溶解装置に装入し、底吹き羽口より
０．３Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔのＮ2 ガスを流した。
【００１７】開始と同時に上方よりカバースラグ形成用
フラックス（塊状の石灰１１．５ｋｇ／ｔ、塊状のＭｎ
鉱石３．０ｋｇ／ｔ）と固体酸素源１３ｋｇ／ｔを溶銑
に投入した。また、同時に酸素ランスを介して、酸素ガ
スを１．５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔの割合で４分間連続して
吹き付けた。更にスクラップ溶解が完了した時点で底吹
きガス量を０．０５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔまで低下し、同
時に酸素ランスを介して吹き付けている酸素ガスの供給
速度を０．５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔまで低下し、更に８分
間脱Ｐ処理を実施した。
フラックス（塊状の石灰１１．５ｋｇ／ｔ、塊状のＭｎ
鉱石３．０ｋｇ／ｔ）と固体酸素源１３ｋｇ／ｔを溶銑
に投入した。また、同時に酸素ランスを介して、酸素ガ
スを１．５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔの割合で４分間連続して
吹き付けた。更にスクラップ溶解が完了した時点で底吹
きガス量を０．０５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔまで低下し、同
時に酸素ランスを介して吹き付けている酸素ガスの供給
速度を０．５Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔまで低下し、更に８分
間脱Ｐ処理を実施した。
【００１８】図５に示すように、固体酸素源を吹き始め
てから８分で溶銑中のSi濃度が0.05％まで低下し、溶銑
表面に形成された低酸素ポテンシャルスラグによる脱Ｐ
反応が進行し始めるため、処理開始後１２分たっても溶
銑中のＰ濃度が０．０８０％から０．０２０％までしか
低下しない。
てから８分で溶銑中のSi濃度が0.05％まで低下し、溶銑
表面に形成された低酸素ポテンシャルスラグによる脱Ｐ
反応が進行し始めるため、処理開始後１２分たっても溶
銑中のＰ濃度が０．０８０％から０．０２０％までしか
低下しない。
【００１９】本発明実施例と比較例との成分変化を夫々
表１、表２に示す。本発明実施例により処理中の過剰な
脱炭が防止でき、処理後のＣ濃度は約０．３％上昇し
た。
表１、表２に示す。本発明実施例により処理中の過剰な
脱炭が防止でき、処理後のＣ濃度は約０．３％上昇し
た。
【００２０】
【表１】
【００２１】
【表２】
【００２２】
【発明の効果】本発明は以上説明したように構成されて
いるから、脱Ｓｉ反応が完了した冷鉄源溶解期後半にお
いては、鉄浴強撹拌によりＴ．Ｆｅが５％程度まで低下
した低酸素ポテンシャルスラグを用いても十分に脱Ｐ反
応が生じ、その結果、脱Ｐ処理時間が短縮でき、脱Ｐ処
理中の脱Ｃ量の低減および耐火物損失の低減を図ること
が出来るので、産業上極めて有用である。
いるから、脱Ｓｉ反応が完了した冷鉄源溶解期後半にお
いては、鉄浴強撹拌によりＴ．Ｆｅが５％程度まで低下
した低酸素ポテンシャルスラグを用いても十分に脱Ｐ反
応が生じ、その結果、脱Ｐ処理時間が短縮でき、脱Ｐ処
理中の脱Ｃ量の低減および耐火物損失の低減を図ること
が出来るので、産業上極めて有用である。
【図１】本発明に使用する底吹機能を有する転炉タイプ
の精錬装置の側断面図である。
の精錬装置の側断面図である。
【図２】本発明を適用した処理パターンの説明図であ
る。
る。
【図３】本発明の溶銑成分の経時変化を示す説明図であ
る。
る。
【図４】比較例の脱Ｐ処理を行なうパターンの説明図で
ある。
ある。
【図５】比較例の溶銑成分の経時変化を示す説明図であ
る。
る。
１--酸素ランス、２--耐火物ランス、３--炉体、４--ホ
ッパー、５--溶銑、６--カバースラグ、７--スクラッ
プ、８--酸素ジェット、９--固体酸素源、10--底吹羽
口。
ッパー、５--溶銑、６--カバースラグ、７--スクラッ
プ、８--酸素ジェット、９--固体酸素源、10--底吹羽
口。
Claims (1)
- 【請求項１】 酸素精錬設備を使用し、且つ、Ｃ濃度が
３％以上の溶銑に対して、配合率１５％以下の冷鉄源の
完全溶解を目的とする冷鉄源溶解装置において、冷鉄源
溶解期において、冷鉄源溶解のため、底吹きガス流量
０．２Ｎｍ3 ／ｍｉｎ・ｔ以上の撹拌条件による鉄浴強
撹拌下で、底吹き羽口あるいは炉内に存在している冷鉄
源に衝突しない深さまで浸漬した耐火物ランスから、脱
Ｓｉ反応と脱Ｐ反応を進行させるために必要十分な量の
固体酸素源を鉄浴中に連続的に供給し、脱Ｓｉ反応完了
後の溶銑表面に生成するカバースラグの塩基度が１．５
〜２．５になるように調整した脱Ｐフラックスを、脱Ｓ
ｉ反応が完了するまでに添加し、上吹き酸素は、冷鉄源
の溶解と固体酸素源の分解反応による吸熱を保障しつ
つ、冷鉄源溶解期中の鉄浴温度が１３００〜１３５０℃
になるために必要な量だけ供給され、冷鉄源溶解が完了
した後、脱Ｐ反応が完了するまでの期間中は、上吹き酸
素の供給量をカバースラグ中のＴ．Ｆｅが５％以下にな
らないために必要な量まで低下し、脱Ｐ処理中の脱炭量
を最少限度に抑えることを特徴とする冷鉄源溶解処理時
における同時脱Ｐ処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33522293A JPH07188722A (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 冷鉄源溶解処理時における同時脱ｐ処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33522293A JPH07188722A (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 冷鉄源溶解処理時における同時脱ｐ処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07188722A true JPH07188722A (ja) | 1995-07-25 |
Family
ID=18286124
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33522293A Pending JPH07188722A (ja) | 1993-12-28 | 1993-12-28 | 冷鉄源溶解処理時における同時脱ｐ処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07188722A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108728609A (zh) * | 2018-07-23 | 2018-11-02 | 石家庄钢铁有限责任公司 | 一种铁水包底吹搅拌脱钛装置及方法 |
-
1993
- 1993-12-28 JP JP33522293A patent/JPH07188722A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108728609A (zh) * | 2018-07-23 | 2018-11-02 | 石家庄钢铁有限责任公司 | 一种铁水包底吹搅拌脱钛装置及方法 |
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